JPH07332916A - 膜厚計 - Google Patents
膜厚計Info
- Publication number
- JPH07332916A JPH07332916A JP13045694A JP13045694A JPH07332916A JP H07332916 A JPH07332916 A JP H07332916A JP 13045694 A JP13045694 A JP 13045694A JP 13045694 A JP13045694 A JP 13045694A JP H07332916 A JPH07332916 A JP H07332916A
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- JP
- Japan
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- film thickness
- magnetic
- thickness meter
- primary coil
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 実用的な周波数の電流を用いて磁性被膜の膜
厚を精度良く計測する膜厚計を提供すること。 【構成】 磁性コアに巻いた１次コイルと被膜近傍の磁
界の変化を検出するよう被膜に近接した２次コイルの組
み合わせを有する膜厚計。 【効果】 金属板上の磁性被膜の膜厚計測が実用化され
る。
厚を精度良く計測する膜厚計を提供すること。 【構成】 磁性コアに巻いた１次コイルと被膜近傍の磁
界の変化を検出するよう被膜に近接した２次コイルの組
み合わせを有する膜厚計。 【効果】 金属板上の磁性被膜の膜厚計測が実用化され
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は金属板または金属管など
に施された磁性金属被膜の厚さを測定する装置に関す
る。
に施された磁性金属被膜の厚さを測定する装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】金属板を電気接点材料とし
て用いる場合、防錆性／耐腐食性／耐摩耗性の観点から
ニッケルなどのメッキ処理を施す必要がある。このメッ
キ材料の組成や厚さの品質管理を適切に行うことが求め
られている。しかし、ニッケルは磁性を有するため、被
膜の厚さを計測する場合に、金属板上の絶縁塗料の厚さ
や磁性金属板上の非磁性金属被膜の厚さを測定するため
の渦電流式膜厚計や電磁式膜厚計を転用することは以下
に述べるような困難を伴う。渦電流式膜厚計は、強磁性
体の丸棒にコイルを巻いてプローブを構成し、交流電流
を流して測定対象金属板表面に垂直に近接させるとき、
金属内には磁束を打ち消すような渦電流が発生し、コイ
ル内に発生する誘導逆電圧が減少し、より大きな電流が
流れるようになる。この結果、測定対象金属とプローブ
の距離に応じてコイルのインピーダンスが変化するよう
に観測される。電磁式膜厚計は、より低い周波数の電流
を流したプローブを測定対象鉄板に近接させたとき、プ
ローブが鉄板に与える磁場による鉄板の磁化の大きさが
近接距離すなわち絶縁塗料厚に依存し、より大きなコイ
ル電流が流れるようになる。ところが、いずれの場合
も、金属上の被膜の材料が磁性を有する場合にはこの測
定精度は著しく低くなる。従来の膜厚計による計測にお
いて数値計算で求めたニッケル被膜の厚さに対するイン
ピーダンスを、塗料膜（□）や銅メッキ被膜（〇）に対
するインピーダンスと比較すると、図２のカーブ（△）
で示すように平坦で且つ振動的な計測結果となり実用に
適さない。
て用いる場合、防錆性／耐腐食性／耐摩耗性の観点から
ニッケルなどのメッキ処理を施す必要がある。このメッ
キ材料の組成や厚さの品質管理を適切に行うことが求め
られている。しかし、ニッケルは磁性を有するため、被
膜の厚さを計測する場合に、金属板上の絶縁塗料の厚さ
や磁性金属板上の非磁性金属被膜の厚さを測定するため
の渦電流式膜厚計や電磁式膜厚計を転用することは以下
に述べるような困難を伴う。渦電流式膜厚計は、強磁性
体の丸棒にコイルを巻いてプローブを構成し、交流電流
を流して測定対象金属板表面に垂直に近接させるとき、
金属内には磁束を打ち消すような渦電流が発生し、コイ
ル内に発生する誘導逆電圧が減少し、より大きな電流が
