JPH0745329B2 - Glass blank for optical element manufacturing - Google Patents

Glass blank for optical element manufacturing

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JPH0745329B2
JPH0745329B2 JP2187146A JP18714690A JPH0745329B2 JP H0745329 B2 JPH0745329 B2 JP H0745329B2 JP 2187146 A JP2187146 A JP 2187146A JP 18714690 A JP18714690 A JP 18714690A JP H0745329 B2 JPH0745329 B2 JP H0745329B2
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glass
glass blank
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coating
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B40/00Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
    • C03B40/02Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it by lubrication; Use of materials as release or lubricating compositions

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はレンズ等の光学素子のプレス成形において成形
用素材として用いられるガラスブランクに関し、特にプ
レス時の型部材との密着力及び摩擦力を低下させ冷却過
程でのワレ発生を防止して良好な光学素子を得るための
ガラスブランクに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a glass blank used as a molding material in press molding of an optical element such as a lens, and more particularly, to an adhesion force and a frictional force with a mold member at the time of pressing. The present invention relates to a glass blank for lowering and preventing cracking in the cooling process to obtain a good optical element.

[従来の技術及び発明が解決しようとする課題] 従来、ガラスのリヒートプレスにおいて良好な成形品を
得るためには、成形用素材ガラスと成形用型部材との間
の融着を防止することが大きな課題であった。このた
め、従来、型部材を改良する各種の技術が提案されてお
り、また近年では更に上記融着防止のため、成形用素材
の改良が提案されはじめている。この様な成形用素材の
改良に関する提案としては、例えば、特公平2−1778号
公報、特公平2−1779号公報、特公平2−1780号公報及
び特公昭61−29890号公報に、ガラス基体の表面に該ガ
ラス基体よりもガラス転移点温度の高いガラスの被覆、
酸化ケイ素被覆または炭素被覆を付与することが開示さ
れている。また、特開平1−264937号公報には、ガラス
基体の表面に有機物の薄層を配置することが開示されて
いる。
[Problems to be Solved by the Related Art and Invention] Conventionally, in order to obtain a good molded product in a glass reheat press, it is necessary to prevent fusion between the material glass for molding and the molding die member. It was a big challenge. Therefore, various techniques for improving the mold member have been proposed in the past, and in recent years, improvement of the molding material has been started to prevent the fusion. As a proposal for improving such a molding material, for example, Japanese Patent Publication No. 2-1778, Japanese Patent Publication No. 2-1779, Japanese Patent Publication No. 2-1780, and Japanese Patent Publication No. 61-29890 disclose glass substrates. Coating the surface of the glass with a glass transition temperature higher than that of the glass substrate,
It is disclosed to provide a silicon oxide coating or a carbon coating. Further, JP-A-1-264937 discloses disposing a thin layer of an organic substance on the surface of a glass substrate.

以上の様な改良により、型部材との融着防止の効果はあ
るが、しかし上記公報に開示の方法には、以下の様な問
題点がある。
Although the above-mentioned improvements have the effect of preventing fusion with the mold member, the method disclosed in the above publication has the following problems.

(イ)ガラス基体の表面に該ガラス基体よりもガラス転
移点温度の高いガラスの被覆を付与した場合には、プレ
ス圧で被覆ガラス層がヒビワレを生じここから基体ガラ
スがにじみ出て表面に部分的なくもりが発生したり部分
的に出部材との融着を生じたり、あるいは冷却過程でガ
ラスブランクと型部材との摩擦力が大きくなりガラスに
ワレが発生することがある。
(A) When a glass coating having a glass transition temperature higher than that of the glass substrate is applied to the surface of the glass substrate, the coating glass layer is cracked by the press pressure, and the substrate glass oozes out from the glass substrate to partially cover the surface. In some cases, cloudiness may occur, partial fusion with the projecting member may occur, or the frictional force between the glass blank and the mold member may increase during the cooling process, causing cracks in the glass.

(ロ)ガラス基体の表面に酸化ケイ素被覆を付与した場
合には、上記(イ)と同様であり、特に酸化ケイ素は型
部材とのなじみがよいために冷却過程でワレが発生しや
すく、また酸化ケイ素は熱膨張係数がガラス基体を構成
する通常の光学ガラスに比べて著しく低いために加熱時
に被覆がヒビワレを生じやすい。
(B) When a silicon oxide coating is applied to the surface of the glass substrate, it is the same as in (a) above. Especially, since silicon oxide is well compatible with the mold member, cracks are likely to occur during the cooling process, and Since the thermal expansion coefficient of silicon oxide is significantly lower than that of ordinary optical glass constituting a glass substrate, the coating is likely to be cracked when heated.

