JPH07505399A - 熱的安定性の弗素含有有機シラン - Google Patents
熱的安定性の弗素含有有機シランInfo
- Publication number
- JPH07505399A JPH07505399A JP5517762A JP51776293A JPH07505399A JP H07505399 A JPH07505399 A JP H07505399A JP 5517762 A JP5517762 A JP 5517762A JP 51776293 A JP51776293 A JP 51776293A JP H07505399 A JPH07505399 A JP H07505399A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- hydrolysis
- alkoxy
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 title claims description 13
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title description 5
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 23
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 15
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 9
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 7
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000005739 1,1,2,2-tetrafluoroethanediyl group Chemical group FC(F)([*:1])C(F)(F)[*:2] 0.000 claims 1
- 241000277269 Oncorhynchus masou Species 0.000 claims 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 10
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 9
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- WSXPNWHUVXMIRX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(trifluoromethyl)phenyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 WSXPNWHUVXMIRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 2
- AFTSHZRGGNMLHC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(Cl)Cl AFTSHZRGGNMLHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1Br WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCCUXODGPMAHRL-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-iodobenzene Chemical compound BrC1=CC=C(I)C=C1 UCCUXODGPMAHRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-nitro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(Cl)=CC(C(F)(F)F)=C1 ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006281 4-bromobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1Br)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100025027 E3 ubiquitin-protein ligase TRIM69 Human genes 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEIPKWKKGYHEMO-UHFFFAOYSA-N FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)[Cu] Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)[Cu] CEIPKWKKGYHEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005526 G1 to G0 transition Effects 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- 101000830203 Homo sapiens E3 ubiquitin-protein ligase TRIM69 Proteins 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hydrate Chemical compound O.CCOCC DQYBDCGIPTYXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene oxide Chemical compound FC(F)(F)C1(F)OC1(F)F PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000010128 melt processing Methods 0.000 description 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Substances OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- GNTARKRUFKKJSA-UHFFFAOYSA-N phenyl(trifluoromethyl)silane Chemical class FC(F)(F)[SiH2]C1=CC=CC=C1 GNTARKRUFKKJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/24—Coatings containing organic materials
- C03C25/40—Organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2913—Rod, strand, filament or fiber
- Y10T428/2933—Coated or with bond, impregnation or core
- Y10T428/2962—Silane, silicone or siloxane in coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]
- Y10T428/2995—Silane, siloxane or silicone coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の名称
熱的安定性の弗素含有有機シラン
発明の背景
本発明はコーティング、積層物および複合物中でのフルオロポリマーの接着力を
改善するためのカップリング剤用の前駆体として特に有用である新規な一8Tの
有機シランに関する。この群に属するいくつかはガスクロマトグラフィーおよび
液クロマトグラフイーの固定相としても好適である。これらの有機シランにとっ
て可能な別な用途には安定性の高いシリコーン液体およびニジストマーの製造が
ある。
弗素を含有する有機シランを含め種々の有機珪素化合物が知られている。例えば
PonomarevらのU、S、 4,031.+19は、パーフルオロアルキ
ル(アルコキン)ブロモベンゼンをマグネシウムで処理し、次いで、得られるパ
ーフルオロアルキル(アルコキシ)マグネシウムブロモベンゼンを3官能性シラ
ンと接触することによってつくられるある種のパーフルオロアルキル(アルコキ
シフェニル)メチルジクロロシランを開示している。
5porckのLl、S、 3.328.348は、少なくとも一個のトリフル
オロメチル−置換フェニル基を有するポリ有機シロキサンを開示している。
Ko旧のU、S、 2.884.433は、トリフルオロメチルフェニルブロマ
イドの対応するグリニヤール試薬を四塩化珪素と反応させることによってつくら
れるある種のトリフルオロメチルフェニルシランを開示している。
有機珪素化合物は、加水分解不安定性および多くの種類の珪素の共有結合、例え
ば5i−0−C基を含む化合物中の酸素や弗素以外のハロゲンのような原子との
化学反応性のため、中間体として、そして熱安定性および珪素の共有結合例えば
珪素、ある種の有機基に含まれる炭素、弗素および5i−0−3i基を含む化合
物中の酸素のような原子との低い化学反応性のための最終生成物として共に大き
な可能性を有している。
発明の概要
本発明により、式(1)
(式中、R4は最大18個の炭素原子を有し、また(a)少なくとも4個の炭素
原子を有するパーフルオロアルキル基、
(b) nが少なくとも1の整数である−[CFzCFt(CFs)0)n−C
Ft−CFz−CF、、
(c) mが少なくとも2の整数である一CL−(CF、−0)、−CF3、(
d) −CTo−C(CFs)x−CFt−CFt−CF3からなる群から選択
され、
^rは2価の芳香族基であり、
Xは
(e)メチル
(r) l?、および^rがそれぞれ上記に規定されたl?、−^rであり、(
g)塩素、臭素および沃素からなる群から選択されるハロゲン原子および
(h)アルコキシ基
からなる群から選択され、そして
YおよびZは
(i)塩素、臭素および沃素からなる群から選択されるハロゲン原子および
(j)アルコキシ基
からなる群からそれぞれ独立に選択される)を有する一群の有機シランが提供さ
れる。
発明の詳述
上記の式(1)中の八rは、例えばベンゼン、ナフタレン、トルエン、キシレン
およびアントラセンのような芳香族化合物から、あるいは例えばフラン、ピロー
ルおよびピリジンのような酸素または窒素原子を含む5員または6r1の複素環
化合物から環水素原子を2個除去する時に残る基を含めての、炭素原子を6個、
10個および14個有する標準的な芳香環を有するものを含めた、当該技術分野
で芳香族と理解される任意の2価の基であってよい。
R1基は直鎖または分枝鎖のフルオロアルキルまたはパーフルオロアルキル基で
あってよく、また4個より多い特に6個より多くの炭素原子を有するのが好まし
い。直鎖のパーフルオロアルキル基には例えばパーフルオロブチル、パーフルオ
ロペンチル、パーフルオロヘキシル、パーフルオロデシル、パーフルオロドデシ
ルおよびパーフルオロオフタデノル基が含まれる。R,が18個より多い炭素原
子を有する式(1)の有機シランは、この種の化合物について企図されるすべて
の応用に完全に適しているが、製造するにはあまり実用的ではない。好ましい代
表的分枝鎖フルオロアルキル基は−CIlz−C(CFs)t−CFz−CFt
−CFsである。
R「基はある種のパーフルオロ〔(アルキレンオキシ)アルキル〕基であっても
よい。これにはパーフルオロ〔メチレン(ポリメチレンオキシ)メチル〕基(C
)およびパーフルオロ〔(ポリイソプロピレンオキシ)プロピル〕基(b)が含
まれる。パーフルオロアルキレンオキシ反復基の数は各の場合3またはそれ以」
二であるのが好ましい。
Xの定義(h)およびYとZの定義(Dに従う典型的なアルコキシ基はメトキシ
およびエトキシ基であり、また通常は、炭素原子を4個まで有する低級アルコキ
シ基である。
加水分解に際して、上記の式(1)の化合物によりポリシロキサンが得られる。
本明細書に記載する式(1)の化合物を製造するためにいくつかの、方法が開発
されている。これらの化合物はガラス繊維にフルオロポリマーを結合するための
カップリング剤または接着促進剤として極めて有用な相当するポリシロキサンの
前駆体である。このような目的は、一般に前駆体有機シランの加水分解混合物が
ガラス繊維に施され、次いでガラス繊維が乾燥され、細断されそして融解押出成
形に際して種々のフルオロポリマーのいずれかと混合される。このように使用す
ると、本発明の化合物は弗素化炭素原子を1〜3個しか有しない類似の化合物よ
りもフルオロポリマーに対する相互作用が強いポリシロキサンを生成する。4個
またはそれ以上の弗素化炭素原子を有する別なシランが当該技術で知られている
が、これらは珪素原子とフルオロ炭素鎖との間に脂肪族結合を含み、これがフル
オロポリマーを融解処理するのに通常必要な320℃を越える高温での適切な熱
安定性を欠く原因と思われる。それとは対照的に、本発明の化合物から得られる
カップリング剤はこのような高い融解処理温度において安定である。
本発明のいくつかの代表的態様の実施例によって次に本発明を例示するが、SI
単位以外で得られたデータはすべてSI単位に変換されている。
実施例 1
1−ブロモ−4−パーフルオロヘキシルベンゼンの調製機械撹拌機、還流凝縮器
/ガス流入口、および温度計を備えた500dの3つロフラスコに、156.0
89 (0,35モル)のn−パーフルオロヘキシルイオダイド、硫酸第二銅水
溶液を亜鉛粉末と反応させることによって新たにつくられる47.66 q (
0,75モル)の銅粉末、および350++/の試薬級のジメチルスルホキシド
をアルゴン雰囲気下で充填した。得られるパーフルオロヘキシル銅溶液を25℃
に冷却し、そしてこれに84.879 (0,300モル)の1−ブロモ−4−
イオドベンゼンを添加した。水浴中での冷却により、ゆるやかに発熱する反応を
30℃に維持した。次に混合物を室温で一晩撹拌し続けた。
得られる混合物を幾つかの部分に分けたメチル[−ブチルエーテルで抽出し、抽
出物を一緒に合わせ、これを水洗しそして硫酸マグネシウム上で乾燥した。減圧
下で溶媒を除去の後、残留物を減圧蒸留し、沸点が2661’aで72〜74℃
である1−ブロモ−4−パーフルオロヘキシルベンゼンを118.6 q (0
,250モル、収率83%)を得た。
同様にして、1−ブロモ−4−パーフルオロオクチルベンゼン(246Paでの
沸点98〜100℃)と1−ブロモ−4−パーフルオロブチルベンゼン(266
1’aでの沸点50℃)を調製した。
実施例 2
(4−パーフルオロへキシルフェニル)メチルジクロロシランの調製
機械撹拌機、低温温度計、ガス流入口、および2hlの滴下漏斗を備えた1of
t/の3っロフラスコをアルゴンでフラッシュし、次いでこれに11.4 q
(24ミリモル)の1−ブロモ−4−パーフルオロヘキシルベンゼンと50m/
のジエチルエーテルとを装入した。フラスコの内容物を撹拌し、これに滴下漏斗
がらヘキサン(25ミリモル)中の1.55Mのn−ブチルリチウムを16.1
s+L 20分にゎた一、i”−30℃テ添加した。
不活性雰囲気中で6.4569 (25ミリモル)の臭化マグネシウムエーテレ
ートとI2m1のジエチルエーテルとから溶液を調製し、そして注射器によって
滴下漏斗に移した。n−ブチルリチウムの添加終了後15分してから始め、やは
り−30℃にある撹拌されたフラスコ内容物中に上記の溶液を10分間にわたっ
て導入した。次に反応混合物を約−75℃まで冷却し、そしてこれに5.38
g(36ミリモル)のメチルトリクロロシランを迅速に添加した。この添加後1
o分して反応混合物を室温までゆっくりと昇温させた。
生成物の混合物から蒸留によってエーテルを除去し、そしてこれを1.1.2−
)ジクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(TCTFE)によって置きかえ
た。得られる混合物を不活性雰囲気中で室温で濾過した。
常圧下で溶媒を濾液から留去し、そして残留物を真空蒸留し、45Paの沸点が
72℃である(4−パーフルオロへキシルフェニル)メチルジクロロシランを4
.79(9,2ミリモル、収率38%)得た。
実施例 3
(4−パーフルオロオクチルフェニル)トリメトキシシランの調製機械撹拌機、
アルゴン吹込み器に連結するガス流入口、低温温度計および添加漏斗を備えた3
1の4つロフラスコをアルゴンでフラッシュしそしてこれに11の篇水エーテル
中の320 q (0,556モル)の4−パーフルオロオクチル−1−ブロモ
ベンゼンを装填した。溶液を撹拌しつつ、氷−メタノール洛中でフラスコを一3
0℃に冷却した。添加漏斗にヘキサン中の1.55Mのn−ブチルリチウムを3
61m1(0,560モル)をアルゴン下で装填し、次いでフラスコの内容物の
温度が一25℃を越えないような速さで添加漏斗の中身をフラスコ内に添加した
。次に添加漏斗にエーテル中の臭化エチレン105.2g(0,560モル)と
14.59 q (0,600モル)のマグネシウム切削屑との反応からつ(ら
れる臭化マグネシウム溶液を装填した。
この添加の終了後30分して反応混合物をアセトン/ドライアイス洛中で一74
℃に冷却した。127.9 q (0,84モル)のテトラメトキシシランを迅
速に撹拌しつつ添加し、そして混合物を一晩かけて室温に昇温させた。上澄み液
の一部を傾瀉し、フラスコ中の固形物を傾瀉およびアルゴン下での塩化メチレン
による洗浄と濾過を繰り返して除去した。エーテルを合した有機液体から留去す
ると塩化メチレン中の溶液と追加的な固形物がいくらか残った。
381、89 (0,664モル)の4−パーフルオロオクチル−1−ブロモベ
ンゼンから出発して上記の手順を反復した。合した生成物の溶液をアルゴン下で
濾過し、そして減圧下で溶媒を濾液から除去した。
最期に蒸溜し266Paの沸点が92〜95℃である(4−パーフルオロオクチ
ルフェニル)トリメトキシシラン570 q (0,925モル)を得た(収率
76%)。
実施例(比較例)
(4−トリフルオロメチルフェニル)トリメトキシシランの調製機械撹拌機、添
加漏斗、低温温度計およびアルゴン吹込み器に連結するガス流入口を備えた2p
の3つロフラスコをアルゴンでフラッシュしそしてこれに750m1の無水ジエ
チルエーテル中に溶解した87、19 (0,387モル)の4−ブロモベンシ
トリフルオライド装填した。
フラスコの内容物を一30℃に冷却した。添加漏斗にヘキサン中のn−ブチルリ
チウムの1.6M溶液24bl(0,387モル)を装填した。この溶液を−2
5〜−30℃の温度で撹拌しつつ45分間にわたってフラスコに添加した。この
添加終了後30分して、ドライアイス/アセトン洛中でフラスコをさらに一75
℃に冷却した。迅速に撹拌したフラスコに78.69 (0,516モル)のテ
トラメトキシシランを一度に添加した。
次に1時間にわたって反応混合物を室温に昇温させた。
機械撹拌機と添加漏斗とを磁気撹拌機とスチルヘッドで置きかえた。エチルエー
テルの約2/3を留去させそして等容積のTCTFEによって置きかえた。残り
のエーテルのほとんどをさらに蒸溜することによって除去した。残留溶液を室温
に冷却し、追加のTCTFEで希釈して窒素下に濾過した。減圧下で溶媒を濾液
から除去した。油状の残留物を蒸溜して266Paでの沸点が69.5〜71℃
である(4−トリフルオロメチルフェニル)トリメトキシシランを73.9 q
(0,277モル)得た(収率72%)。
実施例 5
(4−(3,3,4,4,5,5,5−へブタフルオロ−2,2−ビス(トリフ
ルオロメチル)ペンチル〕フェニル) トリメトキシシランの調製機械撹拌機、
ガス流入口、低温温度計および添加漏斗を備えた500++/の3つロフラスコ
をアルゴンでフラッシュした。引続いて、アルゴン雰囲気を反応を通じて維持し
た。フラスコに3001/の無水ジエチルエーテル中の48.99(0,100
モル)の4− (3,3,4,4,5,5,5−へブタフルオロ−2,2−ビス
(トリフルオロメチル)−ペンチル〕−1−ブロモベンゼンの溶液を装填した。
添加漏斗にヘキサン中のn−ブチルリチウムの1.60Mの溶液を62.5m1
C0,100モル)装填し、これを撹拌したフラスコ内容物に−25〜−30℃
で45分間にわたってフラスコにmIJ[]シた。添加漏斗に50@lの無水エ
チルエーテル中の25、8 q (0,100モル)の臭化マグネシウムエーテ
レートの溶液を再び装填した。n−ブチルリチウムの添加終了後15分して、こ
の溶液を−25〜−30℃で30分間にわたって反応混合物に添加した。反応混
合物を一30″C:にさらに15分間保ち、次いで一75℃に冷却した時に激し
く撹拌しつつ19、Og(0,125モル)のテトラメトキシシランを一度に添
加した。
実施例4に記載のように反応混合物を仕上げた。所望の反応生成物である39P
aの沸点が82〜84℃の14− [3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフル
オロ−2,2−ビス(トリフルオロメチル)ペンチル]フェニルl トリメトキ
シシランを36.7 qの収量(収率69%)にて得た。
実施例 6
シランの加水分解およびコーティングの実験(4−パーフルオロオクチルフェニ
ル)トリメトキシシラン(実験1)と(4−トリフルオロメチルフェニル)トリ
メトキンシラン(実験2)のそれぞれを、各化合物1謂eを、35履pのイソプ
ロピルアルコール、Q、 5*(!の酢酸およびI、 ht!の脱イオン水を用
いて室温で4時間撹拌することにより加水分解した。次に各混合物を3611/
の追加のイソプロピルアルコールで希釈しそしてスライドガラス」二に浸漬コー
ティングした。各場合とも水に関するおよびヘキサデカンに関する接触角をコー
ティングしたままでおよび温水でのすすぎ洗いの後、液滴法によッテ測定した。
この方法は、^、W、AdamsonのPhysicalChemistry
of 5ur4aces1第4版、341頁(1982年)に記載されている。
撥炭化水素性は、油性物質による耐汚損性が望ましい応用例えば彫像を保護する
ために施されるコーティングにおいて有用な特性である。炭化水素との大きな接
触角はまた、フルオロポリマーとの相容性の改善が望ましいフルオロ炭素が表面
上に存在することを示している。ガラス表面上の多くのメチル−置換またはフェ
ニル−置換ポリシロキサンは、水との大きな接触角を有するが、炭化水素との接
触角が太き(ない。
以下の結果を得たが、括弧内には標準偏差を示す。
すすぎ洗い後 +19(3) 88(3) 68(2) 55(4)1)前進
2)後退
すすぎ洗い後 99(1) 69(1) 3g(2) 27(1)1)前進 2
)後退
上記の結果は、水およびヘキサデカンの接触角(前進および後退接触角)に対す
る鎖長のより大きいフルオロ炭素の影響を示す。多くの有機シランは疎水性であ
り、従って水の接触角の差はありの太き(ないが、ヘキサデカンの接触角に対す
る鎖長の影響は特に顕著である。このことはCsF+t/CF3接触角比として
さらに別な下表によって表すことができる。
すすぎ洗い後 1,20 1.28 1,79 2.041)前進 2)後退
実施例 7
単一繊維に関する有効剪断強度の測定
選定した有機シランをガラス繊維用のカップリング剤として試験した。SPI
30th Annual Tech Conf、 Re1nf、 Plast、
22−^(1975年)のW、^、Fraserらの方法を用いて臨界長さの
測定を行った。直径13マイクロメートルの未処理の市販のガラス繊維(Ove
ns−CorningFiberglass製)をシラン加水分解溶液中に浸漬
し、乾燥しそして110℃でキュアし、次いでこれをテトラフルオロエチレン/
パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)コポリマー(DuPnnt、 Tcf
lonOr’FA340)の厚さ203マイクロメートルの2枚の薄膜の間にお
き340℃において13790kr’aの圧力て押圧することによりこのフルオ
ロポリマー中に埋め込んだ。この試験においては膜およびこれに埋め込んだ繊維
を、繊維の軸に沿って延伸する。膜そのものは延伸するが、フルオロポリマーの
薄膜の間で繊維が滑動する前に、繊維を破断させる程膜に対する繊維の接着力が
大きい限り、繊維は破断しまた破断し続ける。
破断した繊維のフラグメントの平均的な長さは接着力の指標として使用できる。
結果は、上記のFraserらの文献に教示されているごとく有効剪断強度と相
関関係を示す。
以下にその結果を示す。
■ なしく対照) 14775
2 CF3Cs1LSi(OCIIs)x 210223C4FsCelLSi
(QC夏+3)3205944 CF3Cs1Si(OCIIs)s 2763
45 Cs7tC*1I4Si(OCl13)s 28751パーフルオロアル
キル鎖の炭素が1gAから4個に増加するとき、有効剪断強度には何ら向上はな
いが、鎖長がさらに炭素原子6個まで増加すると、有効剪断強度は劇的に増大し
、鎖長が炭素原子8個まで増加すると強度は僅かに向上することが判る。
実施例 8
ポリシロキサンの熱安定性の測定
種々のトリアルコキシシランから誘導されたシリカで支持されたポリシロキサン
の熱安定性を次の方法で測定した。
小さなポリエチレンアンプル中で、1008gのフユームドシリカ(Cabns
il MS−7,Cabot Corp、製)、0.200ミリモルのシランお
よび7、60 qのイソプロピルアルコール、2.00 qの水とQ、 40
qの蟻酸からつくられるI、 0*/の溶液を合した。アンプルを超音波クリー
ニング浴内に警乗し、そして加水分解混合物を室温で2.5時間超音波処理をか
けた。混合物をガラスの小瓶に移し入れ、窒素流中で液体を蒸発させ、そして白
色の固形残留物を乾燥しまた真空炉内で120℃で一晩キュアした。得られたシ
リカで支持されたポリシロキサンの試料を、Dur’ont Model 10
90 TG^器具を用いて、約650℃まであるいは重量減がもはや認められな
くなるまで10℃/分の割合で窒素下で加熱することにより熱重量分析(TGA
)にかけた。この試験の結果を下記の表5に示す。分解温度、Tdは全乗員損失
10%が起こる温度である。出発物質のソランはRがメチルまたはエチルであり
、そしてR′が下記のように変化する式R’−3i(0−R)3を有した。実験
1〜3およびlOにおいては出発物質として市販のシランを使用したが、残りの
実験においては実験室でつくったシランを使用した。
1 (CF3) zCF−OCII2C112CII2− 3042 Ch(C
h)s−CIItCIIz−3133CF3−C112C112−328
4CF3(OCF2)3−OCF2CF!−Callじ 3825 CF3CF
2CF2−1:0CF(CF3)CF2)3 C611じ 4096 CF3C
F2CF2−C(CF3) z−C1b−CsL−4307CF3(CF2)3
−C6114−4478CF3(CFz)7−Csll<−4589CF3−C
11llじ 463
10 C6115−488
上記の表は実験1〜3におけるようにフロオロアルキルまたはフルオロアルコキ
シ置換基が脂肪族(アルキレン)基を介して珪素に結合しているシランから誘導
されるポリシロキサンは、実験4〜8におけるもののように芳香族(フェニレン
)基を介して結合しているポリシロキサンよりも熱安定性が低いことを示す。前
者のタイプはガラス繊維のフルオロポリマーマトリックスに対する結合を改善す
る処理のために使用する場合、フルオロポリマー処理に用いる320〜340℃
の通常の温度範囲内で十分な熱安定性を有する。これとは対照的に上記の温度範
囲で安定である、実験5〜80本発明の有機シランからつくられるポリシロキサ
ンはこれらの条件下で有効な結合剤になりつると期待できる。比較のために示さ
れる実験9および10のポリシロキサンも上述の高い温度で使用可能な十分に熱
安定性を有するが、効果的な結合剤として機能するのに十分なフルオロポリマー
との相容性に欠ける。
実施例 9
パーフルオロアルキルエーテル(4−プロモフエニノ1ケトンの調製
これらのケトンはJ、Flourine Chet、19. 43 (1981
)においてり、S、ChenおよびC,Tal1borskiによって述べられ
ている一般的方法によって製造した。撹拌機、温度計および添加漏斗を備えた1
1の3つ口の丸底フラスコ中で、11.41 q (0,484モル)の1.4
−ジブロモベンゼンと45015の無水エチルエーテルを窒素下で合した。ドラ
イアイス/アセトン浴でこのフラスコを冷却し、そして添加漏斗にヘキサン中の
n−ブチルリチウムの1.6M溶液を3fb/(0,048モル)を装填した。
この試薬を撹拌したフラスコの内容物に−74〜−78℃で40分間にわたって
滴加した。次にR「が式(2)を有し、nが2〜3であるR、Co□Etからな
るヘキサフルオロプロピレンオキサイドのオリゴマーから誘導されるエチルエス
テルの混合物35.5 qのエーテル(約30m1)中の溶液を添加漏斗に装填
した。この溶液を連続的冷却によって一75℃に保たれた撹拌した反応混合物に
1時間にわたって添加した。この添加終了1.5時間後、トリフルオロ酢酸4m
1部分を添加した。次に反応混合物を室温まで昇温させ、次いで50m1の重炭
酸ナトリウムのIN水溶液を添加した。エーテル層を分離し、そして水性層を追
加部分のエーテルで抽出した。合した有機溶液を無水の硫酸マグネシウム上で乾
燥し、減圧下の回転式蒸発器内で溶媒を除去することにより濃縮し、そして真空
下で150℃で加熱して過剰のジブロモベンゼンを除去した。残留物はR,が上
記に定義したものである、オリゴマーケトンとしての(4−ブロモフェニル)−
C(0) −Rrからなり、収量は34.4 v (理論値の67%)であった
。
同様に、Re5nickのu、s、 3.692.843に記載されている、対
応するアンルフルオライドから誘導されるCFs(OCFt)ncOtcHa(
n = 4〜5 )のメチルエステルの混合物を(4−ブロモフェニル)−C(
0)−(CF20)nCF3オリゴマーケトンの調製に使用した。このオリゴマ
ーケトンは粗生成物を76〜78℃および333〜400Paの圧力で蒸留した
後、収率60%にて得られた。
実施例 10
(4−ブロモフェニル)パーフルオロアルキルエーテルの調製上述のようにして
得た(4−ブロモフェニル)−C(0)−Rrオリゴマーケトン混合物をステン
レス鋼製の圧力管内で35m1のTCTFEと合し、これに8gの無水11Fと
22qのSF4とを添加した。この管を密封して加熱しそして180℃で18時
間振盪した。環を室温まで冷却した後、その内容物をTCTFEでさらに希釈し
た。得られる溶液を重炭酸ナトリウムの希薄水溶液で洗浄し、次いで無水の硫酸
マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減圧下で除去し、そして残留物を76〜b4
0Paで蒸留し、収率70%にて(4−ブロモフェニル)−CF、−R,オリゴ
マー生成物を得た。
同様に、上述のようにして得た(4−ブロモフェニル) −C(0)−(CFz
O)nCFs (n = 4〜5 )を、収率54%にて160Paでの沸点が
77〜120℃である対応する(4−ブロモフェニル) −CFt−(CFzO
)。CF、生成物に変換した。
実施例 11
(4−パーフルオロアルキルエーテルフェニル)トリメトキシシランの調製
実施例5にのべたのと同じ方法で、R,が式(2)によって示される(4−ブロ
モ7 エニル)−CFz−R(オリゴマー化合物を(4−R,CF、 −フェニ
ル)トリメトキシシランに変換した。このオリゴマーの粗生成物を蒸留によって
部分的に分離し、n=2であるR1置換基を有するシランから主としてなる物I
!(17Paでの沸点108〜1120℃、収率57%)と、n=3であるRr
i!換基を有するシランから主としてなる第2の部分(20Paでの沸点112
〜117℃、収率45%)を得た。
同様に、上記のようにして得たnが4〜5である(4−ブロモフェニル)−CF
2−(CFzO)ncFsオリゴマー化合物を、[4−CFs(OCFi)nc
F*−フェニル] トリメトキシシランに変換した。オリゴマーの粗生成物の蒸
留により、上記の式でnが4であるシランから主としてなる第1の留分(120
〜150Paでの沸点94〜98℃、収率53%)と、上記の式でnが5である
シランから主としてなる第2の留分(13I’aでの沸点84〜88℃、収率5
2%)との二つの留分が得られた。
補正書の翻訳文提出書
(特許法第184条の7第1項)
平成6年10月6日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ▲数式、化学式、表等があります▲ (式中、Rrは多くとも18個の炭素原子を有し、(a)少なくとも4個の炭素 原子を有するパーフルオロアルキル基、 (b)nが少なくとも1の整数である−[CF2CF2(CF3)0〕n−CF 2−CF2−CF3、 (c)mが少なくとも2の整数である−CF2(CF2−O)mCF3、(d) −CH2−C(CF3)2−CF2−CF2−CF▲数式、化学式、表等があり ます▲ からなる群から選択され、 Arは2価の芳香族基であり、 Xは (c)メチル (f)Rr−Arは上記に規定された通りであり、(g)塩素、臭素および沃素 からなる群から選択されるハロゲン原子および (h)アルコキシ基 からなる群から選択され、そして YおよびZは (i)塩素、臭素および沃素からなる群から選択されるハロゲン原子および (j)アルコキシ基 からなる群からそれぞれ独立に選択される)を有する有機シラン。 2.式(1)の2価の芳香族基Arが、ベンゼン、ナフタレン、トルエン、キシ レン、アントラセン、フラン、ピロールおよびピリジンからなる群から選択され る芳香族化合物から2個の環水素原子を除去する時に残留する基である、請求項 1記載の有機シラン。 3.Rrが、4個より多い炭素原子を有するパーフルオロアルキル基である請求 項1記載の有機シラン。 4.X、YおよびZの少なくとも一つがアルキル基である有機シラン。 5.各アルコキシ基が多くとも4個の炭素原子を有する請求項4記載の有機シラ ン。 6.各7ルコキシ基ガ、メトキシおよびエトキシ基からなる群から選択される請 求項5記載の有機シラン。 7.Rr基が少なくとも6個の炭素原子を有する請求項1記載の有機シラン。 8.請求項1記載の有機シランの加水分解によって得られるポリシロキサン。 9.請求項1記載の有機シランの加水分解によってつくられるポリシロキサンで コーティングされたガラス繊維。 10.請求項6記載の有機シランの加水分解によってつくられるポリシロキサン でコーティングされたガラス繊維。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US864,954 | 1992-04-07 | ||
US07/864,954 US5180845A (en) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | Thermally stable, fluorine-containing organsilanes |
PCT/US1993/003204 WO1993020084A1 (en) | 1992-04-07 | 1993-04-06 | Thermally stable, fluorine-containing organosilanes |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07505399A true JPH07505399A (ja) | 1995-06-15 |
Family
ID=25344404
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5517762A Pending JPH07505399A (ja) | 1992-04-07 | 1993-04-06 | 熱的安定性の弗素含有有機シラン |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5180845A (ja) |
EP (1) | EP0629205B1 (ja) |
JP (1) | JPH07505399A (ja) |
DE (1) | DE69313838T2 (ja) |
ES (1) | ES2106337T3 (ja) |
WO (1) | WO1993020084A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998049218A1 (fr) * | 1997-04-30 | 1998-11-05 | Daikin Industries, Ltd. | Polymere fluore, son procede de preparation et son utilisation |
WO2018021539A1 (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤および該表面処理剤から形成された層を含む物品 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4418308A1 (de) * | 1994-05-26 | 1995-11-30 | Bayer Ag | Selbstvernetzende Zubereitungen, deren Herstellung und Verwendung |
US5459198A (en) * | 1994-07-29 | 1995-10-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluoroinfused composites, articles of manufacture formed therefrom, and processes for the preparation thereof |
US5876686A (en) * | 1995-06-28 | 1999-03-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making inorganic oxide gels in fluorocarbon solvents |
US5726247A (en) * | 1996-06-14 | 1998-03-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluoropolymer nanocomposites |
DE19730245B4 (de) | 1997-07-15 | 2007-08-30 | W.L. Gore & Associates Gmbh | Beschichtungsmaterial, beschichtetes Material und Verfahren zu deren Herstellung |
JP4020078B2 (ja) * | 2001-10-30 | 2007-12-12 | 日立化成工業株式会社 | 封止材タブレット、その製造方法及び電子部品装置 |
JP4687671B2 (ja) * | 2007-03-16 | 2011-05-25 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US8741158B2 (en) | 2010-10-08 | 2014-06-03 | Ut-Battelle, Llc | Superhydrophobic transparent glass (STG) thin film articles |
US11292919B2 (en) | 2010-10-08 | 2022-04-05 | Ut-Battelle, Llc | Anti-fingerprint coatings |
US9221076B2 (en) | 2010-11-02 | 2015-12-29 | Ut-Battelle, Llc | Composition for forming an optically transparent, superhydrophobic coating |
EP2551701A1 (en) | 2011-06-16 | 2013-01-30 | Services Pétroliers Schlumberger | Apparatus and method for actively balancing impedance of a resistivity measuring tool |
US20150239773A1 (en) | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Ut-Battelle, Llc | Transparent omniphobic thin film articles |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB809317A (en) * | 1956-09-10 | 1959-02-18 | Midland Silicones Ltd | Improvements in or relating to organochlorosilanes |
US3328348A (en) * | 1961-12-18 | 1967-06-27 | Gen Electric | Trifluoromethylphenyl polysiloxanes |
US3304320A (en) * | 1963-06-17 | 1967-02-14 | Dow Corning | Organosilicon compositions |
FR1438648A (fr) * | 1964-05-14 | 1966-05-13 | Procédé de préparation de composés organiques à chaînes perfluoro-ou perfluorochloro-carbonées | |
US3507898A (en) * | 1968-01-15 | 1970-04-21 | Chevron Res | Halogenated phenylalkoxysilanes as high temperature fire resistant fluids |
US3642596A (en) * | 1968-09-06 | 1972-02-15 | Shinetsu Chemical Co | Process for preparing organochlorosilanes |
US3692843A (en) * | 1971-03-29 | 1972-09-19 | Du Pont | Perfluorovinyl ethers |
DE2614608C3 (de) * | 1976-04-05 | 1980-04-03 | Aleksej Ivanovitsch Ponomarev | Perfluoralkylphenyl- und Perfluoralkoxyphenyl-methyldichlorsilane sowie Verfahren zu ihrer Herstellung |
US4075168A (en) * | 1976-07-13 | 1978-02-21 | Alexei Ivanovich Ponomarev | Fluorosiloxane diols and method of producing same |
DE3248535A1 (de) * | 1982-12-29 | 1984-07-12 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Fluoralkyloxyalkylgruppen aufweisendes diorganopolysiloxan und dessen verwendung |
JPS6422310A (en) * | 1987-07-17 | 1989-01-25 | Shinetsu Chemical Co | Antifoaming agent |
US5011963A (en) * | 1988-02-09 | 1991-04-30 | Matsushita Electric Ind., Co., Ltd. | Terminal perfluoroalkylsilane compounds |
JPH0662647B2 (ja) * | 1988-02-12 | 1994-08-17 | 信越化学工業株式会社 | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
JPH02311485A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
JPH0377892A (ja) * | 1989-08-21 | 1991-04-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機けい素化合物及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-04-07 US US07/864,954 patent/US5180845A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-04-06 JP JP5517762A patent/JPH07505399A/ja active Pending
- 1993-04-06 DE DE69313838T patent/DE69313838T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-04-06 EP EP93909479A patent/EP0629205B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-06 ES ES93909479T patent/ES2106337T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-06 WO PCT/US1993/003204 patent/WO1993020084A1/en active IP Right Grant
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998049218A1 (fr) * | 1997-04-30 | 1998-11-05 | Daikin Industries, Ltd. | Polymere fluore, son procede de preparation et son utilisation |
US6337135B1 (en) | 1997-04-30 | 2002-01-08 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolymer, process for preparing the same, and use thereof |
WO2018021539A1 (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-01 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤および該表面処理剤から形成された層を含む物品 |
JP2018024859A (ja) * | 2016-07-29 | 2018-02-15 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤および該表面処理剤から形成された層を含む物品 |
JP2018154125A (ja) * | 2016-07-29 | 2018-10-04 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤および該表面処理剤から形成された層を含む物品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0629205B1 (en) | 1997-09-10 |
WO1993020084A1 (en) | 1993-10-14 |
US5180845A (en) | 1993-01-19 |
DE69313838D1 (de) | 1997-10-16 |
EP0629205A1 (en) | 1994-12-21 |
DE69313838T2 (de) | 1998-04-02 |
ES2106337T3 (es) | 1997-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH07505399A (ja) | 熱的安定性の弗素含有有機シラン | |
JP5431724B2 (ja) | フッ素化有機ケイ素コーティング材料 | |
JP7001097B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
WO2017038832A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 | |
TWI656144B (zh) | Fluoropolyether-containing polymer | |
WO2021131960A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、表面処理剤、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、及び物品の製造方法 | |
JP6390521B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン | |
WO2018168497A1 (ja) | 含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 | |
WO2013121984A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法 | |
TW201319120A (zh) | 含氟醚化合物、塗佈液、及具表面處理層之基材的製造方法 | |
JPS58167597A (ja) | フルオロアミノシラン化合物 | |
JP4487037B2 (ja) | 耐熱性、耐久性、離型性、及び防汚性シランカップリング剤、並びにそれらの化合物の製造方法 | |
US5876686A (en) | Process for making inorganic oxide gels in fluorocarbon solvents | |
DE69116810T2 (de) | Fluoralkylgruppe enthaltende Organosiliciumoligomer, Verfahren zu deren Herstellung und Oberflächenbehandlungsmittel | |
CA1111042A (en) | Silicon-modified imidyl-phthalic acid derivatives | |
US5453528A (en) | Optimized process for inert fluorinated silanes | |
WO1994020442A1 (en) | Fluorinated aromatic compound | |
US5461173A (en) | Fluorine-containing organosilicon compound and its manufacture | |
US4578508A (en) | Fluoroacrylate ester, polymer thereof, and process of making the same | |
JPS6352629B2 (ja) | ||
JP3939226B2 (ja) | 耐熱性シランカップリング剤、およびそれらの化合物の製造方法 | |
JP2505519B2 (ja) | 含フッ素シリル化合物及びその製造方法 | |
JP5843785B2 (ja) | フッ素化アリーレン含有化合物、方法、及びそれから調製されるポリマー | |
Romans et al. | Structural Guides to the Development of High Dielectric Constant Esters for Capacitors. | |
US3584023A (en) | Acetoxyalkylacetoxysilanes |