JPH07321166A - Semiconductor inspecting method and apparatus - Google Patents

Semiconductor inspecting method and apparatus

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Publication number
JPH07321166A
JPH07321166A JP6109464A JP10946494A JPH07321166A JP H07321166 A JPH07321166 A JP H07321166A JP 6109464 A JP6109464 A JP 6109464A JP 10946494 A JP10946494 A JP 10946494A JP H07321166 A JPH07321166 A JP H07321166A
Authority
JP
Japan
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inspection
wafer
semiconductor
arm
stage
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6109464A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichiro Azuma
誠一郎 東
Nobuaki Hirano
信明 平野
Masahiko Tomizawa
雅彦 富沢
Hiroshi Ichikawa
浩 市川
Takayuki Yoshitake
貴之 吉竹
Tomoyoshi Miura
与佳 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP6109464A priority Critical patent/JPH07321166A/en
Publication of JPH07321166A publication Critical patent/JPH07321166A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a semiconductor inspecting method and apparatus for reducing the cost, improving the inspection efficiency and making it possible to inspect many types of and a great number of semiconductors. CONSTITUTION:The title apparatus comprises arm parts 5 having probes 4 to be contacted with electrodes of a semiconductor chip formed on a wafer, arm support members 6 which support the arm parts 5, stage 7 to mount the wafer 1, arm part support member mounts 11 to fix the support members 6, a measuring unit 8 which outputs specified signals on the basis of inspecting condition inputs, and a control unit 9 to automatically control the operations of the arm parts 5 and stage 7. Each arm part 5 is automatically controlled by the control unit 9 and the stage 7 is also controlled by this unit 9.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路の検査
過程における半導体検査装置(プローバ)に関し、特に
制御部、例えばパーソナルコンピュータなどによって個
々のプローバの動作を制御する半導体検査技術に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor inspection apparatus (prober) in the process of inspecting a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor inspection technique for controlling the operation of each prober by a control unit such as a personal computer. .

【0002】[0002]

【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を開発す
るに際し、本発明者によって検討されたものである。
2. Description of the Related Art The techniques described below have been studied by the present inventors in developing the present invention.

【0003】半導体ウェハ(以下、単にウェハという)
上に形成された半導体チップの電気的特性を検査する半
導体検査装置、いわゆるプローバには、カードタイプの
オートプローバとマニュアルプローバとがある。
Semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as wafer)
There are a card type auto-prober and a manual prober as a semiconductor inspection device, which is a so-called prober, for inspecting the electrical characteristics of a semiconductor chip formed on the top.

【0004】なお、前記オートプローバおよび前記マニ
ュアルプローバに関する半導体チップの検査技術として
は、例えば、工業調査会発行「超LSI製造・試験装置
ガイドブック(電子材料別冊)」1981年11月号別
冊、昭和56年11月10日発行、221頁〜225頁
に紹介されている。
A semiconductor chip inspection technique relating to the auto-prober and the manual prober is, for example, "VLSI manufacturing / testing equipment guidebook (electronic material extra volume)" issued by the Industrial Research Society, November 1981, supplement, Showa. Issued November 10, 1981, introduced on pages 221-225.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術において、オートプローバでは、プローブカードを用
いているため、1品種(パターンの種類)多量の検査を
行うことを特徴としている。
However, the above-mentioned technique is characterized in that the auto prober uses a probe card and inspects a large amount of one type (pattern type).

【0006】つまり、プローブカードと品種がほぼ1対
1の関係であるため、多品種の検査を行う場合に、プロ
ーブカードの種類も増やす必要があり、価格が上がる問
題が生じる。
That is, since there is a one-to-one relationship between the probe card and the product type, it is necessary to increase the type of the probe card when testing a large number of products, which causes a problem of cost increase.

