JPH07311110A - 複合センサ及びこれを用いた複合伝送器 - Google Patents

複合センサ及びこれを用いた複合伝送器

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JPH07311110A
JPH07311110A JP10681394A JP10681394A JPH07311110A JP H07311110 A JPH07311110 A JP H07311110A JP 10681394 A JP10681394 A JP 10681394A JP 10681394 A JP10681394 A JP 10681394A JP H07311110 A JPH07311110 A JP H07311110A
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gauge
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征一 鵜飼
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嶋田  智
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 静圧入力時にも最大出力を得ることができる
とともに、差圧の影響を抑制できる複合センサ及びこれ
を用いた複合伝送器を実現する。 【構成】 静圧ゲージ23a〜23dは静圧ダイアフラム22a
〜22d上に配置される。静圧ゲージ23a、23cはこれらの
長手方向がダイアフラム22a、22cのそれぞれに外接する
円の半径方向及び差圧ダイアフラム21に外接する円の半
径方向に平行となるように配列される。静圧ゲージ23
b、23dはこれらの長手方向がダイアフラム22b、22dのそ
れぞれに外接する円の接線方向に平行であり差圧ダイア
フラム21に外接する円の半径方向に平行となるように配
列される。静圧ゲージ23a、23bはホイーストンブリッジ
回路の高電位側に接続され、静圧ゲージ23c、23dはブリ
ッジ回路の低電位側に接続される。これにより、差圧の
影響が抑制され、最大の差圧出力がブリッジ回路から得
られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は化学プラント、製鉄所、
発電所等で流量や圧力を検出する差圧伝送器における複
合センサ及びこれを用いた複合伝送器に関する。
【0002】
【従来の技術】インテリジェント差圧伝送器のセンシン
グ部に用いられるピエゾ抵抗式の複合センサは、差圧セ
ンサ、静圧センサ及び温度センサが1つの基板上に形成
され、静圧センサ及び温度センサからの出力信号を用い
て、差圧センサの出力を補正し、高精度に差圧を計測す
る構成となっている。
【0003】上記複合センサにおいては、差圧負荷が静
圧センサの検出特性に影響を及ぼし、高精度な静圧検出
が実行できず、差圧センサの出力を高精度に補正する事
ができなかった。
【0004】そこで、特開平4−212032号公報記
載の「複合センサとそれを用いた複合伝送器とプラント
システム」においては、静圧ダイアフラム上に配置され
た静圧ゲージからの出力と、固定部上に配置された静圧
ゲージからの出力とが組み合わされ、差圧負荷の影響が
相殺される構成となっている。
【0005】つまり、差圧に応じた抵抗値変化特性が、
静圧ダイアフラム上の静圧検出用ゲージαと、固定部上
の静圧検出用ゲージβとで同等となるように、静圧検出
用ゲージβが差圧ダイアフラムに近接して配置される。
この場合、ゲージαは静圧ダイアフラム上に形成されて
いるので、静圧に対するゲージαの抵抗値変化は、ゲー
ジβの抵抗値変化が無視できる程、大となる。
【0006】そして、2つのゲージαと2つのゲージβ
とにより、ブリッジ回路を構成し、ゲージαの抵抗値変
化による電圧出力からゲージβの抵抗値変化による電圧
出力を減算することにより、差圧負荷による影響をゲー
ジαとβとで相殺し、差圧負荷に影響されない静圧検出
を実行する構成となっている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記特開平
4−212032号公報に記載された複合センサにあっ
ては、差圧負荷の影響は抑制されるが、固定部上に形成
された静圧ゲージβは、静圧入力時に抵抗変化が小さ
く、低感度である。このため、静圧センサは、ハーフブ
リッジ回路となり、静圧検出出力が低下してしまってい
た。
【0008】したがって、静圧検出出力を低下すること
無く、差圧負荷の影響が抑制された複合センサが望まれ
ていた。
【0009】本発明の目的は、静圧入力時にも最大出力
を得ることができるとともに、差圧の影響を抑制できる
複合センサ及びこれを用いた複合伝送器を実現すること
である。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、次のように構成される。単結晶シリコン基
板に形成され、差圧検出手段が配置された差圧検出用の
ダイアフラムと、シリコン基板に形成された静圧検出用
のダイアフラムと、この静圧検出用のダイアフラム上
の、感歪ゲージを有する4つの静圧検出手段とを備え、
4つの静圧検出手段によりホイートストンブリッジ回路
が構成される複合センサにおいて、全ての感歪ゲージ
は、これら感歪ゲージの長手方向が、差圧ダイアフラム
に外接する円の半径方向又は接線方向にほぼ平行となる
ように、静圧検出用ダイアフラムに配列されている。或
いは、ホイートストンブリッジ回路の高電位側に接続さ
れる2つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検出手段の
感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、差圧ダイ
アフラムに外接する円の半径方向にほぼ平行となるよう
に配列され、他方の静圧検出手段の感歪ゲージは、この
感歪ゲージの長手方向が、上記円の接線方向にほぼ平行