(ハ)ガラス基体の表面に炭素被覆を必要以上に厚く付
与した場合には、炭素は還元剤であるためにガラス中の
酸素とも反応してガラス成分を還元し、ガラスを茶色に
着色させる。特に、ガラス基体として鉛含有ガラスを用
いる場合には、該ガラス中のPbOが還元されて、着色が
著しく、透過率が低下する。
(C) When the carbon coating is applied to the surface of the glass substrate to be thicker than necessary, since carbon is a reducing agent, it reacts with oxygen in the glass to reduce the glass component and color the glass brown. In particular, when lead-containing glass is used as the glass substrate, PbO in the glass is reduced, coloring is remarkable, and transmittance is reduced.

(ニ)ガラス基体の表面に有機物薄層を配置する場合に
は、該有機物層が加熱時に分解し、場合によって腐食性
のガス(例えば、塩素ガスやフッ素ガス)を発生して、
プレス成形装置を汚染し型部材を含む装置の耐久性を損
ないやすいという問題がある。また、上記分解は部分的
にランダムに発生するため、表面精度が低下することが
ある。
(D) When an organic thin layer is arranged on the surface of the glass substrate, the organic layer decomposes when heated, and in some cases a corrosive gas (for example, chlorine gas or fluorine gas) is generated,
There is a problem that the press molding device is easily contaminated and the durability of the device including the mold member is easily impaired. Further, since the above-mentioned decomposition occurs partially randomly, the surface accuracy may decrease.

そこで、本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて、ガ
ラスブランクと型部材との融着を防止することに加え
て、成形品にくもりや着色やワレや表面精度低下が発生
するのを防止することを目的とするものである。
Therefore, in view of the problems of the above-mentioned conventional techniques, the present invention, in addition to preventing fusion between the glass blank and the mold member, causes clouding or coloring or cracks or surface accuracy deterioration in the molded product. The purpose is to prevent.

[課題を解決するための手段] 本発明によれば、上記目的を達成するものとして、 プレス成形により光学素子を製造する際に成形用素材と
して用いられるガラスブランクであって、ガラス基体の
少なくとも光学機能面が形成される表面に炭化水素被覆
が付されていることを特徴とする、光学素子製造用ガラ
スブランク、 が提供される。
[Means for Solving the Problems] According to the present invention, a glass blank used as a molding material for producing an optical element by press molding, wherein at least an optical component of a glass substrate is provided. A glass blank for producing an optical element, characterized in that a hydrocarbon coating is applied to the surface on which the functional surface is formed.

ここで、上記炭化水素被覆の厚さを例えば10〜50Åとす
ることにより、型部材とガラスブランクとの界面に極く
微量の反応ガス層を形成し、型部材とガラスブランクと
の密着力を低下させ、融着及びワレを防止することがで
きる。炭化水素被覆層は、炭素被覆層に比較して、同一
膜厚では膜中にCH2が多量に含まれているため、ガラス
ブランクの透過率をあまり低下させることがなく、しか
も融着及びワレを防止する効果は極薄層(10〜50Å厚)
でも十分である。
Here, by setting the thickness of the hydrocarbon coating to, for example, 10 to 50Å, an extremely small amount of a reaction gas layer is formed at the interface between the mold member and the glass blank, and the adhesive force between the mold member and the glass blank is increased. It is possible to reduce the temperature and prevent fusion and cracking. Compared to the carbon coating layer, the hydrocarbon coating layer contains a large amount of CH 2 in the film with the same film thickness, so the transmittance of the glass blank does not decrease so much and the fusion and cracking occur. The effect of preventing is an ultra-thin layer (10 to 50Å thickness)
But it is enough.

また、炭化水素被覆層を形成する方法は、炭化水素ガス
の高周波放電処理、イオンガン処理あるいは直流放電処
理等の、ガラスブランクに対してつき回りの良好な方法
を用いることができ、且つ上記方法は低コストの処理方
法であるという利点がある。
Further, the method for forming the hydrocarbon coating layer, a high-frequency discharge treatment of hydrocarbon gas, ion gun treatment or direct current discharge treatment, it is possible to use a good method of covering the glass blank, and the above method is There is an advantage that it is a low-cost processing method.

[実施例] 以下、図面を参照しながら本発明の具体的実施例を説明
する。
[Examples] Specific examples of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明によるガラスブランクの一実施例を示す
断面図である。本実施例は、光学素子が両凸レンズであ
る例を示す。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a glass blank according to the present invention. In this embodiment, the optical element is a biconvex lens.