【0007】また、マニュアルプローバは、多品種少量
検査を特徴としているため、多量の検査を行う場合、個
々のプローバの調整に時間がかかり、検査の効率を低下
させる問題が発生する。
Further, since the manual prober is characterized by a high-mix low-volume inspection, it takes time to adjust each prober when a large amount of inspection is performed, which causes a problem of lowering inspection efficiency.

【0008】そこで、本発明の目的は、価格の低減およ
び検査効率の向上を図り、さらに、多品種多量検査を可
能にする半導体検査方法および装置を提供することにあ
る。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor inspection method and apparatus which can reduce the cost and improve the inspection efficiency, and further enable the inspection of a large number of various products.

【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Among the inventions disclosed in the present application, a brief description will be given to the outline of typical ones.
It is as follows.

【0011】すなわち、本発明による半導体検査方法
は、ウェハ上に形成された半導体チップのチップ検査情
報と、前記半導体チップ上の電極の電極検査情報とをあ
らかじめ制御部に入力することにより、該制御部が、触
針を備えた複数のアーム部をそれぞれ個々に自動制御
し、さらに前記ウェハを載置するステージを自動制御す
るものである。
That is, in the semiconductor inspection method according to the present invention, the chip inspection information of the semiconductor chip formed on the wafer and the electrode inspection information of the electrodes on the semiconductor chip are input to the control unit in advance to perform the control. The unit automatically controls each of the plurality of arm units provided with the stylus, and further automatically controls the stage on which the wafer is placed.

【0012】また、前記チップ検査情報として、ウェハ
上のスクライブラインに沿った縦方向および横方向の前
記半導体チップの検査個数を前記制御部に入力し、前記
電極検査情報として、前記電極の位置座標と電極間ピッ
チとをそれぞれ前記制御部に入力するものである。
Further, as the chip inspection information, the inspection number of the semiconductor chips in the vertical and horizontal directions along the scribe line on the wafer is input to the control unit, and the electrode position information is used as the electrode inspection coordinates. And the inter-electrode pitch are input to the control unit.

【0013】さらに、前記アーム部を前記ステージのウ
ェハ載置面に対して水平および垂直方向に移動させ、ま
た前記ステージを前記ウェハ載置面の水平方向に移動さ
せ、検査時に、使用しない前記アーム部を、前記ウェハ
載置面上のウェハから垂直方向に離れた待機位置に配置
するものである。
Further, the arm portion is moved in the horizontal and vertical directions with respect to the wafer mounting surface of the stage, and the stage is moved in the horizontal direction of the wafer mounting surface so that the arm not used at the time of inspection. The unit is arranged at a standby position vertically separated from the wafer on the wafer mounting surface.

【0014】[0014]

【作用】上記した手段によれば、制御部が、触針を備え
た複数のアーム部におけるそれぞれ個々のアーム部と、
ウェハを載置するステージとを自動制御することによ
り、検査時のスピードを速め、検査の効率を向上させる
ことができる。
According to the above-mentioned means, the control section causes the individual arm sections of the plurality of arm sections provided with the stylus,
By automatically controlling the stage on which the wafer is placed, the speed of inspection can be increased and the efficiency of inspection can be improved.

【0015】また、前記ウェハ上のスクライブラインに
沿った縦方向および横方向の半導体チップの検査個数、
および前記半導体チップ上の電極の位置座標と電極間ピ
ッチとをそれぞれ制御部に入力し、前記アーム部または
前記ステージを自動制御することにより、それぞれの品
種のパターンに合わせて検査を行うことができる。
The number of semiconductor chips inspected in the vertical and horizontal directions along the scribe line on the wafer,
By inputting the position coordinates of the electrodes on the semiconductor chip and the pitch between the electrodes to the control unit and automatically controlling the arm unit or the stage, it is possible to perform inspection in accordance with the pattern of each product type. .

