JPH0745330B2 - Glass blank for optical element manufacturing - Google Patents

Glass blank for optical element manufacturing

Info

Publication number
JPH0745330B2
JPH0745330B2 JP18714890A JP18714890A JPH0745330B2 JP H0745330 B2 JPH0745330 B2 JP H0745330B2 JP 18714890 A JP18714890 A JP 18714890A JP 18714890 A JP18714890 A JP 18714890A JP H0745330 B2 JPH0745330 B2 JP H0745330B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
coating
glass blank
optical element
hydrocarbon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP18714890A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0477322A (en
Inventor
鉄夫 桑原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP18714890A priority Critical patent/JPH0745330B2/en
Priority to US07/727,071 priority patent/US5168404A/en
Publication of JPH0477322A publication Critical patent/JPH0477322A/en
Publication of JPH0745330B2 publication Critical patent/JPH0745330B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B40/00Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
    • C03B40/02Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it by lubrication; Use of materials as release or lubricating compositions

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はレンズ等の光学素子のプレス成形において成形
用素材として用いられるガラスブランクに関し、特にプ
レス時の型部材との反応を防止し且つ密着力及び摩擦力
を低下させ冷却過程でのワレ発生を防止して良好な光学
素子を得るためのガラスブランクに関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a glass blank used as a molding material in press molding of an optical element such as a lens, and in particular, it prevents a reaction with a mold member at the time of pressing and adheres closely. The present invention relates to a glass blank for reducing a force and a frictional force to prevent cracks from being generated in a cooling process and obtaining a good optical element.

[従来の技術及び発明が解決しようとする課題] 従来、ガラスのリヒートプレスにおいて良好な成形品を
得るためには、成形用素材ガラスと成形用型部材との間
の融着を防止することが大きな課題であった。このた
め、従来、型部材を改良する各種の技術が提案されてお
り、また近年では更に上記融着防止のため、成形用素材
の改良が提案されはじめている。この様な成形用素材の
改良に関する提案としては、例えば、特公平2−1778号
公報、特公平2−1779号公報、特公平2−1780号公報及
び特公昭61−29890号公報に、ガラス基体の表面に該ガ
ラス基体よりもガラス転移点温度の高いガラスの被覆、
酸化ケイ素被覆または炭素被覆を付与することが開示さ
れている。また、特開平1−264937号公報には、ガラス
基体の表面に有機物の薄層を配置することが開示されて
いる。
[Problems to be Solved by the Related Art and Invention] Conventionally, in order to obtain a good molded product in a glass reheat press, it is necessary to prevent fusion between the material glass for molding and the molding die member. It was a big challenge. Therefore, various techniques for improving the mold member have been proposed in the past, and in recent years, improvement of the molding material has been started to prevent the fusion. As a proposal for improving such a molding material, for example, Japanese Patent Publication No. 2-1778, Japanese Patent Publication No. 2-1779, Japanese Patent Publication No. 2-1780, and Japanese Patent Publication No. 61-29890 disclose glass substrates. Coating the surface of the glass with a glass transition temperature higher than that of the glass substrate,
It is disclosed to provide a silicon oxide coating or a carbon coating. Further, JP-A-1-264937 discloses disposing a thin layer of an organic substance on the surface of a glass substrate.

以上の様な改良により、型部材との融着防止の効果はあ
るが、しかし上記公報に開示の方法には、以下の様な問
題点がある。
Although the above-mentioned improvements have the effect of preventing fusion with the mold member, the method disclosed in the above publication has the following problems.