第1図において、2はプレス成形の素材たるガラス基体
である。該ガラス基体としては、所望の光学的特性のレ
ンズを得るために必要な屈折率値及び分散値をもつ光学
ガラスを用いる。上記ガラス基体2は目的とするレンズ
形状に近似の形状及び寸法に仕上げられている。
In FIG. 1, 2 is a glass substrate which is a material for press molding. As the glass substrate, an optical glass having a refractive index value and a dispersion value necessary for obtaining a lens having desired optical characteristics is used. The glass substrate 2 is finished in a shape and dimensions similar to a desired lens shape.

ガラス基体2の光学機能面が形成される表面(上下両
面)には、炭化水素被覆4が付されている。該炭化水素
被覆の厚さは、例えば10〜50Å、好ましくは15〜35Åで
ある。該炭化水素被覆の厚さは薄すぎると効果が十分で
なく、また厚すぎると膜はがれを生ずる可能性が高くな
る。該炭化水素被覆4は、プラズマ処理やイオンガン処
理等の薄膜堆積技術を用いて形成することができる。該
炭化水素被覆4における炭素:水素の原子比は、例えば
10/6〜10/0.5であり、特に10/5〜10/1が好ましい。
The surface of the glass substrate 2 on which the optically functional surface is formed (upper and lower surfaces) is coated with a hydrocarbon coating 4. The thickness of the hydrocarbon coating is, for example, 10 to 50Å, preferably 15 to 35Å. If the thickness of the hydrocarbon coating is too thin, the effect will not be sufficient, and if it is too thick, the possibility of film peeling increases. The hydrocarbon coating 4 can be formed using a thin film deposition technique such as plasma treatment or ion gun treatment. The atomic ratio of carbon: hydrogen in the hydrocarbon coating 4 is, for example,
It is 10/6 to 10 / 0.5, and particularly preferably 10/5 to 10/1.

第2図は上記実施例のガラスブランクの製造に用いられ
る薄膜堆積装置の概略構成を示す模式図である。以下、
本発明を参照しながらブランク製造の例を説明する。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a thin film deposition apparatus used for manufacturing the glass blank of the above embodiment. Less than,
An example of blank production will be described with reference to the present invention.

第2図において、12は真空槽であり、14は該真空槽に形
成されている排気口である。該排気口は不図示の真空排
気源に接続されている。16は上記真空槽12内へガスを導
入するためのガス導入口である。該ガス導入口は不図示
のガス源に接続されている。
In FIG. 2, 12 is a vacuum chamber, and 14 is an exhaust port formed in the vacuum chamber. The exhaust port is connected to a vacuum exhaust source (not shown). Reference numeral 16 is a gas introduction port for introducing gas into the vacuum chamber 12. The gas inlet is connected to a gas source (not shown).

上記真空槽12内には、上部にガラス基体保持のためのド
ーム状ホルダ22、ガラス基体を加熱するためのヒータ24
及び被覆厚測定のための水晶膜厚モニタ26が配置されて
いる。28は高周波印加用アンテナである。尚、30は上記
ホルダ22に保持されているガラス基体である。
Inside the vacuum chamber 12, a dome-shaped holder 22 for holding a glass substrate and a heater 24 for heating the glass substrate are provided above.
A quartz film thickness monitor 26 for measuring the coating thickness is arranged. 28 is an antenna for high frequency application. Incidentally, 30 is a glass substrate held by the holder 22.

上記ガラス基体30(2)の表面に炭化水素被覆4を付す
る際には、上記排気口14から排気を行い、真空槽12内を
減圧した後に、ガス導入口16から炭化水素ガスを例えば
5×10-2〜5×10-4Torrとなるまで導入し、高周波印加
用アンテナ28に例えば100〜500Wの高周波を印加して、
炭化水素プラズマを形成する。
When the hydrocarbon coating 4 is applied to the surface of the glass substrate 30 (2), the gas is exhausted from the exhaust port 14 to reduce the pressure in the vacuum chamber 12, and then the hydrocarbon gas is supplied from the gas inlet port 16 to, for example, 5 times. It is introduced until it becomes × 10 -2 to 5 × 10 -4 Torr, and a high frequency of 100 to 500 W is applied to the high frequency applying antenna 28,
Form a hydrocarbon plasma.

真空槽12内に導入される炭化水素ガスとしては、例えば
メタン、エタン、プロパン、エチレン、プロピレン、ア
セチレンなどが例示できる。
Examples of the hydrocarbon gas introduced into the vacuum chamber 12 include methane, ethane, propane, ethylene, propylene and acetylene.

