JPH07316020A - 毛髪処理化粧料 - Google Patents
毛髪処理化粧料Info
- Publication number
- JPH07316020A JPH07316020A JP14843794A JP14843794A JPH07316020A JP H07316020 A JPH07316020 A JP H07316020A JP 14843794 A JP14843794 A JP 14843794A JP 14843794 A JP14843794 A JP 14843794A JP H07316020 A JPH07316020 A JP H07316020A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- ion
- represented
- group
- hair
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】パーマネントウェーブ、ヘアダイ及びヘアーブ
リーチ等の化学処理や洗髪、ドライヤー、ブラシ等によ
り痛んだ髪の摩擦によるキューティクルの脱落や毛髪の
損傷を防止するため、持続性の有する毛髪処理化粧料を
提供する。 【構成】シリコーンオイルが化学的に結合しているカチ
オン化ポリマーを配合することにより、スムースな髪の
櫛通り性が持続する毛髪処理剤。
リーチ等の化学処理や洗髪、ドライヤー、ブラシ等によ
り痛んだ髪の摩擦によるキューティクルの脱落や毛髪の
損傷を防止するため、持続性の有する毛髪処理化粧料を
提供する。 【構成】シリコーンオイルが化学的に結合しているカチ
オン化ポリマーを配合することにより、スムースな髪の
櫛通り性が持続する毛髪処理剤。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は毛髪の櫛通りがスムース
になる毛髪処理化粧料に関するものである。
になる毛髪処理化粧料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、毛髪に対する意識が強調され、毛
髪にパーマネントウェーブ、ヘアダイ及びヘアーブリー
チ等の化学処理や洗髪、ドライヤー、ブラシ等を用いて
手入れする回数が増加し、髪が痛みやすくなっている。
このため、摩擦によるキューティクルの脱落や毛髪の損
傷を防止するため、シリコーンオイルを配合したシャン
プーやリンス等が使用されている。
髪にパーマネントウェーブ、ヘアダイ及びヘアーブリー
チ等の化学処理や洗髪、ドライヤー、ブラシ等を用いて
手入れする回数が増加し、髪が痛みやすくなっている。
このため、摩擦によるキューティクルの脱落や毛髪の損
傷を防止するため、シリコーンオイルを配合したシャン
プーやリンス等が使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シリコ
ーンオイルを単に配合しただけであるので、毛髪にシリ
コーンオイルが吸着して一時的に櫛通りが良くなるが、
すぐに落ちてしまう問題がある。本発明はこのような従
来の問題を解決するため、持続性を有する毛髪処理化粧
料を提供することを目的としている。
ーンオイルを単に配合しただけであるので、毛髪にシリ
コーンオイルが吸着して一時的に櫛通りが良くなるが、
すぐに落ちてしまう問題がある。本発明はこのような従
来の問題を解決するため、持続性を有する毛髪処理化粧
料を提供することを目的としている。
【０００４】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は、上記目
的を達成するため鋭意研究した結果、ポリオルガノシロ
キサンが結合したカチオン化高分子を毛髪処理化粧料に
配合することにより、優れた櫛通り効果が持続すること
を見出し本発明を完成した。
的を達成するため鋭意研究した結果、ポリオルガノシロ
キサンが結合したカチオン化高分子を毛髪処理化粧料に
配合することにより、優れた櫛通り効果が持続すること
を見出し本発明を完成した。
【０００５】本発明によるポリオルガノシロキサンが結
合したカチオン化高分子は、式（１）で示される化合物
である。
合したカチオン化高分子は、式（１）で示される化合物
である。
【０００６】ここでＡは水素、水酸基、カルボキシル基
又はメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル等の
アルキル基で、Ｂはメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、オクチル等のアルキル基、フェニル、トリル等のア
リール基、ＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１〜２０）のパーフロ