(イ)ガラス基体の表面に該ガラス基体よりもガラス転
移点温度の高いガラスの被覆を付与した場合には、プレ
ス圧で被覆ガラス層がヒビワレを生じここから基体ガラ
スがにじみ出て表面に部分的なくもりが発生したり部分
的に型部材との融着を生じたり、あるいは冷却過程でガ
ラスブランクと型部材との摩擦力が大きくなりガラスに
ワレが発生することがある。
(A) When a glass coating having a glass transition temperature higher than that of the glass substrate is applied to the surface of the glass substrate, the coating glass layer is cracked by the press pressure, and the substrate glass oozes out from the glass substrate to partially cover the surface. There is a case where cloudiness occurs or partial fusion with the mold member occurs, or the frictional force between the glass blank and the mold member increases during the cooling process, causing cracks in the glass.

(ロ)ガラス基体の表面に酸化ケイ素被覆を付与した場
合には、上記(イ)と同様であり、特に酸化ケイ素は型
部材とのなじみがよいために冷却過程でワレが発生しや
すく、また酸化ケイ素は熱膨張係数がガラス基体を構成
する通常の光学ガラスに比べて著しく低いために加熱時
に被覆がヒビワレを生じやすい。
(B) When a silicon oxide coating is applied to the surface of the glass substrate, it is the same as in (a) above. Especially, since silicon oxide is well compatible with the mold member, cracks are likely to occur during the cooling process, and Since the thermal expansion coefficient of silicon oxide is significantly lower than that of ordinary optical glass constituting a glass substrate, the coating is likely to be cracked when heated.

(ハ)ガラス基体の表面に炭素被覆を必要以上に厚く付
与した場合には、炭素は還元剤であるためにガラス中の
酸素とも反応してガラス成分を還元し、ガラスを茶色に
着色させる。特に、ガラス基体として鉛含有ガラスを用
いる場合には、該ガラス中にPbOが還元されて、着色が
著しく、透過率が低下する。
(C) When the carbon coating is applied to the surface of the glass substrate to be thicker than necessary, since carbon is a reducing agent, it reacts with oxygen in the glass to reduce the glass component and color the glass brown. In particular, when lead-containing glass is used as the glass substrate, PbO is reduced in the glass, coloring is remarkable, and transmittance is lowered.

(ニ)ガラス基体の表面に有機物薄層を配置する場合に
は、該有機物薄層が加熱時に分解し、場合によっては腐
食性のガス(例えば、塩素ガスやフッ素ガス)を発生し
て、プレス成形装置を汚染し型部材を含む装置の耐久性
を損ないやすいという問題がある。また、上記分解は部
分的にランダムに発生するため、表面精度が低下するこ
とがある。
(D) When an organic thin layer is disposed on the surface of the glass substrate, the organic thin layer decomposes when heated, and in some cases, a corrosive gas (for example, chlorine gas or fluorine gas) is generated, and the press is performed. There is a problem that the molding device is easily contaminated and the durability of the device including the mold member is impaired. Further, since the above-mentioned decomposition occurs partially randomly, the surface accuracy may decrease.

そこで、本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて、ガ
ラスブランクと型部材との反応を防止して成形品のくも
りを防止することに加えて、成形品と型部材との融着を
阻止するとともに、ワレ及び着色を防止することを目的
とするものである。
Therefore, in view of the problems of the above-mentioned conventional techniques, the present invention, in addition to preventing the reaction between the glass blank and the mold member and preventing the clouding of the molded product, the fusion of the molded product and the mold member. The purpose is to prevent cracking and coloration.

[課題を解決するための手段] 本発明によれば、上記目的を達成するものとして、 プレス成形により光学素子を製造する際に成形用素材と
して用いられるガラスブランクであって、ガラス基体の
少なくとも光学機能面が形成される表面に反応防止被覆
及び炭化水素被覆がこの順に付されていることを特徴と
する、光学素子製造用ガラスブランク、 が提供される。
[Means for Solving the Problems] According to the present invention, a glass blank used as a molding material for producing an optical element by press molding, wherein at least an optical component of a glass substrate is provided. There is provided a glass blank for producing an optical element, characterized in that a reaction-preventing coating and a hydrocarbon coating are provided in this order on the surface on which a functional surface is formed.

ここで、上記反応防止被覆は、成形温度において、ガラ
スブランクと型部材とが反応してガラスブランクがくも
る現象を防止するために、ガラスブランクよりも融点の
高い物質が有効であり、例えばAl2O3,SiO2,MgF2または
蒸着用ガラスである。また、上記反応防止被覆の厚さ
は、成形温度においてガラス成分が反応防止被覆層を拡
散して型部材表面に達しない膜厚を下限とし、成形時に
クラックの発生しない膜厚を上限し、例えば100〜500Å
である。
Here, the reaction-preventing coating is, at the molding temperature, in order to prevent the glass blank and the mold member from reacting with each other to prevent the glass blank from becoming cloudy, a substance having a higher melting point than the glass blank is effective, for example, Al 2 It is O 3 , SiO 2 , MgF 2 or glass for vapor deposition. Further, the thickness of the reaction-preventing coating is a lower limit of the film thickness at which the glass component does not reach the mold member surface by diffusing the reaction-preventing coating layer at the molding temperature, and the upper limit of the thickness at which cracks do not occur during molding, 100-500Å
Is.

また、上記炭化水素被覆は、極く微量の反応ガス層を型
部材とガラスブランクとの界面に形成することにより、
型部材とガラスブランクとの密着力を低下させ、融着及
びワレを防止するものである。この目的のために、炭化
水素被覆層の厚さは、例えば10〜50Åである。該炭化水
素被覆層の厚さが薄すぎると十分な密着力低下効果が得
られず、また該炭化水素被覆層の厚さが厚すぎると成形
品の着色が著しくなり透過率低下を生ずる。このため、
厚さを厚くしすぎると、成形後にガラスブランクの表面
に残存する炭化水素膜及び炭化水素膜とガラスとの反応
物を、後工程例えばアニール処理工程により、除去する
ことが必要となる。
Further, the hydrocarbon coating, by forming a very small amount of reaction gas layer at the interface between the mold member and the glass blank,
The adhesive force between the mold member and the glass blank is reduced to prevent fusion and cracking. For this purpose, the thickness of the hydrocarbon coating is, for example, 10 to 50Å. If the thickness of the hydrocarbon coating layer is too thin, a sufficient effect of lowering the adhesive strength cannot be obtained, and if the thickness of the hydrocarbon coating layer is too thick, the molded product is markedly colored and the transmittance is reduced. For this reason,
If the thickness is made too thick, it is necessary to remove the hydrocarbon film remaining on the surface of the glass blank after molding and the reaction product between the hydrocarbon film and the glass by a post-process such as an annealing process.

炭化水素被覆層は、炭素被覆層に比較して、同一膜厚で
は膜中にCH2が多量に含まれているため、ガラスブラン
クの透過率をあまり低くさせることがなく、しかも融着
及びワレを防止する効果は極薄層(10〜50Å厚)でも十
分である。
Compared with the carbon coating layer, the hydrocarbon coating layer contains a large amount of CH 2 in the same film thickness, so the transmittance of the glass blank does not decrease so much and the fusion and cracking The effect of preventing is also sufficient with an ultrathin layer (10 to 50Å thickness).

また、炭化水素被覆層を形成する方法は、炭化水素ガス
の高周波放電処理、イオンガン処理あるいは直流放電処
理等の、ガラスブランクに対してつき回りの良好な方法
を用いることができ、且つ上記方法は低コストの処理方
法であるという利点がある。
Further, the method for forming the hydrocarbon coating layer, a high-frequency discharge treatment of hydrocarbon gas, ion gun treatment or direct current discharge treatment, it is possible to use a good method of covering the glass blank, and the above method is There is an advantage that it is a low-cost processing method.

[実施例] 以下、図面を参照しながら本発明の具体的実施例を説明
する。
[Examples] Specific examples of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明によるガラスブランクの一実施例を示す
断面図である。本実施例は、光学素子が両凸レンズであ
る例を示す。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a glass blank according to the present invention. In this embodiment, the optical element is a biconvex lens.

第1図において、2はプレス成形の素材たるガラス基体
である。該ガラス基体としては、所望の光学的特性のレ
ンズを得るために必要な屈折率値及び分散値をもつ光学
ガラスを用いる。上記ガラス基体2は目的とするレンズ
形状に近似の形状及び寸法に仕上げられている。
In FIG. 1, 2 is a glass substrate which is a material for press molding. As the glass substrate, an optical glass having a refractive index value and a dispersion value necessary for obtaining a lens having desired optical characteristics is used. The glass substrate 2 is finished in a shape and dimensions similar to a desired lens shape.

ガラス基体2の光学機能面が形成される表面(上下両
面)には、反応防止被覆3及び炭化水素被覆4がこの順
に付されている。
A reaction-preventing coating 3 and a hydrocarbon coating 4 are provided in this order on the surface (upper and lower surfaces) of the glass substrate 2 on which the optically functional surface is formed.

上記反応防止被覆3としては、例えばAl2O3,SiO2,MgF2
または蒸着用ガラスを用いることができる。該反応防止
被覆3の厚さは、例えば100〜500Åである。該反応防止
被覆3は、真空蒸着等の薄膜堆積技術を用いて形成する
ことができる。
Examples of the reaction prevention coating 3 include Al 2 O 3 , SiO 2 and MgF 2
Alternatively, glass for vapor deposition can be used. The thickness of the reaction preventive coating 3 is, for example, 100 to 500Å. The reaction preventive coating 3 can be formed using a thin film deposition technique such as vacuum deposition.

上記炭化水素被覆の厚さは、例えば10〜50Å、好ましく
は13〜35Åである。該炭化水素被覆の厚さは薄すぎると
効果が十分でなく、また厚すぎると成形品の透過率低下
が著しくなり、アニール工程が必要になる。該炭化水素
被覆4は、プラズマ処理やイオンガン処理等の簡単な薄
膜堆積技術を用いて形成することができる。該炭化水素
被覆4における炭素:水素の原子比は、例えば10/6〜10
/0.5であり、特に10/5〜10/1が好ましい。
The hydrocarbon coating has a thickness of, for example, 10 to 50Å, preferably 13 to 35Å. If the thickness of the hydrocarbon coating is too thin, the effect will not be sufficient, and if it is too thick, the transmittance of the molded article will be significantly reduced, and an annealing step will be required. The hydrocarbon coating 4 can be formed using a simple thin film deposition technique such as plasma treatment or ion gun treatment. The atomic ratio of carbon: hydrogen in the hydrocarbon coating 4 is, for example, 10/6 to 10
/0.5, and particularly preferably 10/5 to 10/1.

第2図は上記実施例のガラスブランクの製造に用いられ
る薄膜堆積装置の概略構成を示す模式図である。以下、
本図を参照しながらブランク製造の例を説明する。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a thin film deposition apparatus used for manufacturing the glass blank of the above embodiment. Less than,
An example of blank production will be described with reference to this drawing.

第2図において、12は真空槽であり、14は該真空槽に形
成されている排気口である。該排気口は不図示の真空排
気源に接続されている。16は上記真空槽12内へガスを導
入するためのガス導入口である。該ガス導入口は不図示
のガス源に接続されている。
In FIG. 2, 12 is a vacuum chamber, and 14 is an exhaust port formed in the vacuum chamber. The exhaust port is connected to a vacuum exhaust source (not shown). Reference numeral 16 is a gas introduction port for introducing gas into the vacuum chamber 12. The gas inlet is connected to a gas source (not shown).

上記真空槽12内には、下部に蒸発源18及びシャッタ20が
配置されており、上部にガラス基体保持のためのドーム
状ホルダ22、ガラス基体を加熱するためのヒータ24及び
被覆厚測定のための水晶膜厚モニタ26が配置されてい
る。28は高周波印加用アンテナである。尚、30は上記ホ
ルダ22に保持されているガラス基体である。
Inside the vacuum chamber 12, an evaporation source 18 and a shutter 20 are arranged in the lower part, and a dome-shaped holder 22 for holding the glass substrate, a heater 24 for heating the glass substrate and a coating thickness measurement in the upper part. A quartz film thickness monitor 26 is arranged. 28 is an antenna for high frequency application. Incidentally, 30 is a glass substrate held by the holder 22.

上記ガラス基体30(2)の表面に反応防止被覆3及び炭
化水素被覆4をこの順に付する際には、上記排気口14か
ら排気を行い、真空槽12内を減圧した後に、蒸発源18か
ら反応防止被覆形成材料を蒸発させ、次いでガス導入口
16から炭化水素ガスを例えば5×10-2〜5×10-4Torrと
なるまで導入し、高周波印加用アンテナ28に例えば100
〜500Wの高周波を印加して、炭化水素プラズマを形成す
る。
When the reaction-preventing coating 3 and the hydrocarbon coating 4 are applied to the surface of the glass substrate 30 (2) in this order, gas is exhausted from the exhaust port 14 to reduce the pressure in the vacuum chamber 12 and then from the evaporation source 18. The reaction-preventing coating-forming material is evaporated, and then the gas inlet
Hydrocarbon gas is introduced from 16 to 5 × 10 −2 to 5 × 10 −4 Torr, for example, and is fed to the antenna 28 for high frequency application to 100 ×
A high frequency of ~ 500 W is applied to form a hydrocarbon plasma.

真空槽12内に導入される炭化水素ガスとしては、例えば
メタン、エタン、プロパン、エチレン、プロピレン、ア
セチレンなどが例示できる。
Examples of the hydrocarbon gas introduced into the vacuum chamber 12 include methane, ethane, propane, ethylene, propylene and acetylene.

炭化水素被覆4における炭素:水素の原子比は堆積条件
によって変化するので、所望の原子比が得られる様に条
件を設定する。
Since the carbon: hydrogen atomic ratio in the hydrocarbon coating 4 changes depending on the deposition conditions, the conditions are set so that a desired atomic ratio can be obtained.

次に、以上の様な装置を用いて上記実施例のガラスブラ
ンクを製造した実例を説明する。
Next, an actual example of manufacturing the glass blank of the above-mentioned embodiment using the above-mentioned apparatus will be described.

フリント系光学ガラス(SF8)を所定の形状に研摩仕上
げしてなるガラス基体30を洗浄し、ホルダ22にセットし
た。ヒータ24で300℃に加熱し、真空槽12内の真空度が
1×10-3Torr以下になるまで排気口14から排気した後、
ガス導入口16からArガスを5×10-4Torrになるまで導入
した。そして、高周波印加用アンテナ28に300Wの高周波
を印加して、高周波放電を行い、ガラス基体30のプラズ
マクリーニングを行った。その後、Arガスの導入を停止
し、1×10-5Torrの真空度に戻して、蒸発源18から蒸着
用ガラスを蒸発させ、約300Å厚の反応防止被覆(蒸着
用ガラス層)3を形成した。次に、蒸発源18からの蒸発
を停止させ、ガス導入口16からCH4ガスを1×10-3Torr
になるまで導入した。そして、高周波印加用アンテナ28
に400Wの高周波を印加して高周波放電を行い、約30Å厚
の炭化水素被覆4を形成した。尚、上記炭化水素被覆4
における炭素:水素の原子比は、赤外分光分析による測
定の結果、約10/2であった。
A glass substrate 30 made by polishing a flint optical glass (SF8) into a predetermined shape was washed and set in a holder 22. After heating to 300 ° C. with the heater 24 and exhausting from the exhaust port 14 until the degree of vacuum in the vacuum chamber 12 becomes 1 × 10 −3 Torr or less,
Ar gas was introduced from the gas inlet 16 to 5 × 10 −4 Torr. Then, a high frequency of 300 W was applied to the high frequency applying antenna 28, high frequency discharge was performed, and plasma cleaning of the glass substrate 30 was performed. After that, the introduction of Ar gas was stopped, the vacuum degree of 1 × 10 −5 Torr was returned, and the vapor deposition glass was evaporated from the evaporation source 18 to form a reaction prevention coating (vapor deposition glass layer) 3 of about 300 Å thickness. did. Next, the evaporation from the evaporation source 18 is stopped, and CH 4 gas is supplied from the gas inlet 16 to 1 × 10 −3 Torr.
It was introduced until. Then, the high frequency applying antenna 28
A high-frequency discharge of 400 W was applied to discharge high-frequency electricity to form a hydrocarbon coating 4 having a thickness of about 30 Å. The above hydrocarbon coating 4
The carbon: hydrogen atomic ratio in was about 10/2 as a result of measurement by infrared spectroscopy.

