JP2003255023A - Probe card and probe-card testing method - Google Patents

Probe card and probe-card testing method

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JP2003255023A
JP2003255023A JP2002052377A JP2002052377A JP2003255023A JP 2003255023 A JP2003255023 A JP 2003255023A JP 2002052377 A JP2002052377 A JP 2002052377A JP 2002052377 A JP2002052377 A JP 2002052377A JP 2003255023 A JP2003255023 A JP 2003255023A
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JP
Japan
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probe card
probe
substrate
heat dissipation
reinforcing plate
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JP2002052377A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryohei Tamura
良平 田村
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe card for sufficiently restraining a probe card board from being bent by enhancing a heat dissipating property of the probe card board. <P>SOLUTION: The probe card is a probe card used to make a probe test on a semiconductor wafer in a high-temperature environment and is provided with the probe card board 10; a heat-dissipating reinforcing plate 17, installed on the surface side of the board; and a plurality of heat-dissipating through-holes in the reinforcing plate. In addition, the probe card comprises a plurality of heat-dissipating through-holes 22 formed in the board 10. Thereby, the heat dissipation properties of the board can be enhanced. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハにプ
ローブ試験を行うためのプローブカード及びこのプロー
ブカードを用いたプローブ試験方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe card for conducting a probe test on a semiconductor wafer and a probe test method using this probe card.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体プロセス工程で半導体ウエハ上に
多数のICチップを形成した場合には、その半導体ウエ
ハのまま個々のICチップについて電気的特性の検査を
行い、不良品をスクリーニングするようにしている。そ
して、この検査には通常、プローブ装置が用いられてい
る。このプローブ装置は半導体ウエハ上の個々のICチ
ップが有する電極パッドにプローブカードのプローブ針
を接触させ、プローブ針から所定の電圧を印加すること
により各ICチップの導通試験などの電気的検査を行っ
て個々のICチップが電気的特性を有するか否かをテス
タを介して試験する装置である。
2. Description of the Related Art When a large number of IC chips are formed on a semiconductor wafer in a semiconductor process step, the individual IC chips of the semiconductor wafer are inspected for electrical characteristics to screen defective products. There is. A probe device is usually used for this inspection. In this probe device, an electrode pad of each IC chip on a semiconductor wafer is brought into contact with a probe needle of a probe card, and a predetermined voltage is applied from the probe needle to perform an electrical inspection such as a continuity test of each IC chip. It is a device for testing whether or not each IC chip has electrical characteristics through a tester.

【0003】上記プローブ装置は、半導体ウエハ上のI
Cチップに電圧を印加する試料用電源やICチップから
の出力を測定部に取り込むための入力部などからなるピ
ンエレクトロニクスを有するテストヘッドと、ICチッ
プ上の所定の電極パッドに接触させるプローブ針を有す
るプローブカードと、テストヘッドとプローブ針とを電
気的に接続させるためのポゴピンを有する接続リングと
を備えている。そして、このようなプローブ装置には必
要に応じてリニアマザーボードやパーフォーマンスボー
ド等の中継基板が設けられ、これらの中継基板によりプ
ローブカードとテスタを電気的に接続するようにしてい
る。
The above-mentioned probe device has an I
A test head having pin electronics including a sample power source for applying a voltage to the C chip and an input unit for taking the output from the IC chip into the measurement unit, and a probe needle for contacting a predetermined electrode pad on the IC chip. It has a probe card and a connection ring having pogo pins for electrically connecting the test head and the probe needle. Then, such a probe device is provided with a relay board such as a linear motherboard or a performance board as required, and the probe card and the tester are electrically connected by these relay boards.

【0004】図4(a)は、従来のプローブカードを示
す概略平面図であり、図4(b)は、図4(a)に示す
4b−4b線に沿った断面図である。図4(c)は、半
導体ウエハに電気的特性試験を高温環境下で行っている
様子を示す断面図である。
FIG. 4 (a) is a schematic plan view showing a conventional probe card, and FIG. 4 (b) is a sectional view taken along line 4b-4b shown in FIG. 4 (a). FIG. 4C is a cross-sectional view showing how a semiconductor wafer is subjected to an electrical characteristic test under a high temperature environment.

【0005】図4(a),(b)に示すように、プロー
ブカードは、メモリデバイスの半導体ウエハ113にお
ける2×8=16個のICチップ111を同時に測定す
ることが可能なものである。プローブカードは、表面及
び内部にプリント配線が設けられたプローブカード基板
110を有している。このプローブカード基板110に
はその中央部に基板開口エリア110aが設けられてい
る。
As shown in FIGS. 4A and 4B, the probe card is capable of simultaneously measuring 2 × 8 = 16 IC chips 111 on the semiconductor wafer 113 of the memory device. The probe card has a probe card substrate 110 on the surface and inside of which printed wiring is provided. The probe card substrate 110 is provided with a substrate opening area 110a at the center thereof.

【0006】プローブカード基板110の外周にはテス
タ接続端子エリア115が設けられており、このテスタ
接続端子エリア115にはテスタ接続端子116が配置
されている。また、プローブカード基板110の上面側
には基板開口エリア110aの周辺に合わせて放熱補強
板117が設けられている。この放熱補強板117は、
高温環境下での電気的特性試験の際、基板110の放熱
を促進し撓みを抑えるものである。
A tester connection terminal area 115 is provided on the outer periphery of the probe card substrate 110, and a tester connection terminal 116 is arranged in the tester connection terminal area 115. Further, a heat radiation reinforcing plate 117 is provided on the upper surface side of the probe card substrate 110 so as to match the periphery of the substrate opening area 110a. The heat radiation reinforcing plate 117 is
During an electrical characteristic test under a high temperature environment, the heat dissipation of the substrate 110 is promoted to suppress the bending.

