JPH072975U - Probe card suitable for heating or cooling test - Google Patents

Probe card suitable for heating or cooling test

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JPH072975U
JPH072975U JP9034192U JP9034192U JPH072975U JP H072975 U JPH072975 U JP H072975U JP 9034192 U JP9034192 U JP 9034192U JP 9034192 U JP9034192 U JP 9034192U JP H072975 U JPH072975 U JP H072975U
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数の集積回路チップが形成されたウエハ、
すなわちダイシング前の集積回路チップに対して加熱又
は冷却テストを行うことにより、パッケージ工程前に不
良品の集積回路チップを取り除くことができるものとす
る。 【構成】 検査対象物たる集積回路チップが形成された
ウエハと同一の材料を用いて形成されたプローブ基板20
0 を有する加熱又は冷却テストに適したプローブカード
であって、前記プローブ基板200 には測定すべき1又は
2以上の集積回路チップのパッドに対応した位置に貫通
孔210 が設けられており、パッドに接触するプローブの
接触部が前記貫通孔210 に挿入されている。
(57) [Abstract] [Purpose] A wafer on which multiple integrated circuit chips are formed,
That is, by performing a heating or cooling test on the integrated circuit chip before dicing, the defective integrated circuit chip can be removed before the packaging process. [Structure] A probe substrate 20 formed by using the same material as a wafer on which an integrated circuit chip as an inspection object is formed.
0 is a probe card suitable for a heating or cooling test, wherein the probe board 200 is provided with through holes 210 at positions corresponding to pads of one or more integrated circuit chips to be measured. The contact portion of the probe that comes into contact with is inserted into the through hole 210.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は、プローブカード、特に加熱又は冷却テストに適したプローブカード に関する。 The present invention relates to a probe card, particularly a probe card suitable for heating or cooling test.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

半導体装置のテストの1つに加熱又は冷却雰囲気下において行うものがある。 かかるテストは、パッケージ工程が完了した製品としての半導体装置に対して行 われる。複数の集積回路チップが形成されたウエハの状態でテストできれればよ いのであるが、従来のプローブカードのプローブ基板は主として熱に弱いガラス エポキシ系樹脂によって形成されているので、加熱又は冷却雰囲気下でのテスト には適さなかった。 One of the tests for semiconductor devices is to perform them in a heating or cooling atmosphere. Such a test is performed on a semiconductor device as a product whose packaging process has been completed. It would be good if it could be tested in the state of a wafer on which multiple integrated circuit chips were formed. However, since the probe board of the conventional probe card is mainly made of glass epoxy resin, which is weak against heat, the heating or cooling atmosphere Not suitable for the test below.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

しかしながら、このテストには以下のような問題点がある。 すなわち、製品として完成してから不良品が発見されるのでは、それまでに要 した時間、材料等を無駄にすることになる。特に、16メガのメモリのテストに は数分間、64メガのメモリのテストには数時間を要するので、複数の半導体装 置を同時にテストすることができるような装置が提案、実施されているが、これ とて製品として完成した半導体装置のなかから不良品を発見する点ではなんら変 わる点がない。 However, this test has the following problems. In other words, if a defective product is discovered after it is completed as a product, the time, materials, etc. required up to that point will be wasted. In particular, it takes several minutes to test a 16-megabyte memory and several hours to test a 64-megabyte memory, so an apparatus that can simultaneously test multiple semiconductor devices has been proposed and implemented. However, there is no difference in finding defective products from semiconductor devices completed as products.

【0004】 本考案は上記事情に鑑みて創案されたもので、複数の集積回路チップが形成さ れたウエハ、すなわちダイシング前の集積回路チップに対して加熱又は冷却テス トを行うことにより、パッケージ工程前に不良品の集積回路チップを取り除くこ とができる加熱又は冷却テストに適したプローブカードを提供することを目的と している。The present invention has been made in view of the above circumstances, and a wafer on which a plurality of integrated circuit chips are formed, that is, an integrated circuit chip before dicing is subjected to a heating or a cooling test, so that a package is formed. It is an object of the present invention to provide a probe card suitable for a heating or cooling test that can remove defective integrated circuit chips before the process.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

本考案に係る加熱又は冷却テストに適したプローブカードは、検査対象物たる 集積回路チップが形成されたウエハと同一の材料を用いて形成されたプローブ基 板を備えている。 A probe card suitable for a heating or cooling test according to the present invention includes a probe base plate formed of the same material as a wafer on which an integrated circuit chip as an inspection target is formed.

【0006】[0006]

【実施例】【Example】

図1は本考案の第1の実施例に係る加熱又は冷却テストに適したプローブカー ドに用いられるプローブ基板の概略的平面図、図2はこの加熱又は冷却テストに 適したプローブカードの要部を示す概略的断面図、図3はこの加熱又は冷却テス トに適したプローブカードでの測定作業中におけるプローブの撓みを示す概略的 断面図、図4はこの加熱又は冷却テストに適したプローブカードによる測定作業 の説明図、図5は他の形状のプローブを示す側面図、図6は本考案の第2の実施 例に係る加熱又は冷却テストに適したプローブカードの要部の概略的断面図、図 7はこの加熱又は冷却テストに適したプローブカードよる測定作業の説明図であ る。なお、各図面における各部品間の寸法関係は作図の都合上変更している。 FIG. 1 is a schematic plan view of a probe board used in a probe card suitable for a heating or cooling test according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a main part of a probe card suitable for this heating or cooling test. Fig. 3 is a schematic cross-sectional view showing the deflection of the probe during measurement work with a probe card suitable for this heating or cooling test, and Fig. 4 is a probe card suitable for this heating or cooling test. FIG. 5 is a side view showing a probe having another shape, and FIG. 6 is a schematic sectional view of a main part of a probe card suitable for a heating or cooling test according to a second embodiment of the present invention. FIG. 7 is an explanatory diagram of the measurement work by the probe card suitable for this heating or cooling test. It should be noted that the dimensional relationship between each part in each drawing is changed for convenience of drawing.

【0007】 第1の実施例に係る加熱又は冷却テストに適したプローブカード100 は、検査 対象物たる集積回路チップが形成されたウエハ900 と同一の材料を用いて形成さ れたプローブ基板200 を有している。一般にウエハはシリコンで形成されている ので、本実施例に係るプローブカード100 のプローブ基板200 もシリコンで形成 されているものとするが、これに限定されるものでないことは勿論である。The probe card 100 suitable for the heating or cooling test according to the first embodiment includes a probe substrate 200 formed by using the same material as the wafer 900 on which an integrated circuit chip as an inspection object is formed. Have Generally, since the wafer is made of silicon, the probe substrate 200 of the probe card 100 according to this embodiment is also made of silicon, but the present invention is not limited to this.

【0008】 前記プローブ基板200 には、集積回路チップに形成されたパッド910 に対応し た合計20個の貫通孔210 が開設されるとともに、貫通孔210 に関連した配線パ ターン220 が表面に形成されている。この配線パターン220 は、後述するプロー ブ300 の接続部310 と電気的に接続されるものであって、貫通孔210 の周囲から プローブ基板200 の縁部にまで形成されている。なお、配線パターン220 は、図 1 には示されず、図2及び図3において示されている。A total of 20 through holes 210 corresponding to the pads 910 formed on the integrated circuit chip are formed on the probe board 200, and a wiring pattern 220 related to the through holes 210 is formed on the surface. Has been done. The wiring pattern 220 is to be electrically connected to the connection portion 310 of the probe 300 described later, and is formed from the periphery of the through hole 210 to the edge portion of the probe substrate 200. The wiring pattern 220 is not shown in FIG. 1 but shown in FIGS. 2 and 3.

【0009】 前記プローブ300 は、W、Pd、BeCu等から形成されており、先端の10 0〜200ミクロンメートル程度が接触部310 として略直角に折曲形成されてい る。なお、当該プローブ300 の径は、貫通孔210 のそれより小さく設定されてい る。The probe 300 is made of W, Pd, BeCu, or the like, and a tip of about 100 to 200 μm is bent as a contact portion 310 at a substantially right angle. The diameter of the probe 300 is set to be smaller than that of the through hole 210.

【0010】 かかるプローブ300 は、図2に示すように、接触部310 を貫通孔210 に対して プローブ基板200 の表面側から挿入し、その後端である接続部320 において前記 配線パターン220 と半田付け等で接続されている。従って、プローブ300 は、接 続部320 においてプローブ基板200 に構造的にも接続されていることになる。In such a probe 300, as shown in FIG. 2, a contact portion 310 is inserted into the through hole 210 from the front surface side of the probe substrate 200, and the wiring pattern 220 is soldered to the connection portion 320 which is the rear end thereof. Etc. are connected. Therefore, the probe 300 is structurally connected to the probe substrate 200 at the connection portion 320.

【0011】 このように構成されたプローブカード100 は、図4に示すように、中間基板15 0 を介してマザーボード160 に取り付けられる。中間基板150 には、前記配線パ ターン220 に対応した配線パターン (図示省略) が形成されている。前記マザー ボード160 には、中間基板150 の配線パターンに対応したスルーホール (図示省 略) と、このスルーホールに接続された配線パターン (図示省略) とが設けられ ており、スルーホール及び配線パターンを介して図外の測定機器に接続されてい る。The probe card 100 configured as described above is attached to the mother board 160 via the intermediate substrate 150 as shown in FIG. A wiring pattern (not shown) corresponding to the wiring pattern 220 is formed on the intermediate substrate 150. The mother board 160 is provided with through holes (not shown) corresponding to the wiring patterns of the intermediate substrate 150 and wiring patterns (not shown) connected to the through holes. It is connected to the measuring equipment (not shown) via.

【0012】 このように構成されたプローブカード100 は以下のようにして使用される。 複数の集積回路チップが形成されたウエハ900 が、図示しないヒータ等の熱源 が内蔵された載置台950 の上の所定位置に載置され (図4参照) 、約180℃に まで加熱される。この加熱によって周囲雰囲気も高温状態になっている。その状 態で、プローブカード100 を上方から押し下げて、プローブ300 の接触部310 を パッド910 に接触させる。接触部310 がパッド910 に接触してからも、両者の間 に所定の接触圧を与えるためオーバードライブを加える。なお、オーバードライ ブを加えた状態では、プローブ300 は図3に示すように上方に撓む。The probe card 100 configured as described above is used as follows. A wafer 900 on which a plurality of integrated circuit chips are formed is placed at a predetermined position on a placing table 950 containing a heat source such as a heater (not shown) (see FIG. 4) and heated to about 180 ° C. Due to this heating, the ambient atmosphere is also in a high temperature state. In that state, the probe card 100 is pushed down from above to bring the contact portion 310 of the probe 300 into contact with the pad 910. Even after the contact portion 310 comes into contact with the pad 910, overdrive is applied to give a predetermined contact pressure between them. Note that the probe 300 bends upward as shown in FIG. 3 when the overdrive is applied.

【0013】 オーバードライブを加えた状態で測定を行うのであるが、ウエハ900 は加熱さ れているので膨張している。しかし、プローブ基板200 はウエハ900 と同一の材 料、すなわちシリコンで形成されているのでその膨張率は等しく、プローブ300 とパッド910 との相対的位置関係がずれることはない。Although the measurement is performed with overdrive applied, the wafer 900 is expanded because it is heated. However, since the probe substrate 200 is made of the same material as the wafer 900, that is, silicon, the expansion coefficients thereof are the same, and the relative positional relationship between the probe 300 and the pad 910 does not shift.

【0014】 ただし、プローブ300 はシリコンで形成されていないので、プローブ基板200 やウエハ900 等との膨張率は異なるが、プローブ基板200 等に比して非常に小さ いものであるから、その膨張が測定に与える影響は小さい。なお、図5に示すよ うに、プローブ300 の中間部分に略U字形状の緩衝部330 を設けておけば、プロ ーブ300 の膨張の影響をほとんど無視することができる程度になる。However, since the probe 300 is not formed of silicon, the coefficient of expansion differs from that of the probe substrate 200, the wafer 900, etc., but it is much smaller than that of the probe substrate 200, etc. The effect on measurement is small. As shown in FIG. 5, if a substantially U-shaped buffer portion 330 is provided in the middle portion of the probe 300, the influence of the expansion of the probe 300 can be almost ignored.

【0015】 なお、上述した実施例では、ウエハ900 を加熱した状態での測定について説明 したが、冷却した状態での測定も同様に行われる。従って、冷却した状態での測 定であっても、ウエハ900 との膨張率は等しいので、プローブ300 とパッド910 との相対的位置関係がずれることはない。In addition, in the above-described embodiment, the measurement in the state where the wafer 900 is heated has been described, but the measurement in the state where the wafer 900 is cooled is performed in the same manner. Therefore, even in the measurement in the cooled state, the expansion coefficient of the wafer 900 is the same, and the relative positional relationship between the probe 300 and the pad 910 does not shift.

【0016】 次に、第2の実施例に係る加熱又は冷却テストに適したプローブカードについ て図6を参照しつつ説明する。第2の実施例に係るプローブカード500 は、上述 したプローブカード100 とはプローブ700 が異なる。 すなわち、このプローブカード500 には、略ピン状のプローブ700 が使用され ている。かかるプローブ700 は、プローブ基板600 の貫通孔610 より若干小さめ の径を有する接触部710 と、前記貫通孔610 より大きい径を有する接続部720 と が一体に形成されたものである。Next, a probe card suitable for the heating or cooling test according to the second embodiment will be described with reference to FIG. The probe card 500 according to the second embodiment is different from the above-described probe card 100 in the probe 700. That is, the probe card 500 includes the probe 700 having a substantially pin shape. The probe 700 is formed by integrally forming a contact portion 710 having a diameter slightly smaller than the through hole 610 of the probe substrate 600 and a connection portion 720 having a diameter larger than the through hole 610.

【0017】 また、前記接触部710 は、貫通孔610 より100〜200ミクロンメートル程 度突出するように設定されている。これは、集積回路チップのパッド910 には高 さ寸法の誤差があるため、30ミクロンメートル程度の突出量ではオーバーード ライブを加えても接触できないパッド910 が存在する可能性があるためである。The contact portion 710 is set so as to protrude from the through hole 610 by about 100 to 200 μm. This is because there is a height error in the pad 910 of the integrated circuit chip, and there is a possibility that there is a pad 910 that cannot be contacted even if an overdrive is applied with a protrusion amount of about 30 μm.

【0018】 一方、プローブ基板600 は、ウエハ900 と同一の材料、すなわちシリコンで形 成されており、集積回路チップのパッド910 に対応した位置に貫通孔610 が形成 されている。さらに、このプローブ基板600 の表面には配線パターン620 が形成 されている。しかも、当該配線パターン620 は、貫通孔610 の周囲にランド状に 形成され、かつプローブ基板600 の縁部にまで形成されている。このように形成 されたプローブ基板600 の貫通孔610 にプローブ700 の接触部710 を挿入し、接 続部720 の裏面で配線パターン620 に接続する。On the other hand, the probe substrate 600 is made of the same material as the wafer 900, that is, silicon, and the through holes 610 are formed at positions corresponding to the pads 910 of the integrated circuit chip. Further, a wiring pattern 620 is formed on the surface of the probe substrate 600. Moreover, the wiring pattern 620 is formed in the shape of a land around the through hole 610 and is also formed up to the edge of the probe substrate 600. The contact portion 710 of the probe 700 is inserted into the through hole 610 of the probe substrate 600 thus formed, and the back surface of the connection portion 720 is connected to the wiring pattern 620.

【0019】 このプローブ基板600 が第1の実施例に係るプローブカード100 と大幅に異な る点はその厚さ寸法にある。すなわち、第1の実施例に係るプローブカード100 のプローブ基板200 よりその厚さ寸法が薄く設定されているのである。なぜなら ば、オーバードライブを加えた時に所定の接触圧を確保するために、第1の実施 例に係るプローブカード100 ではプローブ300 自身が撓んだが、この第2の実施 例に係るプローブカード500 ではプローブ700 が撓むことができないため、プロ ーブ基板600 を撓ませるようにするためである。This probe substrate 600 is greatly different from the probe card 100 according to the first embodiment in the thickness dimension thereof. That is, the thickness dimension of the probe card 100 of the first embodiment is set smaller than that of the probe substrate 200. This is because the probe card 100 according to the first embodiment bends itself in order to secure a predetermined contact pressure when overdrive is applied, but the probe card 500 according to the second embodiment does. This is because the probe board 700 cannot be bent, so that the probe board 600 is bent.

【0020】 また、このプローブカード500 では、プローブ基板600 の上にシリコンゴム等 の絶縁性を有する柔軟材料800 が積層されている。さらに、当該柔軟材料800 の 上には保持部材810 が取り付けられている。他の点、すなわち中間基板150 を介 してマザーボード160 に取り付けられる等の点については、第1の実施例に係る プローブカード100 と同様である。In this probe card 500, a flexible material 800 having an insulating property such as silicon rubber is laminated on a probe substrate 600. Further, a holding member 810 is attached on the flexible material 800. Other points, that is, attachment to the mother board 160 via the intermediate substrate 150, are the same as those of the probe card 100 according to the first embodiment.

【0021】 なお、上述した2つの実施例では、1つの集積回路チップしか測定することが できないとしたが、本考案はこれに限定されるものではなく、同時に2以上の集 積回路チップを測定することができるようにすることが可能なのは勿論である。In the above-mentioned two embodiments, only one integrated circuit chip can be measured. However, the present invention is not limited to this, and two or more integrated circuit chips can be measured at the same time. Of course, it is possible to do so.

【0022】[0022]

【考案の効果】[Effect of device]

本考案に係る加熱又は冷却テストに適したプローブカードは、検査対象物たる 集積回路チップが形成されたウエハと同一の材料を用いて形成されたプローブ基 板を有しているから、加熱又は冷却テストにおける膨張率がウエハと等しいので 、プローブ基板の膨張に起因するプローブとパッドとの相対的位置関係のずれは 発生しない。従って、従来、製品として完成した半導体装置に対して行っていた 加熱又は冷却テストをウエハの状態で行うことができるので、パッケージ工程前 に不良品の集積回路チップを取り除くことが可能になり、その結果、製造にかか る時間や材料の無駄を省くことができ、ひいては半導体装置のコストダウンにも 貢献することができる。 The probe card suitable for the heating or cooling test according to the present invention has the probe base plate formed by using the same material as the wafer on which the integrated circuit chip as the inspection object is formed. Since the expansion coefficient in the test is equal to that of the wafer, the relative positional relationship between the probe and the pad due to the expansion of the probe substrate does not shift. Therefore, since the heating or cooling test, which was conventionally performed on the completed semiconductor device as a product, can be performed on the wafer, it becomes possible to remove the defective integrated circuit chip before the packaging process. As a result, it is possible to save the manufacturing time and the waste of materials, and eventually contribute to the cost reduction of the semiconductor device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案の第1の実施例に係る加熱又は冷却テス
トに適したプローブカードに用いられるプローブ基板の
概略的平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view of a probe substrate used in a probe card suitable for a heating or cooling test according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この加熱又は冷却テストに適したプローブカー
ドの要部を示す概略的断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a main part of a probe card suitable for this heating or cooling test.

【図3】この加熱又は冷却テストに適したプローブカー
ドでの測定作業中におけるプローブの撓みを示す概略的
断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing bending of a probe during a measurement operation with a probe card suitable for this heating or cooling test.

【図4】この加熱又は冷却テストに適したプローブカー
ドによる測定作業の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a measurement operation using a probe card suitable for this heating or cooling test.

【図5】他の形状のプローブを示す側面図である。FIG. 5 is a side view showing a probe having another shape.

【図6】本考案の第2の実施例に係る加熱又は冷却テス
トに適したプローブカードの要部の概略的断面図であ
る。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a main part of a probe card suitable for a heating or cooling test according to a second embodiment of the present invention.

【図7】この加熱又は冷却テストに適したプローブカー
ドよる測定作業の説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram of measurement work by a probe card suitable for this heating or cooling test.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 (第1の実施例に係る) 加熱又は冷却テストに適し
たプローブカード 200 プローブ基板 210 貫通孔 300 プローブ 310 接触部 500 (第2の実施例に係る) 加熱又は冷却テストに適し
たプローブカード 600 プローブ基板 700 プローブ 900 ウエハ 910 パッド
100 (according to the first embodiment) Probe card suitable for heating or cooling test 200 Probe substrate 210 Through hole 300 Probe 310 Contact part 500 (according to second embodiment) Probe card 600 suitable for heating or cooling test Probe board 700 Probe 900 Wafer 910 Pad

Claims (4)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 検査対象物たる集積回路チップが形成さ
れたウエハと同一の材料を用いて形成されたプローブ基
板を具備したことを特徴とする加熱又は冷却テストに適
したプローブカード。
1. A probe card suitable for a heating or cooling test, comprising a probe substrate formed of the same material as a wafer on which an integrated circuit chip as an inspection object is formed.
【請求項2】 検査対象物たる集積回路チップが形成さ
れたウエハと同一の材料を用いて形成されたプローブ基
板を有する加熱又は冷却テストに適したプローブカード
において、前記プローブ基板には測定すべき1又は2以
上の集積回路チップのパッドに対応した位置に貫通孔が
設けられており、パッドに接触するプローブの接触部が
前記貫通孔に挿入されていることを特徴とする加熱又は
冷却テストに適したプローブカード。
2. A probe card suitable for a heating or cooling test, which has a probe substrate formed of the same material as a wafer on which an integrated circuit chip as an inspection object is formed, and the probe substrate is to be measured. A heating or cooling test characterized in that a through hole is provided at a position corresponding to a pad of one or more integrated circuit chips, and a contact portion of a probe that contacts the pad is inserted into the through hole. Suitable probe card.
【請求項3】 検査対象物たる集積回路チップが形成さ
れたウエハと同一の材料を用いて形成されたプローブ基
板を有する加熱又は冷却テストに適したプローブカード
において、集積回路チップのパッドに対応した位置に貫
通孔が設けられており、当該貫通孔に略ピン状のプロー
ブを挿入したことを特徴とする加熱又は冷却テストに適
したプローブカード。
3. A probe card suitable for a heating or cooling test, which has a probe substrate formed of the same material as a wafer on which an integrated circuit chip as an inspection object is formed, and which corresponds to a pad of the integrated circuit chip. A probe card suitable for a heating or cooling test, wherein a through-hole is provided at a position, and a substantially pin-shaped probe is inserted into the through-hole.
【請求項4】 請求項3における加熱又は冷却テストに
適したプローブカードに用いられるプローブ基板はオー
バードライブを加えると所定の接触圧をプローブとパッ
ドとの間に与えるために撓む程度の厚さ寸法に設定され
ていることを特徴とする加熱又は冷却テストに適したプ
ローブカード。
4. The probe substrate used in the probe card suitable for the heating or cooling test according to claim 3, is thick enough to bend when an overdrive is applied to provide a predetermined contact pressure between the probe and the pad. A probe card suitable for a heating or cooling test, which is characterized in that it is dimensioned.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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