となるように配列され、かつ、ホイートストンブリッジ
回路の低電位側に接続される2つの静圧検出手段のうち
の一方の静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージ
の長手方向が、上記円の半径方向にほぼ平行となるよう
に配列され、他方の静圧検出手段の感歪ゲージは、この
感歪ゲージの長手方向が、上記円の接線方向にほぼ平行
となるように配列されている。
【0011】好ましくは、上記複合センサにおいて、単
結晶シリコン基板に、温度検出手段が配置されている。
また、好ましくは、上記複合センサにおいて、静圧検出
用のダイアフラムは、複数であり、これら複数の静圧検
出用のダイヤフラムのそれぞれに、静圧検出手段が配置
されている。
【0012】また、好ましくは、上記複合センサにおい
て、シリコン基板は、四角形であり、差圧検出用ダイア
フラムはシリコン基板のほぼ中央部に形成され、静圧検
出用のダイアフラムは、シリコン基板の四隅の領域のう
ちのいずれかの領域に形成されている。また、好ましく
は、上記複合センサにおいて、シリコン基板は、四角形
であり、差圧検出用ダイアフラムはシリコン基板のほぼ
中央部に形成され、静圧検出用のダイアフラムは4つで
あり、シリコン基板の四隅の領域のそれぞれに、一つづ
つに形成されている。
【0013】また、好ましくは、上記複合センサにおい
て、差圧検出用ダイアフラムは、八角形である。また、
好ましくは、上記複合センサにおいて、単結晶シリコン
基板は、(001)面シリコン単結晶であり、差圧検出
用ダイアフラム及び静圧検出用ダイアフラムは、異方性
エッチングを含むエッチングによってシリコン基板に形
成されている。
【0014】また、好ましくは、上記複合センサにおい
て、ホイートストンブリッジ回路の高電位側に接続され
る2つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検出手段の感
歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、この感歪ゲ
ージが配置される静圧ダイアフラムに外接する円の半径
方向にほぼ平行となるように配列され、他方の静圧検出
手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、こ
の感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外接する
円の接線方向にほぼ平行となるように配列され、かつ、
ホイートストンブリッジ回路の低電位側に接続される2
つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検出手段の感歪ゲ
ージは、この感歪ゲージの長手方向が、この感歪ゲージ
が配置される静圧ダイアフラムに外接する円の半径方向
にほぼ平行となるように配列され、他方の静圧検出手段
の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、この感
歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外接する円の
接線方向にほぼ平行となるように配列されている。
【0015】また、差圧検出手段が配置された差圧検出
用のダイアフラムと静圧検出用のダイアフラムとこの静
圧検出用のダイアフラム上に形成され、感歪ゲージを有
する4つの静圧検出手段とを有し、これら4つの静圧検
出手段によりホイートストンブリッジ回路が構成される
複合センサと、この複合センサに圧力を導入し、保護す
る受圧手段とを備え、差圧信号を伝送する複合伝送器に
おいて、複合センサの全ての感歪ゲージは、これら感歪
ゲージの長手方向が、差圧ダイアフラムに外接する円の
半径方向又は接線方向にほぼ平行となるように、静圧検
出用ダイアフラムに配列されている。
【0016】また、上記複合伝送器において、上記ホイ
ートストンブリッジ回路の高電位側に接続される2つの
静圧検出手段のうちの一方の静圧検出手段の感歪ゲージ
は、この感歪ゲージの長手方向が、差圧ダイアフラムに
外接する円の半径方向にほぼ平行となるように配列さ
れ、他方の静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲー
ジの長手方向が、上記円の接線方向にほぼ平行となるよ
うに配列され、かつ、ホイートストンブリッジ回路の低
電位側に接続される2つの静圧検出手段のうちの一方の
静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方
向が、上記円の半径方向にほぼ平行となるように配列さ
れ、他方の静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲー
ジの長手方向が、上記円の接線方向にほぼ平行となるよ
うに配列されている。
【0017】好ましくは、上記複合伝送器において、静
圧検出手段により検出された静圧データに基づき、差圧
検出手段により検出された差圧データを補正する補正演
算手段を備える。また、好ましくは、上記複合伝送器に
おいて、複合センサに配置される温度検出手段と、この
温度検出手段によって検出された温度に基づいて、静圧
検出手段により検出された静圧データを温度補正し、温
度補正された静圧データに基づいて、差圧検出手段によ
り検出された差圧データを補正し、この補正された差圧
データを、温度検出手段により検出された温度に基づい
て温度補正する補正演算手段とを備える。
【0018】また、好ましくは、上記複合伝送器におい
て、補正演算手段は、演算部と、記憶部とを有し、この
記憶部には、静圧検出手段が検出する静圧値の温度補正
データと、差圧検出手段が検出する差圧値の温度補正デ
ータと、差圧検出手段が検出する差圧値の静圧補正デー
タとが、予め記憶され、演算部は、記憶部に記憶された
各補正データに基づいて、静圧検出手段及び差圧検出手
段の検出データを補正する。
【0019】
【作用】差圧検出用のダイアフラムに差圧が印加され、