【0007】プローブカード基板110の下面側には前
記基板開口エリア110aの周辺に合わせてプローブ針
固定用のモールド樹脂からなる固定リング112が配置
されている。さらに、前記プローブカード基板110の
下面側には、図4(b)に示すように、複数のプローブ
針114が固定リング112の周囲に沿って固定されて
おり、その固定された基端が前記プリント配線に接続さ
れている。プリント配線はジャンパー配線118を介し
てテスタ接続端子116に接続されている。
On the lower surface side of the probe card substrate 110, a fixing ring 112 made of a mold resin for fixing the probe needle is arranged in conformity with the periphery of the substrate opening area 110a. Further, on the lower surface side of the probe card substrate 110, as shown in FIG. 4B, a plurality of probe needles 114 are fixed along the circumference of the fixing ring 112, and the fixed base ends are fixed. It is connected to the printed wiring. The printed wiring is connected to the tester connection terminal 116 via a jumper wiring 118.

【0008】また、プローブ針114のアーム部が前記
基板開口エリア110aに向かって伸張されている。各
プローブ針114のアーム部はその先端がプローブカー
ド基板110とほぼ垂直になるように略L字型に折り曲
げられている。このアーム部の先端は、ウエハ113の
ICチップ111の電極パッドに接触する触針部を有し
ている。各プローブ針114のアーム部の一部である中
間節部は、前記固定リング112の樹脂で固定保持さ
れ、各プローブ針114がしっかりと位置決め保持され
ている。
The arm portion of the probe needle 114 is extended toward the substrate opening area 110a. The arm portion of each probe needle 114 is bent in a substantially L shape so that the tip end thereof is substantially perpendicular to the probe card substrate 110. The tip of this arm portion has a stylus portion that comes into contact with the electrode pad of the IC chip 111 of the wafer 113. An intermediate node portion that is a part of the arm portion of each probe needle 114 is fixed and held by the resin of the fixing ring 112, and each probe needle 114 is firmly positioned and held.

【0009】プローブカードによって実際に電気的特性
試験を行う場合には、図4(b)に示すように、チャッ
クテーブル119の上に半導体ウエハ113を保持し、
チャックテーブル119を所定の温度に加熱して半導体
ウエハ113を高温環境下に置く。次いで、プローブ針
114の触針部をウエハ113のICチップ111の各
電極パッドに導き、前記アーム部のバネ性を利用して所
定圧力で触針部を電極パッドに押圧する。この結果、触
針部と電極パッドとの接触が良好に行われ、16個のI
Cチップ111の電気的特性試験を同時に行うことによ
り生産性の向上を図ることができる。また、高温環境下
で試験することによりICチップの信頼性についても試
験することができる。
When the electrical characteristic test is actually performed by the probe card, as shown in FIG. 4B, the semiconductor wafer 113 is held on the chuck table 119,
The chuck table 119 is heated to a predetermined temperature and the semiconductor wafer 113 is placed in a high temperature environment. Next, the stylus part of the probe needle 114 is guided to each electrode pad of the IC chip 111 of the wafer 113, and the stylus part is pressed against the electrode pad with a predetermined pressure by utilizing the elasticity of the arm part. As a result, the contact between the stylus portion and the electrode pad is favorably performed, and 16 I
The productivity can be improved by simultaneously performing the electrical characteristic test of the C chip 111. Further, the reliability of the IC chip can also be tested by performing the test in a high temperature environment.

【0010】図4(c)に示すように、高温環境下での
測定では、チャックテーブル119による放熱によりプ
ローブカードの裏面と表面に温度差が生じる。プローブ
カードの裏面が高温になり、プローブカードの表面が低
温になる。このため、プローブカード基板110の熱膨
張差によって基板110が撓み、安定した測定ができな
くなることがある。前述した従来のプローブカードで
は、プローブカード基板110の上面側に放熱補強板1
17を配置して基板110の放熱を促進し基板110の
撓みを抑えている。しかし、この放熱補強板117で
は、基板110の撓みを期待通りに抑えるまでには至ら
ない。
As shown in FIG. 4 (c), in the measurement in a high temperature environment, a heat difference by the chuck table 119 causes a temperature difference between the back surface and the surface of the probe card. The back surface of the probe card becomes hot and the surface of the probe card becomes cold. For this reason, the substrate 110 may bend due to the difference in thermal expansion of the probe card substrate 110, making stable measurement impossible. In the above-mentioned conventional probe card, the heat dissipation reinforcing plate 1 is provided on the upper surface side of the probe card substrate 110.
17 is arranged to promote heat dissipation of the substrate 110 and suppress the bending of the substrate 110. However, with this heat dissipation reinforcing plate 117, the bending of the substrate 110 cannot be suppressed as expected.

【0011】図5(a)は、他の従来のプローブカード
を示す概略平面図であり、図5(b)は、図5(a)に
示す5b−5b線に沿った断面図である。図4と同一部
分には同一符号を付す。
FIG. 5 (a) is a schematic plan view showing another conventional probe card, and FIG. 5 (b) is a sectional view taken along line 5b-5b shown in FIG. 5 (a). The same parts as those in FIG. 4 are designated by the same reference numerals.

【0012】プローブカード基板110の中央部には基
板開口エリア110aが形成されている。これは、プロ
ーバセットアップ後のマニュアル操作においても容易に
針位置合わせができるようにするためである。
A substrate opening area 110a is formed in the center of the probe card substrate 110. This is so that the needle position can be easily adjusted even in the manual operation after the prober setup.

【0013】また、半導体ウエハ113上のICチップ
の電極パッドとプローブ針とのコンタクトは、チャック
テーブル119を上昇させてオーバードライブをかける
ことにより電気的な接続が可能になる。この時のプロー
ブカード基板110の中央部での撓みを抑えるために、
開口したステンレス等の金属製の補強板117によって
補強対策が施されている。
Further, the contact between the electrode pad of the IC chip on the semiconductor wafer 113 and the probe needle can be electrically connected by raising the chuck table 119 and applying overdrive. In order to suppress the bending at the central portion of the probe card substrate 110 at this time,
Reinforcement measures are taken by the reinforcing plate 117 made of metal such as stainless steel which is opened.

