JPH0741151Y2 - マスクガラス等の温度測定機構 - Google Patents
マスクガラス等の温度測定機構Info
- Publication number
- JPH0741151Y2 JPH0741151Y2 JP1985022448U JP2244885U JPH0741151Y2 JP H0741151 Y2 JPH0741151 Y2 JP H0741151Y2 JP 1985022448 U JP1985022448 U JP 1985022448U JP 2244885 U JP2244885 U JP 2244885U JP H0741151 Y2 JPH0741151 Y2 JP H0741151Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holder
- temperature measuring
- mask glass
- contact probe
- probe pin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
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- Electron Beam Exposure (AREA)
- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔考案の属する技術分野〕 本考案は半導体装置製造関連機器において、ホルダーに
装填されたマスクガラスやウエハ或いはホルダー自身そ
の他マガジンエレベータにセットされたマガジンおよび
そのマガジンに装填されたカセット等（以下マスクガラ
スを代表にして説明する）の温度測定機構に関する。
装填されたマスクガラスやウエハ或いはホルダー自身そ
の他マガジンエレベータにセットされたマガジンおよび
そのマガジンに装填されたカセット等（以下マスクガラ
スを代表にして説明する）の温度測定機構に関する。
例えば電子ビーム描画装置においては描画精度を上げる
ためマスクガラスの温度を正確に知り必要に応じて恒温
水の温度を制御している。
ためマスクガラスの温度を正確に知り必要に応じて恒温
水の温度を制御している。
従来のマスクガラスの温度測定を第２図により述べる。
グリップ31を有するホルダー32は不図示のステージ上に
載置されておりホルダー32のほぼ中央にはマスクガラス
33が複数の保持具34により保持されている。マスクガラ
ス33の中心部には熱電対或いは白金抵抗等の測温体35が
接着剤或いはテープ（図示せず）等により固定されてい
る。測温体35には例えば４本の電線36が取付けてありこ
の電線36は固定具37によりホルダー32に固定された後、
電子ビーム描画装置内部の描画室38を区劃する壁39に固
着したフィードスルー（電流導入端子）40を経て大気側
の温度測定器（図示せず）に接続されている。なお必要
によってはホルダー32への測温体35を取付けて温度を測
定する。
グリップ31を有するホルダー32は不図示のステージ上に
載置されておりホルダー32のほぼ中央にはマスクガラス
33が複数の保持具34により保持されている。マスクガラ
ス33の中心部には熱電対或いは白金抵抗等の測温体35が
接着剤或いはテープ（図示せず）等により固定されてい
る。測温体35には例えば４本の電線36が取付けてありこ
の電線36は固定具37によりホルダー32に固定された後、
電子ビーム描画装置内部の描画室38を区劃する壁39に固
着したフィードスルー（電流導入端子）40を経て大気側
の温度測定器（図示せず）に接続されている。なお必要
によってはホルダー32への測温体35を取付けて温度を測
定する。
このような機構でもマスクガラス33の温度測定は可能で
あるが、マスクガラス33は描画の前後において描画室38
と準備室（図示せず）間を移動する必要がある。またマ
スクガラス33の温度測定は前記した描画室38のみでなく
準備室でも測定する必要がある。このため準備室で温度
測定をしたホルダー32を描画室38に移動したとき電線36
とフィードスルー40とを半田等により接続するために
は、比較的小さな描画室38内でかつ真空を落して大気状
態にしてから作業することになり極めて長時間を必要と
していた。従ってマスクガラス33を含むホルダー32の自
動ローディングは不可能であり、効率的に温度測定する
ことは困難であった。
あるが、マスクガラス33は描画の前後において描画室38
と準備室（図示せず）間を移動する必要がある。またマ
スクガラス33の温度測定は前記した描画室38のみでなく
準備室でも測定する必要がある。このため準備室で温度
測定をしたホルダー32を描画室38に移動したとき電線36
とフィードスルー40とを半田等により接続するために
は、比較的小さな描画室38内でかつ真空を落して大気状
態にしてから作業することになり極めて長時間を必要と
していた。従ってマスクガラス33を含むホルダー32の自
動ローディングは不可能であり、効率的に温度測定する
ことは困難であった。
本考案の目的は、前述したような欠点を除去し、半導体
装置製造関連機器において、マスクガラス等が描画室や
準備室などのような各部にセットされたとき電線の配線
作業をすることなく、温度測定ができるようにして作業
時間を短くし、さらにマスクガラス等の移動を測温のた
めの電線に拘束されないようにして自動ローディングを
可能にし、もって生産性を高くしたマスクガラス等の温
度測定機構を提供することにある。
装置製造関連機器において、マスクガラス等が描画室や
準備室などのような各部にセットされたとき電線の配線
作業をすることなく、温度測定ができるようにして作業
時間を短くし、さらにマスクガラス等の移動を測温のた
めの電線に拘束されないようにして自動ローディングを
可能にし、もって生産性を高くしたマスクガラス等の温
度測定機構を提供することにある。
本考案におけるマスクガラス等を保持するホルダーに固
着した絶縁体に前記マスクガラス等に固着した温度測定
用センサから電線を介して接続した端子或いはコンタク
トプローブピンを取付け、前記ホルダを各部にセットし
