JPH0731217B2 - 表面抵抗測定方法 - Google Patents
表面抵抗測定方法Info
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- JPH0731217B2 JPH0731217B2 JP61037468A JP3746886A JPH0731217B2 JP H0731217 B2 JPH0731217 B2 JP H0731217B2 JP 61037468 A JP61037468 A JP 61037468A JP 3746886 A JP3746886 A JP 3746886A JP H0731217 B2 JPH0731217 B2 JP H0731217B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、透明性のある基板またはフィルム等の固体
の表面抵抗値または表面抵抗値の分布を測定する表面抵
抗測定方法に関するものである。
の表面抵抗値または表面抵抗値の分布を測定する表面抵
抗測定方法に関するものである。
〔従来の技術〕 従来、固体の表面抵抗値を測定する方法として、次のよ
うな方法が用いられていた。すなわち、固体表面上に直
径数cmの円形電極とその外側に同心円の環状電極を形成
し、両電極間に一定の電圧を印加し、電極間を流れる電
流を測定することによって表面抵抗値を算出していた。
あるいは上記電極を形成する代りに便宜上、固体試料表
面上に同心円状の筒を静置し、その中に水銀を注ぐこと
によって上記と同様の電極とした簡易測定法も行われて
いた。
うな方法が用いられていた。すなわち、固体表面上に直
径数cmの円形電極とその外側に同心円の環状電極を形成
し、両電極間に一定の電圧を印加し、電極間を流れる電
流を測定することによって表面抵抗値を算出していた。
あるいは上記電極を形成する代りに便宜上、固体試料表
面上に同心円状の筒を静置し、その中に水銀を注ぐこと
によって上記と同様の電極とした簡易測定法も行われて
いた。
しかし、これらの方法は、いずれも固体試料が均一な表
面抵抗値を有している場合に限られ、さらに、試料とし
て電極形成が可能な大きな面積の表面を持つものに限ら
れていた。それゆえ、これらの方法においては、表面抵
抗値が一様でない試料については測定値は電極間に挾ま
れた部分の平均値でしかなく、特定の部分の表面抵抗値
を知ることはできなかった。さらにまた、微小な部分の
表面抵抗値および広い面積の試料中の表面抵抗値の分布
を知ることも不可能であった。
面抵抗値を有している場合に限られ、さらに、試料とし
て電極形成が可能な大きな面積の表面を持つものに限ら
れていた。それゆえ、これらの方法においては、表面抵
抗値が一様でない試料については測定値は電極間に挾ま
れた部分の平均値でしかなく、特定の部分の表面抵抗値
を知ることはできなかった。さらにまた、微小な部分の
表面抵抗値および広い面積の試料中の表面抵抗値の分布
を知ることも不可能であった。
この発明の目的は、従来の方法では測定不可能であった
不均一な表面抵抗値を持つ透明性のある固体表面の、あ
る特定の部分の表面抵抗値および全体の表面抵抗値の分
布、さらには、試料の表面抵抗値が均一、不均一である
にかかわらず、微小な固体の表面抵抗値の測定方法を提
供することにある。
不均一な表面抵抗値を持つ透明性のある固体表面の、あ
る特定の部分の表面抵抗値および全体の表面抵抗値の分
布、さらには、試料の表面抵抗値が均一、不均一である
にかかわらず、微小な固体の表面抵抗値の測定方法を提
供することにある。
この発明にかかる表面抵抗測定方法は、表面抵抗値を測
定しようとする透明の固体表面の両端に半透明または不
透明電極を形成し、当該固体表面同士もしくは当該固体
表面と透明電導膜を有する固体表面との間に液晶を挟ん
で液晶セルを形成するとともに、前記半透明または不透
明電極間に電圧を印加し、該印加電圧を変化させた場合
の前記液晶セルの透過領域と遮光領域の割合を測定して
抵抗値と抵抗分布を測定するものである。
定しようとする透明の固体表面の両端に半透明または不
透明電極を形成し、当該固体表面同士もしくは当該固体
表面と透明電導膜を有する固体表面との間に液晶を挟ん
で液晶セルを形成するとともに、前記半透明または不透
明電極間に電圧を印加し、該印加電圧を変化させた場合
の前記液晶セルの透過領域と遮光領域の割合を測定して
抵抗値と抵抗分布を測定するものである。
この発明は、液晶セルを形成する半透明または不透明電