ロアルキル基で示され、Ｂは同一でも相異なっても良
い。又ｇは１から１０６の間の整数である。
又はメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル等の
アルキル基で、Ｂはメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、オクチル等のアルキル基、フェニル、トリル等のア
リール基、ＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１〜２０）のパーフロ
ロアルキル基で示され、Ｂは同一でも相異なっても良
い。又ｇは１から１０６の間の整数である。
【０００７】式（１）中のＹは式（３）で示される。 ここでＤはＨ、水酸基、又はメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、オクチル等のアルキル基、フェニル、トリ
ル等のアリール基、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の
アルコキシ基又はＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１〜２０）のパ
ーフロロアルキル基、ＣｎＦ２ｎ＋１ＣｍＨ２ｍ（ｎ＝
１〜２０、ｍ＝１〜２０）の基で示され、Ｄは同一でも
相異なっても良い。
ル、ブチル、オクチル等のアルキル基、フェニル、トリ
ル等のアリール基、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の
アルコキシ基又はＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１〜２０）のパ
ーフロロアルキル基、ＣｎＦ２ｎ＋１ＣｍＨ２ｍ（ｎ＝
１〜２０、ｍ＝１〜２０）の基で示され、Ｄは同一でも
相異なっても良い。
【０００８】式（１）中のＺは第４級アミン基を含むカ
チオン化高分子で、カチオン化セルロースの場合、特に
制限されないが、下記（５）「化２」で示される化合物
が好ましい。
チオン化高分子で、カチオン化セルロースの場合、特に
制限されないが、下記（５）「化２」で示される化合物
が好ましい。
【化２】
【０００９】但し、上記（５）式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は
同一でも相異なっても良いが、水素原子又は式（６）
「化３」
同一でも相異なっても良いが、水素原子又は式（６）
「化３」
【化３】
【００１０】｛（５）式中Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそ
れぞれ同一又は相異なるもので、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６はＨ
又はＣＨ３、Ｒ７はＣＨ３又はＣ２Ｈ５又はＣ３Ｈ７で
ある。又、ｐ，ｑ，ｒ及びｓはそれぞれ同一又は相異な
り、ｐ，ｑ及びｓは０〜１０の整数、ｒは０〜３の整数
であり、グリコース単位当たりのｐ＋ｑ＋ｓの平均値が
１〜３、ｒの平均値が０．１〜０．８となるような数で
ある。Ｕは塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、酢
酸イオン、ホウ酸イオン、クエン酸イオン、酒石酸イオ
ン、重硫酸イオン、重亜硫酸イオン、リン酸イオンの如
き陰イオンである。｝で示される置換基である。更にｔ
＝１００〜２０，０００の数である。
れぞれ同一又は相異なるもので、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６はＨ
又はＣＨ３、Ｒ７はＣＨ３又はＣ２Ｈ５又はＣ３Ｈ７で
ある。又、ｐ，ｑ，ｒ及びｓはそれぞれ同一又は相異な
り、ｐ，ｑ及びｓは０〜１０の整数、ｒは０〜３の整数
であり、グリコース単位当たりのｐ＋ｑ＋ｓの平均値が
１〜３、ｒの平均値が０．１〜０．８となるような数で
ある。Ｕは塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、酢
酸イオン、ホウ酸イオン、クエン酸イオン、酒石酸イオ
ン、重硫酸イオン、重亜硫酸イオン、リン酸イオンの如
き陰イオンである。｝で示される置換基である。更にｔ
＝１００〜２０，０００の数である。
【００１１】尚、上記（６）式で示されるカチオン化セ
ルロースの中では、特にＵＣＣ社のｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ
Ｒが好適に使用される。
ルロースの中では、特にＵＣＣ社のｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ
Ｒが好適に使用される。
【００１２】式（１）中のＺは第４級アミン基を含むカ
チオン化高分子としては式（４）「化１」で示されるカ
チオン化高分子であっても良い。ここでＵは塩素イオ
ン、臭素イオン、ヨウ素イオン、酢酸イオン、ホウ酸イ
オン、クエン酸イオン、酒石酸イオン、重硫酸イオン、
重亜硫酸イオン、リン酸イオンの如き陰イオンである。
また、ｈ，ｈ´は１から１０６の間の整数、ｈ”は０か
ら１０６の間の整数である。
チオン化高分子としては式（４）「化１」で示されるカ
チオン化高分子であっても良い。ここでＵは塩素イオ
ン、臭素イオン、ヨウ素イオン、酢酸イオン、ホウ酸イ
オン、クエン酸イオン、酒石酸イオン、重硫酸イオン、
重亜硫酸イオン、リン酸イオンの如き陰イオンである。
また、ｈ，ｈ´は１から１０６の間の整数、ｈ”は０か
ら１０６の間の整数である。
【００１３】尚、式（６）で示されるカチオン化高分子
中では、ＣＡＬＧＯＮ社のＭｅｒｑｕａｔが好適に使用
される。
中では、ＣＡＬＧＯＮ社のＭｅｒｑｕａｔが好適に使用
される。
【００１４】次にカチオン化高分子にポリオルガノシロ
キサン基を結合させる反応例について説明すると、反応
は次式のように進行するものと推定される。
キサン基を結合させる反応例について説明すると、反応
は次式のように進行するものと推定される。
【００１５】式（７）、式（８）で示されるシリコン化
合物とカチオン化高分子（９）との反応でポリオルガノ
シロキサンが結合しているカチオン化高分子式（１０）
が生成する。
合物とカチオン化高分子（９）との反応でポリオルガノ
シロキサンが結合しているカチオン化高分子式（１０）
が生成する。
【００１６】式（７）のＶはＨ、Ｂｒ，Ｃｌ，Ｉ，ＮＣ
Ｏ，メトキシ、エトキシ、プトキシ等のアルコキシ基、
ＮＨ２，ＮＭｅ２，ＮＥｔ２，ＮＨＣＯＮＨ２等の活性
水素と反応する官能基でＷはＨ、Ｂｒ，Ｃｌ，Ｉ，ＮＣ
Ｏ，ＮＨ２，ＮＭｅ２，ＮＥｔ２，ＮＨＣＯＮＨ２等の
活性水素と反応する官能基又は炭素数が１〜１０のアル
キル基やフェニルやトリル等のアリール基、ＣｎＦ
２ｎ＋１ＣｍＨ２ｍ（ｎ＝１〜２０，ｍ＝１〜１０）で
あり、ｊは０〜４の整数である。
Ｏ，メトキシ、エトキシ、プトキシ等のアルコキシ基、
ＮＨ２，ＮＭｅ２，ＮＥｔ２，ＮＨＣＯＮＨ２等の活性
水素と反応する官能基でＷはＨ、Ｂｒ，Ｃｌ，Ｉ，ＮＣ
Ｏ，ＮＨ２，ＮＭｅ２，ＮＥｔ２，ＮＨＣＯＮＨ２等の
活性水素と反応する官能基又は炭素数が１〜１０のアル
キル基やフェニルやトリル等のアリール基、ＣｎＦ
２ｎ＋１ＣｍＨ２ｍ（ｎ＝１〜２０，ｍ＝１〜１０）で
あり、ｊは０〜４の整数である。
【００１７】具体例としてはＳｉ（ＮＣＯ）４、ＨＳｉ
（ＮＣＯ）３、ＭｅＳｉ（ＮＣＯ）３、ＥｔＳｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＢｕＳｉ（ＮＣＯ）３、ＭｅＯＳｉ（ＮＣＯ）
３、ＥｔＯＳｉ（ＮＣＯ）３、Ｃ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、Ｃ１０Ｆ２１Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＳｉＣｌ４、ＨＳｉＣｌ３、ＭｅＳｉＣｌ３、
ＥｔＳｉＣｌ３、Ｃ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４ＳｉＣｌ３、Ｃ
１０Ｆ２１Ｃ２Ｈ４ＳｉＣｌ３、Ｓｉ（ＮＨ２）４、Ｓ
ｉ（ＮＭｅ２）４、ＭｅＳｉ（ＮＨＣＯＮＨ２）３等が
好ましく使用される。
（ＮＣＯ）３、ＭｅＳｉ（ＮＣＯ）３、ＥｔＳｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＢｕＳｉ（ＮＣＯ）３、ＭｅＯＳｉ（ＮＣＯ）
３、ＥｔＯＳｉ（ＮＣＯ）３、Ｃ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、Ｃ１０Ｆ２１Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＳｉＣｌ４、ＨＳｉＣｌ３、ＭｅＳｉＣｌ３、
ＥｔＳｉＣｌ３、Ｃ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４ＳｉＣｌ３、Ｃ
１０Ｆ２１Ｃ２Ｈ４ＳｉＣｌ３、Ｓｉ（ＮＨ２）４、Ｓ
ｉ（ＮＭｅ２）４、ＭｅＳｉ（ＮＨＣＯＮＨ２）３等が
好ましく使用される。
【００１８】一方式（８）の化合物の例としては、シラ
ノール末端ポリオルガノシロキサン化合物で、即ち分子
中に１個又はそれ以上のヒドロキシル基を有するシリコ
ン化合物である。
ノール末端ポリオルガノシロキサン化合物で、即ち分子
中に１個又はそれ以上のヒドロキシル基を有するシリコ
ン化合物である。
【００１９】具体的な例としてはα，ω−ジヒドロキシ
ジメチルポリシロキサン、α，ω−ジヒドロキシメチル
フェニルポリシロキサン等が例示される。この化合物と
しては１０〜１，０００，０００センチストークスの範
囲の粘度、望ましくは２０〜２０，０００センチストー
クスの範囲の粘度の化合物が好適に使用される。
ジメチルポリシロキサン、α，ω−ジヒドロキシメチル
フェニルポリシロキサン等が例示される。この化合物と
しては１０〜１，０００，０００センチストークスの範
囲の粘度、望ましくは２０〜２０，０００センチストー
クスの範囲の粘度の化合物が好適に使用される。
【００２０】式（９）のカチオン化高分子は前述の式
（４）或いは式（５）で示されるカチオン化高分子或い
はカチオン化セルロースである。
（４）或いは式（５）で示されるカチオン化高分子或い
はカチオン化セルロースである。
【００２１】反応はカチオン化高分子と式（７）のケイ
素化合物を初めに反応させても良く、又、シラノール末
端ポリオルガノシロキサン化合物に式（７）のケイ素化
合物を反応させても良く、更にカチオン化高分子及びシ
ラノール末端ポリオルガノシロキサン化合物の混合系に
式（７）のケイ素化合物を反応させても反応は進行す
る。
素化合物を初めに反応させても良く、又、シラノール末
端ポリオルガノシロキサン化合物に式（７）のケイ素化
合物を反応させても良く、更にカチオン化高分子及びシ
ラノール末端ポリオルガノシロキサン化合物の混合系に
式（７）のケイ素化合物を反応させても反応は進行す
る。
【００２２】例えば、反応はカチオン化高分子又はシラ
ノール末端ポリオルガノシロキサン化合物をトルエン、
キシレン、ヘキサン等の炭化水素、酢酸エチル及び酢酸
ブチル等の酢酸エステル、ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類等の有機溶剤又は水に０．０１〜５０％好ま
しくは０．１〜３０％の濃度に溶解又は分散させ、式
（７）のケイ素化合物をカチオン化高分子及びシラノー
ル末端ポリオルガノシロキサン化合物のＯＨ基に対し、
０．１〜５０倍好ましくは０．５〜３０倍のモル比にて
加えて反応させる。この時の反応温度は−５０〜１００
℃好ましくは０〜８０℃で、反応時間は１０分〜１０時
間好ましくは２０分〜５時間で行う。これらの反応時に
場合に因っては、アンモニアやアミン等のアルカリ触媒
を使用して、反応を促進させても良い。
ノール末端ポリオルガノシロキサン化合物をトルエン、
キシレン、ヘキサン等の炭化水素、酢酸エチル及び酢酸
ブチル等の酢酸エステル、ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類等の有機溶剤又は水に０．０１〜５０％好ま
しくは０．１〜３０％の濃度に溶解又は分散させ、式
（７）のケイ素化合物をカチオン化高分子及びシラノー
ル末端ポリオルガノシロキサン化合物のＯＨ基に対し、
０．１〜５０倍好ましくは０．５〜３０倍のモル比にて
加えて反応させる。この時の反応温度は−５０〜１００
℃好ましくは０〜８０℃で、反応時間は１０分〜１０時
間好ましくは２０分〜５時間で行う。これらの反応時に
場合に因っては、アンモニアやアミン等のアルカリ触媒
を使用して、反応を促進させても良い。
【００２３】
【実施例】以下本発明を実施例及び比較例により更に具
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【００２４】［処理剤の調製］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコに酢酸エチ
ル１００ｇ及びα，ω−ジヒドロキシジメチルポリシロ
キサン（信越化学工業（株）製ＫＦ６００１）１００ｇ
を加え良く攪拌し、テトライソシアネートシラン２０ｇ
を添加し、３０℃で１時間反応させて処理剤を得た。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコに酢酸エチ
ル１００ｇ及びα，ω−ジヒドロキシジメチルポリシロ
キサン（信越化学工業（株）製ＫＦ６００１）１００ｇ
を加え良く攪拌し、テトライソシアネートシラン２０ｇ
を添加し、３０℃で１時間反応させて処理剤を得た。
【００２５】［処理剤の調製］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにトルエン
１００ｇ及びα，ω−ジヒドロキシジメチルポリジロキ
サン（東芝シリコーン（株）製ＸＣ９６−７１４）１０
０ｇを加え良く攪拌し、ＣＨ３Ｓｉ（ＮＣＯ）３２０ｇ