たとき前記ホルダに接して位置決めする位置決め体に固
着した絶縁体に外部の温度測定器へ電線により接続され
たコンタクトプローブピン或いは端子を取付け、前記ホ
ルダを前記位置決め体にセットしたとき前記温度測定用
センサが前記端子および前記コンタクトプローブピンを
介して前記温度測定器に接続されるマスクガラス等の温
度測定機構であって、前記コンタクトプローブピンは、
金属性のケーシングと、その内部に出入自在に挿入され
た金属性の接触子と、前記ケーシング内に設けられ前記
接触子をケーシングの先端から所定量突出させるべく該
接触子を先端へ向けて押圧する金属性のコイルスプリン
グとからなるコンタクトプローブピンであることを特徴
にしている。
着した絶縁体に前記マスクガラス等に固着した温度測定
用センサから電線を介して接続した端子或いはコンタク
トプローブピンを取付け、前記ホルダを各部にセットし
たとき前記ホルダに接して位置決めする位置決め体に固
着した絶縁体に外部の温度測定器へ電線により接続され
たコンタクトプローブピン或いは端子を取付け、前記ホ
ルダを前記位置決め体にセットしたとき前記温度測定用
センサが前記端子および前記コンタクトプローブピンを
介して前記温度測定器に接続されるマスクガラス等の温
度測定機構であって、前記コンタクトプローブピンは、
金属性のケーシングと、その内部に出入自在に挿入され
た金属性の接触子と、前記ケーシング内に設けられ前記
接触子をケーシングの先端から所定量突出させるべく該
接触子を先端へ向けて押圧する金属性のコイルスプリン
グとからなるコンタクトプローブピンであることを特徴
にしている。
以下本考案の一実施例を示した第１図について説明す
る。図はマスクガラス（第２図のマスクガラス33を参
照）を保持するホルダー11を例えば描画室（準備室でも
全く同様である）12にセットしたときの断面図であり、
ホルダー11の端面は描画室12内にあってホルダー11を位
置決めする位置決め体（図示せず）に固着した絶縁体13
に接している。ホルダー11の一側は切り込まれ、そこに
は絶縁体14がボルト15により固着され、絶縁体14には４
本の端子16が取付けてあり、端子16はマスクガラスに固
定された不図示の温度測定用センサへ電線17により接続
されている。
る。図はマスクガラス（第２図のマスクガラス33を参
照）を保持するホルダー11を例えば描画室（準備室でも
全く同様である）12にセットしたときの断面図であり、
ホルダー11の端面は描画室12内にあってホルダー11を位
置決めする位置決め体（図示せず）に固着した絶縁体13
に接している。ホルダー11の一側は切り込まれ、そこに
は絶縁体14がボルト15により固着され、絶縁体14には４
本の端子16が取付けてあり、端子16はマスクガラスに固
定された不図示の温度測定用センサへ電線17により接続
されている。
一方絶縁体13には４本のコンタクトプローブピン18が取
付けてあり、このコンタクトプローブピン18は、金属製
のケーシング21とその内部に挿入された金属製の接触子
22そして接触子22を常時図において下方に押圧する金属
製のコイルスプリング23とからなっており、電流或いは
電圧は接触子22から直接ケーシング21へ或いは接触子22
からコイルスプリング23を経てケーシング21に流れ、ケ
ーシング21は電線17から真空室の壁（図示せず）に固着
したフィードスルー（図示せず）を通して外部の温度測
定器に接続されている。
付けてあり、このコンタクトプローブピン18は、金属製
のケーシング21とその内部に挿入された金属製の接触子
22そして接触子22を常時図において下方に押圧する金属
製のコイルスプリング23とからなっており、電流或いは
電圧は接触子22から直接ケーシング21へ或いは接触子22
からコイルスプリング23を経てケーシング21に流れ、ケ
ーシング21は電線17から真空室の壁（図示せず）に固着
したフィードスルー（図示せず）を通して外部の温度測
定器に接続されている。
なお端子16およびコンタクトプローブピン18の数を４に
したのは温度測定用センサとして白金測温抵抗体を使用
したからである。また絶縁体14にコンタクトプローブピ
ン18をそして絶縁体13に端子16を取付けるようにしても
よい。
したのは温度測定用センサとして白金測温抵抗体を使用
したからである。また絶縁体14にコンタクトプローブピ
ン18をそして絶縁体13に端子16を取付けるようにしても
よい。
次に前述した実施例の動作を説明する。ホルダー11を図
の下方から上方へ向けて描画室12内を移動させるとホル
ダー11は位置決め体に接して位置決めされ停止しセット
される。このとき端子16にコンタクトプローブピン18の
接触子22が接し接触子22はコイルスプリング23に抗して
後退し一定の圧力の下で端子16に接する。
の下方から上方へ向けて描画室12内を移動させるとホル
ダー11は位置決め体に接して位置決めされ停止しセット
される。このとき端子16にコンタクトプローブピン18の
接触子22が接し接触子22はコイルスプリング23に抗して
後退し一定の圧力の下で端子16に接する。
従ってマスクガラスに固定された温度測定用センサは外
部の温度測定器に接続されたことになる。
部の温度測定器に接続されたことになる。
本考案におけるマスクガラス等の温度測定機構は以上説
明したように、マスクガラス等を保持するホルダーに固
着した絶縁体に前記マスクガラス等に固着した温度測定
用センサから電線を介して接続した端子或いはコンタク
トプローブピンを取付け、前記ホルダを各部にセットし
たとき前記ホルダに接して位置決めする位置決め体に固
着した絶縁体に外部の温度測定器へ電線により接続され
たコンタクトプローブピン或いは端子を取付け、前記ホ
ルダを前記位置決め体にセットしたとき前記温度測定用
センサが前記端子および前記コンタクトプローブピンを
介して前記温度測定器に接続されるマスクガラス等の温
度測定機構であって、前記コンタクトプローブピンは、
金属性のケーシングと、その内部に出入自在に挿入され
た金属性の接触子と、前記ケーシング内に設けられ前記