極間に可変電圧印加手段により所定の電圧を印加し、そ
のときに生じる電気光学効果を測定して表面抵抗値を得
る。
極間に可変電圧印加手段により所定の電圧を印加し、そ
のときに生じる電気光学効果を測定して表面抵抗値を得
る。
第１図はこの発明に使用する試料基板を用いた液晶セル
の分解状態を示す斜視図である。この図で、１は基本セ
ル、２は表面抵抗値を測定しようとする透明固体板（以
下これを試料板と呼ぶ）、３は表面抵抗値を測定しよう
とする他の透明固体板または表面抵抗値の測定を必要と
しない透明導電膜を有する固定板（以下これを透明導電
板と呼ぶ）、４はスペーサ、５と６は前記試料板２の表
面抵抗測定面上に形成した不透明電極、７と８は前記透
明導電板３の表面抵抗測定面上に形成した不透明電極、
９は前記試料板２の表面抵抗値を測定しようとする測定
面、10は前記透明導電板３の表面抵抗値を測定しようと
する測定面または導電膜である。３が表面抵抗値の測定
を必要としない透明導電板である場合は不透明電極7,8
はなくてもよく、配線による導通が可能でありさえすれ
ばよい。
の分解状態を示す斜視図である。この図で、１は基本セ
ル、２は表面抵抗値を測定しようとする透明固体板（以
下これを試料板と呼ぶ）、３は表面抵抗値を測定しよう
とする他の透明固体板または表面抵抗値の測定を必要と
しない透明導電膜を有する固定板（以下これを透明導電
板と呼ぶ）、４はスペーサ、５と６は前記試料板２の表
面抵抗測定面上に形成した不透明電極、７と８は前記透
明導電板３の表面抵抗測定面上に形成した不透明電極、
９は前記試料板２の表面抵抗値を測定しようとする測定
面、10は前記透明導電板３の表面抵抗値を測定しようと
する測定面または導電膜である。３が表面抵抗値の測定
を必要としない透明導電板である場合は不透明電極7,8
はなくてもよく、配線による導通が可能でありさえすれ
ばよい。
これらの試料板２と透明導電板３の測定面９と測定面ま
たは導電膜面10に通常の方法で配向処理を施し、試料板
２と透明導電板３をスペーサ４を介して密着し、スペー
サ４により生じた試料板２と透明導電板３との間に液晶
を入れて基本セル１を作製する。
たは導電膜面10に通常の方法で配向処理を施し、試料板
２と透明導電板３をスペーサ４を介して密着し、スペー
サ４により生じた試料板２と透明導電板３との間に液晶
を入れて基本セル１を作製する。
表面抵抗値の測定法は次のようにして行う。第２図に示
すように、不透明電極５と６との間に電圧Ｖボルトを印
加し、測定面または導電膜面10と不透明電極６とを等電
位にする。すると、不透明電極５と６との間に電流が流
れ、不透明電極端のＡ点およびＢ点に電位勾配が生じ
る。そのため、試料板２と透明導電板３との間には第３
図に示すような電位差分布が生じる。
すように、不透明電極５と６との間に電圧Ｖボルトを印
加し、測定面または導電膜面10と不透明電極６とを等電
位にする。すると、不透明電極５と６との間に電流が流
れ、不透明電極端のＡ点およびＢ点に電位勾配が生じ
る。そのため、試料板２と透明導電板３との間には第３
図に示すような電位差分布が生じる。
第３図において、横軸はＡ−Ｂ間の位置を示し、縦軸は
試料板２と透明導電板３との間に生じる電位差を示す。
Ａ点にＶボルトの電圧を印加するとＡとＢとの間の各点
において、CBの線で示される電位差勾配が生じる。液晶
の動作しきい値電圧をV0ボルトとすると、電位差がV0ボ
ルト以上になるAX間の領域11の液晶だけが動作し、電気
光学効果を示す。したがって、例えば液晶にTN型液晶を
用い、試料板２と透明導電板３とを直交配向にしておけ
ば、基本セル１の両面に２枚の偏光板を直交ニコル状態
において基本セル１を通過する光を観察すれば、AX間の
領域11は遮光されて暗くなり、XB間の領域12は光が透過
して明るい状態が観察される。第１図において、透明導
電板３の表面抵抗値を測定したいときは不透明電極７と
８との間に電圧を印加し、不透明電極７か８のいずれか
一方と不透明電極５または６の少なくとも一方と等電位
にすれば、第３図と同様の方法で光の遮光領域が観察さ
れる。
試料板２と透明導電板３との間に生じる電位差を示す。
Ａ点にＶボルトの電圧を印加するとＡとＢとの間の各点
において、CBの線で示される電位差勾配が生じる。液晶
の動作しきい値電圧をV0ボルトとすると、電位差がV0ボ
ルト以上になるAX間の領域11の液晶だけが動作し、電気
光学効果を示す。したがって、例えば液晶にTN型液晶を
用い、試料板２と透明導電板３とを直交配向にしておけ