第3図は以上の様にして得られたガラスブランクを用い
てプレス成形が実施される装置の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of an apparatus in which press molding is carried out using the glass blank obtained as described above.

第3図において、32は真空槽本体であり、34はその蓋で
ある。36,38,40はそれぞれレンズをプレス成形するため
の上型部材、下型部材及び胴型部材である。42は型ホル
ダであり、44は上型部材押えである。46はヒータであ
り、48は上記下型部材を突き上げるための突き上げ棒で
あり、50は該突き上げ棒を作動させるシリンダである。
52は真空排気ポンプであり、54,56,58,60はバルブであ
り、62は窒素ガス等の非酸化性ガス導入のためのパイプ
であり、64はリークパイプであり、66はバルブである。
68は温度センサであり、70は水冷パイプである。72は真
空槽支持部材である。
In FIG. 3, 32 is a vacuum chamber body, and 34 is its lid. Reference numerals 36, 38, and 40 are an upper mold member, a lower mold member, and a body member for press-molding a lens, respectively. 42 is a die holder, and 44 is an upper die member retainer. Reference numeral 46 is a heater, 48 is a push-up rod for pushing up the lower mold member, and 50 is a cylinder for operating the push-up rod.
52 is a vacuum pump, 54, 56, 58, 60 are valves, 62 is a pipe for introducing non-oxidizing gas such as nitrogen gas, 64 is a leak pipe, and 66 is a valve. .
68 is a temperature sensor and 70 is a water cooling pipe. 72 is a vacuum chamber support member.

上記上型部材36、下型部材38及び胴型部材40としては、
例えば、超硬合金、Si3N4,SiC,サイアロン,サーメッ
ト,Al2O3,ZrO2,Cr2O3等からなる母材に必要に応じて表
面にSi3N4,TiN,TaN,BN,AlN,SiC,TaC,WC,白金合金等のコ
ーティングを施したものを用いることができる。
As the upper mold member 36, the lower mold member 38 and the body mold member 40,
For example, a base material made of cemented carbide, Si 3 N 4 ,, SiC, sialon, cermet, Al 2 O 3 , ZrO 2 , Cr 2 O 3, etc. may have Si 3 N 4 , TiN, TaN, It is possible to use those coated with BN, AlN, SiC, TaC, WC, platinum alloy or the like.

次に、以上の様な装置において上記実施例のガラスブラ
ンクを用いてプレス成形した実例を説明する。
Next, an actual example of press molding using the glass blank of the above example in the above apparatus will be described.

上型部材36及び下型部材38としてSi3N4製のものを用
い、これら型部材の光学機能面形成のための表面を面精
度ニュートン3本以内且つ中心線平均表面粗さ0.02μm
以内とした。
As the upper mold member 36 and the lower mold member 38, those made of Si 3 N 4 are used, and the surfaces for forming the optical functional surface of these mold members have a surface accuracy within 3 Newtons and a center line average surface roughness of 0.02 μm.
Within

型内にガラスブランクを配置し、真空槽内を1×10-2To
rr以下になるまで排気し、次いで真空槽内に窒素ガスを
導入した。
Place a glass blank in the mold and move inside the vacuum chamber to 1 x 10 -2 To
The gas was evacuated to rr or less, and then nitrogen gas was introduced into the vacuum chamber.

530℃まで加熱した後に、シリンダ50を作動させて100Kg
/cm2の圧力で5分間プレスした。その後、200℃以下ま
で徐々に冷却した。
After heating to 530 ℃, operate the cylinder 50 to 100Kg
Pressed at a pressure of / cm 2 for 5 minutes. Then, it was gradually cooled to 200 ° C. or lower.

そして、真空槽内に空気を導入し、型を開いて成形品を
取出した。
Then, air was introduced into the vacuum chamber, the mold was opened, and the molded product was taken out.

以上の様にして100個のレンズを成形した。得られたレ
ンズの機能面を3750倍の走査型電子顕微鏡で観察したと
ころ表面欠陥は認められず、両面とも着色やくもりのな
いものであった。また、型部材との融着は全く発生せ
ず、成形品ワレは全く生じなかった。更に、レンズ両面
の表面精度は良好であった。
As described above, 100 lenses were molded. When the functional surface of the obtained lens was observed with a scanning electron microscope at a magnification of 3750, no surface defect was observed, and neither surface was colored or clouded. Further, fusion with the mold member did not occur at all, and cracking of the molded product did not occur at all. Further, the surface precision on both surfaces of the lens was good.

[発明の効果] 以上説明した様に、本発明によれば、ガラス基体の少な
くとも光学機能面が形成される表面に反応防止被覆及び
炭化水素被覆をこの順に付することにより、ガラスブラ
ンクと型部材との反応を防止して融着を阻止することに
加えて、成形品にくもりや着色やワレや表面精度低下が
発生するのを防止することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a glass blank and a mold member are provided by applying a reaction-preventing coating and a hydrocarbon coating in this order on at least the surface of the glass substrate on which the optically functional surface is formed. In addition to preventing the reaction with and preventing fusion, it is possible to prevent clouding, coloring, cracks and deterioration of the surface accuracy of the molded product.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明によるガラスブランクの一実施例を示す
断面図である。 第2図は上記実施例のガラスブランクの製造に用いられ
る薄膜堆積装置の概略構成を示す模式図である。 第3図はプレス成形が実施される装置の一例を示す断面
図である。 2:ガラス基体、3:反応防止被覆、 4:炭化水素被覆、12:真空槽、 16:ガス導入口、18:蒸発源、 24:ヒータ、 28:高周波印加用アンテナ、 30:ガラス基体。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a glass blank according to the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a thin film deposition apparatus used for manufacturing the glass blank of the above embodiment. FIG. 3 is a sectional view showing an example of an apparatus for performing press molding. 2: Glass substrate, 3: Reaction prevention coating, 4: Hydrocarbon coating, 12: Vacuum tank, 16: Gas inlet, 18: Evaporation source, 24: Heater, 28: High frequency applying antenna, 30: Glass substrate.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プレス成形により光学素子を製造する際に
成形用素材として用いられるガラスブランクであって、
ガラス基体の少なくとも光学機能面が形成される表面に
反応防止被覆及び炭化水素被覆がこの順に付されている
ことを特徴とする、光学素子製造用ガラスブランク。
1. A glass blank used as a molding material for producing an optical element by press molding, comprising:
A glass blank for producing an optical element, characterized in that at least a surface of a glass substrate on which an optical functional surface is formed is coated with a reaction-preventing coating and a hydrocarbon coating in this order.
【請求項2】上記反応防止被覆がAl2O3,SiO2,MgF2また
は蒸着用ガラスである、請求項1に記載の光学素子製造
用ガラスブランク。
2. The glass blank for producing an optical element according to claim 1, wherein the reaction preventing coating is Al 2 O 3 , SiO 2 , MgF 2 or glass for vapor deposition.
【請求項3】上記反応防止被覆の厚さが100〜500Åであ
る、請求項1に記載の光学素子製造用ガラスブランク。
3. The glass blank for producing an optical element according to claim 1, wherein the thickness of the reaction preventing coating is 100 to 500Å.
【請求項4】上記炭化水素被覆の厚さが10〜50Åであ
る、請求項1に記載の光学素子製造用ガラスブランク。
4. The glass blank for producing an optical element according to claim 1, wherein the hydrocarbon coating has a thickness of 10 to 50 Å.
JP18714890A 1990-07-17 1990-07-17 Glass blank for optical element manufacturing Expired - Fee Related JPH0745330B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18714890A JPH0745330B2 (en) 1990-07-17 1990-07-17 Glass blank for optical element manufacturing
US07/727,071 US5168404A (en) 1990-07-17 1991-07-09 Optical element and glass blank for producing the optical element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18714890A JPH0745330B2 (en) 1990-07-17 1990-07-17 Glass blank for optical element manufacturing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0477322A JPH0477322A (en) 1992-03-11
JPH0745330B2 true JPH0745330B2 (en) 1995-05-17