流れるようになる。この結果、測定対象金属とプローブ
の距離に応じてコイルのインピーダンスが変化するよう
に観測される。電磁式膜厚計は、より低い周波数の電流
を流したプローブを測定対象鉄板に近接させたとき、プ
ローブが鉄板に与える磁場による鉄板の磁化の大きさが
近接距離すなわち絶縁塗料厚に依存し、より大きなコイ
ル電流が流れるようになる。ところが、いずれの場合
も、金属上の被膜の材料が磁性を有する場合にはこの測
定精度は著しく低くなる。従来の膜厚計による計測にお
いて数値計算で求めたニッケル被膜の厚さに対するイン
ピーダンスを、塗料膜（□）や銅メッキ被膜（〇）に対
するインピーダンスと比較すると、図２のカーブ（△）
で示すように平坦で且つ振動的な計測結果となり実用に
適さない。
【０００３】
【問題点解決のための手段、作用効果及び実施例】本発
明の目的は、金属板上の磁性被膜の厚さを計測する膜厚
計を提供することである。本発明によれば、１次コイル
と２次コイルの組み合わせを有するプローブを用いて被
膜近傍の磁界の変化を実用的な周波数の電流を検出し磁
性被膜の膜厚を精度良く計測する膜厚計を提供すること
ができる。
明の目的は、金属板上の磁性被膜の厚さを計測する膜厚
計を提供することである。本発明によれば、１次コイル
と２次コイルの組み合わせを有するプローブを用いて被
膜近傍の磁界の変化を実用的な周波数の電流を検出し磁
性被膜の膜厚を精度良く計測する膜厚計を提供すること
ができる。
【０００４】本発明のさらに詳細な構成は以下の説明に
よってさらに明らかにされよう。図１は、本発明による
膜厚計の原理を示し、棒状磁性体コア１１に卷回された
１次コイル１２と測定対象金属板１３の表面により近接
する位置に卷回され、コア及び被膜１４を通過して漏洩
する磁束のうち金属板表面に平行な成分Ｂｒの変化を検
出するように配置した２次コイル１５を有している。正
弦波発振回路２１は１２００Ｈｚの正弦波信号を発信す
る。通常用いられる正弦波発振回路から出力される信号
波形には歪み、すなわち目的とする周波数以外の成分が
多く含まれているため、これら不要成分除去のため、バ
ンドパスフィルタ２２を通過させる。コイルに流す電流
を得るためコイルドライブ回路２３は、電流増幅作用を
有し、棒状磁性体コア１１に卷回された１次コイル１２
に１２００Ｈｚの電流が流れる。棒状磁性体コア１１に
卷回された２次コイル１５により検出される電圧Ｖは増
幅回路３１により増幅され、バンドパスフィルタ３２に
よりノイズが除去され、増幅回路３３によりさらに増幅
される。この信号の交流電圧を直流電圧に変換するＡＣ
／ＤＣ変換回路３４の出力は、アナログ信号をデジタル
信号に変換するＡＤ変換回路３５に与えられる。あらか
じめ既知の膜厚を有する磁性被膜の計測データを記憶す
るメモリー３８に接続された演算装置３６は、補間法に
よりこのデジタル信号に対応する膜厚を演算し、表示器
３７に表示する。
よってさらに明らかにされよう。図１は、本発明による
膜厚計の原理を示し、棒状磁性体コア１１に卷回された
１次コイル１２と測定対象金属板１３の表面により近接
する位置に卷回され、コア及び被膜１４を通過して漏洩
する磁束のうち金属板表面に平行な成分Ｂｒの変化を検
出するように配置した２次コイル１５を有している。正
弦波発振回路２１は１２００Ｈｚの正弦波信号を発信す
る。通常用いられる正弦波発振回路から出力される信号
波形には歪み、すなわち目的とする周波数以外の成分が
多く含まれているため、これら不要成分除去のため、バ
ンドパスフィルタ２２を通過させる。コイルに流す電流
を得るためコイルドライブ回路２３は、電流増幅作用を
有し、棒状磁性体コア１１に卷回された１次コイル１２
に１２００Ｈｚの電流が流れる。棒状磁性体コア１１に
卷回された２次コイル１５により検出される電圧Ｖは増
幅回路３１により増幅され、バンドパスフィルタ３２に
よりノイズが除去され、増幅回路３３によりさらに増幅
される。この信号の交流電圧を直流電圧に変換するＡＣ
／ＤＣ変換回路３４の出力は、アナログ信号をデジタル
信号に変換するＡＤ変換回路３５に与えられる。あらか
じめ既知の膜厚を有する磁性被膜の計測データを記憶す
るメモリー３８に接続された演算装置３６は、補間法に
よりこのデジタル信号に対応する膜厚を演算し、表示器
３７に表示する。
【０００５】図３は、被膜に対して垂直な方向の磁束密
度Ｂｚを数値計算で求めた値の変化を示し、膜厚に対し