【0014】ここでの半導体ウエハ113のICチップ
111はLCDドライバ製品チップである。このチップ
のパッド配列は、入力側が少数パッドで、出力側が多数
パッドと偏りがあるため、プローブカード基板110に
配置されるプローブ針114a,114bもそれに対応
したものとしている。例えば、入力側のプローブ針11
4aを1層の針立てとし、出力側のプローブ針114b
を4層の針立てとすることで、特に出力側の多数パッド
側の針間でショートしないような構造とされている。
The IC chip 111 of the semiconductor wafer 113 here is an LCD driver product chip. Since the pad arrangement of this chip is biased toward a small number of pads on the input side and a large number of pads on the output side, the probe needles 114a and 114b arranged on the probe card substrate 110 are also made to correspond thereto. For example, the probe needle 11 on the input side
4a is a single-layer needle stand, and the output side probe needle 114b
By using a four-layer needle stand, the structure is such that short-circuiting does not occur especially between the needles on the output side and the multiple pads side.

【0015】上述したように他の従来のプローブカード
では、ステンレス等の金属製の補強板を用いているた
め、プローブカード全体の重量が重くなり取り扱いが不
便であった。
As described above, in other conventional probe cards, since the reinforcing plate made of metal such as stainless steel is used, the weight of the entire probe card becomes heavy and it is inconvenient to handle.

【0016】図6は、図5に示す他の従来のプローブカ
ードから補強板を無くしたプローブカードを示す断面図
である。
FIG. 6 is a sectional view showing a probe card obtained by removing the reinforcing plate from the other conventional probe card shown in FIG.

【0017】図6に示すプローブカードでは、補強板を
取り付けてないため、プローブカードを軽量化すること
ができ、取り扱いが便利である。しかし、ICチップ1
11の入出力のパッドの配列に偏りがあるため、オーバ
ードライブをかけると出力側でのプローブ針の針圧が高
くなり、図6に示すように、モールド樹脂からなる固定
リング112を支点として出力側でプローブカード基板
110を撓ませ(浮かせ)てしまう。従って、入出力側
の針圧のバランスが崩れ、結果的に安定した電気的特性
試験ができなくなることがある。
In the probe card shown in FIG. 6, since the reinforcing plate is not attached, the probe card can be lightened and the handling is convenient. However, IC chip 1
Since the input and output pads of 11 are unevenly arranged, the needle pressure of the probe needle on the output side increases when overdrive is applied, and as shown in FIG. The probe card substrate 110 is bent (floated) on the side. Therefore, the balance of the stylus pressure on the input / output side may be lost, and as a result, a stable electrical characteristic test may not be possible.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】前述したように従来の
プローブカードでは、プローブカード基板110の上面
側に放熱補強板117を配置して基板110の放熱を促
進し基板110の撓みを抑えている。しかし、この放熱
補強板117では、基板110の撓みを期待通りに抑え
るまでには至らない。
As described above, in the conventional probe card, the heat radiation reinforcing plate 117 is arranged on the upper surface side of the probe card substrate 110 to promote the heat radiation of the substrate 110 and suppress the bending of the substrate 110. . However, with this heat dissipation reinforcing plate 117, the bending of the substrate 110 cannot be suppressed as expected.

【0019】また、他の従来のプローブカードでは、プ
ローブカード全体の重量が重くなり取り扱いが不便であ
った。また、図6に示すプローブカードでは、入出力側
の針圧のバランスが崩れ、結果的に安定した電気的特性
試験ができなくなることがある。
Further, in other conventional probe cards, the weight of the entire probe card is heavy and it is inconvenient to handle. Further, in the probe card shown in FIG. 6, the stylus pressure on the input / output side may be unbalanced, and as a result, a stable electrical characteristic test may not be possible.

【0020】本発明は上記のような事情を考慮してなさ
れたものであり、その目的は、プローブカード基板の放
熱性を向上させることによりプローブカード基板の撓み
を十分に抑制できるプローブカード及びプローブ試験方
法を提供することにある。また、本発明の他の目的は、
プローブカード基板を軽量化し且つ安定した電気的特性
試験を行えるプローブカード及びプローブ試験方法を提
供することにある。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is to improve the heat dissipation of the probe card substrate, thereby sufficiently suppressing the bending of the probe card substrate and the probe card. To provide a test method. Further, another object of the present invention is to
It is an object of the present invention to provide a probe card and a probe test method capable of reducing the weight of a probe card substrate and performing a stable electrical characteristic test.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係るプローブカードは、高温環境下で半導
体ウエハにプローブ試験を行うためのプローブカードで
あって、プローブカード基板と、このプローブカード基
板の上面側に設けられた放熱補強板と、この放熱補強板
に設けられた複数の放熱用のスルーホールと、を具備す
ることを特徴とする。
To solve the above problems, a probe card according to the present invention is a probe card for performing a probe test on a semiconductor wafer in a high temperature environment. It is characterized by comprising a heat dissipation reinforcing plate provided on the upper surface side of the card substrate and a plurality of through holes for heat dissipation provided on the heat dissipation reinforcing plate.

【0022】前記プローブカードによれば、プローブカ
ード基板の上面側に放熱補強板を配置し、放熱補強板に
放熱用のスルーホールを設けている。このため、高温環
境下で試験を行っても半導体ウエハからの放熱性を向上
させることができ、それにより、プローブカード基板の
上面と下面との温度差を低減させることができる。その
結果、プローブカード基板の撓みを十分に抑制すること
ができ、安定した電気的特性試験が可能となる。
According to the probe card, the heat dissipation reinforcing plate is arranged on the upper surface side of the probe card substrate, and the heat dissipation reinforcing plate is provided with the through holes for heat dissipation. Therefore, the heat dissipation from the semiconductor wafer can be improved even when the test is performed in a high temperature environment, and thus the temperature difference between the upper surface and the lower surface of the probe card substrate can be reduced. As a result, the bending of the probe card substrate can be sufficiently suppressed, and a stable electrical characteristic test can be performed.

【0023】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、前記プローブカード基板に設けられた複数の放熱
用のスルーホールをさらに含むことも可能である。
Further, the probe card according to the present invention can further include a plurality of through holes for heat dissipation provided on the probe card substrate.

【0024】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、前記プローブカード基板に設けられた放熱用のス
ルーホールと前記放熱補強板に設けられた放熱用のスル
ーホールが繋がっていることが好ましい。
Further, in the probe card according to the present invention, it is preferable that the heat dissipation through hole provided in the probe card substrate and the heat dissipation through hole provided in the heat dissipation reinforcing plate are connected.

