JPH07508110A - 供給圧力が補償された流体圧力調整装置および方法 - Google Patents

Abstract

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Description

【発明の詳細な説明】 供給圧力が補償された流体圧力調整装置および方法技術分野 本発明はシリンダーが充填されたとき２０００ｐｓ　ｉ以上の圧力でガスを収容 する圧縮ガスシリンダーなどの高圧流体源からの流体の圧力ならびに流れを調整 するための流体圧力調整装置および方法に関する。

背景技術 ２０００ｐｓ　ｉ以上の圧縮ガスを収容する圧縮ガスシリンダーまたは他の容器 に連結された流体圧力調整装置は、当該シリンダー内のガスを上昇させて用いら れたり当該シリンダー圧力が減少するときに一定の出力圧力を発生することが望 まれる。たとえば半導体の製造または処理には、アルゴン、酸素および空気を不 純物（ｄｏｐａｎｔ）とする圧縮された窒素、窒素とアルシンまたはリンとの混 合ガスのためにコンスタントな出力圧力が望まれる。

しかしながら、典型的に知られた一段流体圧力調整装置のばあい、シリンダー圧 力が２０００ｐｓ　ｉから２００ｐｓｉに減少すると出力圧力は９ｐｓ　ｉだけ 上昇する。

出力圧力における９ｐｓ　ｉの変化は、調整装置の典型的な出力圧力に関しては 比較的大きいが、当該調整装置の出力圧力は２５〜３０ｐｓ　ｉの範囲にあるの がよい。半導体の製造の際のプロセスの要求として、一定または実質的に一定な ガス圧力が適当である。

−膜流体圧力調整装置１の従来技術は、図面のうち図１に概略が示されている。

圧力調整装置１は、入口で高圧のガス源、とくに充填されたとき、２０００ｐｓ 　ｉ以上の圧力でガスを収容するガスシリンダー２に連結された状態が示されて いる。当該調整装置の機能は、調整装置の入口でシリンダーからの圧縮ガスをう けとることと、出口の流れの変化および供給圧力の変化の存在下で出口圧力の変 化を最小にしつつ調整装置の出口から選択された比較的低圧でガスを排出するこ とである。なお当該入口はシリンダーに連結されている。

前記調整装置１は、ダイアフラム３と、弁４とから構成される。図１の上方にお いて、該バルブの一端はダイアプラムと接触し、反対側は、該弁の外側に向かっ てテーパーが形成された端部が調整装置を貫いて延びる流体通路６を調整自在に 絞るための弁座５と協同する。とくに、流体通路６は弁座５の中央間隙７を貫い て延びている。環状の弁座５の上面は、調整部材８によって間隙７の周囲に支持 されている。弁４の下側の円錐部９は中央間隙７の周囲の、調整装置を貫いて流 体通路を調整自在に絞り、それによって当該調整装置からの出力圧力を制御する ために弁座下端と協同する。ばね１１はダイアフラム３に調整しつる力を加える 。

圧力調整装置１は、力の平衡の原理（ｆｏｒｃｅ　ｂａｌａｎｃｅｐｒｉｎｃｉ ｐｌｅ）にもとづいて作用する。ダイアフラム３は有効面積Ａを有している。ダ イアフラム３の上側は大気圧に晒され、ばね１１によって加えられた力Ｆｓを有 している。この方Ｆｓは出口圧力ＰＯによってもたらされた力Ｆｐｏによってバ ランスされている。当該出口圧力ＰＯは、弁座５の絞られた間隙７の下流側の流 体圧力であリ、ダイアフラムに作用する。供給圧力Ｐｓによってもたらされた力 Ｆｐｓは、調整装置１の弁座５の絞られた間隙７の上流側のガスシリンダー２か らの流体圧力であり、間隙７の寸法によって決定される領域上で弁４に作用する 。

不均衡があるとダイアフラムに撓みを生じ、その結果、弁座と、弁の下部円錐部 ９とのあいだの寸法が変わる。

すなわち、調整装置１を貫く流体通路の絞り量が変わるので、バランスを回復す るためにＰＯの新しい値を生成する。もし出口の流体に増加があると、ＰＯは減 少しはじめる。これにより、より大きい流れを供給するために、弁と弁座５との あいだの調整しつる通路の寸法を増加させる。このように、出力圧力の小さい減 少がより大きい流れの要求を与える。もし供給圧力に減少があると（使用の結果 、供給シリンダーで圧力降下があると）、力の不均衡は、弁座５と、ＰＯを増加 し、バランスを回復する弁４とのあいだの開口寸法を増加する傾向がある。この ように供給圧力の減少は、同じ流れの要求のために出力圧力を増加する。