てほとんど変化がないことが判る。
度Ｂｚを数値計算で求めた値の変化を示し、膜厚に対し
てほとんど変化がないことが判る。
【０００６】図４は、被膜に対して平行な方向Ｂｒの磁
束密度を数値計算で求めた値の変化を示し、図３に比較
して、膜厚変化に対して敏感なことが判る。従来の膜厚
計では、棒状磁性体コアに卷回されたコイルに流れる電
流が膜厚に応じて変化することを検出していたので、被
膜に垂直な方向の磁束密度Ｂｚの変化を求めていたこと
になる。
束密度を数値計算で求めた値の変化を示し、図３に比較
して、膜厚変化に対して敏感なことが判る。従来の膜厚
計では、棒状磁性体コアに卷回されたコイルに流れる電
流が膜厚に応じて変化することを検出していたので、被
膜に垂直な方向の磁束密度Ｂｚの変化を求めていたこと
になる。
【０００７】図５は、図１に示す実施例の構成を用い
て、２次コイルの出力電圧を数値計算で求めた値を示
し、膜厚に対する単調増加出力電圧を検出でき、ロック
インアンプを用いた精密な測定により膜厚を計測できる
ことが理解されよう。上述のごとく本発明による膜厚計
は、１次コイルと２次コイルの組み合わせを有するプロ
ーブを用いて被膜近傍の磁界の変化を実用的な周波数の
電流検出し磁性被膜の膜厚を精度良く計測するものであ
るが、１次コイルと２次コイルの配置については次のよ
うに規定することができる。すなわち、１次コイル１２
は棒状磁性体コア１１により大きな磁束密度を与えるよ
う近接して卷回されるのに対して、２次コイル１５は被
膜に平行な磁束成分Ｂｒの変化を検出するようにより被
膜に近接して卷回される。
て、２次コイルの出力電圧を数値計算で求めた値を示
し、膜厚に対する単調増加出力電圧を検出でき、ロック
インアンプを用いた精密な測定により膜厚を計測できる
ことが理解されよう。上述のごとく本発明による膜厚計
は、１次コイルと２次コイルの組み合わせを有するプロ
ーブを用いて被膜近傍の磁界の変化を実用的な周波数の
電流検出し磁性被膜の膜厚を精度良く計測するものであ
るが、１次コイルと２次コイルの配置については次のよ
うに規定することができる。すなわち、１次コイル１２
は棒状磁性体コア１１により大きな磁束密度を与えるよ
う近接して卷回されるのに対して、２次コイル１５は被
膜に平行な磁束成分Ｂｒの変化を検出するようにより被
膜に近接して卷回される。
【０００８】本発明による膜厚計のさらに別の態様とし
て、図１により了解されるように、１次コイルを巻いた
磁性体コアの外側に２次コイルを金属板表面に近接し得
る構成を取ればよい。また、発振回路２１、フィルタ２
２、コイルドライブ回路を用いて１次コイルに流す交流
電流の周波数は１２００Ｈｚに限定されず、渦電流損失
に影響され難い６００Ｈｚから５０００Ｈｚまでのいず
れでも良い。また、図１に示す回路構成のうち、バンド
パスフィルタ２２及び３２、増幅回路３１及び３３、コ
イルドライブ回路２３は省くことが可能であることは言
うまでもない。
て、図１により了解されるように、１次コイルを巻いた
磁性体コアの外側に２次コイルを金属板表面に近接し得
る構成を取ればよい。また、発振回路２１、フィルタ２
２、コイルドライブ回路を用いて１次コイルに流す交流
電流の周波数は１２００Ｈｚに限定されず、渦電流損失
に影響され難い６００Ｈｚから５０００Ｈｚまでのいず
れでも良い。また、図１に示す回路構成のうち、バンド
パスフィルタ２２及び３２、増幅回路３１及び３３、コ
イルドライブ回路２３は省くことが可能であることは言
うまでもない。
【０００９】図６および図７は、本発明による別の実施
例を示し、それぞれコイル４１、４２はプローブ１１と
同心円上であって磁性被膜１４に近接した位置で、被膜
に対して平行な方向Ｂｒの磁束密度を計測できるように
卷回されている。図６はプローブの軸を中心とする２つ
の同心円上に２回ずつ、１２の放射方向に合計２４個の
ループの２次コイル４１を構成する実施例を示し、図７
は１２個のループの２次コイル４２の実施例を示す。こ
れらの数値は任意に選ぶことができ、図１の２次コイル
のループは１個になっていることが理解されよう。
例を示し、それぞれコイル４１、４２はプローブ１１と
同心円上であって磁性被膜１４に近接した位置で、被膜
に対して平行な方向Ｂｒの磁束密度を計測できるように
卷回されている。図６はプローブの軸を中心とする２つ
の同心円上に２回ずつ、１２の放射方向に合計２４個の
ループの２次コイル４１を構成する実施例を示し、図７