この差圧検出用のダイアフラムが変位すると、この変位
の影響により静圧ダイアフラムも変位する。これによ
り、静圧ダイアフラム上に配置された静圧検出手段の感
歪ゲージに力が印加され、正確な静圧の検出が困難とな
る。そこで、全ての感歪ゲージの長手方向が、差圧ダイ
アフラムに外接する円の半径方向又は接線方向に平行と
なるように配列すると、静圧検出手段により構成される
ホイーストンブリッジ回路から最大出力が得られるとと
もに、差圧の影響が抑制された静圧検出信号が得られ
る。
【0020】また、静圧検出用のホイートストンブリッ
ジ回路の高電位側に接続される一方の静圧検出手段の感
歪ゲージは、長手方向が、差圧ダイアフラムに外接する
円の半径方向にほぼ平行となるように配列され、他方の
静圧検出手段の感歪ゲージは、長手方向が、上記円の接
線方向にほぼ平行となるように配列される。さらに、ホ
イートストンブリッジ回路の低電位側に接続される一方
の静圧検出手段の感歪ゲージは、長手方向が、上記円の
半径方向にほぼ平行となるように配列され、他方の静圧
検出手段の感歪ゲージは、長手方向が、上記円の接線方
向にほぼ平行となるように配列されている。このように
構成しても、ホイーストンブリッジ回路から最大出力が
得られるとともに、差圧の影響が抑制された静圧検出信
号が得られる。
【0021】
【実施例】図1は、本発明の一実施例である複合センサ
20の概略構成図であり、図1の(a)は、複合センサ
20の上面、図1の(b)は、図1の(a)のA−B断
面である。図1において、複合センサ20は、n型の
(001)面シリコン単結晶からなり、1チップ中に差
圧センサと静圧センサ及び温度センサを集積したもので
ある。そして、複合センサ20の差圧センサは、差圧検
出用のダイアフラム21と、ダイアフラム21の周辺部
に、ボロン等を拡散して形成したp型のゲージ抵抗(感
歪ゲージ)24a〜24d(Rg1〜Rg4)によって構成
されている。
【0022】また、複合センサ20の静圧センサは、ダ
イアフラム21の外周部であり、チップの4隅に形成さ
れた小型の静圧ダイアフラム22a〜22dと、これら
ダイアフラム22a〜22dの上に配置されたp型のゲ
ージ抵抗(感歪ゲージ)23a〜23d(Rs1〜Rs4)
によって構成される。
【0023】これら差圧センサと静圧センサのゲージ抵
抗は、応力に関して最大の抵抗変化を示す<110>方
向に配列しておく。ここで、特に、静圧ゲージは差圧に
よる影響を相殺するため4つのゲージ抵抗すべてが、差
圧ダイアフラム21からみて半径方向に配列されてい
る。一方、温度センサ25は、これも不純物拡散によっ
て形成されるが、応力にはほとんど感度がない<100
>方向に配置して、温度のみ感度をもたせる。これらの
ゲージ抵抗は、抵抗変化を検出するため、アルミ等によ
る配線27によってワイヤボンディング用のパッド1〜
12へ引き出される。
【0024】また、アルミ等の配線27とシリコンのオ
ーミック接続をとるため、配線27とゲージ抵抗との間
にゲージ抵抗と同じ導伝型の低抵抗部(高濃度不純物
層、p+層)26を設けている。ただし、ゲージ抵抗2
3a〜23d、24a〜24d、25と配線27の間で
直接オーミック接続がとれるような場合には低抵抗部2
6は不要である。図1に示す実施例では、さらに、シリ
コン基板の電位を安定させるため基板と同じ導伝型の高
濃度不純物層(n+層)28を設け、これに一定の電位
を与える。
【0025】複合センサ20は、圧力印加のためパイレ
ックスガラス、或いはシリコンから成る台30にボンデ
ィングされている。ダイアフラムの有効面積を減らすこ
と無く、ボンディング領域を広げ、接合強度の向上を図
るため、異方性エッチングを用いて差圧ダイアフラム2
1は8角形に加工される。そして、上述したように、チ
ップの4隅に静圧ダイアフラムが配置される。
【0026】図2及び図3は、静圧ゲージの配置例であ
り、静圧ゲージ23a及び23bを示す。ただし、この
例では、伝送器用の複合センサを考慮し、静圧ダイアフ
ラム22a〜22dは、板厚が差圧ダイアフラム21と
同じ10〜30μm程度であり、200μm角程度の正方
形とした。このため、一つの静圧ゲージを4〜6本のス
トリングに分割し、低抵抗部26を用いて接続した。
【0027】図2の例において、複数のゲージストリン
グ23aの長手方向は、ダイアフラム22aに外接する
円の半径方向に平行となるように配列されている。ゲー
ジストリング23aを、図2に示すように配列すると、
静圧が印加された場合、ゲージストリング23aの長手
方向に大きな応力が働き、ピエゾ抵抗効果によって抵抗
値が増加する。このように、ゲージストリングの長手方
向が、ダイアフラムに外接する円の半径方向に平行とな
るように配列された、ゲージをLゲージと定義する。
【0028】一方、図3の例において、複数のゲージス
トリング23bの長手方向は、ダイアフラム22bに外
接する円の接線方向に平行となるように配列されてい
る。ゲージストリング23bを、図3に示すように配列
すると、静圧が印加された場合、ゲージストリング23
bの横手方向に大きな応力が働き、抵抗値が減少する。
このように、ゲージストリングの長手方向が、ダイアフ
ラムに外接する円の接線方向に平行となるように配列さ
れた、ゲージをTゲージと定義する。
【0029】したがって、静圧ゲージ23a(Rs1)と
23c(Rs3)をLゲージとし、静圧ゲージ23b(R
s2)と23d(Rs4)をTゲージとして、図4に示すブ
リッジ回路を構成することにより、静圧にほぼ比例した
ブリッジ出力ΔEsを得ることができる。なお、静圧ゲ
ージ23a及び23bはブリッジ回路の高電位側に接続
され、静圧ゲージ23c及び23dはブリッジ回路の低
電位側に接続されている。
【0030】差圧センサに関しては、差圧ダイアフラム
21に外接する円の半径方向を長手方向とするLゲージ
24a(Rg1)及び24c(Rg3)と上記円の接線方向
を長手方向とするTゲージ24b(Rg2)及び24d
(Rg4)を図4に示すブリッジ回路のように、構成する