ば、基本セル１の両面に２枚の偏光板を直交ニコル状態
において基本セル１を通過する光を観察すれば、AX間の
領域11は遮光されて暗くなり、XB間の領域12は光が透過
して明るい状態が観察される。第１図において、透明導
電板３の表面抵抗値を測定したいときは不透明電極７と
８との間に電圧を印加し、不透明電極７か８のいずれか
一方と不透明電極５または６の少なくとも一方と等電位
にすれば、第３図と同様の方法で光の遮光領域が観察さ
れる。
また第２図において、不透明電極５と測定面または導電
膜面10を等電位にし、不透明電極５と６との間に電圧を
印加すれば、A,B間の電位差勾配は第３図と逆の傾きと
なり、Ｂ点側から遮光状態が現れる。
膜面10を等電位にし、不透明電極５と６との間に電圧を
印加すれば、A,B間の電位差勾配は第３図と逆の傾きと
なり、Ｂ点側から遮光状態が現れる。
さて、第３図において、電位差勾配CBが直線になるのは
試料板２のAB間の表面抵抗値が均一である場合であり、
また均一でありさえすれば電位差勾配CBは直線になるの
で、これだけは表面抵抗値はわからない。この発明によ
る表面抵抗値が均一でない場合の表面抵抗値と面内分布
の測定方法について説明する。
試料板２のAB間の表面抵抗値が均一である場合であり、
また均一でありさえすれば電位差勾配CBは直線になるの
で、これだけは表面抵抗値はわからない。この発明によ
る表面抵抗値が均一でない場合の表面抵抗値と面内分布
の測定方法について説明する。
第４図は表面抵抗値が均一でない試料板２のA,B間に電
圧Ｖボルトを印加したときの電位差を示す。試料板２の
位置X1,X2,……Xnで表面抵抗値が変化しているとする。
AX1,X1X2,X2X3,…Xn-1Xn,XnB間の距離をx1,x2,x3,…,xn
として、その部分の表面抵抗値がk1R,k2R,k3R,…,knR
（k1,k2,…,knは係数）であったとすると、Xj点の電位
差は となる。液晶の動作しきい値電圧V0は使用する液晶材料
により決まっているので、印加電圧Ｖを変化させること
により遮光部分の領域が変化する。遮光部分の境界線は
第４図の電位差曲線が動作しきい値電圧V0に等しくなる
位置を示しているので、印加電圧Ｖを変化させながら遮
光部分の境界線を測定することにより、実験的に第４図
の電位差曲線を描くことができる。この曲線の傾きが取
りも直さず表面抵抗値の分布である。もし、任意の領域
xiに既知の表面抵抗値Ｒ（ｋ＝１）を入れておけば各点
の電位差は第（１）式で表されるので、k1,k2,…,knの
値がわかり、各領域の表面抵抗値がわかる。
圧Ｖボルトを印加したときの電位差を示す。試料板２の
位置X1,X2,……Xnで表面抵抗値が変化しているとする。
AX1,X1X2,X2X3,…Xn-1Xn,XnB間の距離をx1,x2,x3,…,xn
として、その部分の表面抵抗値がk1R,k2R,k3R,…,knR
（k1,k2,…,knは係数）であったとすると、Xj点の電位
差は となる。液晶の動作しきい値電圧V0は使用する液晶材料
により決まっているので、印加電圧Ｖを変化させること
により遮光部分の領域が変化する。遮光部分の境界線は
第４図の電位差曲線が動作しきい値電圧V0に等しくなる
位置を示しているので、印加電圧Ｖを変化させながら遮
光部分の境界線を測定することにより、実験的に第４図
の電位差曲線を描くことができる。この曲線の傾きが取
りも直さず表面抵抗値の分布である。もし、任意の領域
xiに既知の表面抵抗値Ｒ（ｋ＝１）を入れておけば各点
の電位差は第（１）式で表されるので、k1,k2,…,knの
値がわかり、各領域の表面抵抗値がわかる。
以上が一般的な試料の測定方法であるが、この方法を比
較的簡単な試料を例にとって、さらに詳しく説明する。
較的簡単な試料を例にとって、さらに詳しく説明する。
第５図はAB間の一点Ｘで表面抵抗値が変化している場合
の電位差曲線を示す。Ｘの位置および表面抵抗値の比k1
/k2の値によって屈曲点Ｋの位置は、例えば第８図のよ
うな変化する（第８図については後に説明する）。この
場合も、一方の表面抵抗値がわかれば他方の表面抵抗値
が直ちにわかる。
の電位差曲線を示す。Ｘの位置および表面抵抗値の比k1
/k2の値によって屈曲点Ｋの位置は、例えば第８図のよ
うな変化する（第８図については後に説明する）。この
場合も、一方の表面抵抗値がわかれば他方の表面抵抗値
が直ちにわかる。
第６図はAB間の中央部のみが両側と異なる表面抵抗値を
持つ場合の電位差曲線を示すX1,X2の幅とk2/k1の値によ