【0025】本発明に係るプローブカードは、高温環境
下で半導体ウエハにプローブ試験を行うためのプローブ
カードであって、プローブカード基板と、このプローブ
カード基板に設けられた複数の放熱用のスルーホールプ
ローブカード基板の上面側に設けられた放熱補強板と、
を具備することを特徴とする。
The probe card according to the present invention is a probe card for performing a probe test on a semiconductor wafer in a high temperature environment, and includes a probe card substrate and a plurality of through holes for heat dissipation provided on the probe card substrate. A heat radiation reinforcing plate provided on the upper surface side of the probe card board,
It is characterized by including.

【0026】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、前記プローブカード基板の外周にテスタ接続端子
エリアが形成されており、前記放熱補強板はテスタ接続
端子エリアの内側を埋めるように配置されていることも
可能である。
Further, in the probe card according to the present invention, a tester connecting terminal area is formed on the outer periphery of the probe card substrate, and the heat radiation reinforcing plate is arranged so as to fill the inside of the tester connecting terminal area. It is also possible.

【0027】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、前記プローブカード基板の外周にテスタ接続端子
エリアが形成され、前記放熱補強板はテスタ接続端子エ
リアの内側に配置され、前記プローブカード基板に設け
られたスルーホールが前記放熱補強板と前記テスタ接続
端子エリアとの間に配置されていることも可能である。
Further, in the probe card according to the present invention, a tester connecting terminal area is formed on the outer periphery of the probe card substrate, and the heat radiation reinforcing plate is arranged inside the tester connecting terminal area and provided on the probe card substrate. It is also possible that the provided through hole is arranged between the heat dissipation reinforcing plate and the tester connection terminal area.

【0028】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、前記プローブカード基板の下面側の中央部に樹脂
固定部材が配置されており、この樹脂固定部材にプロー
ブ針が固定されていることが好ましい。
Further, in the probe card according to the present invention, it is preferable that a resin fixing member is arranged in the central portion on the lower surface side of the probe card substrate, and the probe needle is fixed to this resin fixing member.

【0029】本発明に係るプローブカード試験方法は、
請求項2に記載のプローブカードを用いてプローブ試験
を行う方法であって、ウエハを所定温度まで加熱し、こ
のウエハのICチップの各電極パッドにプローブカード
のプローブ針を押し当てて試験を行いながら、放熱補強
板のスルーホール及びプローブカード基板のスルーホー
ルによって放熱させることを特徴とする。
The probe card test method according to the present invention comprises:
A method for performing a probe test using the probe card according to claim 2, wherein the wafer is heated to a predetermined temperature and the probe needle of the probe card is pressed against each electrode pad of the IC chip of the wafer to perform the test. However, it is characterized in that heat is radiated by the through holes of the heat dissipation reinforcing plate and the through holes of the probe card substrate.

【0030】本発明に係るプローブカードは、半導体ウ
エハにプローブ試験を行うためのプローブカードであっ
て、プローブカード基板と、このプローブカード基板の
上面側に設けられた偏荷重補強板と、を具備し、上記偏
荷重補強板が透明材料から形成されていることを特徴と
する。
A probe card according to the present invention is a probe card for performing a probe test on a semiconductor wafer, and includes a probe card substrate and an eccentric load reinforcing plate provided on the upper surface side of the probe card substrate. However, the eccentric load reinforcing plate is formed of a transparent material.

【0031】前記プローブカードによれば、プローブカ
ード基板の上面側に偏荷重補強板を設けることにより、
偏りのあるプローブ針の配列に起因する偏荷重がプロー
ブカード基板に加えられてもプローブカード基板が撓む
のを抑制することができる。その結果、安定した電気的
特性試験が可能となる。
According to the above probe card, by providing the unequal load reinforcing plate on the upper surface side of the probe card substrate,
Even if an unbalanced load due to a biased array of probe needles is applied to the probe card substrate, the probe card substrate can be prevented from bending. As a result, a stable electrical characteristic test becomes possible.

【0032】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、前記プローブカード基板に複数のプローブ針が配
置されており、一方側のプローブ針の数が他方側のプロ
ーブ針の数より多いことも可能である。
Further, in the probe card according to the present invention, a plurality of probe needles are arranged on the probe card substrate, and the number of probe needles on one side may be larger than the number of probe needles on the other side. is there.

【0033】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、前記透明材料が透明樹脂であることが好ましい。
このように透明樹脂からなる偏荷重補強板を用いている
ため、プローブカード全体の重量を軽量化することがで
きる。これにより、プローブカードの取り扱いが容易と
なる。
Further, in the probe card according to the present invention, it is preferable that the transparent material is a transparent resin.
Since the unbalanced load reinforcing plate made of transparent resin is used as described above, the weight of the entire probe card can be reduced. This facilitates the handling of the probe card.

【0034】また、本発明に係るプローブカードにおい
ては、前記プローブカード基板の中央部に開口部が形成
されていることも可能である。この場合、偏荷重補強板
が透明材料からなるため、プローブカード基板の上面か
らプローブ針を見ることが可能となる。
Further, in the probe card according to the present invention, it is possible that an opening is formed at the center of the probe card substrate. In this case, since the unbalanced load reinforcing plate is made of a transparent material, the probe needle can be seen from the upper surface of the probe card substrate.

【0035】本発明に係るプローブカード試験は、請求
項10に記載のプローブカードを用いてプローブ試験を
行う方法であって、ウエハのLCDドライバチップの各
電極パッドにプローブカードのプローブ針を押し当てて
試験を行うことを特徴とする。
The probe card test according to the present invention is a method of performing a probe test using the probe card according to claim 10, wherein the probe needle of the probe card is pressed against each electrode pad of the LCD driver chip of the wafer. It is characterized by conducting a test.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1(a)は、本発明に係
る第1の実施の形態によるプローブカードを示す概略平
面図であり、図1(b)は、図1(a)に示す1b−1
b線に沿った断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A is a schematic plan view showing a probe card according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a view 1b-1 shown in FIG.
It is sectional drawing which followed the b line.

【0037】図1(a),(b)に示すように、プロー
ブカードは、メモリデバイスの半導体ウエハ13におけ
る複数のICチップ11を同時に測定することが可能な
ものである。プローブカードは、表面及び内部にプリン
ト配線が設けられたプローブカード基板(プリント基
板)10を有している。このプローブカード基板10に
は基板開口エリアが設けられていない。プローブカード
基板10の外周にはテスタ接続端子エリア15が設けら
れており、このテスタ接続端子エリア15にはテスタ接
続端子16が配置されている。
As shown in FIGS. 1A and 1B, the probe card is capable of simultaneously measuring a plurality of IC chips 11 on the semiconductor wafer 13 of the memory device. The probe card has a probe card substrate (printed circuit board) 10 on the surface and inside of which printed wiring is provided. The probe card substrate 10 has no substrate opening area. A tester connection terminal area 15 is provided on the outer periphery of the probe card substrate 10, and a tester connection terminal 16 is arranged in the tester connection terminal area 15.

【0038】プローブカード基板10の下面側には中央
部にプローブ針固定用のモールド樹脂からなる固定リン
グ12が配置されている。さらに、プローブカード基板
10の下面側には、図1(b)に示すように、複数のプ
ローブ針14が固定リング12の周囲に沿って固定され
ており、その固定された基端が前記プリント配線に接続
されている。プリント配線はジャンパー配線(図示せ
ず)を介してテスタ接続端子16に接続されているか、
または、プリント基板内のマルチワイヤー配線でテスタ
接続端子16に接続されている。
On the lower surface side of the probe card substrate 10, a fixing ring 12 made of a mold resin for fixing the probe needle is arranged in the central portion. Further, on the lower surface side of the probe card substrate 10, as shown in FIG. 1B, a plurality of probe needles 14 are fixed along the periphery of the fixing ring 12, and the fixed base end is the print. It is connected to the wiring. Is the printed wiring connected to the tester connection terminal 16 via a jumper wiring (not shown),
Alternatively, it is connected to the tester connection terminal 16 by multi-wire wiring in the printed board.

【0039】また、プローブ針14のアーム部がプロー
ブカード基板の中央部の下方に向かって伸張されてい
る。各プローブ針14のアーム部はその先端がプローブ
カード基板10とほぼ垂直になるように略L字型に折り
曲げられている。このアーム部の先端は、ウエハ13の
ICチップ11の電極パッドに接触する触針部を有して
いる。各プローブ針14のアーム部の一部である中間節
部は、前記固定リング12の樹脂で固定保持され、各プ
ローブ針14がしっかりと位置決め保持されている。
The arm portion of the probe needle 14 is extended downward in the central portion of the probe card substrate. The arm portion of each probe needle 14 is bent in a substantially L shape so that the tip end thereof is substantially perpendicular to the probe card substrate 10. The tip of this arm portion has a stylus portion that comes into contact with the electrode pad of the IC chip 11 of the wafer 13. An intermediate node portion which is a part of the arm portion of each probe needle 14 is fixed and held by the resin of the fixing ring 12, and each probe needle 14 is firmly positioned and held.

【0040】また、プローブカード基板10の上面側の
テスタ接続端子エリア15の内側には平面がほぼ円形状
で金属製の放熱補強板17が設けられている。この放熱
補強板17は、高温環境下での電気的特性試験の際、基
板10の放熱を促進し且つ基板10の撓みを抑えるもの
である。
Further, inside the tester connection terminal area 15 on the upper surface side of the probe card substrate 10, a metal heat radiation reinforcing plate 17 having a substantially circular plane is provided. The heat dissipation reinforcing plate 17 promotes heat dissipation of the substrate 10 and suppresses bending of the substrate 10 during an electrical characteristic test under a high temperature environment.

【0041】放熱補強板17には放熱用のスルーホール
21が設けられている。また、プローブカード基板10
にも、プローブ針14からテスタ接続端子16への配線
に影響のない基板エリアに数個〜数十個の同様なスルー
ホール22が設けられている。プローブカード基板10
のスルーホール22と放熱補強板17のスルーホール2
1とが図1(b)に示すように同一の位置に設けられて
いることが好ましい。これにより、チャックテーブル1
9から放出された熱を、スルーホール21,22を通し
てプローブカード基板10の上方に開放することができ
る。
The heat dissipation reinforcing plate 17 is provided with through holes 21 for heat dissipation. In addition, the probe card substrate 10
Also, several to several tens of similar through holes 22 are provided in the substrate area that does not affect the wiring from the probe needle 14 to the tester connection terminal 16. Probe card board 10
Through hole 22 and through hole 2 of heat dissipation reinforcing plate 17
1 and 1 are preferably provided at the same position as shown in FIG. As a result, the chuck table 1
The heat radiated from 9 can be released above the probe card substrate 10 through the through holes 21 and 22.

【0042】プローブカードによって実際に電気的特性
試験を行う場合には、図1(b)に示すように、チャッ
クテーブル19の上に半導体ウエハ13を保持し、チャ
ックテーブル19を図示せぬ加熱機構により所定の温度
に加熱して半導体ウエハ13を高温環境下に置く。次い
で、プローブ針14の触針部をウエハ13のICチップ
11の各電極パッドに導き、前記アーム部のバネ性を利
用して所定圧力で触針部を電極パッドに押圧する。この
結果、触針部と電極パッドとの接触が良好に行われ、複
数のICチップ11の電気的特性試験を同時に行うこと
により生産性の向上を図ることができる。また、高温環
境下で試験することによりICチップの信頼性について
も試験することができる。
When actually performing an electrical characteristic test with a probe card, as shown in FIG. 1B, the semiconductor wafer 13 is held on the chuck table 19 and the chuck table 19 is heated by a heating mechanism (not shown). Then, the semiconductor wafer 13 is placed in a high temperature environment by being heated to a predetermined temperature. Then, the stylus portion of the probe needle 14 is guided to each electrode pad of the IC chip 11 of the wafer 13, and the stylus portion is pressed against the electrode pad with a predetermined pressure by utilizing the elasticity of the arm portion. As a result, the contact between the stylus portion and the electrode pad is favorably performed, and the productivity can be improved by simultaneously performing the electrical characteristic test of the plurality of IC chips 11. Further, the reliability of the IC chip can also be tested by performing the test in a high temperature environment.