ことによって、ほぼ差圧に比例したブリッジ出力ΔEd
を得ることができる。
【0031】次に、本実施例によって静圧センサに及ぶ
差圧の影響が相殺できることを証明する。まず、図5を
用いて静圧センサに差圧の影響が及ぶメカニズムを説明
する。差圧の入力によって差圧ダイアフラム21が、図
1の(b)における下方または上方に変位すると、静圧
ダイアフラム22bは、差圧ダイアフラム21に近接し
ているため、この変位に引っ張られて静圧ゲージ23b
にもが力が働く。特に、静圧ダイアフラムは、エッチン
グ等によって薄く加工されているため、その応力σΔp
は拡大されてしまう。この差圧に起因する応力によって
静圧ゲージの抵抗値が変化してしまう。
【0032】差圧による静圧ゲージの抵抗値変化の正負
方向は、静圧ゲージの配列と差圧ダイアフラムとの位置
関係によって決まる。そこで、静圧ゲージの、静圧ダイ
アフラムに対する配列関係と、差圧ダイアフラムに対す
る配列関係とによって図6に示すように、静圧ゲージを
分類する。
【0033】まず、図6の(a)に示す静圧ゲージは2
31は、、静圧ダイアフラム22に対してLゲージであ
り、差圧ダイアフラム21に対してもゲージ長手方向が
半径方向に平行なのでこれもLゲージである。したがっ
て、この静圧ゲージ231をRLlとする。RLlのL(ラ
ージエル)は、静圧ゲージ231の静圧ダイアフラムに
対する関係を示し、l(スモールエル)は、静圧ゲージ
231の差圧ダイアフラムに対する関係を示す。
【0034】次に、図6の(b)に示す静圧ゲージ23
2は、静圧ダイアフラム22に対してLゲージであり、
差圧ダイアフラム21に対しては、ゲージ長手方向が接
線方向に平行なのでTゲージである。したがって、この
静圧ゲージ232をRLtとする。
【0035】同様に、図6の(c)に示す静圧ゲージ2
33は、静圧ダイアフラム22に対してTゲージ、差圧
ダイアフラム21に対してLゲージであるので、RTlと
する。そして、図6の(d)に示す静圧ゲージ234
は、静圧ダイアフラム22に対してTゲージ、差圧ダイ
アフラム21に対してもTゲージであるので、RTtとす
る。
【0036】これら4種類の静圧ゲージ231〜234
について静圧入力時の抵抗変化及び差圧入力時の抵抗変
化について測定すると、図7及び図8に示す様になっ
た。図7は、静圧による静圧ゲージの抵抗変化であり、
縦軸が抵抗変化ΔR/Rを示し、横軸が静圧PSを示
す。また、図8は、差圧による静圧ゲージの抵抗変化で
あり、縦軸が抵抗変化ΔR/Rを示し、横軸が差圧変化
ΔPを示す。
【0037】図7及び図8において、静圧入力時にはR
LlとRLtはほぼ直線的に増加し、RTlとRTtはほぼ直線
的に減少する。差圧入力時には、非常に大きな非線形性
の抵抗変化を示すが、RLl及びRTlは、下に凸な特性、
RLt及びRTtは上に凸な特性を示すことが分かった。こ
れを数式で表現すると、次式(1)〜(4)のようにな
る。 ΔRLl/RLl = kPs + f(Δp) ・・・ (1) ΔRLt/RLt = kPs − f(Δp) ・・・ (2) ΔRTl/RTl = −kPs + f(Δp) ・・・ (3) ΔRTt/RTt = −kPs − f(Δp) ・・・ (4) ただし、上記式において、kは静圧Psに対する抵抗変
化の感度、f(Δp)は差圧に対する非線形特性を表す
関数である。
【0038】通常、オフセット電圧をゼロにするため静
圧ゲージの抵抗値をほぼ等しく形成するが、この場合、
静圧ブリッジ回路の出力は図4に示したブリッジ回路に
対応して次式(5)のように表される。 ΔES = ((ΔRS1/RS1)+(ΔRS3/RS3)−(ΔRS2/RS2 )−(ΔRS4/RS4))・E ・・・ (5) ただし、上記式において、E(31)は励起電圧であ
る。
【0039】図1に示した例のようにRs1、Rs3にR
Llのタイプの静圧ゲージを採用し、Rs2、Rs4にRTl
のタイプの静圧ゲージを採用すると、静圧センサの出力
ΔESは、式(1)及び(3)を式(5)に代入して次
式(6)となる。 ΔES = 4kPS ・・・ (6) したがって、図1の例によれば静圧負荷に対してはフル
ブリッジとして働き、静圧センサは、大きな出力(4k
PS)を得ることができると同時に差圧の影響を相殺す
ることができる((6)式には、差圧に対する関数f
(Δp)が無い)。
【0040】図9は、静圧センサの出力(感度)を最大
の4kとする静圧ゲージの組み合わせにおいて、差圧影
響がどのようになるかを調べた結果を示す表である。図
9において、矢印は、ゲージタイプを互いに交換して
も、同一の結果となることを示す。
【0041】上述した例は、図9のNO.1の場合に相
当する。このNO.1の場合には、差圧Δpの影響が0
となっている。このNO.1の場合の他に、差圧Δpの
影響が0のもの(case3)は、Rs1、Rs3のどちらか
一方をRLlタイプに、他方をRLtタイプとし、Rs2、
Rs4のどちらか一方をRTlタイプ、他方をRTtタイプ
に選ぶNO.5、また、Rs1、Rs3にRLtタイプと
し、Rs2、Rs4にRTtタイプのゲージを選ぶNO.9
がある。
【0042】その他の場合(NO.2、3、4、6、
7、8(case2、1、4、2、5、4))においては、静圧センサの
出力は最大(4k)となるが、差圧Δpの影響が存在す
る結果となっている(±2f(Δp)、±4f(Δ
p))。
【0043】図10は、静圧ゲージの組み合わせによっ
て、差圧影響がどのように変化するかを示したグラフで
ある。図1の例は、太い実線で示したcase3であり、差
圧の影響が相殺され、差圧の大きさに係わらず0であ
る。これは、上述したが、図9のNO.1、NO.5、
NO.9の組み合わせに相当する。
【0044】また、case1(破線図示)は、図9のN
O.3の組み合わせの場合、case5(−Δ−線図示)は
NO.7の組み合わせであり、最もひどい差圧影響が現
れる。case2(一点鎖線図示)は、NO.2及びNO.
6の組み合わせであり、case4(二点鎖線)は、NO.
4及びNO.8の組み合わせであり、これらも差圧の影
響が残る。
【0045】以上述べたように、本発明の一実施例によ
れば、図9のNO.1(図1の構成)、NO.5又はN
O.9の静圧ゲージの組み合わせを採用することによっ
て、静圧センサの静圧入力時の出力を最大にし、同時に
差圧入力時の影響を充分抑制できる複合センサを実現す
ることができる。
【0046】また、本発明の一実施例によれば、差圧ダ
イアフラムに対して、静圧ダイアフラムを対称に配置し
たので、特に、歪ゲージを差圧ダイアフラムの受圧中心
について対称に配置したので、差圧歪による影響をより
効果的に抑制することができる。
【0047】図11は、本発明の他の実施例の要部概略
構成図であり、静圧ダイアフラムが複合センサに2つ形
成される例である。ただし、図11においては、静圧ダ
イアフラムと静圧ゲージの配列状態を示し、他の構成は
図1の例と同様となる。
【0048】図11において、静圧ダイアフラム22e
及び22fの形状は、正方形であり、静圧ダイアフラム
22e上に静圧ゲージ23a及び23bが配置され、静
圧ダイアフラム22f上に静圧ゲージ23c及び23d
が配置される。そして、静圧ゲージ23aは、その長手
方向が、差圧ダイアフラム21に外接する円の半径方向
及び静圧ダイアフラム22eに外接する円の半径方向に
平行となるように配列される(RLl)。また、静圧ゲー
ジ23bは、その長手方向が、差圧ダイアフラム21に
外接する円の半径方向及び静圧ダイアフラム22eに外
接する円の接線方向に平行となるように配列される(R
Tl)。
【0049】また、静圧ゲージ23cは、その長手方向
が、差圧ダイアフラム21に外接する円の半径方向及び
静圧ダイアフラム22fに外接する円の半径方向に平行
となるように配列される(RLl)。また、静圧ゲージ2
3dは、その長手方向が、差圧ダイアフラム21に外接
する円の半径方向及び静圧ダイアフラム22fに外接す
る円の接線方向に平行となるように配列される(RT
l)。
【0050】そして、これら静圧ゲージ23a、23
b、23c、23dが図4に示したホイートストンブリ
ッジ回路を構成する。図11に示した例においても、図
1に示した例と同様な効果を得ることができる。
【0051】図12は、上記複合センサを利用した差
圧、圧力伝送器(複合伝送器)の一実施例である。図1
2において、20は本発明による複合センサ、102は
高圧側と低圧側とを隔てるセンタダイアフラム、103
a及び103bは外部環境と伝送器内部の圧力伝達媒体
(シリコンオイル等)とを隔て、外部の圧力を受けるシ
ールダイアフラム、104はSUS等からなる伝送器本
体、105a及び105bは圧力導入口、106は複合
センサ20の出力を増幅し、補正演算を行う信号処理部
(補正演算手段)である。なお、センタダイアフラム1
02、シールダイアフラム103a及び103b、伝送
器本体104、圧力導入口105a及び105bによ
り、複合センサに圧力を導入し、保護する受圧手段が構
成される。
【0052】このインテリジェント複合伝送器に、上述
した複合センサ20を用いることによって、最大出力が
得られ、かつ、差圧に影響されない正確な静圧値が検出
できる。また、差圧センサの出力も100気圧以上に及
ぶ大きな静圧によって影響を受けるが、正確な静圧値を
検知できるので、高精度の補正が実現でき、差圧検出の
精度も向上できる。
【0053】次に、複合伝送器に用いられる信号処理部
106の例を図13にブロック図として示す。図13に
おいて、複合センサ20の差圧センサDPS、静圧セン
サSPS及び温度センサTSのゲージ抵抗変化が、マル
チプレクサ201に選択的に取り込まれ、プログラマブ
ルゲインアンプ202で増幅される。
【0054】次に、アンプ202により増幅された抵抗
変化信号は、A/D変換器203でデジタル信号に変換
され、マイクロコンピュータ205に送信される。メモ
リ204には、予め差圧センサDSP、静圧センサSP
S、温度センサTSの各特性データが記憶されている。
そして、マイクロコンピュータ(演算部)205は、メ
モリ(記憶部)204に記憶された特性データに基づ
き、各センサの出力を補正し、高精度に差圧及び静圧を
算出する。
【0055】マイクロコンピュータ205により算出さ
れた差圧データ及び静圧データは、D/A変換器206
で、アナログ信号に変換され、電圧−電流変換器207
を介して、上位計器等に出力される。
【0056】上記信号処理部106の構成の特徴は、以
下に述べるメモリ204とマイクロコンピュータ205
の部分である。すなわち、メモリ204に差圧センサD
PS、静圧センサSPS、温度センサTSの各特性を補
正マップとして予め記憶させる。この補正マップは差圧
センサ出力ΔEd、静圧センサ出力ΔEs、温度センサ出
力ΔEtを3次元的に表したものである。
【0057】図14は、マイクロコンピュータ205及
びメモリ204を機能的に示したブロック図である。図
14において、静圧センサSPS及び温度センサTSの
出力信号から、メモリ204に記憶されたマップ302
を用いて温度補正された正確な静圧値を算出し、これを
出力する。この正確な静圧値と差圧センサDSPからの
差圧出力信号を、減算部304で補正する。そして、減
算部304で静圧補正された差圧出力信号は、さらに温
度センサTSの出力信号とメモリ204に記憶されたマ
ップ303とを用いて温度補正し、正確な差圧値を得
る。
【0058】図15は、従来例に対応し、静圧センサの
出力信号が差圧により影響を受ける場合の例であり、こ
れに対処するためのマイクロコンピュータ及びメモリの
機能ブロック212を示す図である。図15において、
差圧センサ209からの差圧信号は、温度センサ208
からの温度信号により、マップ301が用いられ、温度
補正される。そして、温度補正された差圧信号は、減算
部305において、静圧センサ210からの静圧信号と
減算処理され、静圧信号が補正される。そして、補正さ
れた静圧信号は、温度センサからの温度信号により、マ
ップ302が用いられ、温度補正される。
【0059】次に、温度補正された静圧信号は、減算部
304にて、差圧信号と減算処理され、差圧信号が補正
される。補正された差圧信号は、温度信号によりマップ
303が用いられ、温度補正される。
【0060】このように、図15に示した例では、静圧
センサの出力は、差圧に大きく影響されていたため、こ
れも補正しなければならず、図14に示した本発明の例
と比較して、マップ301及び減算部305が必要であ
り、処理が複雑となっていた。 本発明の例において
は、差圧影響が抑制された静圧センサを構成したため、
静圧信号を差圧信号で補正する必要が無く、補正演算処
理を簡略化することができる。
【0061】以上のように、本発明の複合伝送器を用い
れば、1つの複合センサを用いた1台の伝送器で差圧と
静圧の検出が可能な複合伝送器を実現することができ
る。さらに、補正演算も簡略化できる。
【0062】なお、上記実施例において、静圧ダイアフ
ラムの形状は、正方形としたが、正方形に限らず、例え
ば、六角形、八角形、円等の他の形状でもよい。また、
上記実施例においては、差圧ダイアフラムの形状を八角
形としたが、円等の他の形状であってもよい。
【0063】また、上記実施例においては、複合センサ
に4つ及び2つの静圧ダイヤフラムが形成されている
が、静圧ダイヤフラムの数は、4つ及び2つに限らず、
3つ又は1つであってもよい。ただし、4つの静圧ゲー
ジ全てが、静圧ダイアフラム上に配置され、かつ、全静
圧ゲージの長手方向が、差圧ダイアフラムに外接又は内
接する円の半径方向に平行であるか、上記円の接線方向
に平行とする。または、4つの静圧ゲージ全てが、静圧
ダイアフラム上に配置され、かつ、ホイートストンブリ
ッジ回路の高電位側の2つの静圧ゲージのうち、一方の
長手方向が、差圧ダイアフラムに外接又は内接する円の
半径方向に平行で、他方の長手方向が、上記円の接線方
向に平行であり、上記ブリッジ回路の低電位側の2つの
静圧ゲージのうち、一方の長手方向が、上記円の半径方
向に平行で、他方の長手方向が、上記円の接線方向に平
行とする。また、静圧検出用のダイアフラムがの形成さ
れる位置は、シリコン基板の四隅の領域のいずれの領域
であってもよい。
【0064】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているため、次のような効果がある。複合センサにおい
て、全ての感歪ゲージの長手方向が、差圧ダイアフラム
の外接円の半径方向又は接線方向にほぼ平行となるよう
に配列されている。或いは、ホイートストンブリッジ回
路の高電位側の一方の静圧検出手段の感歪ゲージは、長
手方向が、差圧ダイアフラムの外接円の半径方向にほぼ
平行となるように配列され、他方の静圧検出手段の感歪
ゲージは、長手方向が、上記円の接線方向にほぼ平行と
なるように配列され、かつ、ブリッジ回路の低電位側の
一方の静圧検出手段の感歪ゲージは、長手方向が、上記
円の半径方向にほぼ平行となるように配列され、他方の
静圧検出手段の感歪ゲージは、長手方向が、上記円の接
線方向にほぼ平行となるように配列されている。これに
より、静圧入力時にも最大出力を得ることができるとと
もに、差圧の影響を抑制できる複合センサ及びこれを用
いた複合伝送器を実現することができる。
【0065】さらに、静圧や温度の補正手順が簡略化で
き、計測にかかる測定時間の短縮も図れる。さらに、本
発明によれば、差圧と静圧と一つの複合センサで高精度
に検出できるため、差圧検出伝送器の機能と圧力(静
圧)伝送器の機能と有する複合伝送器を実現することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である複合センサの概略構成
図である。
【図2】静圧ゲージの配置の一例を示す図である。
【図3】静圧ゲージの配置の他の例を示す図である。
【図4】静圧ゲージ及び差圧ゲージにより構成されるホ
イーストンブリッジ回路を示す図である。
【図5】差圧ダイアフラムの静圧ゲージに与える影響に
ついての説明図である。
【図6】静圧ゲージの配列の分類を示す図である。
【図7】静圧ゲージの静圧による抵抗変化を示す図であ
る。
【図8】静圧ゲージの差圧による抵抗変化を示す図であ
る。
【図9】静圧ゲージの配列の組み合わせに対する差圧の
影響を示す表である。
【図10】静圧ゲージの配列の組み合わせに対する差圧
の影響を示すグラフである。
【図11】本発明の他の実施例である複合センサの要部
概略構成図である。
【図12】本発明の一実施例である複合センサが用いら
れた複合伝送器の概略構成図である。
【図13】複合伝送器における信号処理部のブロック図
である。
【図14】図13の信号処理部におけるマイクロコンピ
ュータ及びメモリを機能的に示したブロック図である。
【図15】従来における複合伝送器の信号処理部におけ
るマイクロコンピュータ及びメモリを機能的に示したブ
ロック図である。
【符号の説明】
1〜12 複合センサ出力用端子 20 複合センサ 21 差圧センサ用ダイアフラム(差圧ダ
イアフラム) 22a〜22f 静圧センサ用ダイアフラム(静圧ダ
イアフラム) 23a〜23d 静圧センサ用ゲージ抵抗 24a〜24d 差圧センサ用ゲージ抵抗 25 温度センサ用ゲージ抵抗 26 低抵抗部(高濃度不純物層) 27 配線部 28 基板と同じ導伝型の高濃度不純物層 30 台 31 励起電源 102 センタダイアフラム 103a、103bシールダイアフラム 104 複合伝送器本体 105a、105b圧力導入部 106 信号処理部 201 マルチプレクサ 202 プログラマブルゲインアンプ 203 A/D変換器 204 メモリ 205 マイクロコンピュータ 206 D/A変換器 207 電圧電流変換器 231 静圧ゲージRLl 232 静圧ゲージRLt 233 静圧ゲージRTl 234 静圧ゲージRTt 302、303 特性補正用マップ 304 減算部 DPS 差圧センサ SPS 静圧センサ TS 温度センサ

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 単結晶シリコン基板に形成され、差圧検
    出手段が配置された差圧検出用のダイアフラムと、上記
    シリコン基板に形成された少なくとも一つの静圧検出用
    のダイアフラムと、この静圧検出用のダイアフラム上に
    形成され、感歪ゲージを有する4つの静圧検出手段とを
    備え、これら4つの静圧検出手段によりホイートストン
    ブリッジ回路が構成される複合センサにおいて、 全ての上記感歪ゲージは、これら感歪ゲージの長手方向
    が、差圧ダイアフラムに外接する円の半径方向にほぼ平
    行となるように、上記静圧検出用ダイアフラムに配列さ
    れていることを特徴とする複合センサ。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の複合センサにおいて、上
    記単結晶シリコン基板に、温度検出手段が配置されてい
    ることを特徴とする複合センサ。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の複合センサにおい
    て、上記静圧検出用のダイアフラムは、複数であり、こ
    れら複数の静圧検出用のダイヤフラムのそれぞれに、上
    記静圧検出手段が配置されていることを特徴とする複合
    センサ。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2記載の複合センサにおい
    て、上記シリコン基板は、四角形であり、上記差圧検出
    用ダイアフラムは上記シリコン基板のほぼ中央部に形成
    され、上記静圧検出用のダイアフラムは、上記シリコン
    基板の四隅の領域のうちのいずれかの領域に形成されて
    いることを特徴とする複合センサ。
  5. 【請求項5】 請求項1又は2記載の複合センサにおい
    て、上記シリコン基板は、四角形であり、上記差圧検出
    用ダイアフラムは上記シリコン基板のほぼ中央部に形成
    され、上記静圧検出用のダイアフラムは、4つであり、
    上記シリコン基板の四隅の領域のそれぞれに、一つづつ
    に形成されていることを特徴とする複合センサ。
  6. 【請求項6】 請求項5記載の複合センサにおいて、上
    記差圧検出用ダイアフラムは、八角形であることを特徴
    とする複合センサ。
  7. 【請求項7】 請求項1又は2記載の複合センサにおい
    て、上記単結晶シリコン基板は、(001)面シリコン
    単結晶であり、上記差圧検出用ダイアフラム及び静圧検
    出用ダイアフラムは、異方性エッチングを含むエッチン
    グによって上記シリコン基板に形成されていることを特
    徴とする複合センサ。
  8. 【請求項8】 請求項1又は2記載の複合センサにおい
    て、上記ホイートストンブリッジ回路の高電位側に接続
    される2つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検出手段
    の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、この感
    歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外接する円の
    半径方向にほぼ平行となるように配列され、他方の静圧
    検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向
    が、この感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外
    接する円の接線方向にほぼ平行となるように配列され、
    かつ、上記ホイートストンブリッジ回路の低電位側に接
    続される2つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検出手
    段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、この
    感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外接する円
    の半径方向にほぼ平行となるように配列され、他方の静
    圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向
    が、この感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外
    接する円の接線方向にほぼ平行となるように配列されて
    いることを特徴とする複合センサ。
  9. 【請求項9】 単結晶シリコン基板に形成され、差圧検
    出手段が配置された差圧検出用のダイアフラムと、上記
    シリコン基板に形成された少なくとも一つの静圧検出用
    のダイアフラムと、この静圧検出用のダイアフラム上に
    形成され、感歪ゲージを有する4つの静圧検出手段とを
    備え、これら4つの静圧検出手段によりホイートストン
    ブリッジ回路が構成される複合センサにおいて、 全ての上記感歪ゲージは、これら感歪ゲージの長手方向
    が、差圧ダイアフラムに外接する円の接線方向にほぼ平
    行となるように、上記静圧検出用ダイアフラムに配列さ
    れていることを特徴とする複合センサ。
  10. 【請求項10】 請求項9記載の複合センサにおいて、
    上記単結晶シリコン基板に、温度検出手段が配置されて
    いることを特徴とする複合センサ。
  11. 【請求項11】 請求項9又は10記載の複合センサに
    おいて、上記静圧検出用のダイアフラムは、複数であ
    り、これら複数の静圧検出用のダイヤフラムのそれぞれ
    に、上記静圧検出手段が配置されていることを特徴とす
    る複合センサ。
  12. 【請求項12】 請求項9又は10記載の複合センサに
    おいて、上記シリコン基板は、四角形であり、上記差圧
    検出用ダイアフラムは上記シリコン基板のほぼ中央部に
    形成され、上記静圧検出用のダイアフラムは、上記シリ
    コン基板の四隅の領域のうちのいずれかの領域に形成さ
    れていることを特徴とする複合センサ。
  13. 【請求項13】 請求項9又は10記載の複合センサに
    おいて、上記シリコン基板は、四角形であり、上記差圧
    検出用ダイアフラムは上記シリコン基板のほぼ中央部に
    形成され、上記静圧検出用のダイアフラムは、4つであ
    り、上記シリコン基板の四隅の領域のそれぞれに、一つ
    づつに形成されていることを特徴とする複合センサ。
  14. 【請求項14】 請求項13記載の複合センサにおい
    て、上記差圧検出用ダイアフラムは、八角形であること
    を特徴とする複合センサ。
  15. 【請求項15】 請求項9又は10記載の複合センサに
    おいて、上記単結晶シリコン基板は、(001)面シリ
    コン単結晶であり、上記差圧検出用ダイアフラム及び静
    圧検出用ダイアフラムは、異方性エッチングを含むエッ
    チングによって上記シリコン基板に形成されていること
    を特徴とする複合センサ。
  16. 【請求項16】 請求項9又は10記載の複合センサに
    おいて、上記ホイートストンブリッジ回路の高電位側に
    接続される2つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検出
    手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、こ
    の感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外接する
    円の半径方向にほぼ平行となるように配列され、他方の
    静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方
    向が、この感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに
    外接する円の接線方向にほぼ平行となるように配列さ
    れ、かつ、上記ホイートストンブリッジ回路の低電位側
    に接続される2つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検
    出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、
    この感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外接す
    る円の半径方向にほぼ平行となるように配列され、他方
    の静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手
    方向が、この感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラム
    に外接する円の接線方向にほぼ平行となるように配列さ
    れていることを特徴とする複合センサ。
  17. 【請求項17】 単結晶シリコン基板に形成され、差圧
    検出手段が配置された差圧検出用のダイアフラムと、上
    記シリコン基板に形成された少なくとも一つの静圧検出
    用のダイアフラムと、この静圧検出用のダイアフラム上
    に形成され、感歪ゲージを有する4つの静圧検出手段と
    を備え、これら4つの静圧検出手段によりホイートスト
    ンブリッジ回路が構成される複合センサにおいて、 上記ホイートストンブリッジ回路の高電位側に接続され
    る2つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検出手段の感
    歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、差圧ダイア
    フラムに外接する円の半径方向にほぼ平行となるように
    配列され、他方の静圧検出手段の感歪ゲージは、この感
    歪ゲージの長手方向が、上記円の接線方向にほぼ平行と
    なるように配列され、かつ、上記ホイートストンブリッ
    ジ回路の低電位側に接続される2つの静圧検出手段のう
    ちの一方の静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲー
    ジの長手方向が、上記円の半径方向にほぼ平行となるよ
    うに配列され、他方の静圧検出手段の感歪ゲージは、こ
    の感歪ゲージの長手方向が、上記円の接線方向にほぼ平
    行となるように配列されていることを特徴とする複合セ
    ンサ。
  18. 【請求項18】 請求項17記載の複合センサにおい
    て、上記単結晶シリコン基板に、温度検出手段が配置さ
    れていることを特徴とする複合センサ。
  19. 【請求項19】 請求項17又は18記載の複合センサ
    において、上記静圧検出用のダイアフラムは、複数であ
    り、これら複数の静圧検出用のダイヤフラムのそれぞれ
    に、上記静圧検出手段が配置されていることを特徴とす
    る複合センサ。
  20. 【請求項20】 請求項17又は18記載の複合センサ
    において、上記シリコン基板は、四角形であり、上記差