って屈曲点K1,K2の位置が、例えば第９図，第10図，第1
1図のように変化する（これらの各図については後述す
る）。
持つ場合の電位差曲線を示すX1,X2の幅とk2/k1の値によ
って屈曲点K1,K2の位置が、例えば第９図，第10図，第1
1図のように変化する（これらの各図については後述す
る）。
第７図はAB間の任意の２点で表面抵抗値が変化している
場合の電位差曲線を示す。X1,X2の位置およびk2/k1の値
によって屈曲点K1,K2の位置が、例えば第12図のように
変化する。
場合の電位差曲線を示す。X1,X2の位置およびk2/k1の値
によって屈曲点K1,K2の位置が、例えば第12図のように
変化する。
第２図において、ABと直交方向に表面抵抗値に変化があ
る場合は、第３図の遮光部の境界線XX′は直線になら
ず、表面抵抗値に応じて電位差がV0ボルトに等しくなる
ような曲がった境界線が現れる。またAB方向についても
印加電圧Ｖを変化させたときに得られる電位差勾配BCが
直線にならない場合は、均一な表面抵抗値を持っていな
い試料板２である。したがって、試料板２が均一な表面
抵抗値を持っているか否かの定性的な判断もこの方法で
行うことができる。
る場合は、第３図の遮光部の境界線XX′は直線になら
ず、表面抵抗値に応じて電位差がV0ボルトに等しくなる
ような曲がった境界線が現れる。またAB方向についても
印加電圧Ｖを変化させたときに得られる電位差勾配BCが
直線にならない場合は、均一な表面抵抗値を持っていな
い試料板２である。したがって、試料板２が均一な表面
抵抗値を持っているか否かの定性的な判断もこの方法で
行うことができる。
この発明に用いる液晶材料および動作方式は、動作しき
い値電圧V0を持つものならすべて使用することができ
る。上記で説明したTN型液晶セルでは光の透過率変化に
より測定できるが、その他複屈折制御方式，ブレオクロ
イック方式，コレステリック方式など、いずれも光透過
率変化あるいは色変化などの電気光学効果によって測定
できる。
い値電圧V0を持つものならすべて使用することができ
る。上記で説明したTN型液晶セルでは光の透過率変化に
より測定できるが、その他複屈折制御方式，ブレオクロ
イック方式，コレステリック方式など、いずれも光透過
率変化あるいは色変化などの電気光学効果によって測定
できる。
試料板２の表面抵抗値の測定範囲は原理的には無制限で
あるが、現実的には10-2〜1015Ω／□の範囲である。こ
の範囲を決める現実的要因としては、10-2Ω／□以下の
表面抵抗値を持つ試料は透明性が悪いことが挙げられ、
また1015Ω／□以上の表面抵抗値を持つ試料は、測定表
面と不透明電極との間の接触抵抗が測定上の障害になり
得ることが挙げられる。また試料板２は無色または着色
していても透明性がある平面板またはフィルムであれば
よく、厚みに制限はない。不透明電極５〜８は、例えば
Al,Ni,Cr,Au,Cuなどの薄膜を通常使用するが、導電率が
試料の表面抵抗値に比べて十分低ければどのような材料
でもよく、また半透明であっても一向に差し支えない。
液晶セルのサイズは全く制限がなく、数十cm□から数μ
ｍ□のものまで使用可能であり、正方形でも長方形でも
よい。ただし、サイズの小さい試料板２や表面抵抗値の
小さい試料板２を測定する場合は、発熱を抑えるため不
透明電極5,6間と並列に適当な抵抗体を入れることが望
ましい。
あるが、現実的には10-2〜1015Ω／□の範囲である。こ
の範囲を決める現実的要因としては、10-2Ω／□以下の
表面抵抗値を持つ試料は透明性が悪いことが挙げられ、
また1015Ω／□以上の表面抵抗値を持つ試料は、測定表
面と不透明電極との間の接触抵抗が測定上の障害になり
得ることが挙げられる。また試料板２は無色または着色
していても透明性がある平面板またはフィルムであれば
よく、厚みに制限はない。不透明電極５〜８は、例えば
Al,Ni,Cr,Au,Cuなどの薄膜を通常使用するが、導電率が
試料の表面抵抗値に比べて十分低ければどのような材料
でもよく、また半透明であっても一向に差し支えない。
液晶セルのサイズは全く制限がなく、数十cm□から数μ
ｍ□のものまで使用可能であり、正方形でも長方形でも
よい。ただし、サイズの小さい試料板２や表面抵抗値の
小さい試料板２を測定する場合は、発熱を抑えるため不
透明電極5,6間と並列に適当な抵抗体を入れることが望
ましい。
次に、この発明の具体例について説明する。
