JPH0737278A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH0737278A JPH0737278A JP17800793A JP17800793A JPH0737278A JP H0737278 A JPH0737278 A JP H0737278A JP 17800793 A JP17800793 A JP 17800793A JP 17800793 A JP17800793 A JP 17800793A JP H0737278 A JPH0737278 A JP H0737278A
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- JP
- Japan
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- master
- metal master
- parts
- proportion
- optical disk
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 成形基板の段差部に情報を持たせた光ディス
クの製造にあたり、その射出成形時の溝転写性を良好に
保持し、この段差部に設けられたアドレス情報及びトラ
ックカウント信号等の再生を確実に行えるようにする。 【構成】 成形基板１５に設けた段差部に情報を持たせ
た光ディスクを射出成形で製造する際に、凹部１１の占
める割合が凸部１２の占める割合に比し大きい金属原盤
１０を用いる。
クの製造にあたり、その射出成形時の溝転写性を良好に
保持し、この段差部に設けられたアドレス情報及びトラ
ックカウント信号等の再生を確実に行えるようにする。 【構成】 成形基板１５に設けた段差部に情報を持たせ
た光ディスクを射出成形で製造する際に、凹部１１の占
める割合が凸部１２の占める割合に比し大きい金属原盤
１０を用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスクの製造方法、
特にその案内溝等の段差部に情報を持たせた光ディスク
を射出成形で製造する光ディスクの製造方法に係わる。
特にその案内溝等の段差部に情報を持たせた光ディスク
を射出成形で製造する光ディスクの製造方法に係わる。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクのフォーマットには、ディス
クの案内溝を蛇行させて、そこにアドレス等の情報を持
たせる構成のものが例えばＭＤ（ミニディスク）や追記
型光ディスクに適用されている。
クの案内溝を蛇行させて、そこにアドレス等の情報を持
たせる構成のものが例えばＭＤ（ミニディスク）や追記
型光ディスクに適用されている。
【０００３】このフォーマットでは、案内溝の幅を広く
してＣ／Ｎ（キャリア／ノイズ比）を向上させるため、
相対的に案内溝以外の部分、いわゆるランド部が狭くな
る。
してＣ／Ｎ（キャリア／ノイズ比）を向上させるため、
相対的に案内溝以外の部分、いわゆるランド部が狭くな
る。
【０００４】射出成形で従来の金属原盤いわゆるスタン
パを用いてディスクを製造する際には、ランド部に樹脂
が入り込むことになるが、樹脂が入り込む部分の幅が狭
いと十分な溝転写性を得ることができない。
パを用いてディスクを製造する際には、ランド部に樹脂
が入り込むことになるが、樹脂が入り込む部分の幅が狭
いと十分な溝転写性を得ることができない。
【０００５】光ディスク基板はガラス２Ｐ（フォトポリ
マー）法や射出成形法等により形成することができる。
一例として２Ｐ法による場合の製造工程を図６Ａ〜Ｄを
参照して説明する。先ず図６Ａに示すように、例えばガ
ラス等より成る基板１の上に、フォトレジスト２を全面
的に塗布し、一点鎖線ｇで示すように案内溝を形成する
領域にレーザ光Ｌをパターン露光する。
マー）法や射出成形法等により形成することができる。
一例として２Ｐ法による場合の製造工程を図６Ａ〜Ｄを
参照して説明する。先ず図６Ａに示すように、例えばガ
ラス等より成る基板１の上に、フォトレジスト２を全面
的に塗布し、一点鎖線ｇで示すように案内溝を形成する
領域にレーザ光Ｌをパターン露光する。
【０００６】そして次に図６Ｂに示すように、これを現
像してフォトレジスト２の露光部分を除去して案内溝に
対応する溝２２が形成された原盤５を構成し、この原盤
５にニッケル等の金属をメッキ等により被着して凹凸を
転写して金属原盤１０を形成する。
像してフォトレジスト２の露光部分を除去して案内溝に
対応する溝２２が形成された原盤５を構成し、この原盤
５にニッケル等の金属をメッキ等により被着して凹凸を
転写して金属原盤１０を形成する。
【０００７】そして図６Ｃに示すように、原盤５から剥
離して原盤５の溝２２に対応する凸部１１とランド部に
対応する凹部１２とが設けられた金属原盤１０を用意
し、これに樹脂等の成形基板材料を注入する。
離して原盤５の溝２２に対応する凸部１１とランド部に
対応する凹部１２とが設けられた金属原盤１０を用意
し、これに樹脂等の成形基板材料を注入する。
【０００８】このとき、上述したように案内溝の幅が大
きくランド部の幅が小さくなって、この金属原盤１０の
溝幅は小さくなることから、矢印ａで示すように、この
溝内部に樹脂が行き渡らず、良好な溝転写性を得られな
い。
きくランド部の幅が小さくなって、この金属原盤１０の
溝幅は小さくなることから、矢印ａで示すように、この
溝内部に樹脂が行き渡らず、良好な溝転写性を得られな
い。
【０００９】従って成形基板１５は、図６Ｄに示すよう
に、案内溝１６及びランド部１７の形状が丸みを帯びた
形状となってしまう。
に、案内溝１６及びランド部１７の形状が丸みを帯びた
形状となってしまう。
【００１０】また光ディスクの高密度化に伴ってトラッ
クピッチが狭くなると、より一層ランド幅が狭くなり、
結果的に射出成形での溝転写性がますます悪化すること
となる。
クピッチが狭くなると、より一層ランド幅が狭くなり、
結果的に射出成形での溝転写性がますます悪化すること
となる。
【００１１】溝転写性の悪化はトラックカウント信号や
トラッキングエラー信号等の溝形状に依存する信号の再
生に影響を及ぼすだけでなく、上述したように案内溝に
持たせたアドレス等の情報再生を困難とするという欠点
がある。
トラッキングエラー信号等の溝形状に依存する信号の再
生に影響を及ぼすだけでなく、上述したように案内溝に
持たせたアドレス等の情報再生を困難とするという欠点
がある。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うな溝転写性の問題を解決して、溝形状を精度良く転写
することができるようにして、信号及びアドレス情報等
の再生を確実に行えるようにする。
うな溝転写性の問題を解決して、溝形状を精度良く転写
することができるようにして、信号及びアドレス情報等
の再生を確実に行えるようにする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、その一例の一
製造工程図を図１に示すように、成形基板１５に設けた
段差部に情報を持たせた光ディスクを射出成形で製造す
る際に、凹部１１の占める割合が凸部１２の占める割合
に比し大きい金属原盤１０を用いる。
製造工程図を図１に示すように、成形基板１５に設けた
段差部に情報を持たせた光ディスクを射出成形で製造す
る際に、凹部１１の占める割合が凸部１２の占める割合
に比し大きい金属原盤１０を用いる。
【００１４】また本発明は、上述の金属原盤１０の製造
工程において、その一例の一製造工程図を図２に示すよ
うに、凹部の占める割合に比し凸部の占める割合が大き
い原盤１０ｆに金属メッキを行うことにより凹凸を逆に
して、凹部の占める割合が凸部の占める割合に比し大と
された金属原盤１０を形成する。
工程において、その一例の一製造工程図を図２に示すよ
うに、凹部の占める割合に比し凸部の占める割合が大き
い原盤１０ｆに金属メッキを行うことにより凹凸を逆に
して、凹部の占める割合が凸部の占める割合に比し大と
された金属原盤１０を形成する。
【００１５】更にまた本発明は、その一例の製造工程を
図３Ａ及びＢに示すように、上述の金属原盤１０の製造
工程において、未露光部分がエッチングされるフォトレ
ジスト２を用いて、露光部２ｅの占める割合を未露光部
の占める割合に比し大として形成した原盤５を用いて、
金属原盤１０を製造する。
図３Ａ及びＢに示すように、上述の金属原盤１０の製造
工程において、未露光部分がエッチングされるフォトレ
ジスト２を用いて、露光部２ｅの占める割合を未露光部
の占める割合に比し大として形成した原盤５を用いて、
金属原盤１０を製造する。
【００１６】また本発明は、その一例の製造工程図を図
４Ａ及びＢに示すように、上述の金属原盤１０の製造工
程において、金属原盤１０の凸部となる領域をレーザで
露光して、凹部の占める割合を凸部の占める割合に比し
大として形成する。
４Ａ及びＢに示すように、上述の金属原盤１０の製造工
程において、金属原盤１０の凸部となる領域をレーザで
露光して、凹部の占める割合を凸部の占める割合に比し
大として形成する。
【００１７】
【作用】上述したように本発明においては、凹部１１の
占める割合が凸部１２の占める割合より大きい金属原盤
１０を用いて成形基板１５の射出成形を行うことから、
図５に示すように、その段差部２０の溝転写性が良好に
なる。
占める割合が凸部１２の占める割合より大きい金属原盤
１０を用いて成形基板１５の射出成形を行うことから、
図５に示すように、その段差部２０の溝転写性が良好に
なる。
【００１８】従って本発明により形成した光ディスクの
再生に当たっては、質の良いトラックカウント信号やト
ラッキングエラー信号を得ることができる。
再生に当たっては、質の良いトラックカウント信号やト
ラッキングエラー信号を得ることができる。
【００１９】
【実施例】以下本発明実施例を図面を参照して詳細に説
明する。本発明は、図１に示すように、成形基板１５に
設けた段差部に情報を持たせた光ディスクを射出成形で
製造する際に、凹部１１の占める割合が凸部１２の占め
る割合に比し大きい、即ち図１の断面において凹部１１
の幅が凸部１２の幅に比し大とされた金属原盤１０を用
いる。６は金型を示す。
明する。本発明は、図１に示すように、成形基板１５に
設けた段差部に情報を持たせた光ディスクを射出成形で
製造する際に、凹部１１の占める割合が凸部１２の占め
る割合に比し大きい、即ち図１の断面において凹部１１
の幅が凸部１２の幅に比し大とされた金属原盤１０を用
いる。６は金型を示す。
【００２０】このような金属原盤１０の製造方法の各例
を以下に説明する。先ず図２に示す例においては、従来
の金属原盤１０ｆ、即ち凹部の占める割合に比し凸部の
占める割合が大きい原盤１０ｆを容易する。この金属原
盤１０ｆは、前述の図６Ａ〜Ｂにおいて説明した従来の
製造方法によって形成することができる。
を以下に説明する。先ず図２に示す例においては、従来
の金属原盤１０ｆ、即ち凹部の占める割合に比し凸部の
占める割合が大きい原盤１０ｆを容易する。この金属原
盤１０ｆは、前述の図６Ａ〜Ｂにおいて説明した従来の
製造方法によって形成することができる。
【００２１】そしてこの従来の金属原盤１０ｆにニッケ
ル等の金属メッキを行い、図２に示すように凹凸を逆に
して、凹部１１の占める割合が凸部１２の占める割合に
比し大とされた金属原盤１０を形成する。このとき、例
えばＣｒ等をスパッタした後Ｎｉメッキを行うことによ
り、金属原盤１０は良好に剥離される。
ル等の金属メッキを行い、図２に示すように凹凸を逆に
して、凹部１１の占める割合が凸部１２の占める割合に
比し大とされた金属原盤１０を形成する。このとき、例
えばＣｒ等をスパッタした後Ｎｉメッキを行うことによ
り、金属原盤１０は良好に剥離される。
【００２２】また、図３Ａ及びＢにおいては、未露光部
分がエッチングされるフォトレジスト２用いて形成する
場合を示す。この場合、先ず図３Ａに示すように、金属
原盤１０の凹部１１に対応する相対的に幅広の部分に露
光を行う。
分がエッチングされるフォトレジスト２用いて形成する
場合を示す。この場合、先ず図３Ａに示すように、金属
原盤１０の凹部１１に対応する相対的に幅広の部分に露
光を行う。
【００２３】そしてこのフォトレジスト２に対して現像
を施すと露光部２ｅが残留して、相対的に幅狭とされる
未露光部がエッチング除去される。このようにした形成
した原盤５に対し、金属メッキを施して、凹部が凸部に
比し幅広とされた金属原盤１０を得ることができる。
を施すと露光部２ｅが残留して、相対的に幅狭とされる
未露光部がエッチング除去される。このようにした形成
した原盤５に対し、金属メッキを施して、凹部が凸部に
比し幅広とされた金属原盤１０を得ることができる。
【００２４】また図４Ａ及びＢにおいては、露光部がエ
ッチングされるフォトレジスト２を用いて、その露光を
図４Ａの断面において比較的幅狭な領域に行う。２ｅは
露光部を示す。そして次に現像を施して露光部２ｅを除
去して、溝部が相対的に幅狭とされ、即ち凹部が凸部に
比し小とされた原盤５を形成する。
ッチングされるフォトレジスト２を用いて、その露光を
図４Ａの断面において比較的幅狭な領域に行う。２ｅは
露光部を示す。そして次に現像を施して露光部２ｅを除
去して、溝部が相対的に幅狭とされ、即ち凹部が凸部に
比し小とされた原盤５を形成する。
【００２５】そしてこの後図４Ｂに示すように、この原
盤５にメッキを施して金属原盤１０を形成する。このと
き、金属原盤１０の凹部１１は、凸部１２に比し図４Ｂ
の断面において幅広とされ、即ちその占める割合は比較
的大となる。
盤５にメッキを施して金属原盤１０を形成する。このと
き、金属原盤１０の凹部１１は、凸部１２に比し図４Ｂ
の断面において幅広とされ、即ちその占める割合は比較
的大となる。
【００２６】以上説明したように本発明によれば、凹部
１１の占める割合が凸部１２の占める割合に比し大とさ
れた金属原盤１０を用いることによって、これに対して
樹脂等の射出成形を行う際に、その凹部１１内を隙間無
く成形材料を埋め込ませることができて、成形基板１５
の段差部が丸みを帯びることなく所望の形状に形成する
ことができる。従って本発明により形成した光ディスク
の再生に当たっては、質の良いトラックカウント信号や
トラッキングエラー信号を得ることができる。
１１の占める割合が凸部１２の占める割合に比し大とさ
れた金属原盤１０を用いることによって、これに対して
樹脂等の射出成形を行う際に、その凹部１１内を隙間無
く成形材料を埋め込ませることができて、成形基板１５
の段差部が丸みを帯びることなく所望の形状に形成する
ことができる。従って本発明により形成した光ディスク
の再生に当たっては、質の良いトラックカウント信号や
トラッキングエラー信号を得ることができる。
【００２７】尚、本発明は上述の各例に限定されること
なく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の変形変更が可
能であることはいうまでもない。
なく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の変形変更が可
能であることはいうまでもない。
【００２８】
【発明の効果】上述したように本発明によれば、射出成
形の際に、金属原盤１０の凹部が比較的幅広とされるこ
とからこの凹部内に樹脂等の成形材料が確実に埋め込ま
れ、良好な溝転写性を得ることができる。
形の際に、金属原盤１０の凹部が比較的幅広とされるこ
とからこの凹部内に樹脂等の成形材料が確実に埋め込ま
れ、良好な溝転写性を得ることができる。
【００２９】従って本発明により作製した光ディスク
は、質の良いトラックカウント信号やトラッキングエラ
ー信号を得ることができる。また、高記録密度化に伴っ
て、より幅狭のトラックピッチの光ディスクを形成する
場合においても、本発明を適用することにより良好な溝
転写性を保持し、再生特性の劣化を回避することができ
る。
は、質の良いトラックカウント信号やトラッキングエラ
ー信号を得ることができる。また、高記録密度化に伴っ
て、より幅狭のトラックピッチの光ディスクを形成する
場合においても、本発明を適用することにより良好な溝
転写性を保持し、再生特性の劣化を回避することができ
る。
【図１】本発明実施例の一製造工程図である。
【図２】本発明実施例の一製造工程図である。
【図３】Ａは本発明の他の実施例の一製造工程図であ
る。Ｂは本発明の他の実施例の一製造工程図である。
る。Ｂは本発明の他の実施例の一製造工程図である。
【図４】Ａは本発明の他の実施例の一製造工程図であ
る。Ｂは本発明の他の実施例の一製造工程図である。
る。Ｂは本発明の他の実施例の一製造工程図である。
【図５】本発明実施例の一製造工程図である。
【図６】Ａは従来の光ディスクの製造工程図である。Ｂ
は従来の光ディスクの製造工程図である。Ｃは従来の光
ディスクの製造工程図である。Ｄは従来の光ディスクの
製造工程図である。
は従来の光ディスクの製造工程図である。Ｃは従来の光
ディスクの製造工程図である。Ｄは従来の光ディスクの
製造工程図である。
１ 基板 ２ フォトレジスト ５ 原盤 １０ 金属原盤 １１ 凹部 １２ 凸部 １５ 成形基板
Claims (4)
- 【請求項１】 基板に設けた段差部に情報を持たせた光
ディスクを射出成形で製造する際に、凹部の占める割合
が凸部の占める割合に比し大きい金属原盤を用いること
を特徴とする光ディスクの製造方法。 - 【請求項２】 上記金属原盤の製造工程において、凹部
の占める割合に比し凸部の占める割合が大きい原盤に金
属メッキを行うことにより凹凸を逆にして、凹部の占め
る割合が凸部の占める割合に比し大とされた金属原盤を
形成することを特徴とする上記請求項１に記載の光ディ
スクの製造方法。 - 【請求項３】 上記金属原盤の製造工程において、未露
光部分がエッチングされるフォトレジストを用いて、露
光部の占める割合を未露光部の占める割合に比し大とし
て形成した原盤を用いて上記金属原盤を製造することを
特徴とする上記請求項１に記載の光ディスクの製造方
法。 - 【請求項４】 上記金属原盤の製造工程において、上記
金属原盤の凸部となる領域をレーザで露光して上記凹部
の占める割合を上記凸部の占める割合に比し大とするこ
とを特徴とする上記請求項１に記載の光ディスクの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17800793A JPH0737278A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | 光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17800793A JPH0737278A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | 光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0737278A true JPH0737278A (ja) | 1995-02-07 |
Family
ID=16040932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17800793A Pending JPH0737278A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | 光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0737278A (ja) |
-
1993
- 1993-07-19 JP JP17800793A patent/JPH0737278A/ja active Pending
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