は１２個のループの２次コイル４２の実施例を示す。こ
れらの数値は任意に選ぶことができ、図１の２次コイル
のループは１個になっていることが理解されよう。
【００１０】図８及び図９は、本発明によるさらに別の
実施例を示し、磁性被膜５２のメッキを内側に有する鉄
管５１に対して、一端５３が管壁方向に末広がりに鉄管
５１の内径より若干小さい直径を有し、１次コイル５４
と２次コイル５５を巻いたプローブ５６を挿入して内側
の被膜厚を計測するための構成である。１次コイル５４
は、図１の構成と同様に、プローブに密接して巻き、２
次コイル５５は（図９のコイル位置断面図に示すよう
に）外側ループを被膜に近接した位置とし、内側ループ
を１次コイルの外側に位置するよう構成する。これは、
本発明の被膜近傍で被膜に平行な磁束成分Ｂｒの変化を
検出するために必要となる条件である。
実施例を示し、磁性被膜５２のメッキを内側に有する鉄
管５１に対して、一端５３が管壁方向に末広がりに鉄管
５１の内径より若干小さい直径を有し、１次コイル５４
と２次コイル５５を巻いたプローブ５６を挿入して内側
の被膜厚を計測するための構成である。１次コイル５４
は、図１の構成と同様に、プローブに密接して巻き、２
次コイル５５は（図９のコイル位置断面図に示すよう
に）外側ループを被膜に近接した位置とし、内側ループ
を１次コイルの外側に位置するよう構成する。これは、
本発明の被膜近傍で被膜に平行な磁束成分Ｂｒの変化を
検出するために必要となる条件である。
【００１１】図１０、図１１及び図１２は、本発明によ
るさらに別の実施例を示し、図９の実施例と同様に、磁
性被膜５２のメッキを内側に有する鉄管５１に対して、
一端５３が管壁方向に末広がりに鉄管５１の内径より若
干小さい直径を有し、１次コイル５４を巻いたプローブ
５６を挿入し、（図１２の外観図に示すように）プロー
ブの一端５３よりもさらに先に離れた位置に被膜と近接
した２次コイル６６を配置することにより、鉄管５１内
側の被膜厚を計測するための構成である。２次コイル５
５は（図１１のコイル位置断面図に示すように）１回の
み巻いてもよく、図９のように２回巻いても、また図６
及び図７のようにさらに多く巻いてもよい。
るさらに別の実施例を示し、図９の実施例と同様に、磁
性被膜５２のメッキを内側に有する鉄管５１に対して、
一端５３が管壁方向に末広がりに鉄管５１の内径より若
干小さい直径を有し、１次コイル５４を巻いたプローブ
５６を挿入し、（図１２の外観図に示すように）プロー
ブの一端５３よりもさらに先に離れた位置に被膜と近接
した２次コイル６６を配置することにより、鉄管５１内
側の被膜厚を計測するための構成である。２次コイル５
５は（図１１のコイル位置断面図に示すように）１回の
み巻いてもよく、図９のように２回巻いても、また図６
及び図７のようにさらに多く巻いてもよい。
【００１２】以上のべた各実施例の説明から理解される
ように、計測できる金属の形状は様々な態様が考えら
れ、それに対応するプローブの形状、コイルの形状と巻
き数及び配置は、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれ
ばいかなる組み合わせを採用しても、磁性被膜の厚さを
精度良く計測できるのである。
ように、計測できる金属の形状は様々な態様が考えら
れ、それに対応するプローブの形状、コイルの形状と巻
き数及び配置は、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれ
ばいかなる組み合わせを採用しても、磁性被膜の厚さを
精度良く計測できるのである。
【図１】本発明による膜厚計の構成を示す図。
【図２】従来の膜厚計により計測されるコイルのインピ
ーダンスを示す図。
ーダンスを示す図。
【図３】従来の膜厚計により計測される被膜表面に垂直
な磁束密度を示す図。
な磁束密度を示す図。
【図４】従来の膜厚計により計測される被膜表面に平行
な磁束密度を示す図。
な磁束密度を示す図。
【図５】本発明による膜厚計により計測される出力電圧
を示す図。
を示す図。
【図６】本発明による膜厚計の別の実施例の構成を示す
図。
図。
【図７】本発明による膜厚計のさらに別の実施例の構成
を示す図。
を示す図。
【図８】本発明による膜厚計のさらに別の実施例の構成
を示す図。
を示す図。
【図９】図８に示す膜厚計の２次コイルの形状を示す
図。
図。
【図１０】本発明による膜厚計のさらに別の実施例の構
成を示す図。
成を示す図。
【図１１】図１０に示す膜厚計の２次コイルの形状を示
す図。
す図。
【図１２】図１０に示す膜厚計の外観を示す図。
１１、５６ 磁性体コア １２、５４ １次コイル １３ 金属板 １４ 磁性被膜 １５、５５、６６ ２次コイル ２１ 正弦波発振回路 ２２ バンドパスフィルタ ２３ コイルドライブ回路 ３１ 増幅回路 ３２ バンドパスフィルタ ３３ 増幅回路 ３４ ＡＣ／ＤＣ変換回路 ３５ Ａ／Ｄ変換回路 ３６ 演算装置 ３７ 表示器 ３８ メモリー
Claims (11)
- 【請求項１】 磁性プローブと、 前記磁性プローブ上に巻いた１次コイルと、 金属上の被膜近傍において前記磁性プローブが与える前
記被膜と平行方向の磁界の変化を検出するため、前記被
膜に近くに配置された２次コイルとを有する膜厚計。 - 【請求項２】 請求項第１項記載の膜厚計において、前
記１次コイルの作る磁束の方向は前記プローブの方向に
あり、前記２次コイルの自己インダクタンスの方向は前
記プローブが圧し当てられる前記被膜の面に平行であっ
て、前記プローブが圧し当てられる点をほぼ中心とする
円の半径方向に向いている前記膜厚計。 - 【請求項３】 請求項第１項記載の膜厚計において、 前記１次コイルに接続され交流電流を発生するための発
振回路と、 前記２次コイルに接続され前記１次コイルに流れる電流
に基づいて前記被膜と平行方向且つ前記円の半径方向に
発生する磁束の変化に応じた交流電流を直流電圧に変換
するための回路手段とを有する前記膜厚計。 - 【請求項４】 請求項第３項記載の膜厚計において、 前記回路手段に接続され前記直流電圧をデジタル値に変
換するための変換回路と、 所定の被膜厚さに応じたデジタル値の対を記憶するメモ
リーと、 前記変換回路と前記メモリーに接続され前記対のデータ
を参照し、前記変換回路からのデータを所定の演算によ
り計測値として与える演算装置と、 前記演算装置に接続され前記計測値を表示するための表
示器を有する前記膜厚計。 - 【請求項５】 磁性体コアと、 前記磁性体コアに卷回された１次コイルと、 前記コアを中心として前記コアから離れた位置であっ
て、測定対象金属板の表面に近接する位置に卷回され、
前記コア及び前記金属板表面の被膜を通過して漏洩する
磁束のうち前記金属板表面に平行な成分の変化を検出す
るように配置した２次コイルとを有する膜厚計。 - 【請求項６】 請求項第５項記載の膜厚計において、前
記１次コイルの作る磁束の方向は前記磁性体コアの方向
にあり、前記２次コイルの検出する磁束の方向は前記磁
性体コアが圧し当てられる前記被膜の面に平行であっ
て、前記磁性体コアが圧し当てられる点をほぼ中心とす
る円の半径方向に向いており、 前記１次コイルに接続され交流電流を発生するための発
振回路と、 前記２次コイルに接続され前記１次コイルに流れる電流
に基づいて前記被膜の上に前記円の半径方向に発生する
磁束の変化に応じた交流電流を直流電圧に変換するため
の回路手段とを有する前記膜厚計。 - 【請求項７】 請求項第５項記載の膜厚計において、前
記磁性体コアの一端は周辺方向に末広がりに伸びてお
り、前記１次コイルの作る磁束の方向は前記磁性体コア
の方向にあり、前記２次コイルの検出する磁束の方向は
前記磁性体コアの前記一端が近接する前記被膜の面及び
前記磁性体コアに平行であって、前記膜厚計は、 前記１次コイルに接続され交流電流を発生するための発
振回路と、 前記２次コイルに接続され前記１次コイルに流れる電流
に基づいて前記被膜の上に前記磁性体コアに平行な方向
に発生する磁束の変化に応じた交流電流を直流電圧に変
換するための回路手段とを有する前記膜厚計。 - 【請求項８】 棒状磁性プローブ、 前記棒状磁性プローブ上に巻いた１次コイル、 前記棒状磁性プローブと同心円上であって金属管内面上
の磁性被膜に近接した位置で被膜に対して平行な方向の
磁束密度を計測できるように卷回された２次コイルを有
し、前記２次コイルは前記棒状磁性プローブの軸を中心
とする複数の放射方向に卷回された膜厚計。 - 【請求項９】 請求項第８項記載の膜厚計において、 前記１次コイルに接続され交流電流を発生するための発
振回路と、 前記２次コイルに接続され前記１次コイルに流れる電流
に基づいて前記被膜の上に前記前記磁性プローブの方向
に発生する磁束の変化に応じた交流電流を直流電圧に変
換するための回路手段とを有する前記膜厚計。 - 【請求項１０】 請求項第８項記載の膜厚計において、
前記棒状磁性プローブの一端は前記金属管の内側の管壁
方向に末広がりに金属管の内径より若干小さい直径を有
している膜厚計。 - 【請求項１１】 請求項第１０項記載の膜厚計におい
て、前記１次コイルは前記プローブに密接して巻回さ
れ、前記２次コイルは外側ループを被膜に近接した位置
とし内側ループを前記１次コイルの外側に位置するよう
構成した膜厚計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13045694A JPH07332916A (ja) | 1994-06-13 | 1994-06-13 | 膜厚計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13045694A JPH07332916A (ja) | 1994-06-13 | 1994-06-13 | 膜厚計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07332916A true JPH07332916A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=15034678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13045694A Pending JPH07332916A (ja) | 1994-06-13 | 1994-06-13 | 膜厚計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07332916A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020006355A (ko) * | 2000-07-12 | 2002-01-19 | 이구택 | 도금량 측정장치 |
| US6386052B1 (en) | 1998-10-01 | 2002-05-14 | Nsk Ltd. | Torque sensor |
| KR100381095B1 (ko) * | 1998-10-10 | 2003-07-16 | 주식회사 포스코 | 자기 유도방식에 의한 아연도금량 두께 측정방법 |
| CN108489373A (zh) * | 2018-03-29 | 2018-09-04 | 清华大学 | 用于金属膜厚测量的差分探头装置 |
| KR20230056667A (ko) | 2020-09-01 | 2023-04-27 | 오츠카덴시가부시끼가이샤 | 광학 측정 시스템, 광학 측정 방법 및 측정 프로그램 |
-
1994
- 1994-06-13 JP JP13045694A patent/JPH07332916A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6386052B1 (en) | 1998-10-01 | 2002-05-14 | Nsk Ltd. | Torque sensor |
| KR100381095B1 (ko) * | 1998-10-10 | 2003-07-16 | 주식회사 포스코 | 자기 유도방식에 의한 아연도금량 두께 측정방법 |
| KR20020006355A (ko) * | 2000-07-12 | 2002-01-19 | 이구택 | 도금량 측정장치 |
| CN108489373A (zh) * | 2018-03-29 | 2018-09-04 | 清华大学 | 用于金属膜厚测量的差分探头装置 |
| CN108489373B (zh) * | 2018-03-29 | 2020-06-16 | 清华大学 | 用于金属膜厚测量的差分探头装置 |
| KR20230056667A (ko) | 2020-09-01 | 2023-04-27 | 오츠카덴시가부시끼가이샤 | 광학 측정 시스템, 광학 측정 방법 및 측정 프로그램 |
| KR20230058376A (ko) | 2020-09-01 | 2023-05-03 | 오츠카덴시가부시끼가이샤 | 광학 측정 시스템 및 프로브 |
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