炭化水素被覆4における炭素:水素の原子比は堆積条件
によって変化するので、所望の原子比が得られる様に条
件を設定する。
Since the carbon: hydrogen atomic ratio in the hydrocarbon coating 4 changes depending on the deposition conditions, the conditions are set so that a desired atomic ratio can be obtained.

次に、以上の様な装置を用いて上記実施例のガラスブラ
ンクを製造した実例を説明する。
Next, an actual example of manufacturing the glass blank of the above-mentioned embodiment using the above-mentioned apparatus will be described.

フリント系光学ガラス(SF8)を所定の形状に研摩仕上
げしてなるガラス基体30を洗浄し、ホルダ22にセットし
た。ヒータ24で300℃に加熱し、真空槽12内の真空度が
1×10-5Torr以下になるまで排気口14から排気した後、
ガス導入口16からArガスを5×10-4Torrになるまで導入
した。そして、高周波印加用アンテナ28に300Wの高周波
を印加して、高周波放電を行い、ガラス基体30のプラズ
マクリーニングを行った。その後、Arガスの導入を停止
し、1×10-5Torrの真空度に戻して、ガス導入口16から
CH4ガスを1×10-3Torrになるまで導入した。そして、
高周波印加用アンテナ28に200Wの高周波を印加して高周
波放電を行い、約30Å厚の炭化水素被覆4を形成した。
尚、上記炭化水素被覆4における炭素:水素の原子比
は、赤外分光分析による測定の結果、約10/2であった。
A glass substrate 30 made by polishing a flint optical glass (SF8) into a predetermined shape was washed and set in a holder 22. After heating to 300 ° C. with the heater 24 and exhausting from the exhaust port 14 until the degree of vacuum in the vacuum chamber 12 becomes 1 × 10 −5 Torr or less,
Ar gas was introduced from the gas inlet 16 to 5 × 10 −4 Torr. Then, a high frequency of 300 W was applied to the high frequency applying antenna 28, high frequency discharge was performed, and plasma cleaning of the glass substrate 30 was performed. After that, the introduction of Ar gas was stopped, the degree of vacuum was returned to 1 × 10 −5 Torr, and the gas was introduced through the gas inlet 16.
CH 4 gas was introduced to 1 × 10 −3 Torr. And
A high frequency of 200 W was applied to the high frequency applying antenna 28 for high frequency discharge to form a hydrocarbon coating 4 having a thickness of about 30Å.
The carbon: hydrogen atomic ratio in the hydrocarbon coating 4 was about 10/2 as a result of measurement by infrared spectroscopy.

第3図は以上の様にして得られたガラスブランクを用い
てプレス成形が実施される装置の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of an apparatus in which press molding is carried out using the glass blank obtained as described above.

第3図において、32は真空槽本体であり、34はその蓋で
ある。36,38,40はそれぞれレンズをプレス成形するため
の上型部材、下型部材及び胴型部材である。42は型ホル
ダであり、44は上型部材押えである。46はヒータであ
り、48は上記下型部材を突き上げるための突き上げ棒で
あり、50は該突き上げ棒を作動させるシリンダである。
52は真空排気ポンプであり、54,56,58,60はバルブであ
り、62は窒素ガス等の非酸化性ガス導入のためのパイプ
であり、64はリークパイプであり、66はバルブである。
68は温度センサであり、70は水冷パイプである。72は真
空槽支持部材である。
In FIG. 3, 32 is a vacuum chamber body, and 34 is its lid. Reference numerals 36, 38, and 40 are an upper mold member, a lower mold member, and a body member for press-molding a lens, respectively. 42 is a die holder, and 44 is an upper die member retainer. Reference numeral 46 is a heater, 48 is a push-up rod for pushing up the lower mold member, and 50 is a cylinder for operating the push-up rod.
52 is a vacuum pump, 54, 56, 58, 60 are valves, 62 is a pipe for introducing non-oxidizing gas such as nitrogen gas, 64 is a leak pipe, and 66 is a valve. .
68 is a temperature sensor and 70 is a water cooling pipe. 72 is a vacuum chamber support member.

上記上型部材36、下型部材38及び胴型部材40としては、
例えば、超硬合金、Si3N4,SiC,サイアロン,サーメッ
ト,Al2O3,ZrO2,Cr2O3等からなる母材に必要に応じて表
面にSi3N4,TiN,TaN,BN,A1N,SiC,TaC,WC,白金合金等のコ
ーティングを施したものを用いることができる。
As the upper mold member 36, the lower mold member 38 and the body mold member 40,
For example, a base material made of cemented carbide, Si 3 N 4 ,, SiC, sialon, cermet, Al 2 O 3 , ZrO 2 , Cr 2 O 3, etc. may have Si 3 N 4 , TiN, TaN, It is possible to use those coated with BN, A1N, SiC, TaC, WC, platinum alloy, or the like.