を添加し、５０℃で１時間反応させて処理剤を得た。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにトルエン
１００ｇ及びα，ω−ジヒドロキシジメチルポリジロキ
サン（東芝シリコーン（株）製ＸＣ９６−７１４）１０
０ｇを加え良く攪拌し、ＣＨ３Ｓｉ（ＮＣＯ）３２０ｇ
を添加し、５０℃で１時間反応させて処理剤を得た。
【００２６】［処理剤の調製］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにヘキサン
１００ｇ及びα，ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキ
サン（バイエル合成シリコーン（株）製ＳＩＬＯＰＲＥ
Ｎ Ｃ１０）１００ｇを加え良く攪拌し、ＣＨ３ＳｉＣ
ｌ３２０ｇを滴下し、１０℃で１時間反応させて処理剤
を得た。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにヘキサン
１００ｇ及びα，ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキ
サン（バイエル合成シリコーン（株）製ＳＩＬＯＰＲＥ
Ｎ Ｃ１０）１００ｇを加え良く攪拌し、ＣＨ３ＳｉＣ
ｌ３２０ｇを滴下し、１０℃で１時間反応させて処理剤
を得た。
【００２７】［処理剤の調製］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにヘキサン
１００ｇ及びα，ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキ
サン（東芝シリコーン（株）製ＹＦ３８０７）１００ｇ
を加え良く攪拌し、ＣＨ３Ｓｉ（ＮＭｅ２）３２０ｇを
滴下し、３０℃で１時間反応させて処理剤を得た。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにヘキサン
１００ｇ及びα，ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキ
サン（東芝シリコーン（株）製ＹＦ３８０７）１００ｇ
を加え良く攪拌し、ＣＨ３Ｓｉ（ＮＭｅ２）３２０ｇを
滴下し、３０℃で１時間反応させて処理剤を得た。
【００２８】［処理剤の調製］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにジエチレ
ングリコールジメチルエーテル１００ｇ及びα，ω−ジ
ヒドロキシジメチルポリシロキサン（バイエル合成シリ
コーン（株）製ＳＩＬＯＰＲＥＮ Ｃ２）１００ｇを加
え良く攪拌し、Ｃ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＮＣＯ）３２
０ｇを滴下し、８０℃で１時間反応させて処理剤を得
た。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにジエチレ
ングリコールジメチルエーテル１００ｇ及びα，ω−ジ
ヒドロキシジメチルポリシロキサン（バイエル合成シリ
コーン（株）製ＳＩＬＯＰＲＥＮ Ｃ２）１００ｇを加
え良く攪拌し、Ｃ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＮＣＯ）３２
０ｇを滴下し、８０℃で１時間反応させて処理剤を得
た。
【００２９】［化合物の合成］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコに酢酸エチ
ル１００ｇ、ポリマーＪＲ−４００（ユニオンカーバイ
ド社製）３０ｇ及び処理剤１．５ｇを加え、攪拌しな
がら７５℃で１時間反応させ、冷却後濾過し固体として
化合物を得た。反応の確認として化合物をソックス
レーの抽出器により、酢酸エチル溶剤にて未反応のα，
ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキサンの抽出を試み
たが、酢酸エチル層を濃縮してもα，ω−ジヒドロキシ
ジメチルポリシロキサンは検出されなかった。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコに酢酸エチ
ル１００ｇ、ポリマーＪＲ−４００（ユニオンカーバイ
ド社製）３０ｇ及び処理剤１．５ｇを加え、攪拌しな
がら７５℃で１時間反応させ、冷却後濾過し固体として
化合物を得た。反応の確認として化合物をソックス
レーの抽出器により、酢酸エチル溶剤にて未反応のα，
ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキサンの抽出を試み
たが、酢酸エチル層を濃縮してもα，ω−ジヒドロキシ
ジメチルポリシロキサンは検出されなかった。
【００３０】［化合物の合成］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにトルエン
１００ｇ、ポリマーＪＲ−４００（ユニオンカーバイド
社製）３０ｇ、処理剤１．５ｇ及び触媒としてトリエ
チルアミンを０．００１ｇを加え、攪拌しながら１００
℃で１時間反応させ、冷却後濾過し固体として化合物
を得た。反応の確認を同様にして行ったが未反応のα，
ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキサンは検出されな
かった。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにトルエン
１００ｇ、ポリマーＪＲ−４００（ユニオンカーバイド
社製）３０ｇ、処理剤１．５ｇ及び触媒としてトリエ
チルアミンを０．００１ｇを加え、攪拌しながら１００
℃で１時間反応させ、冷却後濾過し固体として化合物
を得た。反応の確認を同様にして行ったが未反応のα，
ω−ジヒドロキシジメチルポリシロキサンは検出されな
かった。
【００３１】［化合物の合成］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにジエチレ
ングリコールジメチルエーテル１００ｇ、ポリマーＪＲ
−４００（ユニオンカーバイド社製）３０ｇ、処理剤
１．５ｇ及び触媒としてジエチルアミンを０．００１ｇ
を加え、攪拌しながら１００℃で１時間反応させ、冷却
後濾過し固体として化合物を得た。反応の確認を同様
にして行ったが未反応のα，ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサンは検出されなかった。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにジエチレ
ングリコールジメチルエーテル１００ｇ、ポリマーＪＲ
−４００（ユニオンカーバイド社製）３０ｇ、処理剤
１．５ｇ及び触媒としてジエチルアミンを０．００１ｇ
を加え、攪拌しながら１００℃で１時間反応させ、冷却
後濾過し固体として化合物を得た。反応の確認を同様
にして行ったが未反応のα，ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサンは検出されなかった。
【００３２】［化合物の合成］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにジエチレ
ングリコールジメチルエーテル１００ｇ、ポリマーＪＲ
−４００（ユニオンカーバイド社製）３０ｇ、処理剤
１．５ｇ及び触媒としてジエチルアミンを０．００１ｇ
を加え、攪拌しながら１００℃で１時間反応させ、冷却
後濾過し固体として化合物を得た。反応の確認を同様
にして行ったが未反応のα，ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサンは検出されなかった。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにジエチレ
ングリコールジメチルエーテル１００ｇ、ポリマーＪＲ
−４００（ユニオンカーバイド社製）３０ｇ、処理剤
１．５ｇ及び触媒としてジエチルアミンを０．００１ｇ
を加え、攪拌しながら１００℃で１時間反応させ、冷却
後濾過し固体として化合物を得た。反応の確認を同様
にして行ったが未反応のα，ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサンは検出されなかった。
【００３３】［化合物の合成］還流管、温度計及び攪
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにジエチレ
ングリコールジメチルエーテル１００ｇ、ポリマーＪＲ
−４００（ユニオンカーバイド社製）３０ｇ、処理剤
１．５ｇ及び触媒としてジエチルアミンを０．００１ｇ
を加え、攪拌しながら１００℃で１時間反応させ、冷却
後濾過し固体として化合物６を得た。反応の確認を同様
にして行ったが未反応のα，ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサンは検出されなかった。
拌が備えられた３００ｍｌの四ツ口フラスコにジエチレ
ングリコールジメチルエーテル１００ｇ、ポリマーＪＲ
−４００（ユニオンカーバイド社製）３０ｇ、処理剤
１．５ｇ及び触媒としてジエチルアミンを０．００１ｇ
を加え、攪拌しながら１００℃で１時間反応させ、冷却
後濾過し固体として化合物６を得た。反応の確認を同様
にして行ったが未反応のα，ω−ジヒドロキシジメチル
ポリシロキサンは検出されなかった。
【００３４】表１に示す組成のシャンプー組成物を調製
し、毛髪束で使用した。その後、水洗いを１０回繰り返
した毛髪束の櫛通りを 非常に良い：○ 変化なし：△ 悪い：× の３段階評価を行った結果を同じく第１表に示す。
し、毛髪束で使用した。その後、水洗いを１０回繰り返
した毛髪束の櫛通りを 非常に良い：○ 変化なし：△ 悪い：× の３段階評価を行った結果を同じく第１表に示す。
【００３５】
【表１】
【００３６】
【発明の効果】本発明のポリオルガノシロキサンが結合
しているカチオン化高分子を配合してなる毛髪処理化粧
料は優れた櫛通りを与え、その効果を持続する事ができ
るものである。
しているカチオン化高分子を配合してなる毛髪処理化粧
料は優れた櫛通りを与え、その効果を持続する事ができ
るものである。
Claims (6)
- 【請求項１】ポリオルガノシロキサンが結合しているカ
チオン化高分子を配合してなる毛髪処理化粧料 - 【請求項２】請求項１のポリオルガノシロキサンが結合
しているカチオン化高分子が式（１）で示される化合
物。 Ｘ−Ｙ−Ｚ （１） - 【請求項３】請求項２の式（１）で示されるＸが式
（２）で示される化合物。 ここでＡはＨ、水酸基、カルボキシル基又はメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、オクチル等のアルキル基で、
Ｂはメチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル等の
アルキル基、フェニル、トリル等のアリール基、ＣｎＦ
２ｎ＋１（ｎ＝１〜２０）のパーフロロアルキル基で示
され、Ｂは同一でも相異なっても良い。また、ｇは１か
ら１０６の間の整数である。 - 【請求項４】請求項２の式１で示されるＹが式（３）で
示される化合物。 ここでＤはＨ、水酸基、イソシアネート基又はメチル、
エチル、プロピル、ブチル、オクチル等のアルキル基、
フェニル、トリル等のアリール基、メトキシ、エトキ
シ、ブトキシ等のアルコキシ基又はＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ
＝１〜２０）のパーフロロアルキル基、ＣｎＦ２ｎ＋１
ＣｍＨ２ｍ（ｎ＝１〜２０、ｍ＝１〜２０）の基で示さ
れ、Ｄは同一でも相異なっても良い。 - 【請求項５】請求項２の式（１）で示されるＺがカチオ
ン化セルロースである化合物。 - 【請求項６】請求項２の式（１）で示されるＺが式
（４）「化１」で示されるカチオン化高分子。ここでＵ
は塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、酢酸イオ
ン、ホウ酸イオン、クエン酸イオン、酒石酸イオン、重
硫酸イオン、重亜硫酸イオン、リン酸イオンの如き陰イ
オンである。また、ｈ，ｈ´は１から１０６の間の整
数、ｈ”は０から１０６の間の整数である。 【化１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14843794A JPH07316020A (ja) | 1994-05-26 | 1994-05-26 | 毛髪処理化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14843794A JPH07316020A (ja) | 1994-05-26 | 1994-05-26 | 毛髪処理化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07316020A true JPH07316020A (ja) | 1995-12-05 |
Family
ID=15452779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14843794A Pending JPH07316020A (ja) | 1994-05-26 | 1994-05-26 | 毛髪処理化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07316020A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5760136A (en) * | 1995-12-14 | 1998-06-02 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Silicon-containing block copolymer |
| US8889653B2 (en) | 2002-06-25 | 2014-11-18 | Rhodia, Inc. | Grafting polymerization of guar and other polysaccharides by electron beams |
-
1994
- 1994-05-26 JP JP14843794A patent/JPH07316020A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5760136A (en) * | 1995-12-14 | 1998-06-02 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Silicon-containing block copolymer |
| US8889653B2 (en) | 2002-06-25 | 2014-11-18 | Rhodia, Inc. | Grafting polymerization of guar and other polysaccharides by electron beams |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4833225A (en) | Polyquaternary polysiloxane polymers, their synthesis and use in cosmetic preparations | |
| JP5139611B2 (ja) | パーソナルケア製品用シリコーン組成物及びその製法 | |
| US5057476A (en) | Platinum catalyst composition, method for its preparation and curable organopolysiloxane compositions containing same | |
| BR0213623B1 (pt) | composição com funcionalidade amÈnio quaternário à base de silìcio e método para a sua produção. | |
| JPS60240732A (ja) | ベタイン基を有するシロキサンおよびその製造法 | |
| JPH04126723A (ja) | アルコキシ変性シリコーンの製造方法 | |
| CN104053703B (zh) | 嵌段aba有机硅聚环氧烷烃共聚物、制备方法和使用其的应用 | |
| EP0196169B1 (en) | Carboxylhydrocarbyl-substituted silicon compounds | |
| JPH07316020A (ja) | 毛髪処理化粧料 | |
| JPH03130294A (ja) | １つのｎ―ヒドロキシアルキル基を導入したベタイン基含有シロキサン化合物 | |
| JP5139619B2 (ja) | パーソナルケア製品用シリコーン組成物および製造方法 | |
| JPS60255649A (ja) | 石英系光通信フアイバ用被覆材組成物 | |
| JPS63189437A (ja) | ジオルガノポリシロキサン・アゾベンゼン交互共重合体およびその製造方法 | |
| JPH1142436A (ja) | 白金錯体触媒組成物、その製造方法および熱可塑性樹脂微粒子触媒組成物 | |
| JP3133389B2 (ja) | 重合反応性直鎖シリコーンオリゴマー及びその製造方法 | |
| JP2864866B2 (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| JP5081350B2 (ja) | パーソナルケア製品用シリコーン組成物及びその製法 | |
| JP2004504433A (ja) | パーソナルケア製品用シリコーン組成物及びその製造方法 | |
| JP2851131B2 (ja) | モノハロゲノシランの製造方法 | |
| JP2841268B2 (ja) | アミドベタイン変性オルガノ（ポリ）シロキサン及びその製造方法 | |
| JPS60206834A (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
| JP3010870B2 (ja) | シアノグアニジル基を有する抗菌性化合物およびその製造方法 | |
| JPH0436292A (ja) | アルコキシシラン | |
| US5098980A (en) | Platinum catalyst composition, method for its preparation and curable organopolysiloxane compositions containing same | |
| JP3157527B2 (ja) | オルガノシロキサン基を有するリン酸エステルおよびその製造方法 |