【0016】さらに、前記アーム部を前記ステージのウ
ェハ載置面に対して水平および垂直方向に移動させ、ま
た前記ステージを前記ウェハ載置面の水平方向に移動さ
せ、検査時に、使用しない前記アーム部を、前記ウェハ
載置面上のウェハから垂直方向に離れた待機位置に配置
することにより、触針が誤って検査に無関係の電極に触
れることを防止することができる。
Further, the arm portion is moved in the horizontal and vertical directions with respect to the wafer mounting surface of the stage, and the stage is moved in the horizontal direction of the wafer mounting surface so that the arm not used at the time of inspection. By arranging the part at a standby position vertically separated from the wafer on the wafer mounting surface, it is possible to prevent the stylus from accidentally touching an electrode unrelated to the inspection.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0018】図1は本発明の一実施例である半導体検査
装置の構造の一例を示す構成概念図および部分断面図、
図2は本発明の一実施例である半導体検査装置を用いて
検査するウェハ上の半導体チップおよび電極の一例を示
す部分平面図である。
FIG. 1 is a structural conceptual view and a partial sectional view showing an example of the structure of a semiconductor inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a partial plan view showing an example of semiconductor chips and electrodes on a wafer to be inspected by using the semiconductor inspection apparatus according to one embodiment of the present invention.

【0019】まず、本実施例による半導体検査装置の構
成について説明すると、ウェハ1上に形成された半導体
チップ2の電極3に接触させる触針4を備えたアーム部
5と、該アーム部5を支えるアーム部支持部材6と、前
記ウェハ1を載置するステージ7と、前記アーム部支持
部材6を固定するアーム部支持部材取付台11と、検査
条件の入力に基づいて所定の信号を出力する測定器8
と、前記アーム部5および前記ステージ7の動作を自動
制御する制御部9とから構成され、ウェハ1上に形成さ
れた半導体チップ2の電気的特性を検査するものであ
る。
First, the structure of the semiconductor inspection apparatus according to this embodiment will be described. An arm portion 5 having a stylus 4 for contacting an electrode 3 of a semiconductor chip 2 formed on a wafer 1 and the arm portion 5 are provided. An arm supporting member 6 for supporting, a stage 7 on which the wafer 1 is placed, an arm supporting member mounting base 11 for fixing the arm supporting member 6, and a predetermined signal are output based on input of inspection conditions. Measuring instrument 8
And a control section 9 for automatically controlling the operation of the arm section 5 and the stage 7, for inspecting the electrical characteristics of the semiconductor chip 2 formed on the wafer 1.

【0020】また、前記半導体検査装置では、複数のア
ーム部5がアーム部支持部材6を介してアーム部支持部
材取付台11に設置されており、その各々のアーム部5
が制御部9によって個々に自動制御される。
Further, in the semiconductor inspection apparatus, the plurality of arm portions 5 are installed on the arm portion supporting member mounting base 11 via the arm portion supporting members 6, and each of the arm portions 5 is installed.
Are automatically controlled individually by the control unit 9.

【0021】さらに、アーム部5はステージ7のウェハ
載置面10に対して、水平および垂直方向に移動するも
のであり、また、ステージ7はウェハ載置面10に対し
て、水平方向に移動し、制御部9によって自動制御され
る。
Further, the arm 5 moves horizontally and vertically with respect to the wafer mounting surface 10 of the stage 7, and the stage 7 moves horizontally with respect to the wafer mounting surface 10. Then, it is automatically controlled by the control unit 9.

【0022】なお、本実施例による制御部9は、例えば
パーソナルコンピュータなどの比較的小形のものであ
る。
The control unit 9 according to this embodiment is a relatively small unit such as a personal computer.

