JPH075049U - 研磨パッド評価装置 - Google Patents

研磨パッド評価装置

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JPH075049U
JPH075049U JP3354993U JP3354993U JPH075049U JP H075049 U JPH075049 U JP H075049U JP 3354993 U JP3354993 U JP 3354993U JP 3354993 U JP3354993 U JP 3354993U JP H075049 U JPH075049 U JP H075049U
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JP
Japan
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indenter
polishing pad
polishing
surface plate
detecting
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JP3354993U
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English (en)
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勉 澤野
浩史 小村
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 研磨パッドの実用的な圧縮特性を評価する。 【構成】 被検査対象の研磨パッド1を貼付する定盤2
と、この定盤2上に対向配置した円柱状の第1圧子3
と、この第1圧子3の上面に形成された球状凹部3aに
対応する球状部4aが形成された第2圧子4と、この第
2圧子4を介して第1圧子3を定盤2上面に一定速度で
下降させる駆動装置5と、第1圧子3に対する抗力を検
出するロードセル6と、第1圧子3の押し込み量を検出
するレーザ変位計7とからなる。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は研磨パッド(研磨布を含む)の圧縮剛性を評価する研磨パッド評価装 置に関し、特に液晶用ガラス基板を研磨する研磨パッドの圧縮剛性の評価に優れ た評価装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
フロート法、ダウンドロー法などの方法で成形されたガラス基板から所定寸法 に切断されたガラス基板の表面には微小な凹凸が残っているので、そのまま液晶 用ガラス基板として用いると、液晶表示ムラが生じたり、またガラス基板表面に TFT(薄膜トランジスタ)等の薄膜素子を形成する場合は歩留りが低下する。 そこで、従来からオスカー式研磨装置を用いてガラス基板表面を研磨している。
【0003】 この研磨装置で使用される研磨パッドは、通常、発泡ポリウレタンで形成され ているが、この研磨パッドの特性が研磨品質並びに研磨効率に大きく関与するこ とが知られており、特に研磨パッドの圧縮剛性は、研磨品質のうちの研磨するガ ラス基板のキズに、研磨効率のうちの研磨時間に大きく関与している。
【0004】 従来、研磨パッドの特性を試験する方法として、例えばJIS K−6301 に準拠した硬度を測定する試験法がある。この試験法は、測定しようとする研磨 パッドと同じ研磨パッドを積み重ねて12mm以上とし、これに定圧定速押し具を 押込んで研磨パッドの硬度を測定するものである。また、JIS L−1096 には圧縮弾性率を測定する方法が見られるが、これは材料の機械的な回復力を測 定する方法である。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】
上述したJIS K−6301に見られる試験方法は本来ゴムの硬度を測定す る方法として確立されたもので、研磨パッドの硬度測定にはその方法に準拠して 適用しているに過ぎないもので、特に液晶用ガラス基板を研磨する場合には研磨 品質並びに研磨効率に関して最適な研磨パッドの選択する上での指標とはなり得 なかった。
【0006】 即ち、JIS K−6301によって試験した硬度の異なる研磨パッドを使用 して研磨した場合、研磨時間は殆ど同等か硬度の高い研磨パッドの方が若干研磨 時間が短くなる程度であり、一方同等の硬度を持つ研磨パッドでも著しく研磨時 間の異なる場合もあり、研磨時間と硬度との強い相関関係は見出せない。
【0007】 また、上記の試験方法は厚さ12mm以上に積み重ねた研磨パッドに適用される ため、2mm以下の薄い研磨パッドを使用している条件とは異なる条件の下での硬 度であって、そこでは厚みが薄い場合に生じるであろう実質的な剛性向上効果が 考慮されていないし、更に市販の研磨パッドは両面テープ付きで供給されるので 、測定の度に両面テープを剥離して12mm以上に積み重ねる作業が必要になり、 測定作業効率も悪い。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため本考案は、研磨パッドを貼付する定盤上に、超硬材 料等からなる例えば円柱状の第1圧子を対向配置し、この第1圧子の上面に形成 された凹部に対応する凸部が形成された第2圧子を設け、この第2圧子を介して 第1圧子を定盤上に貼付された研磨パッドに押し込んだときの第1圧子に対する 抗力を検出する抗力検出手段及び押し込み量を検出する押込み量検出手段を設け た。
【0009】
【作用】
定盤上の研磨パッドに対して第1圧子を押し込んだとき、その押し込みに対し てその力学的性質から第1圧子に対して抗力が作用し、このとき研磨パッドの剛 性が高いほど、また厚みが薄いほど急激に抗力が増加するので、この抗力変化の 勾配即ち単位押し込みあたりの抗力差を検出測定することにより、研磨パッドの 圧縮剛性を評価することができる。
【0010】
【実施例】
以下に本考案の実施例を添付図面に基づいて説明する。ここで、図1は本考案 に係る圧縮パッド評価装置の正面図、図2は同装置の第1圧子及び第2圧子を示 す斜視図、図3は圧子押し込み量と抗力との関係を示すグラフ、図4は圧縮剛性 及び硬度と研磨時間との関係を示すグラフである。
【0011】 評価装置は、被検査対象の研磨パッド1を貼付する定盤2と、この定盤2上に 対向配置した例えば直径1cm〜5cmの超硬材料製の円柱状第1圧子3と、この第 1圧子3の上面に形成された球状凹部3aに対応する球状凸部4aが形成された 第2圧子4と、この第2圧子4を介して第1圧子3を定盤2上面に一定速度で下 降させる駆動装置5と、第1圧子3に対する抗力を検出する抗力検出手段である ロードセル6と、第1圧子3の押し込み量を検出する押し込み量検出手段である レーザ変位計7とからなる。
【0012】 そして、第1圧子3は4本のスプリング8を介して第2圧子4の下面に吊り下 げ支持され、この状態で第1圧子3の球状凹部3aの中心が第2圧子4の球状凸 部4aの先端にかるく接するようになっている。
【0013】 このように構成された評価装置を使用して研磨パッド1の圧縮剛性を評価する には、定盤2上に実際に使用する研磨パッド1の断片を貼付し、駆動装置5によ って第2圧子4及び第1圧子3を一定の速度で下降させる。
【0014】 そして、第1圧子3下端が研磨パッド1に接触した時点を時刻T0とすると、 この時刻T0から研磨パッド1は第1圧子3に対して抗力を及ぼし、この抗力は ロードセル6にて検出され、また押し込み量はレーザ変位計7にて検出され、こ れらの検出結果に基づいて単位押し込みあたりの抗力差を測定できる。
【0015】 ここで、押し込み量と抗力値との関係は、図3に示すように押し込み初期にお いては両者の関係は概ね直線関係を示すが、押し込み量が大きくなるに従って定 盤2の影響を受けて抗力は急速に増加する。したがって、研磨パッド1の厚みの 効果も考慮した実質的な圧縮剛性値を得るためには、初期の段階、例えば押し込 み量が0.2mmから0.3mmまでの抗力差を単位押し込み量に換算して採用するのが望 ましい。
【0016】 次に、一定の厚み(1.5mm)の4種類の研磨パッド(これをA,B,C,Dで 表す)について、本考案による評価装置で求めた圧縮剛性値、JIS K−63 01に基づく硬度、及びその研磨パッドを使用して所定の表面平坦性を得るまで に要した研磨時間について測定した結果を以下の(表1)及びこれをグラフ化し た図4に示している。尚、同図中、○が本考案に係る評価装置の値、×がJIS K−6301による値を示し、それぞれの○及び×に付記したA〜Dは研磨パ ッドA,B,C,Dの値であることを示している。
【0017】
【表1】
【0018】 同図から分るようにJIS K−6301による硬度は研磨パッドAで「83」 、研磨パッドBで「83〜85」で略同じであるにもかかわらず、研磨時間は約1分 研磨パッドAの方が短く、JIS K−6301による硬度と研磨時間との間に 相関関係は殆ど見られない。これに対し、本考案に係る評価装置による研磨パッ ドA〜Dの圧縮剛性と研磨時間とは略正確な相関関係が認められる。
【0019】 また、厚みの異なる(1.5mmと3.0mm)同じ研磨パッドについて、同様の測定を した結果を以下の(表2)に示している。
【0020】
【表2】
【0021】 同表からも分るように研磨時間は研磨パッドの厚みにも相関しており、圧縮剛 性値は研磨パッドの厚みに相関しているから、本考案に係る評価装置によれば研 磨パッドの厚みが変化した場合でもその研磨時間を知ることができるのに対し、 JIS K−6301による硬度は研磨パッドの厚みに相関しないためにその研 磨時間を知ることはできない。
【0022】
【考案の効果】
以上に説明したように本考案によれば、定盤上に貼付した研磨パッドに圧子を 押し込み、このときの圧子に対する抗力及び押し込み量を検出して、これらの検 出結果から単位押し込み量あたりの抗力差を圧縮剛性の指標とするので、研磨パ ッドの実用的な圧縮剛性を容易に測定することが可能になり、研磨効率の高い研 磨パッドを選択する指標が得られ、特に液晶用ガラス基板を研磨する研磨パッド の選択が容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係る圧縮パッド評価装置の正面図
【図2】同装置の第1圧子及び第2圧子の斜視図
【図3】圧子押し込み量と抗力との関係を示すグラフ
【図4】圧縮剛性及び硬度と研磨時間との関係を示すグ
ラフ
【符号の説明】
1…研磨パッド、2…定盤、3…第1圧子、4…第2圧
子、5…駆動装置、6…ロードセル(抗力検出手段)、
7…レーザ変位計(押し込み量検出手段)。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨パッドの圧縮剛性を評価する研磨パ
    ッド評価装置において、この評価装置は研磨パッドを貼
    付する定盤と、この定盤上方に対向配置される第1圧子
    と、この第1圧子上に設けられるとともに第1圧子上面
    に形成した凹部に対応する凸部が形成された第2圧子
    と、この第2圧子を介して前記第1圧子を前記定盤上に
    貼付した研磨パッドに押し込んだときの前記第1圧子に
    対する抗力を検出する抗力検出手段と、押し込み量を検
    出する押込み量検出手段とを備え、単位押込みあたり前
    記圧子が受ける抗力差を研磨パッドの圧縮剛性の指標と
    することを特徴とする研磨パッド評価装置。
JP3354993U 1993-06-22 1993-06-22 研磨パッド評価装置 Withdrawn JPH075049U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014163026A1 (ja) * 2013-03-30 2014-10-09 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研磨パッド

Cited By (3)

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WO2014163026A1 (ja) * 2013-03-30 2014-10-09 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研磨パッド
JP6031593B2 (ja) * 2013-03-30 2016-11-24 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研磨パッド
JPWO2014163026A1 (ja) * 2013-03-30 2017-02-16 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研磨パッド

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