次に、以上の様な装置において上記実施例のガラスブラ
ンクを用いてプレス成形した実例を説明する。
Next, an actual example of press molding using the glass blank of the above example in the above apparatus will be described.

上部部材36及び下型部材38としてSi3N4製のものを用
い、これら型部材の光学機能面形成のための表面を面精
度ニュートン3本以内且つ中線平均表面粗さ0.02μm以
内とした。
As the upper member 36 and the lower mold member 38, those made of Si 3 N 4 were used, and the surfaces for forming the optical functional surface of these mold members had a surface accuracy within 3 Newtons and a mean line average surface roughness within 0.02 μm. .

型内にガラスブランクを配置し、真空槽内を1×10-2To
rr以下になるまで排気し、次いで真空槽内に窒素ガスを
導入した。
Place a glass blank in the mold and move inside the vacuum chamber to 1 x 10 -2 To
The gas was evacuated to rr or less, and then nitrogen gas was introduced into the vacuum chamber.

530℃まで加熱した後に、シリンダ50を作動させて100Kg
/cm2の圧力で5分間プレスした。その後、200℃以下ま
で徐々に冷却した。
After heating to 530 ℃, operate the cylinder 50 to 100Kg
Pressed at a pressure of / cm 2 for 5 minutes. Then, it was gradually cooled to 200 ° C. or lower.

そして、真空槽内に空気を導入し、型を開いて成形品を
取出した。
Then, air was introduced into the vacuum chamber, the mold was opened, and the molded product was taken out.

以上の様にして100個のレンズを成形した。得られたレ
ンズの機能面を3750倍の走査型電子顕微鏡で観察したと
ころ表面欠陥は認められず、両面とも着色やくもりのな
いものであった。また、成形品ワレは全く生じなかっ
た。更に、レンズ両面の表面精度は良好であった。
As described above, 100 lenses were molded. When the functional surface of the obtained lens was observed with a scanning electron microscope at a magnification of 3750, no surface defect was observed, and neither surface was colored or clouded. Moreover, no cracks were formed on the molded product. Further, the surface precision on both surfaces of the lens was good.

[発明の効果] 以上説明した様に、本発明によれば、ガラス基体の少な
くとも光学機能面が形成される表面に炭化水素被覆を付
することにより、ガラスブランクと型部材との融着を防
止することに加えて、成形品にくもりや着色やワレや表
面精度低下が発生するのを防止することができる。
[Effect of the Invention] As described above, according to the present invention, at least the surface of the glass substrate on which the optically functional surface is formed is coated with a hydrocarbon to prevent fusion between the glass blank and the mold member. In addition to this, it is possible to prevent clouding, coloring, cracks, and deterioration of surface accuracy of the molded product.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明によるガラスブランクの一実施例を示す
断面図である。 第2図は上記実施例のガラスブランクの製造に用いられ
る薄膜堆積装置の概略構成を示す模式図である。 第3図はプレス成形が実施される装置の一例を示す断面
図である。 2:ガラス基体、4:炭化水素被覆、 12:真空槽、16:ガス導入口、 24:ヒータ、28:高周波アンテナ、 30:ガラス基体。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a glass blank according to the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a thin film deposition apparatus used for manufacturing the glass blank of the above embodiment. FIG. 3 is a sectional view showing an example of an apparatus for performing press molding. 2: Glass substrate, 4: Hydrocarbon coating, 12: Vacuum tank, 16: Gas inlet, 24: Heater, 28: High frequency antenna, 30: Glass substrate.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プレス成形により光学素子を製造する際に
成形用素材として用いられるガラスブランクであって、
ガラス基体の少なくとも光学機能面が形成される表面に
炭化水素被覆が付されていることを特徴とする、光学素
子製造用ガラスブランク。
1. A glass blank used as a molding material for producing an optical element by press molding, comprising:
A glass blank for producing an optical element, characterized in that at least a surface of the glass substrate on which an optical functional surface is formed is coated with a hydrocarbon.
【請求項2】上記炭化水素被覆の厚さが10〜50Åであ
る、請求項1に記載の光学素子製造用ガラスブランク。
2. The glass blank for producing an optical element according to claim 1, wherein the hydrocarbon coating has a thickness of 10 to 50Å.
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