    圧検出用ダイアフラムは上記シリコン基板のほぼ中央部
    に形成され、上記静圧検出用のダイアフラムは、上記シ
    リコン基板の四隅の領域のうちのいずれかの領域に形成
    されていることを特徴とする複合センサ。
  21. 【請求項21】 請求項17又は18記載の複合センサ
    において、上記シリコン基板は、四角形であり、上記差
    圧検出用ダイアフラムは上記シリコン基板のほぼ中央部
    に形成され、上記静圧検出用のダイアフラムは、4つで
    あり、上記シリコン基板の四隅の領域のそれぞれに、一
    つづつに形成されていることを特徴とする複合センサ。
  22. 【請求項22】 請求項21記載の複合センサにおい
    て、上記差圧検出用ダイアフラムは、八角形であること
    を特徴とする複合センサ。
  23. 【請求項23】 請求項17又は18記載の複合センサ
    において、上記単結晶シリコン基板は、(001)面シ
    リコン単結晶であり、上記差圧検出用ダイアフラム及び
    静圧検出用ダイアフラムは、異方性エッチングを含むエ
    ッチングによって上記シリコン基板に形成されているこ
    とを特徴とする複合センサ。
  24. 【請求項24】 請求項17又は18記載の複合センサ
    において、上記ホイートストンブリッジ回路の高電位側
    に接続される2つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検
    出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、
    この感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外接す
    る円の半径方向にほぼ平行となるように配列され、他方
    の静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手
    方向が、この感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラム
    に外接する円の接線方向にほぼ平行となるように配列さ
    れ、かつ、上記ホイートストンブリッジ回路の低電位側
    に接続される2つの静圧検出手段のうちの一方の静圧検
    出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、
    この感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラムに外接す
    る円の半径方向にほぼ平行となるように配列され、他方
    の静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手
    方向が、この感歪ゲージが配置される静圧ダイアフラム
    に外接する円の接線方向にほぼ平行となるように配列さ
    れていることを特徴とする複合センサ。
  25. 【請求項25】 差圧検出手段が配置された差圧検出用
    のダイアフラムと少なくとも一つの静圧検出用のダイア
    フラムとこの静圧検出用のダイアフラム上に形成され、
    感歪ゲージを有する4つの静圧検出手段とを有し、これ
    ら4つの静圧検出手段によりホイートストンブリッジ回
    路が構成される複合センサと、この複合センサに圧力を
    導入し、保護する受圧手段とを備え、差圧信号を伝送す
    る複合伝送器において、 上記複合センサの全ての上記感歪ゲージは、これら感歪
    ゲージの長手方向が、差圧ダイアフラムに外接する円の
    半径方向にほぼ平行となるように、上記静圧検出用ダイ
    アフラムに配列されていることを特徴とする複合伝送
    器。
  26. 【請求項26】 差圧検出手段が配置された差圧検出用
    のダイアフラムと少なくとも一つの静圧検出用のダイア
    フラムとこの静圧検出用のダイアフラム上に形成され、
    感歪ゲージを有する4つの静圧検出手段とを有し、これ
    ら4つの静圧検出手段によりホイートストンブリッジ回
    路が構成される複合センサと、この複合センサに圧力を
    導入し、保護する受圧手段とを備え、差圧信号を伝送す
    る複合伝送器において、 上記複合センサの全ての上記感歪ゲージは、これら感歪
    ゲージの長手方向が、差圧ダイアフラムに外接する円の
    接線方向にほぼ平行となるように、上記静圧検出用ダイ
    アフラムに配列されていることを特徴とする複合伝送
    器。
  27. 【請求項27】 差圧検出手段が配置された差圧検出用
    のダイアフラムと少なくとも一つの静圧検出用のダイア
    フラムとこの静圧検出用のダイアフラム上に形成され、
    感歪ゲージを有する4つの静圧検出手段とを有し、これ
    ら4つの静圧検出手段によりホイートストンブリッジ回
    路が構成される複合センサと、この複合センサに圧力を
    導入し、保護する受圧手段とを備え、差圧信号を伝送す
    る複合伝送器において、 上記複合センサの上記ホイートストンブリッジ回路の高
    電位側に接続される2つの静圧検出手段のうちの一方の
    静圧検出手段の感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方
    向が、差圧ダイアフラムに外接する円の半径方向にほぼ
    平行となるように配列され、他方の静圧検出手段の感歪
    ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、上記円の接線
    方向にほぼ平行となるように配列され、かつ、上記ホイ
    ートストンブリッジ回路の低電位側に接続される2つの
    静圧検出手段のうちの一方の静圧検出手段の感歪ゲージ
    は、この感歪ゲージの長手方向が、上記円の半径方向に
    ほぼ平行となるように配列され、他方の静圧検出手段の
    感歪ゲージは、この感歪ゲージの長手方向が、上記円の
    接線方向にほぼ平行となるように配列されていることを
    特徴とする複合伝送器。
  28. 【請求項28】 請求項25、26又は27記載の複合
    伝送器において、上記静圧検出手段により検出された静
    圧データに基づき、上記差圧検出手段により検出された
    差圧データを補正する補正演算手段を備えることを特徴
    とする複合伝送器。
  29. 【請求項29】 請求項25、26又は27記載の複合
    伝送器において、上記複合センサに配置される温度検出
    手段と、この温度検出手段によって検出された温度に基
    づいて、静圧検出手段により検出された静圧データを温
    度補正し、温度補正された静圧データに基づいて、差圧
    検出手段により検出された差圧データを補正し、この補
    正された差圧データを、上記温度検出手段により検出さ
    れた温度に基づいて、温度補正する補正演算手段とを備
    えることを特徴とする複合伝送器。
  30. 【請求項30】 請求項29記載の複合伝送器におい
    て、上記補正演算手段は、演算部と、記憶部とを有し、
    この記憶部には、静圧検出手段が検出する静圧値の温度
    補正データと、差圧検出手段が検出する差圧値の温度補
    正データと、差圧検出手段が検出する差圧値の静圧補正
    データとが、予め記憶され、上記演算部は、上記記憶部
    に記憶された各補正データに基づいて、静圧検出手段及
    び差圧検出手段の検出データを補正することを特徴とす
    る複合伝送器。
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