【0023】次に、本実施例による半導体検査方法につ
いて説明すると、まず、検査にあたり、ウェハ1上に形
成された半導体チップ2において、検査を行う半導体チ
ップ2のチップ検査情報、例えば、ウェハ1上のスクラ
イブライン12に沿った縦方向および横方向(ここで
は、一例として、ウェハ1のオリエンテーションフラッ
ト13に直角な方向を前記縦方向、平行な方向を前記横
方向とする)の半導体チップ2の検査個数を制御部9に
入力し、さらに、半導体チップ2上で検査を行う電極3
の電極検査情報、例えば、電極3の位置座標や電極間ピ
ッチを制御部9に入力する。
Next, the semiconductor inspection method according to this embodiment will be described. First, in the inspection, in the semiconductor chip 2 formed on the wafer 1, chip inspection information of the semiconductor chip 2 to be inspected, for example, on the wafer 1. Of the semiconductor chips 2 in the vertical direction and the horizontal direction along the scribe line 12 (here, as an example, the direction perpendicular to the orientation flat 13 of the wafer 1 is the vertical direction, and the parallel direction is the horizontal direction). The number of electrodes is input to the control unit 9, and the electrodes 3 to be inspected on the semiconductor chip 2
The electrode inspection information of, for example, the position coordinates of the electrodes 3 and the pitch between the electrodes are input to the control unit 9.

【0024】これによって、制御部9は、検査を行う品
種(パターンの種類)や検査する半導体チップ2の個数
などを認識することができる。
As a result, the control section 9 can recognize the product type (pattern type) to be inspected, the number of semiconductor chips 2 to be inspected, and the like.

【0025】その後、制御部9は、あらかじめ入力され
た前記チップ検査情報や前記電極検査情報によって、検
査に使用するアーム部5を選択し、そのアーム部5へ所
定の電極3に接触するような信号を発信する。
After that, the control unit 9 selects the arm unit 5 to be used for the inspection based on the chip inspection information and the electrode inspection information inputted in advance, and the arm unit 5 is brought into contact with the predetermined electrode 3. Send a signal.

【0026】これによって、前記信号を受けたアーム部
5は、ステージ7のウェハ載置面10に対して水平およ
び垂直方向の移動が可能であるため、所定の電極3に触
針4を接触させることができる。
As a result, the arm portion 5 receiving the signal can move horizontally and vertically with respect to the wafer mounting surface 10 of the stage 7, so that the stylus 4 is brought into contact with a predetermined electrode 3. be able to.

【0027】この時、検査に使用しない他のアーム部5
を、ウェハ載置面10上のウェハ1から垂直方向に離れ
た待機位置に配置しておく。
At this time, the other arm portion 5 not used for the inspection
Is placed at a standby position vertically separated from the wafer 1 on the wafer mounting surface 10.

【0028】その後、測定器8において、検査条件に合
わせた所定の電流値や電圧値を設定し、検査を行う。
Then, the measuring instrument 8 sets a predetermined current value and voltage value in accordance with the inspection conditions, and performs the inspection.

【0029】ここで、検査結果については、その検査結
果を一度測定器8内で保存し、さらに、制御部9へ前記
検査結果を取り込み、そこでデータ処理を行った後、検
査結果のデータ(例えば、生データなど)を出力する。
Here, regarding the inspection result, the inspection result is once stored in the measuring instrument 8, the inspection result is further fetched into the control unit 9, and data processing is performed there. , Raw data, etc.).

【0030】なお、検査が終了したら、制御部9からの
信号によって、使用したアーム部5を触針4が電極3か
ら離れる方向へ移動させ、他のアーム部5と同様に待機
状態にする。
When the inspection is completed, the arm 5 used is moved in the direction in which the stylus 4 moves away from the electrode 3 in response to a signal from the controller 9, and the arm 5 is placed in a standby state like the other arms 5.

【0031】また、多数の同一品種を検査する場合に
は、ステージ7がウェハ載置面10に対して、水平方向
に移動することができるため、あらかじめ入力された前
記チップ検査情報や前記電極検査情報を用いて、制御部
9からの信号によりステージ7だけを自動的に所定量移
動させることを繰り返すことによって、ウェハ1上の多
数の半導体チップ2の電気的特性を検査することができ
る。
In the case of inspecting a large number of the same products, the stage 7 can move in the horizontal direction with respect to the wafer mounting surface 10, so that the chip inspection information and the electrode inspection that have been input in advance are input. It is possible to inspect the electrical characteristics of a large number of semiconductor chips 2 on the wafer 1 by repeating automatically moving only the stage 7 by a predetermined amount in response to a signal from the control unit 9 using the information.

【0032】次に、本実施例の半導体検査方法および装
置によれば、以下のような効果が得られる。
Next, according to the semiconductor inspection method and apparatus of this embodiment, the following effects can be obtained.

【0033】すなわち、半導体検査装置の制御部9が、
触針4を備えた複数のアーム部5におけるそれぞれ個々
のアーム部5と、ウェハ1を載置するステージ7とを自
動制御することにより、検査時のスピードを速め、検査
の効率を向上させることができる。
That is, the control unit 9 of the semiconductor inspection device is
To increase the speed of inspection and improve the efficiency of inspection by automatically controlling each individual arm portion 5 in the plurality of arm portions 5 provided with the stylus 4 and the stage 7 on which the wafer 1 is placed. You can

【0034】また、ウェハ1上のスクライブライン12
に沿った縦方向および横方向の半導体チップ2の検査個
数、および半導体チップ2上の電極3の位置座標と電極
間ピッチとをそれぞれ制御部9に入力し、アーム部5ま
たはステージ7を自動制御することにより、それぞれの
品種のパターンに合わせて検査を行うことができる。
In addition, the scribe line 12 on the wafer 1
The number of inspections of the semiconductor chips 2 in the vertical and horizontal directions along with, the position coordinates of the electrodes 3 on the semiconductor chip 2 and the pitch between the electrodes are input to the control unit 9, respectively, and the arm unit 5 or the stage 7 is automatically controlled. By doing so, the inspection can be performed according to the pattern of each product type.

【0035】したがって、プローブカードの種類を増や
すことに比べて、価格を低減させることができ、その結
果、多品種多量検査を行うことができる。
Therefore, compared with increasing the number of types of probe cards, the cost can be reduced, and as a result, a large number of different types of products can be inspected.

【0036】さらに、アーム部5をステージ7のウェハ
載置面10に対して水平および垂直方向に移動させ、ま
たステージ7をウェハ載置面10の水平方向に移動さ
せ、検査時に、使用しないアーム部5を、ウェハ載置面
10上のウェハ1から垂直方向に離れた待機位置に配置
させておくことにより、触針4が誤って検査に無関係の
電極3に触れることを防止することができる。その結
果、誤検査を防ぎ、データの信頼性を向上させることが
できる。
Further, the arm portion 5 is moved horizontally and vertically with respect to the wafer mounting surface 10 of the stage 7, and the stage 7 is moved horizontally with respect to the wafer mounting surface 10 so that the arm not used at the time of inspection. By disposing the portion 5 on the wafer mounting surface 10 at the standby position vertically separated from the wafer 1, it is possible to prevent the stylus 4 from accidentally touching the electrode 3 unrelated to the inspection. . As a result, erroneous inspections can be prevented and the reliability of data can be improved.

【0037】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0038】例えば、前記実施例による半導体検査装置
の制御部は、検査結果を取り込み、該検査結果のデータ
処理後に、その生データの出力を行うだけでなく、前記
データの加工を行い、特性データ(例えば、依存性デー
タ)などを出力するものであってもよい。
For example, the control unit of the semiconductor inspection apparatus according to the above-mentioned embodiment takes in the inspection result, and after processing the inspection result data, not only outputs the raw data but also processes the data to obtain the characteristic data. (For example, dependency data) may be output.

【0039】また、前記実施例による半導体検査装置の
アーム部の触針は、交換が可能なものであってもよい。
この場合、前記触針だけを交換することにより、前記半
導体検査装置の寿命を長くすることができる。
The stylus of the arm portion of the semiconductor inspection apparatus according to the above embodiment may be replaceable.
In this case, the life of the semiconductor inspection device can be extended by replacing only the stylus.

【0040】[0040]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0041】(1).制御部が、触針を備えた複数のア
ーム部におけるそれぞれ個々のアーム部と、ウェハを載
置するステージとを自動制御することにより、検査時の
スピードを速め、検査の効率を向上させることができ
る。
(1). The control unit automatically controls the individual arm units of the plurality of arm units including the stylus and the stage on which the wafer is placed, thereby speeding up the inspection and improving the efficiency of the inspection. it can.

【0042】(2).ウェハ上のスクライブラインに沿
った縦方向および横方向の半導体チップの検査個数、お
よび前記半導体チップ上の電極の位置座標と電極間ピッ
チとをそれぞれ制御部に入力し、前記アーム部または前
記ステージを自動制御することにより、それぞれの品種
のパターンに合わせて検査を行うことができる。
(2). The inspection number of semiconductor chips in the vertical direction and the horizontal direction along the scribe line on the wafer, and the position coordinates of the electrodes on the semiconductor chip and the inter-electrode pitch are input to the control unit, respectively, and the arm unit or the stage is set. By automatically controlling, the inspection can be performed according to the pattern of each product type.

【0043】したがって、プローブカードの種類を増や
すことに比べて、価格を低減させることができ、その結
果、多品種多量検査を行うことができる。
Therefore, compared with increasing the number of types of probe cards, the price can be reduced, and as a result, a large number of different types of products can be inspected.

【0044】(3).前記アーム部を前記ステージのウ
ェハ載置面に対して水平および垂直方向に移動させ、ま
た前記ステージを前記ウェハ載置面の水平方向に移動さ
せ、検査時に、使用しない前記アーム部を、前記ウェハ
載置面上のウェハから垂直方向に離れた待機位置に配置
させておくことにより、触針が誤って検査に無関係の電
極に触れることを防止することができる。その結果、誤
検査を防ぎ、データの信頼性を向上させることができ
る。
(3). The arm portion is moved in the horizontal and vertical directions with respect to the wafer mounting surface of the stage, and the stage is moved in the horizontal direction of the wafer mounting surface so that the arm portion not used at the time of inspection is The stylus can be prevented from accidentally touching an electrode unrelated to the inspection by arranging the stylus at a standby position vertically separated from the wafer on the mounting surface. As a result, erroneous inspections can be prevented and the reliability of data can be improved.

【0045】(4).前記ステージが制御部によって自
動制御されることにより、多数の同一品種を検査する場
合、前記ステージだけを所定量繰り返して移動させるこ
とによって、多数の半導体チップの電気的特性を効率良
く検査することができる。
(4). When a large number of identical products are inspected by the stage being automatically controlled by the control unit, it is possible to efficiently inspect the electrical characteristics of a large number of semiconductor chips by repeatedly moving only the stage by a predetermined amount. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例である半導体検査装置の構造
の一例を示す構成概念図および部分断面図である。
FIG. 1 is a structural conceptual view and a partial cross-sectional view showing an example of the structure of a semiconductor inspection device that is an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例である半導体検査装置を用い
て検査するウェハ上の半導体チップおよび電極の一例を
示す部分平面図である。
FIG. 2 is a partial plan view showing an example of semiconductor chips and electrodes on a wafer to be inspected by using the semiconductor inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ウェハ 2 半導体チップ 3 電極 4 触針 5 アーム部 6 アーム部支持部材 7 ステージ 8 測定器 9 制御部 10 ウェハ載置面 11 アーム部支持部材取付台 12 スクライブライン 13 オリエンテーションフラット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wafer 2 Semiconductor chip 3 Electrode 4 Stylus 5 Arm part 6 Arm part supporting member 7 Stage 8 Measuring instrument 9 Control part 10 Wafer mounting surface 11 Arm part supporting member mounting base 12 Scribe line 13 Orientation flat

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G01R 31/28 (72)発明者 平野 信明 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 富沢 雅彦 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 市川 浩 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 吉竹 貴之 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 三浦 与佳 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location G01R 31/28 (72) Inventor Nobuaki Hirano 5-20-1 Kamimizumoto-cho, Kodaira-shi, Tokyo Date Tatsucho LSI Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Masahiko Tomizawa 5-20-1, Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Hitsuritsu LLS Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Ichikawa 5-20-1 Kamimizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo Inside Hitsuritsu ELS Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Takayuki Yoshitake 5-20-1 Kamimizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo Hitsudate Super LSI Engineering Co., Ltd. (72) Inventor, Yoka Miura 5-20-1 Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Es Ai Engineering Co., Ltd. in

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウェハ上に形成された半導体チップの電
気的特性を検査する半導体検査方法であって、前記半導
体チップのチップ検査情報と、前記半導体チップ上の電
極の電極検査情報とをあらかじめ制御部に入力すること
により、該制御部が、触針を備えた複数のアーム部をそ
れぞれ個々に自動制御し、さらに前記ウェハを載置する
ステージを自動制御することを特徴とする半導体検査方
法。
1. A semiconductor inspection method for inspecting electrical characteristics of a semiconductor chip formed on a wafer, wherein chip inspection information of the semiconductor chip and electrode inspection information of electrodes on the semiconductor chip are controlled in advance. The semiconductor inspection method is characterized in that the control section automatically controls each of the plurality of arm sections provided with the stylus by inputting to the section, and further automatically controls the stage on which the wafer is placed.
【請求項2】 請求項1記載の半導体検査方法であっ
て、前記チップ検査情報として、ウェハ上のスクライブ
ラインに沿った縦方向および横方向の前記半導体チップ
の検査個数を前記制御部に入力し、前記電極検査情報と
して、前記電極の位置座標と電極間ピッチとをそれぞれ
前記制御部に入力することを特徴とする半導体検査方
法。
2. The semiconductor inspection method according to claim 1, wherein, as the chip inspection information, an inspection number of the semiconductor chips in a vertical direction and a horizontal direction along a scribe line on a wafer is input to the control unit. The semiconductor inspection method, wherein the position coordinates of the electrodes and the pitch between the electrodes are input to the control unit as the electrode inspection information.
【請求項3】 請求項1または2記載の半導体検査方法
であって、前記アーム部を前記ステージのウェハ載置面
に対して水平および垂直方向に移動させ、また前記ステ
ージを前記ウェハ載置面の水平方向に移動させ、検査時
に、使用しない前記アーム部を、前記ウェハ載置面上の
ウェハから垂直方向に離れた待機位置に配置することを
特徴とする半導体検査方法。
3. The semiconductor inspection method according to claim 1, wherein the arm is moved horizontally and vertically with respect to a wafer mounting surface of the stage, and the stage is mounted on the wafer mounting surface. In the horizontal direction, and at the time of inspection, the unused arm portion is arranged at a standby position vertically separated from the wafer on the wafer mounting surface.
【請求項4】 ウェハ上に形成された半導体チップの電
気的特性を検査する半導体検査装置であって、前記半導
体チップの電極に接触させる触針を備えたアーム部と、
前記ウェハを載置するステージと、検査条件によって所
定の信号を出力する測定器と、前記アーム部および前記
ステージの動作を自動制御する制御部とから構成され、
前記アーム部が複数設けられ、その各々のアーム部が前
記制御部によって個々に自動制御されることを特徴とす
る半導体検査装置。
4. A semiconductor inspection device for inspecting the electrical characteristics of a semiconductor chip formed on a wafer, comprising an arm portion having a stylus for contacting an electrode of the semiconductor chip.
A stage on which the wafer is placed, a measuring device that outputs a predetermined signal according to inspection conditions, and a control unit that automatically controls the operation of the arm unit and the stage,
A semiconductor inspection apparatus, wherein a plurality of the arm portions are provided, and each of the arm portions is automatically controlled individually by the control portion.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100395879C (en) * 2005-12-05 2008-06-18 深圳市矽电半导体设备有限公司 Multiplex test method for semiconductor wafer and multiplex test probe station therefor

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