接触子をケーシングの先端から所定量突出させるべく該
接触子を先端へ向けて押圧する金属性のコイルスプリン
グとからなるコンタクトプローブピンとしたため、描画
室および準備室等において作業の困難な配線作業を行う
必要はなくなり、極めてコンパクトかつ簡単な装置構成
により温度測定ができ、生産性が向上すると共に、ホル
ダーの自動ローディングが可能になった。さらに電子ビ
ーム描画装置等においてマスクガラス等の正確な測温が
可能になり描画精度を高めることができる利点を有す
る。
明したように、マスクガラス等を保持するホルダーに固
着した絶縁体に前記マスクガラス等に固着した温度測定
用センサから電線を介して接続した端子或いはコンタク
トプローブピンを取付け、前記ホルダを各部にセットし
たとき前記ホルダに接して位置決めする位置決め体に固
着した絶縁体に外部の温度測定器へ電線により接続され
たコンタクトプローブピン或いは端子を取付け、前記ホ
ルダを前記位置決め体にセットしたとき前記温度測定用
センサが前記端子および前記コンタクトプローブピンを
介して前記温度測定器に接続されるマスクガラス等の温
度測定機構であって、前記コンタクトプローブピンは、
金属性のケーシングと、その内部に出入自在に挿入され
た金属性の接触子と、前記ケーシング内に設けられ前記
接触子をケーシングの先端から所定量突出させるべく該
接触子を先端へ向けて押圧する金属性のコイルスプリン
グとからなるコンタクトプローブピンとしたため、描画
室および準備室等において作業の困難な配線作業を行う
必要はなくなり、極めてコンパクトかつ簡単な装置構成
により温度測定ができ、生産性が向上すると共に、ホル
ダーの自動ローディングが可能になった。さらに電子ビ
ーム描画装置等においてマスクガラス等の正確な測温が
可能になり描画精度を高めることができる利点を有す
る。
第１図は本考案の一実施例の断面図、第２図は従来例の
平面図である。 11……ホルダー、13,14……絶縁体、16……端子、18…
…コンタクトプローブピン。
平面図である。 11……ホルダー、13,14……絶縁体、16……端子、18…
…コンタクトプローブピン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｔ 7630−4Ｍ
Claims (1)
- 【請求項１】マスクガラス等を保持するホルダーに固着
した絶縁体に前記マスクガラス等に固着した温度測定用
センサから電線を介して接続した端子或いはコンタクト
プローブピンを取付け、前記ホルダを各部にセットした
とき前記ホルダに接して位置決めする位置決め体に固着
した絶縁体に外部の温度測定器へ電線により接続された
コンタクトプローブピン或いは端子を取付け、前記ホル
ダを前記位置決め体にセットしたとき前記温度測定用セ
ンサが前記端子および前記コンタクトプローブピンを介
して前記温度測定器に接続されるマスクガラス等の温度
測定機構であって、前記コンタクトプローブピンは、金
属性のケーシングと、その内部に出入自在に挿入された
金属性の接触子と、前記ケーシング内に設けられ前記接
触子をケーシングの先端から所定量突出させるべく該接
触子を先端へ向けて押圧する金属性のコイルスプリング
とからなるコンタクトプローブピンであることを特徴と
するマスクガラス等の温度測定機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985022448U JPH0741151Y2 (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | マスクガラス等の温度測定機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985022448U JPH0741151Y2 (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | マスクガラス等の温度測定機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61138248U JPS61138248U (ja) | 1986-08-27 |
| JPH0741151Y2 true JPH0741151Y2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=30514750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985022448U Expired - Lifetime JPH0741151Y2 (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | マスクガラス等の温度測定機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0741151Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0693438B2 (ja) * | 1986-12-11 | 1994-11-16 | 大日本スクリ−ン製造株式会社 | 基板温度測定装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5744543U (ja) * | 1980-08-27 | 1982-03-11 | ||
| JPS57162431A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-06 | Jeol Ltd | Method for exposure to electron beam |
-
1985
- 1985-02-19 JP JP1985022448U patent/JPH0741151Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61138248U (ja) | 1986-08-27 |
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