〔具体例１〕 縦20mm,横30mm,厚さ1.2mmのガラス板上に長方形のシャ
ドウマスクを置いてITO膜を１回形成し、次にシャドウ
マスクをはずして２回目のITO膜形成を行った。また同
じ大きさのガラス板上に異なる条件でやはり同様にITO
膜形成を２回行った。ITO膜上にガラスの長片と直交す
る形で1cmの間隔を設けてAlの不透明電極を形成した。
２枚の試料板の長片方向にSiOを斜め蒸着し、それぞれ
の試料板を直交させ９μｍのスペーサを挾んで密着さ
せ、その中にネマチック型液晶ZIL1132（Merck社製）を
注入し、液晶セルを作製した。
ドウマスクを置いてITO膜を１回形成し、次にシャドウ
マスクをはずして２回目のITO膜形成を行った。また同
じ大きさのガラス板上に異なる条件でやはり同様にITO
膜形成を２回行った。ITO膜上にガラスの長片と直交す
る形で1cmの間隔を設けてAlの不透明電極を形成した。
２枚の試料板の長片方向にSiOを斜め蒸着し、それぞれ
の試料板を直交させ９μｍのスペーサを挾んで密着さ
せ、その中にネマチック型液晶ZIL1132（Merck社製）を
注入し、液晶セルを作製した。
最初に作ったITO基板の片方のAl電極（Ｂ）に1KHz,2.4
ボルトの電圧を印加し、他方の電極（Ａ）および２回目
に作製した対向する試料板の一方のAl電極（Ｂ′）を接
地した。この時、液晶セルの両面には偏光板を直交して
設けた。液晶セルの反対側から白色の平行光線を当てた
ところ、第８図に示すようにＢ点から6.8mmの範囲が遮
光されて暗くなった。次に、AB間の印加電圧を変化させ
ていったところ遮光部は直線ａのように変化した。印加
電圧を1.28ボルトにしたときX6上の屈曲点K6が現れ、Ａ
点からの距離は6.0mmであった。これから１回目に作製
した試料板２の表面抵抗値は屈曲点K6で変化しているこ
とがわかった。またAX6間の表面抵抗値は560Ω／□であ
ったので、X6B間の表面抵抗値は56Ω／□であることが
わかった。
ボルトの電圧を印加し、他方の電極（Ａ）および２回目
に作製した対向する試料板の一方のAl電極（Ｂ′）を接
地した。この時、液晶セルの両面には偏光板を直交して
設けた。液晶セルの反対側から白色の平行光線を当てた
ところ、第８図に示すようにＢ点から6.8mmの範囲が遮
光されて暗くなった。次に、AB間の印加電圧を変化させ
ていったところ遮光部は直線ａのように変化した。印加
電圧を1.28ボルトにしたときX6上の屈曲点K6が現れ、Ａ
点からの距離は6.0mmであった。これから１回目に作製
した試料板２の表面抵抗値は屈曲点K6で変化しているこ
とがわかった。またAX6間の表面抵抗値は560Ω／□であ
ったので、X6B間の表面抵抗値は56Ω／□であることが
わかった。
次に、２回目に作製した試料板２の一方のAl電極
（Ｂ′）に1KHz,2.4ボルトの電圧を印加し、電極Ａ′お
よび対向する試料板２のAl電極（Ａ）を接地した。この
時、第８図に示すようにＢ点から1.85mmの範囲が遮光さ
れて暗くなった。上記と同様にＡ′,B′間の印加電圧を
変化させていったところ遮光部は直線ｂのように変化し
た。印加電圧を6.32ボルトにしたとき屈曲点K7が現れ、
Ａ点からの距離は7.0mmであった。これから、２回目に
作製した試料板２の表面抵抗値はX7点で変化しているこ
とがわかった。またＡ′X7間の表面抵抗値は64Ω／□で
あったので、X7B′間の表面抵抗値は640Ω／□であるこ
とがわかった。
（Ｂ′）に1KHz,2.4ボルトの電圧を印加し、電極Ａ′お
よび対向する試料板２のAl電極（Ａ）を接地した。この
時、第８図に示すようにＢ点から1.85mmの範囲が遮光さ
れて暗くなった。上記と同様にＡ′,B′間の印加電圧を
変化させていったところ遮光部は直線ｂのように変化し
た。印加電圧を6.32ボルトにしたとき屈曲点K7が現れ、
Ａ点からの距離は7.0mmであった。これから、２回目に
作製した試料板２の表面抵抗値はX7点で変化しているこ
とがわかった。またＡ′X7間の表面抵抗値は64Ω／□で
あったので、X7B′間の表面抵抗値は640Ω／□であるこ
とがわかった。
〔具体例2,3〕 具体例１の条件で作製した試料板は1:10の表面抵抗値分
布を持つことがわかったので、この方法で作製した２種
類の試料板を用いて具体例１と同様の液晶セル２個を作
製した。ただし、各試料板の対向板には市販の表面抵抗
値不明の透明導電板を使用した。
布を持つことがわかったので、この方法で作製した２種
類の試料板を用いて具体例１と同様の液晶セル２個を作
製した。ただし、各試料板の対向板には市販の表面抵抗
値不明の透明導電板を使用した。
具体例１と同様にＢ点に2.4ボルトの電圧を印加したと
ころ、２個の液晶セルには第８図に示すようにＡ点から
それぞれ1.4mm,6.35mmの位置に境界線が現れた。これか
ら各試料板の表面抵抗値はそれぞれX2,X4点で変化して
おり、その位置はAX2＝2mm,AX4＝4mmであった。直線の
傾きから表面抵抗値はAX2はX2Bの10倍、AX4はX4Bの1/10
であることがわかった。
ころ、２個の液晶セルには第８図に示すようにＡ点から
それぞれ1.4mm,6.35mmの位置に境界線が現れた。これか
ら各試料板の表面抵抗値はそれぞれX2,X4点で変化して
おり、その位置はAX2＝2mm,AX4＝4mmであった。直線の
傾きから表面抵抗値はAX2はX2Bの10倍、AX4はX4Bの1/10
であることがわかった。
〔具体例４〕 第６図に示すように試料板２の中央部だけ、他の部分の
表面抵抗値と異なる試料板２を作製し、具体例１と同様
の液晶セルを作製した。ただし、AB間の距離を1mmとし
た。Ｂ点に18.5ボルトの電圧を印加すると、第９図に示
すようにX3上の屈曲点K3が現れ、1.26ボルトの電圧を印
加したときX7上の屈曲点K7が現れた。X3およびX7の位置
はAX3＝0.3mm,AX7＝0.7mmであった。直線の傾きからAX3
とX7Bの範囲の表面抵抗値は等しく、X3X7の範囲の表面
抵抗値はAX3およびX7Bの10倍であることがわかった。
表面抵抗値と異なる試料板２を作製し、具体例１と同様
の液晶セルを作製した。ただし、AB間の距離を1mmとし
た。Ｂ点に18.5ボルトの電圧を印加すると、第９図に示
すようにX3上の屈曲点K3が現れ、1.26ボルトの電圧を印
加したときX7上の屈曲点K7が現れた。X3およびX7の位置
はAX3＝0.3mm,AX7＝0.7mmであった。直線の傾きからAX3
とX7Bの範囲の表面抵抗値は等しく、X3X7の範囲の表面
抵抗値はAX3およびX7Bの10倍であることがわかった。
〔具体例５〕 第６図に示すように試料板の中央部だけ他の部分の表面
抵抗値と異なる試料板を作製し、具体例１と同様の液晶
セルを作製した。ただし、AB間の距離を1mmとした。Ｂ
点に2.96ボルトの電圧を印加すると、第10図に示すよう
にX2上の屈曲点K2が現れ、2.02ボルトの電圧を印加する
と屈曲点K8が現れた。X2およびX8の位置はAX2＝0.2mm,A
X8＝0.8mmであった。直線の傾きからAX2とX8Bの範囲の
表面抵抗値は等しく、X2X8の範囲の表面抵抗値はAX2お
よびX8Bの1/10であることがわかった。
抵抗値と異なる試料板を作製し、具体例１と同様の液晶
セルを作製した。ただし、AB間の距離を1mmとした。Ｂ
点に2.96ボルトの電圧を印加すると、第10図に示すよう
にX2上の屈曲点K2が現れ、2.02ボルトの電圧を印加する
と屈曲点K8が現れた。X2およびX8の位置はAX2＝0.2mm,A
X8＝0.8mmであった。直線の傾きからAX2とX8Bの範囲の
表面抵抗値は等しく、X2X8の範囲の表面抵抗値はAX2お
よびX8Bの1/10であることがわかった。
〔具体例６〕 試料板と市販の透明導電板とを用いて具体例１と同様の
液晶セルを作製した。ただし、AB間の距離は10cmとし
た。具体例１と同様にＢ点に6.0ボルトの電圧を印加す
ると、第11図に示すようにX1上の屈曲点K1が現れ、1.5
ボルトの電圧を印加するとX2上の屈曲点K2が現れた。X1
およびX2の位置はAX1＝4.0cm,AX2＝6.0cmであった。直
線の傾きからAX1とX2Bの範囲の表面抵抗値は等しく、X1
X2の範囲の表面抵抗値はAX1およびX2Bの６倍であること
がわかった。
液晶セルを作製した。ただし、AB間の距離は10cmとし
た。具体例１と同様にＢ点に6.0ボルトの電圧を印加す
ると、第11図に示すようにX1上の屈曲点K1が現れ、1.5
ボルトの電圧を印加するとX2上の屈曲点K2が現れた。X1
およびX2の位置はAX1＝4.0cm,AX2＝6.0cmであった。直
線の傾きからAX1とX2Bの範囲の表面抵抗値は等しく、X1
X2の範囲の表面抵抗値はAX1およびX2Bの６倍であること
がわかった。
〔具体例７〕 試料板と市販の透明導電板とを用いて具体例１と同様の
液晶セルを作製した。ただし、AB間の距離は100μｍと
した。具体例１と同様にＢ点に1.76ボルトの電圧を印加
すると、第12図に示すようにX1上の屈曲点K1が現れ、1.
55ボルトの電圧を印加するとX2上の屈曲点K2が現れた。
X1およびX2の位置はAX1＝60μm,AX2＝80μｍであった。
直線の傾きからAX1とX2Bの範囲の表面抵抗値は等しく、
X1X2の範囲の表面抵抗値はAX1およびX2Bの0.4倍である
ことがわかった。AX1とX2Bの範囲の表面抵抗値は1.2×1
010Ω／□であったので、X1X2の範囲の表面抵抗値は4.8
×109Ω／□であることがわかった。
液晶セルを作製した。ただし、AB間の距離は100μｍと
した。具体例１と同様にＢ点に1.76ボルトの電圧を印加
すると、第12図に示すようにX1上の屈曲点K1が現れ、1.
55ボルトの電圧を印加するとX2上の屈曲点K2が現れた。
X1およびX2の位置はAX1＝60μm,AX2＝80μｍであった。
直線の傾きからAX1とX2Bの範囲の表面抵抗値は等しく、
X1X2の範囲の表面抵抗値はAX1およびX2Bの0.4倍である
ことがわかった。AX1とX2Bの範囲の表面抵抗値は1.2×1
010Ω／□であったので、X1X2の範囲の表面抵抗値は4.8
×109Ω／□であることがわかった。
〔具体例８〕 試料板と市販の透明導電板とを用いて具体例１と同様の
液晶セルを作製した。ただし、AB間の距離は5cmとし
た。具体例１と同様にＢ点に1KHzの電圧を印加し、その
電圧を変化させると第13図のような曲線が得られた。こ
の曲線は各位置における液晶の動作しきい値電圧V0を表
しているとともに、Ｂ点に任意の電圧を印加したときの
各位置における電位差を示していることはこれまでの具
体例と同じである。第13図において、任意の点Xiにおけ
る接線の傾きが相対的な表面抵抗値を示しているため、
この微分曲線を作製することにより試料板の相対的な表
面抵抗値を知ることができた。さらに、試料板の一部に
既知の表面抵抗値を持つ領域XnBを持たせることによ
り、任意の点における表面抵抗値を知ることができた。
液晶セルを作製した。ただし、AB間の距離は5cmとし
た。具体例１と同様にＢ点に1KHzの電圧を印加し、その
電圧を変化させると第13図のような曲線が得られた。こ
の曲線は各位置における液晶の動作しきい値電圧V0を表
しているとともに、Ｂ点に任意の電圧を印加したときの
各位置における電位差を示していることはこれまでの具
体例と同じである。第13図において、任意の点Xiにおけ
る接線の傾きが相対的な表面抵抗値を示しているため、
この微分曲線を作製することにより試料板の相対的な表
面抵抗値を知ることができた。さらに、試料板の一部に
既知の表面抵抗値を持つ領域XnBを持たせることによ
り、任意の点における表面抵抗値を知ることができた。
〔具体例９〕 具体例８と同じ試料板で液晶セルを作製した。ただし、
AB間の距離は10cmとし、試料板の幅も10cmとした。具体
例１と同様にＢ点に３ボルトの電圧を印加したところ、
遮光部の境界線は第14図のX1X′１のようになった。次
に、1.7ボルトの電圧を印加したところ、境界線はX2X′
２のようになった。X1X′1,X2X′２はいずれもある箇所
で直線からはずれることが認められた。このことからa,
b,cの各点は他の部分と異なる表面抵抗値を持つことが
わかった。Ｂ点に印加する電圧を変化させるとX1X2上の
任意の点で第13図に似た曲線が得られ、具体例８と同様
な方法を行うことにより、試料板全体の表面抵抗値分布
を知ることができた。
AB間の距離は10cmとし、試料板の幅も10cmとした。具体
例１と同様にＢ点に３ボルトの電圧を印加したところ、
遮光部の境界線は第14図のX1X′１のようになった。次
に、1.7ボルトの電圧を印加したところ、境界線はX2X′
２のようになった。X1X′1,X2X′２はいずれもある箇所
で直線からはずれることが認められた。このことからa,
b,cの各点は他の部分と異なる表面抵抗値を持つことが
わかった。Ｂ点に印加する電圧を変化させるとX1X2上の
任意の点で第13図に似た曲線が得られ、具体例８と同様
な方法を行うことにより、試料板全体の表面抵抗値分布
を知ることができた。
以上説明したようにこの発明は、表面抵抗値を測定しよ
うとする透明の固体表面の両端に半透明または不透明電
極を形成し、当該固体表面同士もしくは前記固体表面と
透明電導膜を有する固体表面との間に液晶を挟んで液晶
セルを形成するとともに、前記半透明または不透明電極
間に電圧を印加し、該印加電圧を変化させた場合の前記
液晶セルの透明領域と遮光領域の割合を測定して抵抗値
と抵抗分布を測定するようにしたので、表面抵抗値を液
晶の電気光学効果によって観察することにより求めるこ
とができるので、表面抵抗値が均一でない透明固体表面
の任意の表面抵抗値を知ることができる。また微小な液
晶セルを作製することにより、微小部分での表面抵抗値
を測定できる利点がある。
うとする透明の固体表面の両端に半透明または不透明電
極を形成し、当該固体表面同士もしくは前記固体表面と
透明電導膜を有する固体表面との間に液晶を挟んで液晶
セルを形成するとともに、前記半透明または不透明電極
間に電圧を印加し、該印加電圧を変化させた場合の前記
液晶セルの透明領域と遮光領域の割合を測定して抵抗値
と抵抗分布を測定するようにしたので、表面抵抗値を液
晶の電気光学効果によって観察することにより求めるこ
とができるので、表面抵抗値が均一でない透明固体表面
の任意の表面抵抗値を知ることができる。また微小な液
晶セルを作製することにより、微小部分での表面抵抗値
を測定できる利点がある。
第１図はこの発明に用いる基本セルの分解状態を示す斜
視図、第２図は表面抵抗値を測定するための液晶セルと
配線を示す上面図、第３図は第２図のＡ点に電圧を印加
したときの電位勾配を示す図および液晶セルの光透過状
態を示す図、第４図〜第７図は第２図の不透明電極間に
電圧を印加したときの対向電極面との電位差を示す図、