操作を定義している式は、つぎのように表される。

Ｆｓ＝Ｆｐｏ＋ｆｐｓまたは、 Ｆ　ｓ＝　Ｐ　ｏＡ　＋　（Ｐ　ｓ　−Ｐ　ｏ）　ａ　１なお、出力圧力Ｐｏは つぎの式でえられる。

叙上の分析から、出力圧力ＰＯへの供給圧力の影響は、式（Ｐｓ−Ｐａ）−の関 数である。

図１に示された典型的な従来技術の調整装置のばあい、る。

に関する常数である）のばね常数（１ｂ　／　１ｎｃｈ）である。

流れがΔｄだけ増加すると、弁の開口に追加の流れを与えることが要求される。

これには出口圧力の減少が伴う。

図２は異なる供給圧力の値に対する流量の関数として出口圧力を示す従来の調整 装置の流れ曲線（ｆｌｏｗ　ｃｕｒｖｅ）を示している。図３は調整装置１の典 型的な供給圧力効果して１００ｐｓｉにつきＱ、５ｐｓｉの供給圧力効果を示し ている。破線で示された基本的な供給圧力効果の傾斜は、供給圧力の増加が与え られた流れに対する圧力降下を減少させ、供給圧力効果によって生成された減少 を回復する対応する流れ曲線によって変更される。このように、この従来の一段 調整装置１は、与えられた流量に対して一定または実質的に一定の出口圧力が、 ガスシリンダー内の圧力が２０００ｐｓ　ｉからたとえば２００ｐｓｉに減少し たときに必要である流体圧力の調整には好ましくない。図３から、たとえば毎分 ５０リツトルの流量のばあい、２０００ｐｓ　ｉのとき出口圧力は１７ｐｓｉと １８ｐｓ　ｉとのあいだにあり、一方５００ｐｓ　ｉのとき、出口圧力は２３ｐ ｓｉと２４ｐｓｉとのあいだまで増加すること、すなわち約８ｐＳｉまたはほぼ ５０％増加していることが分かる。

この問題の従来技術における一つの解決方法は、２段流体圧力調整装置である。

当該装置の第・１段は、高圧を供給圧力から、中間の圧力、たとえば、４００ｐ ｓｉまで減少させており、前記調整装置の第２段は、さらに実質的に出口圧力ま でその圧力を減少させる。しかしながら、２段調整装置は比較的コストが高く、 重いという点で不利である。供給圧力の変動を広くしつつ実質的に一定の出口圧 力を与えるために、効率的でコストパフォーマンスの高い方法で供給圧力効果の 問題を克服しつる改善された流体圧力装置に対するニーズがある。

発明の開示 本発明の目的は、従来の流体圧力調整装置の叙上の不利な点を克服する改善され た流体圧力調整装置および方法を提供することである。より詳しくは、本発明の 目的は、２段の調整装置を必要とせず、かつ従来の１段の調整装置と比べて調整 装置のコストを実質的に増加させることなく調整装置の出口圧力を比較的一定に しうる、ガスシリンダーなどの高圧サプライからの流体の流れを調整する改善さ れた流体圧力調整装置および方法を提供することである。これらの目的および他 の目的は、圧縮流体の流れのための流体通路と、前記流体通路および該通路を通 る圧縮流体の流れを調節自在に絞るための調整装置に移動自在に位置づけられた 弁と、前記弁を移動させるため該弁上の不均衡な力に応答して撓みうるダイアフ ラムとからなる本発明の流体圧力調整装置によって達成される。ばねは第１の方 向に前記ダイアフラムに第１の力を加える。前記調整装置内の絞られた通路の下 流側の圧縮流体は、前記ダイアフラムに前記第１の方向と反対の第２の方向に第 ２の力を加える。第３の力は前記弁に作用する調整装置内の絞られた通路に該供 給された流体の圧力の関数として弁を経由して前記第２の方向にダイアフラムに 加えられる。

前記調整装置はさらに、前記絞られた通路に供給された流体の圧力の変化によっ て引き起こされたダイアフラム上の不均衡な力に応答して前記弁およびダイアフ ラムの与えられた運動にともない弁による流体通路の絞り量の変化率を、絞られ た通路の下流側流体の圧力の変化によって引き起こされされたダイアフラムおよ び弁の与えられた運動にともなう絞り量の変化率と比べて実質的に減少させるた めの手段を含んでいる。

本発明の開示された、好適な実施例によれば、流体通路の絞り量を実質的に減少 させる手段は、前記流体通路の一部を構成し流体通路を貫いて延びる間隙を有す る弁座を有している。前記弁は流体通路を調整自在に絞るために、該流体通路内 の前記間隙の周囲の弁座と協同する弁座は、供給圧力効果を少なくともある程度 まで補償する（Ｏｆｆｓｅｔ）ために、絞られた通路に供給された流体圧力の変 動に応答した運動のための調整装置に設けられている。

開示された実施例の流体圧力調整は、さらに流体圧力調整装置の弁座を固定して 支持するための手段を、弁の間隙から半径方向かつ外向きに離間した位置に当該 間隙の近傍の弁座の半径方向かつ内側の部位が、絞られた通路に供給された流体 の圧力の変動に応答してたわみつるように有している。とくに開示された実施例 において、固定して支持されていない弁座の半径方向かつ内側の部位は、弁の間 隙の長手方向の中心軸に沿った弁座の断面図に見られるように、当該環状弁座の 直径の少なくとも１／２、好ましくは２／３延出している。

一実施例において、間隙の近傍の弁座の半径方向かつ内側の部位は、絞られた通 路に供給された流体の圧力の変動に応答して、当該弁座のたわみを制御するため にばねによって屈曲自在に支持されている。本発明の他の実施例によれば、前記 弁座は弾性を有する材料からなり、その弁座自体の弾性が、絞られた通路に供給 された流体の圧力の変動に応答して該弁座のたわみ量を制御しつるような寸法を 有している。下部支持部材が、弁座に作用する絞られた通路に供給された流体の 圧力に応答して弁座の半径方向かつ内側の最大たわみ量を制限するために所定の 距離だけ該弁座から離間されて設けられる。

高圧ガスシリンダーなどの圧縮流体の容器がらの流体の流れおよび圧力を調整す るための本発明の方法は、前記容器内の圧力の変動に起因するダイアフラム上の 不均衡な力の結果としてもたらされる調整装置の該ダイアフラムおよび弁の運動 により絞られた通路下流の流体の圧力変動を実質的に減少させるために前記圧縮 流体容器から当該調整装置の絞られた通路に供給された流体の圧力の変動に応答 して当該調整装置の弁座を運動させることからなる。前記弁座のこの運動は弁座 上の絞られた通路に供給された流体の圧力の加圧によって引き起こされる。

実施例において、この運動が発生する。なぜなら弁座は外側の周縁部だけが固定 して支持され、該弁座の半径方向かつ内側の部位は、たわんで間隙の周囲を通っ て、該弁座に作用する流体の圧力の関数として所定の制御された量だけ動くから である。

図面の簡単な説明 図１は、高圧ガス−シリンダーからのガスの流れを調整するために該シリンダー に接続された従来技術の調整装置の概略図であり； 図２は、図１の従来技術の特性であって、前記調整装置の入口において２０００ ｐｓ　ｉｓ　１０００ｐｓ　ｉ、５００ｐｓ　ｉおよび２００ｐｓ　ｉの供給圧 力のばあいに、当該調整装置からの出口の流れの関数として当該調整装置の出口 圧力を示している； 図３は、図１の従来技術の調整装置についての供給圧力の変動の効果を示してお り、毎秒２．１０．２０．５０および８０リツトルの流量に対してそれぞれ１０ ０ｐｓｉあたり０．５ｐｓｉの典型的な供給圧力効果を示しており； 図４は、本発明の第１実施例の流体圧力調整装置の部分断面図を示しており； 図５は、弁座上に作用する供給圧力の変動の関数として当該弁座の外側部分の平 面から矢印Ｂ方向に移動した当該弁座の内側部分を示す、図４の調整装置の部分 拡大図であり； 図６は、図４および図５の調整装置の流れ特性を示すグラフであり、出口圧力が 調整装置からの毎分２．１０．２０．５０および８０リツトルの出口流量におけ る供給圧力の関数として示されており； 図７は、本発明の第２実施例の流体圧力調整装置の部本発明を実施するための最 良の態様 本発明の第１実施例の流体圧力調整装置１２は、図４に示されるように、その中 を通って該調整装置の入口と出口とのあいだに延びる流体通路１３を有している 。当該調整装置は、図１に示される圧縮ガスシリンダーなどの高圧流体の供給の 際に用いられるの適している。この目的のために、図示されていないねじが刻設 された部材、すなわちガス圧力シリンダ−に対する調整装置のねじが刻設された 部材が、この調整装置の流体通路１３の入口の周囲に設けられている。

弁１４は、それを貫いて延びる間隙１６の周囲において、弁座１５の流体通路１ ３を調節自在に絞るための調整装置に移動自在に設けられている。前記間隙１６ は、当該調整装置を貫く流体通路１３の一部を形成している。

ダイアフラム１７は、撓みうるような厚さの３１６ステンレス鋼から形成される が、当該調整装置内に設けられている。前記ダイアフラムは弁を移動させるため に該ダイアフラム上の不均衡な力に応答して撓む。弁の上端は、図４に示される ように、前記ダイアフラムの下面と接触する。ばね１８は図４に示されるように 、第１の、下向きの方向に前記ダイアフラム１７に第１の力を加える。

このばねの力は、図１の従来の調整装置と同様に圧力板１９を経てダイアフラム に加えられる。弁座１５と弁１４とのあいだの絞られた通路の下流の圧縮された 流体は、前記ダイアフラムに第２の力を前記第１の方向と反対の方向の第２の方 向に加える。第３の力は、前記弁に作用する、絞られた通路に供給された流体の 圧力の関数である。このように、図１の従来技術の調整装置のように、本発明の 調整装置は力の均衡の原理（ｆｏｒｃｅ　ｂａｌａｎｃｅｐｒｉｎｃｉｐｌｅ） 、すなわちばねに加えられた力Ｆｓは、ダイによってバランスされることにもと づき作用する。いかなる不均衡も、叙上の均衡を回復すべく前記ダイアフラムの たわみと、弁１４の移動とをもたらす。

調整装置１２の弁座１５は、弁座の間隙１６の半径方向かつ外向きに離間した位 置で当該弁座を固定して支持するために、該間隙の近傍の弁座の半径方向かつ内 側が流体圧力によって供給圧力に依存する量だけ調節自在に撓みうるように、第 １部材２０と第２部材２１とのあいだに締め付けられる。この目的のために弁座 は、絞られた通路に供給される流体の圧力変動に応答して弁座の半径方向かつ内 側の部位での撓みを許しうる可撓性を有し、弾性を有する材料からなるのが好ま しい。

開示された実施例中の弁座１５は、クロロトリフルオロエチレンの重合体の一種 であるＫＥＬ−Ｆ　（商品名）から形成されるが、他の材料も採用されうる。環 状の弁座１５の外径は０．３７５インチであり、その厚さは０゜０５０インチで ある。弁座の間隙１６の直径は０．０６２インチである。調整装置のポペット弁 １４は、ダイアフラム１７と同様に３１６ステンレス鋼から形成される。

前記環状のダイアフラムの有効面積は１．０平方インチである。第１部材２０お よび第２部材２１は、弁座１５の外側の１／３だけ締め付けると共に固定して支 持する。

そのとき当該弁座の半径方向かつ内側は、０．２５インチであり、当該弁座の作 用点をこのように変化する絞られた通路に供給される流体の圧力Ｐｏの変動に応 答して、図４および５に示されるように、上方かつ後方に自由に動く。図４の実 施例において、弁座の半径方向かつ内側の部位は、絞られた通路に供給される流 体の圧力の変動に応答して弁座の撓みを制御するために環状圧縮ばねであるベル ビルスプリング（Ｂｅｌｌｅｖｉｌｌｅ　ｓｐｒｉｎｇ）　２２によって屈曲自 在に支持される。ベルビルスプリング２２は、０．００６インチの厚さを有し、 １０００ｐｓ　ｔの供給圧力Ｐｓの変動のために弁座およびスプリング０．００ ６インチ動きうるようなばね常数を有するするエルジロイ金属（Ｅｌｇｉｌｏｙ 　ｍｅｔａｌ）から形成される。このスプリングは間隙１６の周囲の弁座１５の 上面と、だい１部材２０の上方とに接触すると共にそのあいだの凹所に位置付け られる。供給圧力Ｐｓの変動に応答して環状の弁座の平面に関する上側かつ後方 への弁座の半径方向かつ内側の部位の撓みまたは運動は、図５においてより明確 に示されている（矢印Ｂ参照）。

図１の従来の調整装置に関してすでに言及されているとおり、本発明の調整装置 １２について、もし出口の流量に増加があれば、Ｐｏは減少し始める。これはよ り多くの流量を供給するために弁の開度を増加させる。このように、出口圧力に おける小さい減少はより多量の流れの要求を与える。もし供給圧力に減少があれ ば（すなわち使用の結果として生じる供給シリンダーにおける圧力を下向きに動 かし、当該ダイアフラム上の均衡な力を回復する。図１の従来技術の調整装置の ばあい、これは弁とダイアフラムとのあいだの絞られた通路の寸法の増加をもた らし、この増加はつぎに絞られた通路の下流の出口圧力ＰＯを増加させ、その結 果叙上の好ましくない供給圧力効果をもたらす。この問題は弁座１５の作用点を 変化させるために絞られた通路に供給された流体の圧力Ｐｓの変動に応答した運 動のために調整装置内に弁座を設けることによって、本発明にしたがって解決さ れる。

当該弁座によって、絞られた通路の下流の流体の圧力ＰＯで絞られた通路に供給 された流体の圧力変動の効果が実質的に低減される。

弁座１５に供給圧力を加えることは、ばね２２の付勢力に対抗して間隙１６の周 囲の弁座の半径方向かつ内側を上方にある距離だけ撓ませる。当該距離は、圧力 Ｐｓと、弁座−ばね構造体（ｖａｌｖｅ　ｓｅａｔ−ｓｐｒｉｎｇ　ａｓｓｅｍ ｂｌｙ）のばね常数との関数である。ガス圧力シリンダ−からのガスの使用のあ いだに供給圧力Ｐｓが降下すると、供給圧力Ｐｓによって引き起こされる弁１４ 上の上向きの力は、ダイアフラム１７に力の不均衡を惹起しつつ減少する。

均衡を回復するために、ダイアフラムおよび弁はダイアフラム上の力の均衡を回 復させるために下向きに動く（図５の破線で示された位置を参照）。これは、弁 座１５の作動の固定点に関しては、絞られた流体通路の寸法を増加させ、これに より出口圧力Ｐｏを増加させる。しかしながら、本発明によれば供給圧力Ｐｓの 降下は、弁座１５の半径方向かつ内側の部位の下向きの移動をもたらす。この下 向きの移動は、ダイアフラム上の力の不均衡に応答して弁とダイアフラムとを下 向きに動かしなから該弁による流体通路の絞り量の変動を補償するかまたは実質 的に減少させる。したがって、調整装置供給圧力効果は、本発明による調整装置 において補償される。

図６は本発明による圧力調整装置１２によって達成された結果を示している。当 該調整装置は１００ｐｓｉにつき０．３ｐｓｉの基本的な供給圧力効果を有して いるが、この供給圧力効果は前記構成によって補償される。

図６に示されるように、供給圧力が毎分２０リツトルで２０００ｐｓ　ｉから２ ００ｐｓ　ｉまで変動し、毎分５０リツトルで４００ｐｓ　ｉまで変動するよう に設定すると、出口圧力はｌｐｓ　ｉの範囲内にとどまる。

図４および５に示された実施例の流体圧力調整装置のばあい、ばね２２は弁座１ ５と協同し、出口圧力に対する供給圧力効果を相殺するか、または実質的に減じ るべく弁座の作用点における変動を生じる。しかしながら、添付図の図７の実施 例によれば、追加されたばねは用いられていない。弁座の半径方向かつ内側の部 位は、弁座自体が供給圧力Ｐｓの変動の結果としての弁座の撓みを制御するため に所定のばね特性を有するように材料および寸法が選択されているので支持され ていない。本発明の他の特徴として、調整装置の部材２５の表面２６は、供給圧 力Ｐｓに応答して最大の許容しつる移動を制限するために、撓まないときの状態 がら所定の距離、すなわち０．０１０インチだけ離間させるのが好ましい。

このため、本発明による圧縮流体の容器から分配された流体圧力を調整する方法 は、叙上のタイプの流体圧力調整装置のばあい、前記容器内の圧力の変動によっ て引き起こされるダイアフラム上のカの不均衡の結果として該ダイアフラムと弁 とを移動させながら絞られた通路の下流の流体の圧力の変動を実質的に低減する ために圧縮流体容器から調整装置の絞られた通路に供給された流体の圧力変動に 応答して弁座を移動することからなる。弁座の移動は、絞られた通路に供給され た流体の流体圧力Ｐｓを弁座に加えるのに応答して弁座の一部の撓みによって惹 起される。このようにして、本発明の流体圧力調整装置および方法は、多段の調 整装置を必要とせず、従来の一段流体圧力調整装置と比較して出口圧力における 供給圧力効果の実質的な低減を有利に許す。

本発明による２つの実施例についてだけ示すと共に記載したが、これに限られる ことなく、当業者に知られた多くの変更および修正にたいしても許されることは 理解されよう。したがって、ここで詳細に示され、かつ記載されたものに限られ ず、添付の請求の範囲に含まれるような変更および修正を網羅することを意図し ている。

ＦＩ６．２ ＦＩｏ、　４

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. １．圧縮流体の流れのための流体通路、前記通路と、該通路を通る圧縮流体の流 れとを調節自在に絞るための弁、 前記弁を移動させるためにその上での力の不均衡に応答して撓みうるダイアフラ ム、 前記ダイアフラムに第１の力を第１の方向に加えるためのばね、および 前記ダイアフラム上の力の不均衡に応答して前記弁およびダイアフラムの所定の 移動を伴って該弁によって前記流体通路の絞り量の変動量を実質的に低減する手 段 からなる流体圧力調整装置であって、 前記弁が前記調整装置の中に移動自在に設けられ、前記絞られた通路の下流の圧 縮流体がダイアフラムに第２の力を第１の方向と反対の第２の方向に加え、第３ の力が前記弁を経て前記ダイアフラムに対して第２の方向に加えられ、前記第３ の力が前記弁に作用する絞られた通路に供給された通路の関数であり、前記ダイ アフラム上の力の不均衡が絞られた通路に供給された流体の圧力の変動によって 惹起され、該流体の圧力が前記第２の力を前記ダイアフラムに加える絞られた通 路の下流の流体の圧力変動により惹起された前記弁とダイアフラムとの所定の移 動を伴って絞られた通路変化量と比較して前記第３の力として弁に作用し、前記 流体通路の絞られた量の変動を実質的に低減するための手段が、前記流体通路の 一部を構成し該通路を通って延びる隙間を有する撓みうる弁座を備えており、前 記弁が流体通路を調節自在に絞るために弁座の間隙の周囲で該弁座と協同し、前 記撓みうる弁座が、絞られた通路に供給される流体の圧力変動に応答する弁座の 撓み運動のために前記調整装置の中に設けられてなる流体圧力調整装置。
2. ２．前記調整装置がさらに間隙の近傍で該弁座の半径方向かっ内側の部位が絞ら れた通路に供給された流体の圧力変動に応答して弁座の撓みによって屈曲しうる ように、流体圧力調整装置内の前記弁座の間隙の半径方向かっ外向きに離間した 位置にのみ当該弁座を固定して支持しするための手段を有する請求項１記載の流 体圧力調整装置。
3. ３．前記弁座が環状であり、該弁座の半径方向かつ内側の部位が前記弁座の間隙 の長手方向の中心軸に沿った弁座の断面に見られるように弁座の直径の少なくと も１／２延出してなる請求項２記載の流体圧力調整装置。
4. ４．前記半径方向かつ内側の部位が前記升座の直径の少なくとも２／３だけ延出 してなる請求項２記載の流体圧力調整装置。
5. ５．前記撓みうる弁座が絞られた通路に供給された流体の圧力変動に応答してそ の撓みの程度を制御するために弾性を有する材料から形成されてなる請求項２記 載の流体圧力調整装置。
6. ６．前記間隙の近傍における弁座の半径方向かつ内側の部位が支持されていない 請求項５記載の流体圧力調整装置。
7. ７．前記弁座の半径方向かつ内側の部位が絞られた通路に供給される流体の圧力 変動に応答してその撓み運動を制御するばねによって屈曲自在に支持されてなる 請求項２記載の流体圧力調整装置。
8. ８．前記絞られた通路に供給された流体の圧力変動に応答してその撓み連動を制 御するために前記弁座を屈曲自在に支持するばねをさらに有してなる請求項２記 載の流体圧力調整装置。
9. ９．圧縮流体の流れのための流体通路、前記通路と、該通路を通る圧縮流体の流 れとを調節自在に絞るための弁、 前記弁を移動させるためにその上での力の不均衡に応答して撓みうるダイアフラ ム、 前記ダイアフラムに第１の力を第１の方向に加えるためのばね、および 前記流体通路の一部を構成し該通路のなかを通って延びる間隙を有する撓みうる 弁 からなる流体圧力調整装置であって、 前記弁が前記調整装置の中に移動自在に設けられ、前記絞られた通路の下流圧縮 流体がダイアフラムに第２の力を第１の方向と反対の第２の方向に加え、第３の 力が前記弁を経て前記ダイアフラムに対して第２の方向に加えられ、前記第３の 力が前記弁に作用する絞られた通路に供給された通路の関数であり、前記弁が前 記流体通路を調節自在に絞るために間隙の周囲の弁座と協同し、前記弁座が、弁 座の作用点を変化させるために絞られた通路に供給された流体の圧力変動に応答 した弁座の撓み運動のために前記調整装置内に設けられ、これによって前記ダイ アフラム上の力の均衡の変かによって惹起される絞られた通路の下流の流体の圧 力に対する前記絞られた通路に供給された流体の圧力変動の影響が低減されてな る流体圧力調整装置。
10. １０．前記間隙の近傍の升座の半径方向かっ外側の部位が絞られた通路に供給さ れた流体の圧力の変動に応答して弁座によって撓みうるように調整装置の前記弁 座の間隙の半径方向かつ外側にのみ前記弁座を固定して支持するための手段をさ らに有してなる請求項９記載の流体圧力調整装置。
11. １１．前記弁座が環状であり、該弁座の半径方向かつ内側の部位が前記弁座の間 隙の中心軸に沿って断面に見られるように該弁座の直径の少なくとも１／２延出 してなる請求項１０記載の流体圧力調整装置。
12. １２．前記弁座の半径方向かつ内側の部位が弁座の直径の少なくとも２／３延出 してなる請求項１１記載の流体圧力調整装置。
13. １３．前記撓みうる弁座が絞られた通路に供給された流体の圧力変動に応答して その撓みの程度を制御するために弾性を有する材料から形成されてなる請求項１ ０記載の流体圧力調整装置。
14. １４．前記弁座の半径方向かつ内側の部位が支持されていない請求項１３記載の 流体圧力調整装置。
15. １５．前記弁座の半径方向かつ内側の部位が絞られた通路に供給された流体の圧 力変動に応答して該弁座の撓みを制御するためにばねによって屈曲自在に支持さ れてなる請求項１２記載の流体圧力調整装置。
16. １６．前記調整装置が絞られた通路に供給された流体の圧力変動に応答して弁座 の半径方向かつ内側の撓み量を制限するための手段を有してなる請求項１０記載 の流体圧力調整装置。
17. １７．その中を通って流体通路と圧縮流体の流れを調節自在に絞るための弁と、 前記弁を移動させるためにその上で力の不均衡に応答して撓みうるダイアフラム と、前記ダイアフラムに第１の力を第１の方向に加えるためのばねとを有する流 体圧力調整装置において、前記弁が調整装置内に移動自在に設けられ、前記絞ら れた通路の下流の圧縮流体が第２の力を前記ダイアフラムに第１の方向の反対の 第２の方向に加え、第３の力が前記弁を経てダイアフラムに第２の方向に加えら れ、前記第３の力が流体通路の一部を構成し、前記升座を通って延びる間隙を有 する弁および弁座に作用する絞られた通路への流体の供給圧力の関数であり、前 記弁が前記流体通路を調節自在に絞るための間隙の周囲で弁座と協同する流体圧 力調整装置を用いて高圧ガスシリンダーなどの圧縮流体の容器から流体圧力を分 配する方法であって、この改善された方法が、前記弁座を撓みうる材料から形成 し、当該弁座を前記容器内の圧力変動によって惹起されたダイアフラム上の力の 不均衡の結果として、ダイアフラム及び弁の運動を伴って前記絞られた通路の下 流の流体圧力の変動を実質的に低減させるべく弁座に作用する前記圧縮流体容器 から調整装置の絞られた通路に供給された流体の圧力変動に応答して前記弁座の 撓み運動のために該調整装置内に設けることからなる方法。
18. １８．前記撓みうる弁座が重合体からなる請求項１記載の流体圧力調整装置。
19. １９．前記撓みうる弁座が重合体からなる請求項９記載の流体圧力調整装置。