【0043】上記第1の実施の形態によれば、プローブ
カード基板10の上面側に放熱補強板17を配置し、プ
ローブカード基板10にスルーホール22を設けると共
に放熱補強板17にスルーホール21を設けている。こ
のため、チャックテーブル19からの放熱性を向上させ
ることができ、それにより、プローブカード基板10の
上面と下面との温度差を従来のプローブカード基板に比
べて低減させることができる。その結果、プローブカー
ド基板の撓みを十分に抑制することができ、安定した電
気的特性試験が可能となる。
According to the first embodiment, the heat dissipation reinforcing plate 17 is arranged on the upper surface side of the probe card substrate 10, the through hole 22 is provided in the probe card substrate 10, and the through hole 21 is provided in the heat dissipation reinforcing plate 17. It is provided. Therefore, the heat dissipation from the chuck table 19 can be improved, and thus the temperature difference between the upper surface and the lower surface of the probe card substrate 10 can be reduced as compared with the conventional probe card substrate. As a result, the bending of the probe card substrate can be sufficiently suppressed, and a stable electrical characteristic test can be performed.

【0044】図2(a)は、本発明に係る第2の実施の
形態によるプローブカードを示す概略平面図であり、図
2(b)は、図2(a)に示す2b−2b線に沿った断
面図である。図1と同一部分については同一符号を付
し、異なる部分についてのみ説明する。
FIG. 2 (a) is a schematic plan view showing a probe card according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 2 (b) is taken along line 2b-2b shown in FIG. 2 (a). FIG. The same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and only different parts will be described.

【0045】プローブカード基板10の上面側の中央部
には金属製の放熱補強板27が設けられている。この放
熱補強板27は、高温環境下での電気的特性試験の際、
基板10の放熱を促進し且つ基板10の撓みを抑えるも
のである。
A metal heat radiation reinforcing plate 27 is provided in the central portion on the upper surface side of the probe card substrate 10. This heat radiation reinforcing plate 27 is used for an electrical characteristic test in a high temperature environment.
The heat dissipation of the substrate 10 is promoted and the bending of the substrate 10 is suppressed.

【0046】放熱補強板17には放熱用のスルーホール
21が設けられている。また、プローブカード基板10
にも、プローブ針14からテスタ接続端子16への配線
に影響のない基板エリアに数個〜数十個の同様なスルー
ホール22が設けられている。プローブカード基板10
に設けられたスルーホール22の一部が前記放熱補強板
27とテスタ接続端子エリア15との間に配置されてい
る。
The heat dissipation reinforcing plate 17 is provided with through holes 21 for heat dissipation. In addition, the probe card substrate 10
Also, several to several tens of similar through holes 22 are provided in the substrate area that does not affect the wiring from the probe needle 14 to the tester connection terminal 16. Probe card board 10
A part of the through hole 22 provided in is disposed between the heat dissipation reinforcing plate 27 and the tester connection terminal area 15.

【0047】上記第2の実施の形態においても第1の実
施の形態と同様の効果を得ることができる。
Also in the second embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

【0048】また、第2の実施の形態では、プローブカ
ード基板10の上面側の中央部に放熱補強板27を設け
ているため、プローブカード基板10の中央部での撓み
を極力抑えることができ、プローブカード全体の重量を
軽量化することができる。
Further, in the second embodiment, since the heat radiation reinforcing plate 27 is provided in the central portion on the upper surface side of the probe card substrate 10, the bending in the central portion of the probe card substrate 10 can be suppressed as much as possible. The weight of the entire probe card can be reduced.

【0049】図3(a)は、本発明に係る第3の実施の
形態によるプローブカードを示す概略平面図であり、図
3(b)は、図3(a)に示す3b−3b線に沿った断
面図である。図1と同一部分については同一符号を付
し、異なる部分についてのみ説明する。
FIG. 3 (a) is a schematic plan view showing a probe card according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 3 (b) is taken along line 3b-3b shown in FIG. 3 (a). FIG. The same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and only different parts will be described.

【0050】プローブカード基板10の下面側には、図
3(b)に示すように、複数のプローブ針14a,14
bが固定リング12の周囲に沿って固定されている。こ
こでの半導体ウエハ13のICチップ11はLCDドラ
イバ製品チップである。このチップのパッド配列は、入
力側が少数パッドで、出力側が多数パッドと偏りがある
ため、プローブカード基板10に配置されるプローブ針
14a,14bもそれに対応したものとしている。例え
ば、入力側のプローブ針14aを1層の針立てとし、出
力側のプローブ針14bを4層の針立てとすることで、
特に出力側の多数パッド側の針間でショートしないよう
な構造とされている。
As shown in FIG. 3B, a plurality of probe needles 14a, 14 are provided on the lower surface side of the probe card substrate 10.
b is fixed along the periphery of the fixing ring 12. The IC chip 11 of the semiconductor wafer 13 here is an LCD driver product chip. Since the pad arrangement of this chip is biased toward a small number of pads on the input side and a large number of pads on the output side, the probe needles 14a and 14b arranged on the probe card substrate 10 also correspond to this. For example, by setting the probe needle 14a on the input side to a one-layer needle stand and the probe needle 14b on the output side to a four-layer needle stand,
In particular, the structure is such that shorts do not occur between the needles on the output side multiple pads side.

【0051】プローブカード基板10には開口部(基板
開口エリア)が形成されていない。プローバのフルオー
ト化(ウエハアライメントと針位置合わせの自動制御)
が進む中、LCDドライバ等を測定するプローブカード
に対しては、入出力側の針圧バランスを崩すようなプロ
ーブカード基板10の中央部への開口の必要性はない。
従って、プローブカード基板10の中央部への開口を無
くし、入出力双方での偏荷重を制御する構造としてい
る。
No opening (substrate opening area) is formed in the probe card substrate 10. Fully automatic prober (automatic control of wafer alignment and needle alignment)
As the probe card for measuring the LCD driver and the like progresses, there is no need to provide an opening to the central portion of the probe card substrate 10 that disturbs the stylus pressure balance on the input / output side.
Therefore, the probe card substrate 10 has a structure in which an opening to the central portion is eliminated to control an unbalanced load on both the input and output sides.

【0052】プローブカード基板10の上面側の中央部
には平面がほぼ円形状で透明樹脂又は強化ガラス等から
なる偏荷重補強板37が設けられている。このように補
強対策としては、透明樹脂を用いた開口の無い補強板3
7を取り付ける構造としている。この補強板37は、電
気的特性試験の際のオーバードライブによって、基板1
0に加えられる偏荷重による基板10の撓みを抑えるも
のである。
An unbalanced load reinforcing plate 37 made of transparent resin or tempered glass or the like and having a substantially circular plane is provided in the central portion on the upper surface side of the probe card substrate 10. Thus, as a reinforcing measure, a reinforcing plate 3 made of transparent resin and having no opening is used.
7 is attached. The reinforcing plate 37 is provided on the substrate 1 by the overdrive during the electrical characteristic test.
The deflection of the substrate 10 due to an unbalanced load applied to 0 is suppressed.

【0053】上記第3の実施の形態によれば、プローブ
カード基板10の中央部の開口を無くすことにより、偏
りのあるプローブ針の配列に起因する偏荷重が基板10
に加えられても基板10が撓むのを抑制することができ
る。その結果、安定した電気的特性試験が可能となる。
According to the third embodiment described above, by eliminating the opening in the central portion of the probe card substrate 10, an eccentric load due to a biased arrangement of probe needles is applied to the substrate 10.
It is possible to suppress the substrate 10 from being bent even if it is added. As a result, a stable electrical characteristic test becomes possible.

【0054】また、第3の実施の形態では、透明樹脂か
らなる偏荷重補強板37を用いているため、プローブカ
ード全体の重量を軽量化することができる。これによ
り、プローブカードの取り扱いが容易となる。
Further, in the third embodiment, since the unbalanced load reinforcing plate 37 made of transparent resin is used, the weight of the entire probe card can be reduced. This facilitates the handling of the probe card.

【0055】また、第3の実施の形態では、中央部を開
口していないプローブカード基板を用いているが、プロ
ーブカード基板の中央部を開口したプローブカード基板
を用いることも可能である。この場合、偏荷重補強板3
7が透明樹脂からなるため、プローブカード基板の上面
からプローブ針を見ることが可能となる。さらに、この
場合、補強板37に透明樹脂を用いたことで補強板の中
央部を開口しなくてもプローブカード基板の強度アップ
を図ることができる。
Further, in the third embodiment, the probe card substrate which is not opened in the central portion is used, but it is also possible to use the probe card substrate which is opened in the central portion of the probe card substrate. In this case, the unbalanced load reinforcing plate 3
Since 7 is made of transparent resin, the probe needle can be seen from the upper surface of the probe card substrate. Further, in this case, by using the transparent resin for the reinforcing plate 37, the strength of the probe card substrate can be increased without opening the central portion of the reinforcing plate.

【0056】尚、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々変更して実施することが可能である。
The present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, but can be implemented with various modifications.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、プ
ローブカード基板の放熱性を向上させることができ、そ
れによりプローブカード基板の撓みを十分に抑制できる
プローブカード及びプローブ試験方法を提供することが
できる。
As described above, according to the present invention, there is provided a probe card and a probe test method capable of improving the heat dissipation of the probe card substrate and thereby sufficiently suppressing the bending of the probe card substrate. be able to.

【0058】また、他の本発明によれば、プローブカー
ド基板を軽量化し且つ安定した電気的特性試験を行える
プローブカード及びプローブ試験方法を提供することが
できる。
Further, according to another aspect of the present invention, it is possible to provide a probe card and a probe test method capable of reducing the weight of the probe card substrate and performing a stable electrical characteristic test.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 (a)は、本発明に係る第1の実施の形態に
よるプローブカードを示す概略平面図であり、(b)
は、(a)に示す1b−1b線に沿った断面図である。
FIG. 1A is a schematic plan view showing a probe card according to a first embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3B is a sectional view taken along line 1b-1b shown in FIG.

【図2】 (a)は、本発明に係る第2の実施の形態に
よるプローブカードを示す概略平面図であり、(b)
は、(a)に示す2b−2b線に沿った断面図である。
FIG. 2A is a schematic plan view showing a probe card according to a second embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 2B is a sectional view taken along line 2b-2b shown in FIG.

【図3】 (a)は、本発明に係る第3の実施の形態に
よるプローブカードを示す概略平面図であり、(b)
は、(a)に示す3b−3b線に沿った断面図である。
FIG. 3A is a schematic plan view showing a probe card according to a third embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3B is a sectional view taken along line 3b-3b shown in FIG.

【図4】 (a)は、従来のプローブカードを示す概略
平面図であり、(b)は、(a)に示す4b−4b線に
沿った断面図であり、(c)は、半導体ウエハに電気的
特性試験を高温環境下で行っている様子を示す断面図で
ある。
4A is a schematic plan view showing a conventional probe card, FIG. 4B is a sectional view taken along line 4b-4b shown in FIG. 4A, and FIG. 4C is a semiconductor wafer. FIG. 3 is a cross-sectional view showing how the electrical characteristic test is performed in a high temperature environment.

【図5】 (a)は、他の従来のプローブカードを示す
概略平面図であり、(b)は、(a)に示す5b−5b
線に沿った断面図である。
5 (a) is a schematic plan view showing another conventional probe card, and FIG. 5 (b) is a cross-sectional view of 5b-5b shown in FIG. 5 (a).
It is sectional drawing which followed the line.

【図6】 図5に示す他の従来のプローブカードから補
強板を無くしたプローブカードを示す断面図である。
6 is a cross-sectional view showing a probe card in which a reinforcing plate is removed from the other conventional probe card shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,110…プローブカード基板 11,111…ICチップ 12,112…固定リング 13,113…半導体ウエハ 14,14a,14b,114,114a,114b…
プローブ針 15,115…テスタ接続端子エリア 16,116…テスタ接続端子 17,27,117…放熱補強板 19,119…チャックテーブル 21,22…放熱用のスルーホール 37…偏荷重補強板 110a…基板開口エリア 118…ジャンパー配線
10, 110 ... Probe card substrates 11, 111 ... IC chips 12, 112 ... Fixing rings 13, 113 ... Semiconductor wafers 14, 14a, 14b, 114, 114a, 114b ...
Probe needles 15, 115 ... Tester connection terminal areas 16, 116 ... Tester connection terminals 17, 27, 117 ... Heat radiation reinforcing plates 19, 119 ... Chuck tables 21, 22 ... Heat radiation through holes 37 ... Unbalanced load reinforcing plate 110a ... Substrate Opening area 118 ... Jumper wiring

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高温環境下で半導体ウエハにプローブ試
験を行うためのプローブカードであって、 プローブカード基板と、 このプローブカード基板の上面側に設けられた放熱補強
板と、 この放熱補強板に設けられた複数の放熱用のスルーホー
ルと、 を具備することを特徴とするプローブカード。
1. A probe card for performing a probe test on a semiconductor wafer in a high temperature environment, comprising a probe card substrate, a heat radiation reinforcing plate provided on an upper surface side of the probe card substrate, and the heat radiation reinforcing plate. A probe card, comprising: a plurality of through holes provided for heat dissipation.
【請求項2】 前記プローブカード基板に設けられた複
数の放熱用のスルーホールをさらに含むことを特徴とす
る請求項1に記載のプローブカード。
2. The probe card according to claim 1, further comprising a plurality of through holes for heat dissipation provided on the probe card substrate.
【請求項3】 前記プローブカード基板に設けられた放
熱用のスルーホールと前記放熱補強板に設けられた放熱
用のスルーホールが繋がっていることを特徴とする請求
項1又は2に記載のプローブカード。
3. The probe according to claim 1, wherein the heat dissipation through hole provided in the probe card substrate and the heat dissipation through hole provided in the heat dissipation reinforcing plate are connected to each other. card.
【請求項4】 高温環境下で半導体ウエハにプローブ試
験を行うためのプローブカードであって、 プローブカード基板と、 このプローブカード基板に設けられた複数の放熱用のス
ルーホールプローブカード基板の上面側に設けられた放
熱補強板と、 を具備することを特徴とするプローブカード。
4. A probe card for performing a probe test on a semiconductor wafer in a high temperature environment, comprising a probe card substrate and a plurality of through-hole probe card substrates for heat dissipation provided on the probe card substrate. A probe card comprising: a heat dissipation reinforcing plate provided on the.
【請求項5】 前記プローブカード基板の外周にテスタ
接続端子エリアが形成されており、前記放熱補強板はテ
スタ接続端子エリアの内側を埋めるように配置されてい
ることを特徴とする請求項1〜4のうちいずれか1項記
載のプローブカード。
5. The tester connecting terminal area is formed on the outer periphery of the probe card substrate, and the heat dissipation reinforcing plate is arranged so as to fill the inside of the tester connecting terminal area. 4. The probe card according to claim 1.
【請求項6】 前記プローブカード基板の外周にテスタ
接続端子エリアが形成され、前記放熱補強板はテスタ接
続端子エリアの内側に配置され、前記プローブカード基
板に設けられたスルーホールが前記放熱補強板と前記テ
スタ接続端子エリアとの間に配置されていることを特徴
とする請求項1〜4のうちいずれか1項記載のプローブ
カード。
6. A tester connecting terminal area is formed on an outer periphery of the probe card board, the heat dissipation reinforcing plate is disposed inside the tester connecting terminal area, and a through hole provided in the probe card board has the heat dissipation reinforcing board. The probe card according to any one of claims 1 to 4, wherein the probe card is arranged between the tester connection terminal area and the tester connection terminal area.
【請求項7】 前記プローブカード基板の下面側の中央
部に樹脂固定部材が配置されており、この樹脂固定部材
にプローブ針が固定されていることを特徴とする請求項
1〜6のうちいずれか1項記載のプローブカード。
7. The resin fixing member is arranged in the central portion on the lower surface side of the probe card substrate, and the probe needle is fixed to the resin fixing member. The probe card according to item 1.
【請求項8】 請求項2に記載のプローブカードを用い
てプローブ試験を行う方法であって、 ウエハを所定温度まで加熱し、 このウエハのICチップの各電極パッドにプローブカー
ドのプローブ針を押し当てて試験を行いながら、放熱補
強板のスルーホール及びプローブカード基板のスルーホ
ールによって放熱させることを特徴とするプローブカー
ド試験方法。
8. A method for performing a probe test using the probe card according to claim 2, wherein the wafer is heated to a predetermined temperature, and the probe needle of the probe card is pressed against each electrode pad of the IC chip of the wafer. A probe card test method characterized in that heat is radiated through the through holes of the heat dissipation reinforcing plate and the through holes of the probe card substrate while applying the test.
【請求項9】 半導体ウエハにプローブ試験を行うため
のプローブカードであって、 プローブカード基板と、 このプローブカード基板の上面側に設けられた偏荷重補
強板と、 を具備し、 上記偏荷重補強板が透明材料から形成されていることを
特徴とするプローブカード。
9. A probe card for performing a probe test on a semiconductor wafer, comprising: a probe card substrate; and an unbalanced load reinforcing plate provided on an upper surface side of the probe card substrate, A probe card in which the plate is formed of a transparent material.
【請求項10】 前記プローブカード基板に複数のプロ
ーブ針が配置されており、一方側のプローブ針の数が他
方側のプローブ針の数より多いことを特徴とする請求項
9に記載のプローブカード。
10. The probe card according to claim 9, wherein a plurality of probe needles are arranged on the probe card substrate, and the number of probe needles on one side is larger than the number of probe needles on the other side. .
【請求項11】 前記透明材料が透明樹脂であることを
特徴とする請求項9又は10に記載のプローブカード。
11. The probe card according to claim 9, wherein the transparent material is a transparent resin.
【請求項12】 前記プローブカード基板の中央部に開
口部が形成されていることを特徴とする請求項9〜11
のうちいずれか1項記載のプローブカード。
12. An opening is formed in the center of the probe card substrate.
The probe card according to claim 1.
【請求項13】 請求項10に記載のプローブカードを
用いてプローブ試験を行う方法であって、 ウエハのLCDドライバチップの各電極パッドにプロー
ブカードのプローブ針を押し当てて試験を行うことを特
徴とするプローブカード試験方法。
13. A method of performing a probe test using the probe card according to claim 10, wherein the probe needle of the probe card is pressed against each electrode pad of the LCD driver chip of the wafer to perform the test. Test method for probe card.
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Cited By (6)

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