第８図〜第13図はそれぞれ具体例１〜８において、Ｂに
印加する電圧を直線的に変化させたとき、遮光部の境界
線の位置を示す図、第14図は具体例９において液晶セル
の光透過状態を示す図である。 図中、１は基本セル、２は試料板、３は透明導電板、４
はスペーサ、5,6,7,8は不透明電極、９は試料板の表面
抵抗値を測定しようとする測定面、10は試料板の表面抵
抗値を測定しようとする測定面または透明導電板の導電
膜面、11は光遮断領域、12は光透過領域、XX′は光遮断
領域と光透過領域の境界線である。
視図、第２図は表面抵抗値を測定するための液晶セルと
配線を示す上面図、第３図は第２図のＡ点に電圧を印加
したときの電位勾配を示す図および液晶セルの光透過状
態を示す図、第４図〜第７図は第２図の不透明電極間に
電圧を印加したときの対向電極面との電位差を示す図、
第８図〜第13図はそれぞれ具体例１〜８において、Ｂに
印加する電圧を直線的に変化させたとき、遮光部の境界
線の位置を示す図、第14図は具体例９において液晶セル
の光透過状態を示す図である。 図中、１は基本セル、２は試料板、３は透明導電板、４
はスペーサ、5,6,7,8は不透明電極、９は試料板の表面
抵抗値を測定しようとする測定面、10は試料板の表面抵
抗値を測定しようとする測定面または透明導電板の導電
膜面、11は光遮断領域、12は光透過領域、XX′は光遮断
領域と光透過領域の境界線である。
フロントページの続き (72)発明者 志和 新一 茨城県那珂郡東海村大字白方字白根162番 地 日本電信電話株式会社茨城電気通信研 究所内 (56)参考文献 特開 昭49−75353（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】表面抵抗値を測定しようとする透明の固体
表面の両端に半透明または不透明電極を形成し、当該固
体表面同士もしくは前記固体表面と透明電導膜を有する
固体表面との間に液晶を挟んで液晶セルを形成するとと
もに、前記半透明または不透明電極間に電圧を印加し、
該印加電圧を変化させた場合の前記液晶セルの透過領域
と遮光領域の割合を測定して抵抗値と抵抗分布を測定す
ることを特徴とする表面抵抗測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61037468A JPH0731217B2 (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 表面抵抗測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61037468A JPH0731217B2 (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 表面抵抗測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62195567A JPS62195567A (ja) | 1987-08-28 |
| JPH0731217B2 true JPH0731217B2 (ja) | 1995-04-10 |
Family
ID=12498354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61037468A Expired - Lifetime JPH0731217B2 (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | 表面抵抗測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0731217B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2519776B2 (ja) * | 1988-06-17 | 1996-07-31 | 富士通株式会社 | 透明電導シ―ト抵抗評価方法及びその装置 |
| JP5070823B2 (ja) * | 2006-11-30 | 2012-11-14 | 富士通株式会社 | 抵抗測定方法、および部品検査プロセス |
| US11698399B2 (en) * | 2017-10-30 | 2023-07-11 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Electric conductivity-measuring material, electric conductivity-measuring film, electric conductivity-measuring device, and electric conductivity-measuring method, as well as electric resistivity-measuring material, electric resistivity-measuring film, electric resistivity-measuring device, and electric resistivity-measuring method |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4975373A (ja) * | 1972-11-24 | 1974-07-20 |
-
1986
- 1986-02-24 JP JP61037468A patent/JPH0731217B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62195567A (ja) | 1987-08-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |