JPH07310096A - 洗浄材 - Google Patents
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Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 単一の溶剤からなり、不快臭がなく、洗浄
力、安全性に優れ、ゴムを膨潤しにくく、かつ、環境汚
染の心配がなく、安価であり、フロン・塩素系溶剤の代
替品として使用できる洗浄材を開発する。 【構成】 石油留分を芳香族核の水素添加用金属触媒を
用いて、特定の条件下に核水素添加処理し、次いで精密
蒸留して得られた芳香族炭化水素含有量が3wt%以
下、沸点が150〜200℃の範囲にある成分を主とし
て、かつノルマルパラフィンが20〜40wt%、イソ
パラフィンが15〜35wt%、ナフテンが30〜60
wt%である炭素数C9 〜C10の炭化水素混合物からな
ることを特徴とする。
力、安全性に優れ、ゴムを膨潤しにくく、かつ、環境汚
染の心配がなく、安価であり、フロン・塩素系溶剤の代
替品として使用できる洗浄材を開発する。 【構成】 石油留分を芳香族核の水素添加用金属触媒を
用いて、特定の条件下に核水素添加処理し、次いで精密
蒸留して得られた芳香族炭化水素含有量が3wt%以
下、沸点が150〜200℃の範囲にある成分を主とし
て、かつノルマルパラフィンが20〜40wt%、イソ
パラフィンが15〜35wt%、ナフテンが30〜60
wt%である炭素数C9 〜C10の炭化水素混合物からな
ることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄材に関し、更に詳し
くは毒性、環境汚染の恐れがなく、かつ洗浄力に優れ、
ゴムを膨潤させにくい洗浄材に関する。
くは毒性、環境汚染の恐れがなく、かつ洗浄力に優れ、
ゴムを膨潤させにくい洗浄材に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より洗浄材として用いられてきたフ
ロン、塩素系溶剤などは、環境破壊などのためにその代
替洗浄材が求められており、既に炭化水素系溶剤が一
部、洗浄材用途に利用されている。現在、洗浄材用途に
用いられている炭化水素系溶剤において、ナフテン系溶
剤は脱脂力に優れているものの臭気に不快感がある問題
があり、イソパラフィン系溶剤は臭いはほとんど無いも
ののナフテン系溶剤に比べて洗浄力が劣る問題があり、
ノルマルパラフィン系溶剤は洗浄力は劣るもののゴムな
どを膨潤させにくい点で優れている、などそれぞれ一長
一短がある。
ロン、塩素系溶剤などは、環境破壊などのためにその代
替洗浄材が求められており、既に炭化水素系溶剤が一
部、洗浄材用途に利用されている。現在、洗浄材用途に
用いられている炭化水素系溶剤において、ナフテン系溶
剤は脱脂力に優れているものの臭気に不快感がある問題
があり、イソパラフィン系溶剤は臭いはほとんど無いも
ののナフテン系溶剤に比べて洗浄力が劣る問題があり、
ノルマルパラフィン系溶剤は洗浄力は劣るもののゴムな
どを膨潤させにくい点で優れている、などそれぞれ一長
一短がある。
【0003】さらに被洗浄物に付着する汚れには、例え
ばオフセット印刷機のブランケットロールのようにイン
キ汚れと紙粉のように極性が異なる汚れが共存し付着し
ている場合があり、上記のようにナフテン系溶剤、イソ
パラフィン系溶剤およびノルマルパラフィン系溶剤など
の炭化水素溶剤単独では、極性の異なる汚れを一段階で
洗浄することは困難である。
ばオフセット印刷機のブランケットロールのようにイン
キ汚れと紙粉のように極性が異なる汚れが共存し付着し
ている場合があり、上記のようにナフテン系溶剤、イソ
パラフィン系溶剤およびノルマルパラフィン系溶剤など
の炭化水素溶剤単独では、極性の異なる汚れを一段階で
洗浄することは困難である。
【0004】前記のように極性の異なる汚れが共存する
場合、例えば前記のブランケットロールの洗浄は炭化水
素油で先ず印刷インキを除去し、その後、水で紙粉を洗
浄するなど2段階洗浄方式などがとられており、被洗浄
物に付着する汚れに応じて数種の溶剤を用いて洗浄しな
ければならない。このため洗浄時間が長くなる、溶剤の
コストが掛かる、作業性も悪い、といった問題が生じ
た。
場合、例えば前記のブランケットロールの洗浄は炭化水
素油で先ず印刷インキを除去し、その後、水で紙粉を洗
浄するなど2段階洗浄方式などがとられており、被洗浄
物に付着する汚れに応じて数種の溶剤を用いて洗浄しな
ければならない。このため洗浄時間が長くなる、溶剤の
コストが掛かる、作業性も悪い、といった問題が生じ
た。
【0005】これらの問題を解決するために、極性の異
なる汚れを1段階で洗浄するためにオフセット印刷機の
ブランケットロールの洗浄には、例えば特公平3−79
399号公報は炭化水素溶剤、水および界面活性剤から
なる乳化物を提案している。また特開昭60−1794
99号公報は沸点150〜300℃の石油系炭化水素に
アルコールおよび水を含む洗浄材を提案している。しか
し、これらの洗浄材は混合溶剤であるため作業性、経済
性の面で必ずしも満足できるものではなかった。
なる汚れを1段階で洗浄するためにオフセット印刷機の
ブランケットロールの洗浄には、例えば特公平3−79
399号公報は炭化水素溶剤、水および界面活性剤から
なる乳化物を提案している。また特開昭60−1794
99号公報は沸点150〜300℃の石油系炭化水素に
アルコールおよび水を含む洗浄材を提案している。しか
し、これらの洗浄材は混合溶剤であるため作業性、経済
性の面で必ずしも満足できるものではなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記課
題を解決し、単一の溶剤からなり、数種の極性の異なる
汚れに対して同等の洗浄力を示し、ゴムを膨潤させにく
く、臭気に不快感がなく、さらには人体に対して毒性が
少ない洗浄材を提供することにある。
題を解決し、単一の溶剤からなり、数種の極性の異なる
汚れに対して同等の洗浄力を示し、ゴムを膨潤させにく
く、臭気に不快感がなく、さらには人体に対して毒性が
少ない洗浄材を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題に
鑑み、鋭意研究した結果、石油留分を特定条件下に核水
素添加処理、精密蒸留して得られるアロマ含有量が少な
く、沸点が特定範囲にある成分を主成分として、かつノ
ルマルパラフィン、イソパラフィン、ナフテンが特定割
合である特定の炭素数を有する炭化水素混合物を洗浄材
とすることにより上記課題を解決できることを見いだし
本発明を成すに到った。
鑑み、鋭意研究した結果、石油留分を特定条件下に核水
素添加処理、精密蒸留して得られるアロマ含有量が少な
く、沸点が特定範囲にある成分を主成分として、かつノ
ルマルパラフィン、イソパラフィン、ナフテンが特定割
合である特定の炭素数を有する炭化水素混合物を洗浄材
とすることにより上記課題を解決できることを見いだし
本発明を成すに到った。
【0008】すなわち本発明は、石油留分を芳香族核の
水素添加用金属触媒を用いて、圧力30〜100kg/
cm2 、温度100〜300℃の条件下に核水素添加処
理し、次いで精密蒸留することにより得られた芳香族炭
化水素含有量が3wt%以下、沸点が150〜200℃
の範囲にある成分を主として、かつノルマルパラフィン
が20〜40wt%、イソパラフィンが15〜35wt
%、ナフテンが30〜60wt%である炭素数C9 〜C
10の炭化水素混合物からなる洗浄材に関する。
水素添加用金属触媒を用いて、圧力30〜100kg/
cm2 、温度100〜300℃の条件下に核水素添加処
理し、次いで精密蒸留することにより得られた芳香族炭
化水素含有量が3wt%以下、沸点が150〜200℃
の範囲にある成分を主として、かつノルマルパラフィン
が20〜40wt%、イソパラフィンが15〜35wt
%、ナフテンが30〜60wt%である炭素数C9 〜C
10の炭化水素混合物からなる洗浄材に関する。
【0009】以下、本発明についてさらに詳しく説明す
る。本発明の洗浄材は、灯油などの石油留分を芳香族核
の核水素添加用の金属触媒により高圧下で水素添加し、
石油中に含まれる芳香族化合物を水素添加してナフテン
系その他の炭化水素に転換させた後、精密蒸留するなど
の製造方法により製造することができる。
る。本発明の洗浄材は、灯油などの石油留分を芳香族核
の核水素添加用の金属触媒により高圧下で水素添加し、
石油中に含まれる芳香族化合物を水素添加してナフテン
系その他の炭化水素に転換させた後、精密蒸留するなど
の製造方法により製造することができる。
【0010】核水素添加用の金属触媒としては、従来知
られている芳香族の水素化用触媒であればいずれも好ま
しく使用できる。例えば、ニッケル、酸化ニッケル、ニ
ッケル/けいそう土、ラネーニッケル、ニッケル/銅、
白金、酸化白金、白金/活性炭、白金/ロジウム、白金
/アルミナ、白金/リチウム/アルミナ、ロジウム/活
性炭、パラジウム、コバルト、ラネーコバルト、ルテニ
ウム、硫化タングステン/硫化ニッケル・アルミナ、あ
るいはコバルト・モリブデンなどが好ましく使用でき
る。
られている芳香族の水素化用触媒であればいずれも好ま
しく使用できる。例えば、ニッケル、酸化ニッケル、ニ
ッケル/けいそう土、ラネーニッケル、ニッケル/銅、
白金、酸化白金、白金/活性炭、白金/ロジウム、白金
/アルミナ、白金/リチウム/アルミナ、ロジウム/活
性炭、パラジウム、コバルト、ラネーコバルト、ルテニ
ウム、硫化タングステン/硫化ニッケル・アルミナ、あ
るいはコバルト・モリブデンなどが好ましく使用でき
る。
【0011】水素添加の反応条件は、圧力は30〜10
0kg/cm2 、温度100〜300℃である。30k
g/cm2 より低い圧力または100℃より低い温度で
は水素添加が十分に進まず、また100kg/cm2 よ
り高い圧力または300℃より高い温度では分解などの
副反応が優先するのでいずれも好ましくない。処理時間
は適宜決定される。水素添加は適宜に2段以上の複数段
で行なうこともできる。
0kg/cm2 、温度100〜300℃である。30k
g/cm2 より低い圧力または100℃より低い温度で
は水素添加が十分に進まず、また100kg/cm2 よ
り高い圧力または300℃より高い温度では分解などの
副反応が優先するのでいずれも好ましくない。処理時間
は適宜決定される。水素添加は適宜に2段以上の複数段
で行なうこともできる。
【0012】本発明の洗浄材は芳香族成分を3wt%以
下にすることが必要である。3wt%を越えると、洗浄
力が低下する。また、毒性面からも好ましくない。
下にすることが必要である。3wt%を越えると、洗浄
力が低下する。また、毒性面からも好ましくない。
【0013】さらに本発明の洗浄材留分としては、沸点
が150〜200℃の範囲にある炭化水素を主として含
むものであることが重要である。沸点がこれより低い
と、引火性が高くなり、安全上問題がある。一方、沸点
がこの範囲より高いと洗浄力が低下すると同時に洗浄後
の乾燥性が悪くなる。留分の沸点範囲は、50℃以下で
あるが、好ましくは25℃以下である。沸点範囲が狭い
方が紙粉などに対する洗浄力が高くしかも洗浄後の乾燥
性がよくなる。なお、留分の沸点範囲はASTM蒸留
(D86)による初留点と乾点との差を示すものとす
る。
が150〜200℃の範囲にある炭化水素を主として含
むものであることが重要である。沸点がこれより低い
と、引火性が高くなり、安全上問題がある。一方、沸点
がこの範囲より高いと洗浄力が低下すると同時に洗浄後
の乾燥性が悪くなる。留分の沸点範囲は、50℃以下で
あるが、好ましくは25℃以下である。沸点範囲が狭い
方が紙粉などに対する洗浄力が高くしかも洗浄後の乾燥
性がよくなる。なお、留分の沸点範囲はASTM蒸留
(D86)による初留点と乾点との差を示すものとす
る。
【0014】上記の方法によって得られる本発明の洗浄
材は、ノルマルパラフィンが20〜40wt%、イソパ
ラフィンが15〜35wt%、ナフテンが30〜60w
t%である炭素数C9 〜C10の炭化水素混合物からな
る。
材は、ノルマルパラフィンが20〜40wt%、イソパ
ラフィンが15〜35wt%、ナフテンが30〜60w
t%である炭素数C9 〜C10の炭化水素混合物からな
る。
【0015】ノルマルパラフィンが20wt%未満であ
るとゴムからなる被洗浄物の場合、ゴムを膨潤させる傾
向があり、また40wt%を越えるとゴムに対する膨潤
性は向上するが、洗浄力が低下するので好ましくない。
るとゴムからなる被洗浄物の場合、ゴムを膨潤させる傾
向があり、また40wt%を越えるとゴムに対する膨潤
性は向上するが、洗浄力が低下するので好ましくない。
【0016】ナフテンが30wt%未満だと洗浄力が低
下するので好ましくない。また、ナフテンが60wt%
を越えると洗浄力は向上するがナフテン特有の臭気が強
くなりすぎるので好ましくない。
下するので好ましくない。また、ナフテンが60wt%
を越えると洗浄力は向上するがナフテン特有の臭気が強
くなりすぎるので好ましくない。
【0017】本発明の洗浄材に含まれるイソパラフィン
は、ノルマルパラフィンの洗浄力およびナフテンの臭気
を改善するものであり上記の範囲をはずれた場合、臭
気、洗浄力が悪くなるので好ましくない。本発明の洗浄
材は、炭化水素以外の硫黄化合物、窒素化合物などの通
常石油に含まれる成分を微量含んでいても差し支えな
い。
は、ノルマルパラフィンの洗浄力およびナフテンの臭気
を改善するものであり上記の範囲をはずれた場合、臭
気、洗浄力が悪くなるので好ましくない。本発明の洗浄
材は、炭化水素以外の硫黄化合物、窒素化合物などの通
常石油に含まれる成分を微量含んでいても差し支えな
い。
【0018】本発明の洗浄材を洗浄に用いる場合、本発
明の洗浄材のみでも十分な洗浄力を示すが被洗浄物、汚
れの種類などによってアルコール類、エーテル類、エス
テル類、界面活性剤などを本発明の効果を損なわない範
囲で1種または複数添加することができる。
明の洗浄材のみでも十分な洗浄力を示すが被洗浄物、汚
れの種類などによってアルコール類、エーテル類、エス
テル類、界面活性剤などを本発明の効果を損なわない範
囲で1種または複数添加することができる。
【0019】アルコール類としては、例えばエタノー
ル、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ter
t−ブタノール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコ
ール、ラウリルアルコール、オレイルアルコール、グリ
セリン、ゲルベアルコールやオキソ法によって合成され
るアルコールなどの天然および合成で得られる各種アル
コールが挙げられる。
ル、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ter
t−ブタノール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコ
ール、ラウリルアルコール、オレイルアルコール、グリ
セリン、ゲルベアルコールやオキソ法によって合成され
るアルコールなどの天然および合成で得られる各種アル
コールが挙げられる。
【0020】エーテル類としては、例えばジメチルエー
テル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、ジペンチルエーテル、メチルエチルエーテ
ル、メチルプロピルエーテル、メチルペンチルエーテ
ル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、
エチルペンチルエーテル、プロピルブチルエーテル、プ
ロピルペンチルエーテル、ブチルペンチルエーテル、グ
リセリンメチルエーテルなどのエーテルが挙げられる。
テル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、ジペンチルエーテル、メチルエチルエーテ
ル、メチルプロピルエーテル、メチルペンチルエーテ
ル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、
エチルペンチルエーテル、プロピルブチルエーテル、プ
ロピルペンチルエーテル、ブチルペンチルエーテル、グ
リセリンメチルエーテルなどのエーテルが挙げられる。
【0021】エステル類としては、例えば酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、プロピ
オン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブ
チル、プロピオン酸ペンテル、プロピオン酸ヘキシル、
酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸ブチル、
酪酸ペンチル、酪酸ヘキシルなどのエステルが挙げられ
る。
ル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、プロピ
オン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブ
チル、プロピオン酸ペンテル、プロピオン酸ヘキシル、
酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸ブチル、
酪酸ペンチル、酪酸ヘキシルなどのエステルが挙げられ
る。
【0022】界面活性剤としてはアニオン性界面活性
剤、カチオン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤など
のいずれも添加することができるが、洗浄対象物が金属
の場合には発錆が少ないという点で非イオン性界面活性
剤を添加するのが好ましい。非イオン性界面活性剤とし
ては、例えばエーテル型;アルキルおよびアルキルアリ
ルポリオキシエチレンエーテル、アルキルアリルホルム
アルデヒド縮合ポリオキシエチレンエーテル、ポリオキ
シプロピレンを親油基とするブロックポリマーおよびポ
リオキシエチレンポリオキシプロピルアルキルエーテ
ル、エーテルエステル型;グリセリンエステルのポリオ
キシエチレンエーテル、ソルビタンエステルのポリオキ
シエチレンエーテル、ソルビトールエステルのポリオキ
シエチレンエーテル、エステル型;ポリエチレングリコ
ール脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ポリグリセ
リンエステル、ソルビタンエステル、プロピレングリコ
ールエステル、ショ糖エステル、含窒素型;脂肪酸アル
カノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポ
リオキシエチレンアルキルアミン、アミンオキシドなど
が挙げられる。
剤、カチオン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤など
のいずれも添加することができるが、洗浄対象物が金属
の場合には発錆が少ないという点で非イオン性界面活性
剤を添加するのが好ましい。非イオン性界面活性剤とし
ては、例えばエーテル型;アルキルおよびアルキルアリ
ルポリオキシエチレンエーテル、アルキルアリルホルム
アルデヒド縮合ポリオキシエチレンエーテル、ポリオキ
シプロピレンを親油基とするブロックポリマーおよびポ
リオキシエチレンポリオキシプロピルアルキルエーテ
ル、エーテルエステル型;グリセリンエステルのポリオ
キシエチレンエーテル、ソルビタンエステルのポリオキ
シエチレンエーテル、ソルビトールエステルのポリオキ
シエチレンエーテル、エステル型;ポリエチレングリコ
ール脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ポリグリセ
リンエステル、ソルビタンエステル、プロピレングリコ
ールエステル、ショ糖エステル、含窒素型;脂肪酸アル
カノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポ
リオキシエチレンアルキルアミン、アミンオキシドなど
が挙げられる。
【0023】さらに本発明の洗浄材には必要に応じてク
エン酸、酒石酸、フタル酸などの有機酸、2,6−ジ−
tert−ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−te
rt−ブチルフェノール、p−tert−ブチルフェノ
ール、tert−ブチルヒドロキシアニソールなどの酸
化防止剤、安息香酸、サリチル酸などの防腐剤、脂肪族
高級アミン、金属セッケンなどの防錆剤、高級アルコー
ル、エチレングリコールなどの消泡剤、洗浄用酵素など
も1種または複数添加することができる。
エン酸、酒石酸、フタル酸などの有機酸、2,6−ジ−
tert−ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−te
rt−ブチルフェノール、p−tert−ブチルフェノ
ール、tert−ブチルヒドロキシアニソールなどの酸
化防止剤、安息香酸、サリチル酸などの防腐剤、脂肪族
高級アミン、金属セッケンなどの防錆剤、高級アルコー
ル、エチレングリコールなどの消泡剤、洗浄用酵素など
も1種または複数添加することができる。
【0024】本発明の洗浄材は、例えば自動車部品、電
子部品、電気部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学
部品、また前記部品の組立加工工程に使用される治工具
類などの被洗浄物の洗浄に対して優れた効果を有する。
子部品、電気部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学
部品、また前記部品の組立加工工程に使用される治工具
類などの被洗浄物の洗浄に対して優れた効果を有する。
【0025】ここで自動車部品とは、例えばポリプロピ
レンバンパー、ウレタンバンパーなどの外装部品;ミッ
ション、ギア、ショックアブソーバーなどの駆動系部品
などが挙げられる。
レンバンパー、ウレタンバンパーなどの外装部品;ミッ
ション、ギア、ショックアブソーバーなどの駆動系部品
などが挙げられる。
【0026】電子部品としては例えば、電算機およびそ
の周辺機器、家電製品、通信機器、OA機器、その他の
電子応用機器などに用いられるプリント配線板;ICリ
ードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレーなど接点
部材に用いられるフープ材;OA機器、時計、電算機
器、玩具、家電機器などに用いられる液晶表示器;映
像、音声記録/再生部品、その関連部品などに用いられ
る磁気記録部品;シリコンやセラミックのウエハなどの
半導体部品/材料;水素振動子のような電歪用部品;C
D、LD、複写機器、光記録機器などの光変換部品が挙
げられる。
の周辺機器、家電製品、通信機器、OA機器、その他の
電子応用機器などに用いられるプリント配線板;ICリ
ードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレーなど接点
部材に用いられるフープ材;OA機器、時計、電算機
器、玩具、家電機器などに用いられる液晶表示器;映
像、音声記録/再生部品、その関連部品などに用いられ
る磁気記録部品;シリコンやセラミックのウエハなどの
半導体部品/材料;水素振動子のような電歪用部品;C
D、LD、複写機器、光記録機器などの光変換部品が挙
げられる。
【0027】電気部品としては、例えばブラシ、ロータ
ー、ステータ、ハウジングなどの電動機部品、販売機や
各種機器に用いられる貨幣検査用部品などが挙げられ
る。
ー、ステータ、ハウジングなどの電動機部品、販売機や
各種機器に用いられる貨幣検査用部品などが挙げられ
る。
【0028】精密機械部品としては、例えば精密駆動機
器、ビデオレコーダーなどに用いられるベアリング;超
硬化製チップなどの加工品が挙げられる。樹脂加工部品
としては、例えばカメラ、自動車などに用いられる精密
樹脂加工部品などが挙げられる。光学部品としては、カ
メラ、眼鏡、光学機器に用いられるレンズが挙げられ
る。
器、ビデオレコーダーなどに用いられるベアリング;超
硬化製チップなどの加工品が挙げられる。樹脂加工部品
としては、例えばカメラ、自動車などに用いられる精密
樹脂加工部品などが挙げられる。光学部品としては、カ
メラ、眼鏡、光学機器に用いられるレンズが挙げられ
る。
【0029】またそのほかの部品として印刷機械などの
ゴムロール;大型重電機部品、建設機械のローラー;洋
食器のナイフ、フォーク、スプーン;眼鏡フレーム、時
計ケース、時計ベルトなどがある。
ゴムロール;大型重電機部品、建設機械のローラー;洋
食器のナイフ、フォーク、スプーン;眼鏡フレーム、時
計ケース、時計ベルトなどがある。
【0030】組立加工工程に使用される治工具類とは、
上述の各部品例で示したような部品を製造、成形、加
工、組立、仕上げなどの各種工程において取り扱う治
具、工具の他、上記の部品を取り扱う各種機器、その部
品をいう。
上述の各部品例で示したような部品を製造、成形、加
工、組立、仕上げなどの各種工程において取り扱う治
具、工具の他、上記の部品を取り扱う各種機器、その部
品をいう。
【0031】本発明の洗浄材は、上記の如き被洗浄物に
付着、残存する油脂、切削油、プレス油、焼入油、ワッ
クス、ハンダフラックス、グリース、金属粉、紙粉、イ
ンキ、バフかすなどの除去に対して優れた洗浄力を示
す。また本発明の洗浄材は、インキ、紙粉に対し特に優
れた洗浄力を示し、かつゴムを膨潤させにくいのでオフ
セット印刷機のブランケットロールの洗浄に適してい
る。
付着、残存する油脂、切削油、プレス油、焼入油、ワッ
クス、ハンダフラックス、グリース、金属粉、紙粉、イ
ンキ、バフかすなどの除去に対して優れた洗浄力を示
す。また本発明の洗浄材は、インキ、紙粉に対し特に優
れた洗浄力を示し、かつゴムを膨潤させにくいのでオフ
セット印刷機のブランケットロールの洗浄に適してい
る。
【0032】本発明の洗浄材により洗浄する場合、従来
公知の方法により洗浄することができる。例えば、先ず
洗浄材を入れた超音波洗浄槽で超音波洗浄し、ついで洗
浄材で満たした液浴槽に浸漬洗浄し、最後に洗浄材によ
りシャワー洗浄や蒸気洗浄するなどの方法を連続的に行
なうことにより効果的に行なうことができる。本発明の
洗浄材を単品で洗浄に用いた場合、通常の蒸留操作、例
えば単蒸留操作によって容易に蒸留再生できるので、繰
り返し使用が何度でも可能である。また、当然ながらパ
ーティクルなどの除去の為に行なう濾過操作も単独ある
いは蒸留再生との併用が可能である。
公知の方法により洗浄することができる。例えば、先ず
洗浄材を入れた超音波洗浄槽で超音波洗浄し、ついで洗
浄材で満たした液浴槽に浸漬洗浄し、最後に洗浄材によ
りシャワー洗浄や蒸気洗浄するなどの方法を連続的に行
なうことにより効果的に行なうことができる。本発明の
洗浄材を単品で洗浄に用いた場合、通常の蒸留操作、例
えば単蒸留操作によって容易に蒸留再生できるので、繰
り返し使用が何度でも可能である。また、当然ながらパ
ーティクルなどの除去の為に行なう濾過操作も単独ある
いは蒸留再生との併用が可能である。
【0033】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。 (実施例1)原油の蒸留によって得られた沸点範囲15
0〜280℃の灯油留分を90kg/cm2 、280℃
の条件下でニッケル/タングステン触媒を用いて核水素
添加処理し、ついで精密蒸留装置を用いて精密蒸留し沸
点150〜170℃(ASTM蒸留による初留点と乾点
との差20℃)の範囲の留分を得た。この留分は芳香族
炭化水素含有量が0.4wt%であり、ノルマルパラフ
ィン含有量が25.6wt%、イソパラフィン含有量が
26.0wt%、ナフテン含有量が48.0wt%であ
る炭素数C9 〜C10の炭化水素混合物であった。この留
分の炭化水素組成を表1に示す。
するが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。 (実施例1)原油の蒸留によって得られた沸点範囲15
0〜280℃の灯油留分を90kg/cm2 、280℃
の条件下でニッケル/タングステン触媒を用いて核水素
添加処理し、ついで精密蒸留装置を用いて精密蒸留し沸
点150〜170℃(ASTM蒸留による初留点と乾点
との差20℃)の範囲の留分を得た。この留分は芳香族
炭化水素含有量が0.4wt%であり、ノルマルパラフ
ィン含有量が25.6wt%、イソパラフィン含有量が
26.0wt%、ナフテン含有量が48.0wt%であ
る炭素数C9 〜C10の炭化水素混合物であった。この留
分の炭化水素組成を表1に示す。
【0034】(比較例1)ナフテンリッチの原油の蒸留
によって得られた沸点範囲150〜280℃の灯油留分
を実施例と同様の方法で核水素添加を行い、ついで精密
蒸留装置を用いて精密蒸留し沸点150〜180℃(A
STM蒸留による初留点と乾点との差30℃)の範囲の
留分を得た。この留分の芳香族炭化水素含有量は2.5
wt%であり、ノルマルパラフィン11.8wt%、イ
ソパラフィン15.7wt%、ナフテン70.0wt%
であった。この留分の炭化水素組成を表1に示す。
によって得られた沸点範囲150〜280℃の灯油留分
を実施例と同様の方法で核水素添加を行い、ついで精密
蒸留装置を用いて精密蒸留し沸点150〜180℃(A
STM蒸留による初留点と乾点との差30℃)の範囲の
留分を得た。この留分の芳香族炭化水素含有量は2.5
wt%であり、ノルマルパラフィン11.8wt%、イ
ソパラフィン15.7wt%、ナフテン70.0wt%
であった。この留分の炭化水素組成を表1に示す。
【0035】(比較例2)パラフィンリッチの原油の蒸
留によって得られた沸点範囲150〜280℃の灯油留
分を実施例と同様の方法で核水素添加を行い、ついで精
密蒸留装置を用いて精密蒸留し沸点150〜180℃
(ASTM蒸留による初留点と乾点との差30℃)の範
囲の留分を得た。この留分の芳香族炭化水素含有量は
1.0wt%であり、ノルマルパラフィン65.8wt
%、イソパラフィン26.4wt%、ナフテン6.8w
t%であった。この留分の炭化水素組成を表1に示す。
留によって得られた沸点範囲150〜280℃の灯油留
分を実施例と同様の方法で核水素添加を行い、ついで精
密蒸留装置を用いて精密蒸留し沸点150〜180℃
(ASTM蒸留による初留点と乾点との差30℃)の範
囲の留分を得た。この留分の芳香族炭化水素含有量は
1.0wt%であり、ノルマルパラフィン65.8wt
%、イソパラフィン26.4wt%、ナフテン6.8w
t%であった。この留分の炭化水素組成を表1に示す。
【0036】(比較例3)比較例2の灯油留分を精密蒸
留装置を用いて精密蒸留し、沸点170〜226℃(A
STM蒸留による初留点と乾点との差56℃)の範囲の
留分を得た。この留分の芳香族炭化水素含有量は0.1
wt%であり、ノルマルパラフィン80.8wt%、イ
ソパラフィン4.4wt%、ナフテン14.7wt%で
あった。この留分の炭化水素組成を表1に示す。
留装置を用いて精密蒸留し、沸点170〜226℃(A
STM蒸留による初留点と乾点との差56℃)の範囲の
留分を得た。この留分の芳香族炭化水素含有量は0.1
wt%であり、ノルマルパラフィン80.8wt%、イ
ソパラフィン4.4wt%、ナフテン14.7wt%で
あった。この留分の炭化水素組成を表1に示す。
【0037】このようにして得られた洗浄材について以
下の評価を行なった。 [洗浄力評価I]試験片(冷間圧延鋼板JIS G31
41)140×70×0.5mmの一部(表面積70c
m2 )を加工油に浸漬したものについて、上記の方法に
よって得られた洗浄材を用いて超音波洗浄を行なった。
洗浄度の判定は目視により行なった。評価結果を表2に
示した。
下の評価を行なった。 [洗浄力評価I]試験片(冷間圧延鋼板JIS G31
41)140×70×0.5mmの一部(表面積70c
m2 )を加工油に浸漬したものについて、上記の方法に
よって得られた洗浄材を用いて超音波洗浄を行なった。
洗浄度の判定は目視により行なった。評価結果を表2に
示した。
【0038】[洗浄力評価II]実機印刷機を用い、印
刷後にブランケットゴム上に付着し乾燥したインキおよ
び紙粉を、布に含ませた洗浄材で拭き取り、完全に除去
できるまでの拭き取り回数で評価した。評価結果を表3
に示した。
刷後にブランケットゴム上に付着し乾燥したインキおよ
び紙粉を、布に含ませた洗浄材で拭き取り、完全に除去
できるまでの拭き取り回数で評価した。評価結果を表3
に示した。
【0039】[臭気評価]洗浄材をろ紙に湿らせて臭気
を嗅ぎ、その不快度を3段階で評価した。評価結果を表
4に示した。
を嗅ぎ、その不快度を3段階で評価した。評価結果を表
4に示した。
【0040】[乾燥性評価]洗浄材0.3mlをガラス
皿にいれ、室温25℃、湿度40%の室内で、50%重
量減の現象時間を測定した。評価結果を表5に示した。
皿にいれ、室温25℃、湿度40%の室内で、50%重
量減の現象時間を測定した。評価結果を表5に示した。
【0041】[膨潤性評価]洗浄材中に試験片(50×
20×2mm)を浸し、室温で22時間浸漬した前後の
質量変化率を評価した。評価結果を表6に示した。
20×2mm)を浸し、室温で22時間浸漬した前後の
質量変化率を評価した。評価結果を表6に示した。
【0042】
【表1】
【0043】
【表2】 ◎:完全に洗浄された。 ○:ほぼ洗浄されたが試験片上に多少くもりが残る。 △:加工油が試験片上に多少残る。 ×:ほとんど洗浄されない。
【0044】
【表3】 ○:拭き取り回数が 1〜10回。 △:拭き取り回数が 11〜20回。
【0045】
【表4】 ○:不快感がない。 ×:不快感がある。
【0046】
【表5】
【0047】
【表6】
【0048】
【発明の効果】本発明の洗浄材は、単一の溶剤からな
り、不快臭がなく、洗浄力、安全性に優れ、ゴムを膨潤
しにくく、かつ、環境汚染の心配がなく、安価であり、
フロン・塩素系溶剤の代替品として使用できるという格
別の効果を奏するので産業上の利用価値が高い。また、
本発明の洗浄材はインキおよび紙粉の汚れに対して特に
優れた洗浄力を示し、乾燥性がよく、さらにゴムを膨潤
させにくいのでオフセット印刷機などのブランケットロ
ールの洗浄に効果的である。
り、不快臭がなく、洗浄力、安全性に優れ、ゴムを膨潤
しにくく、かつ、環境汚染の心配がなく、安価であり、
フロン・塩素系溶剤の代替品として使用できるという格
別の効果を奏するので産業上の利用価値が高い。また、
本発明の洗浄材はインキおよび紙粉の汚れに対して特に
優れた洗浄力を示し、乾燥性がよく、さらにゴムを膨潤
させにくいのでオフセット印刷機などのブランケットロ
ールの洗浄に効果的である。
Claims (1)
- 【請求項1】 石油留分を芳香族核の水素添加用金属触
媒を用いて、圧力30〜100kg/cm2 、温度10
0〜300℃の条件下に核水素添加処理し、次いで精密
蒸留することにより得られた芳香族炭化水素含有量が3
wt%以下、沸点が150〜200℃の範囲にある成分
を主として、かつノルマルパラフィンが20〜40wt
%、イソパラフィンが15〜35wt%、ナフテンが3
0〜60wt%である炭素数C9 〜C10の炭化水素混合
物からなる洗浄材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6128048A JPH07310096A (ja) | 1994-05-19 | 1994-05-19 | 洗浄材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6128048A JPH07310096A (ja) | 1994-05-19 | 1994-05-19 | 洗浄材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07310096A true JPH07310096A (ja) | 1995-11-28 |
Family
ID=14975219
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6128048A Pending JPH07310096A (ja) | 1994-05-19 | 1994-05-19 | 洗浄材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07310096A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08254602A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Japan Energy Corp | 光学部品用洗浄剤 |
WO1997021787A1 (en) * | 1995-12-08 | 1997-06-19 | Exxon Research And Engineering Company | High purity paraffinic solvent compositions, and process for their manufacture |
-
1994
- 1994-05-19 JP JP6128048A patent/JPH07310096A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08254602A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Japan Energy Corp | 光学部品用洗浄剤 |
WO1997021787A1 (en) * | 1995-12-08 | 1997-06-19 | Exxon Research And Engineering Company | High purity paraffinic solvent compositions, and process for their manufacture |
AU711333B2 (en) * | 1995-12-08 | 1999-10-14 | Exxon Research And Engineering Company | High purity paraffinic solvent compositions, and process for their manufacture |
CN1070907C (zh) * | 1995-12-08 | 2001-09-12 | 埃克森研究工程公司 | 高纯度烷烃溶剂组合物及其制备方法 |
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