Family

ID=16200962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18714890A Expired - Fee Related JPH0745330B2 (en) 1990-07-17 1990-07-17 Glass blank for optical element manufacturing

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0745330B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2739916B2 (en) * 1992-02-18 1998-04-15 キヤノン株式会社 Glass blank for manufacturing optical element and method for manufacturing optical element using the same
JP4511221B2 (en) * 2004-03-12 2010-07-28 Hoya株式会社 Precision press molding preform manufacturing method and optical element manufacturing method
JP2007334707A (en) * 2006-06-16 2007-12-27 Hitachi Omron Terminal Solutions Corp Biometric authentication device for executing authentication by plural pieces of biological information and its method
DE112013001398T5 (en) * 2012-03-12 2014-12-11 Athena Automation Ltd. Cooling of injection molded parts after molding

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0477322A (en) 1992-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07138033A (en) Die for forming optical element and its production method
US4444467A (en) Coated laser mirror and method of coating
US5192352A (en) Molding method using glass blank
US5168404A (en) Optical element and glass blank for producing the optical element
JP2739916B2 (en) Glass blank for manufacturing optical element and method for manufacturing optical element using the same
JPH0745330B2 (en) Glass blank for optical element manufacturing
JPH09286625A (en) Formation of release film
JP2739913B2 (en) Glass blank for manufacturing optical element and method for manufacturing optical element using the same
JP2006193389A (en) Glass blank for manufacturing optical element and optical element using the same
JPH0745329B2 (en) Glass blank for optical element manufacturing
JPH04154634A (en) Mold for optical element formation and its production
JP3894561B2 (en) Manufacturing method of glass products
JPH04265233A (en) Glass blank for manufacturing optical device
JP4056010B2 (en) Manufacturing method of press-molding glass preform and manufacturing method of glass optical element
JP3847805B2 (en) Mold for optical element molding
JP3149148B2 (en) Optical element molding method
JP2531819B2 (en) Mold for optical element molding
JP3492005B2 (en) Glass optical element molding method
JP2005225707A (en) Glass preform for mold press forming, its manufacturing method, and method of manufacturing glass optical element
JPH04154633A (en) Mold for optical element formation and its production
JPH08259241A (en) Method for forming optical device
JP2971226B2 (en) Method for manufacturing glass optical element molding die
JP4007957B2 (en) Glass material for press molding and method for producing glass optical element
JP2505893B2 (en) Optical element molding method and optical element molding die manufacturing method
JP2785903B2 (en) Mold for optical element molding

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees