JPH07292098A - ポリアルキレングリコール、及びその組成物 - Google Patents
ポリアルキレングリコール、及びその組成物Info
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- JPH07292098A JPH07292098A JP6084731A JP8473194A JPH07292098A JP H07292098 A JPH07292098 A JP H07292098A JP 6084731 A JP6084731 A JP 6084731A JP 8473194 A JP8473194 A JP 8473194A JP H07292098 A JPH07292098 A JP H07292098A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式（Ｉ）で表されかつ、数平均分子量が
３５０〜３００００のポリアルキレングリコールであ
る。 Ａ1 −Ｂ−Ａ2 （Ｉ） （ここで、Ａ1 は−（ＯＣx Ｈ2x-2h ）l ＯＨ、Ａ2 は
−（Ｃy Ｈ2y-2k Ｏ） m Ｈ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）
−、−（Ｃz Ｈ2z-2i Ｏ）−の構成がそれぞれｎ、ｐ個
の結合より構成されるものであり、式中、ｘ、ｙは４〜
２０の整数、ｌは０〜１０の整数，ｍは１〜１０の整
数、ｈはｘが４〜６のとき０〜２、７のとき０〜３、８
〜２０のとき０〜４の整数、ｋはｙが４〜６のとき０〜
２、７のとき０〜３、８〜２０のとき０〜４の整数、ｉ
はｚが３のとき０〜１、４〜６のとき０〜２、７のとき
０〜３、８〜１０のとき０〜４の整数、ｚは３〜１０の
整数、ｎは４〜６８０の整数、ｐは０≦ｐ／（ｎ＋ｐ）
≦０．１を満足する様な整数を表す。） 【効果】 本発明の新規なポリアルキレングリコールに
より、極めて低泡性でかつ、洗浄力に優れた界面活性剤
組成物、洗浄剤組成物が得られる。
３５０〜３００００のポリアルキレングリコールであ
る。 Ａ1 −Ｂ−Ａ2 （Ｉ） （ここで、Ａ1 は−（ＯＣx Ｈ2x-2h ）l ＯＨ、Ａ2 は
−（Ｃy Ｈ2y-2k Ｏ） m Ｈ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）
−、−（Ｃz Ｈ2z-2i Ｏ）−の構成がそれぞれｎ、ｐ個
の結合より構成されるものであり、式中、ｘ、ｙは４〜
２０の整数、ｌは０〜１０の整数，ｍは１〜１０の整
数、ｈはｘが４〜６のとき０〜２、７のとき０〜３、８
〜２０のとき０〜４の整数、ｋはｙが４〜６のとき０〜
２、７のとき０〜３、８〜２０のとき０〜４の整数、ｉ
はｚが３のとき０〜１、４〜６のとき０〜２、７のとき
０〜３、８〜１０のとき０〜４の整数、ｚは３〜１０の
整数、ｎは４〜６８０の整数、ｐは０≦ｐ／（ｎ＋ｐ）
≦０．１を満足する様な整数を表す。） 【効果】 本発明の新規なポリアルキレングリコールに
より、極めて低泡性でかつ、洗浄力に優れた界面活性剤
組成物、洗浄剤組成物が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄剤、乳化剤、可溶
化剤、分散剤、濡れ剤、消泡剤等の界面活性剤、溶剤、
潤滑油用基剤、中間原料等として洗浄分野、塗料・接着
剤・コーティング剤分野、繊維工業分野、ゴム・プラス
チック分野、食品・医薬品・化粧品工業分野等に利用さ
れる、新規なポリアルキレングリコール及び、それを用
いた界面活性剤組成物、洗浄剤組成物に関する。
化剤、分散剤、濡れ剤、消泡剤等の界面活性剤、溶剤、
潤滑油用基剤、中間原料等として洗浄分野、塗料・接着
剤・コーティング剤分野、繊維工業分野、ゴム・プラス
チック分野、食品・医薬品・化粧品工業分野等に利用さ
れる、新規なポリアルキレングリコール及び、それを用
いた界面活性剤組成物、洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】ポリアルキレングリコー
ル、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール等は工業的に大規模に生産され、洗浄分野、
塗料・接着剤・コーティング剤分野、繊維工業分野、ゴ
ム・プラスチック分野、食品・医薬品・化粧品工業分野
等で多岐の用途に渡って使用されている。
ル、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール等は工業的に大規模に生産され、洗浄分野、
塗料・接着剤・コーティング剤分野、繊維工業分野、ゴ
ム・プラスチック分野、食品・医薬品・化粧品工業分野
等で多岐の用途に渡って使用されている。
【０００３】特に、界面活性剤としてはポリプロピレン
グリコールのエチレンオキサイド付加物がプルロニック
型界面活性剤として市販され、利用されている（米国特
許第２６７４６１９号）。このプルロニック型界面活性
剤は、一般に、平均分子量１０００〜４０００程度のポ
リプロピレングリコールに、全分子中のエチレンオキサ
イドの含有率が１０〜８０％となるように、エチレンオ
キサイドを付加した物が用いられており、両者の比率を
変化させる事により、性状や、ＨＬＢ等の物性の異なっ
た製品が得られる。
グリコールのエチレンオキサイド付加物がプルロニック
型界面活性剤として市販され、利用されている（米国特
許第２６７４６１９号）。このプルロニック型界面活性
剤は、一般に、平均分子量１０００〜４０００程度のポ
リプロピレングリコールに、全分子中のエチレンオキサ
イドの含有率が１０〜８０％となるように、エチレンオ
キサイドを付加した物が用いられており、両者の比率を
変化させる事により、性状や、ＨＬＢ等の物性の異なっ
た製品が得られる。
【０００４】このプルロニック型界面活性剤は化学的に
安定である、洗浄力が優れている、低毒性、低泡性であ
る等の特徴を有する。その中で、特に、低泡性であると
いう点が他のノニオン系界面活性剤に比して特徴的な性
質であり、泡立ちを嫌う工業用途、例えば、金属洗浄、
繊維洗浄等に使用れている。しかしながら、高圧スプレ
ー洗浄等の過酷な条件下で使用時の、泡立ちの抑制は十
分とは言えないのが現状である。また、全分子中のエチ
レンオキサイドの含有率を下げる事により泡立ちを抑え
ることは可能であるが、同時に洗浄力が低下してしまう
事が知られている。
安定である、洗浄力が優れている、低毒性、低泡性であ
る等の特徴を有する。その中で、特に、低泡性であると
いう点が他のノニオン系界面活性剤に比して特徴的な性
質であり、泡立ちを嫌う工業用途、例えば、金属洗浄、
繊維洗浄等に使用れている。しかしながら、高圧スプレ
ー洗浄等の過酷な条件下で使用時の、泡立ちの抑制は十
分とは言えないのが現状である。また、全分子中のエチ
レンオキサイドの含有率を下げる事により泡立ちを抑え
ることは可能であるが、同時に洗浄力が低下してしまう
事が知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、新規
なポリアルキレングリコール及び、極めて低泡性でか
つ、洗浄力に優れた界面活性剤組成物、洗浄剤組成物を
提供する事にある。
なポリアルキレングリコール及び、極めて低泡性でか
つ、洗浄力に優れた界面活性剤組成物、洗浄剤組成物を
提供する事にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に関して鋭意検討の結果、特定の構造を有し、かつ特定
の分子量を有する、新規なポリアルキレングリコール及
び、それを用いた界面活性剤組成物、洗浄剤組成物が優
れた性能を有する事を見いだし、本発明を完成するに至
った。
に関して鋭意検討の結果、特定の構造を有し、かつ特定
の分子量を有する、新規なポリアルキレングリコール及
び、それを用いた界面活性剤組成物、洗浄剤組成物が優
れた性能を有する事を見いだし、本発明を完成するに至
った。
【０００７】即ち、本発明は、 一般式（Ｉ）で表され
かつ、数平均分子量が３５０〜３００００のポリアルキ
レングリコールであり、 Ａ1 −Ｂ−Ａ2 （Ｉ） （ここで、Ａ1 は−（ＯＣx Ｈ2x-2h ）l ＯＨ、Ａ2 は
−（Ｃy Ｈ2y-2k Ｏ） m Ｈ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）
−、−（Ｃz Ｈ2z-2i Ｏ）−の構成がそれぞれｎ、ｐ個
の結合より構成されるものであり、式中、ｘ、ｙは４〜
２０の整数、ｌは０〜１０の整数，ｍは１〜１０の整
数、ｈはｘが４〜６のとき０〜２、７のとき０〜３、８
〜２０のとき０〜４の整数、ｋはｙが４〜６のとき０〜
２、７のとき０〜３、８〜２０のとき０〜４の整数、ｉ
はｚが３のとき０〜１、４〜６のとき０〜２、７のとき
０〜３、８〜１０のとき０〜４の整数、ｚは３〜１０の
整数、ｎは４〜６８０の整数、ｐは０≦ｐ／（ｎ＋ｐ）
≦０．１を満足する様な整数を表す。） 好ましくは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般式（Ｉ
Ｉ）で構成されるポリアルキレングリコールであり、更
に、好ましくは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般式
（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n
−で、ｎは４〜６８０の整数である、ポリアルキレング
リコールである。
かつ、数平均分子量が３５０〜３００００のポリアルキ
レングリコールであり、 Ａ1 −Ｂ−Ａ2 （Ｉ） （ここで、Ａ1 は−（ＯＣx Ｈ2x-2h ）l ＯＨ、Ａ2 は
−（Ｃy Ｈ2y-2k Ｏ） m Ｈ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）
−、−（Ｃz Ｈ2z-2i Ｏ）−の構成がそれぞれｎ、ｐ個
の結合より構成されるものであり、式中、ｘ、ｙは４〜
２０の整数、ｌは０〜１０の整数，ｍは１〜１０の整
数、ｈはｘが４〜６のとき０〜２、７のとき０〜３、８
〜２０のとき０〜４の整数、ｋはｙが４〜６のとき０〜
２、７のとき０〜３、８〜２０のとき０〜４の整数、ｉ
はｚが３のとき０〜１、４〜６のとき０〜２、７のとき
０〜３、８〜１０のとき０〜４の整数、ｚは３〜１０の
整数、ｎは４〜６８０の整数、ｐは０≦ｐ／（ｎ＋ｐ）
≦０．１を満足する様な整数を表す。） 好ましくは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般式（Ｉ
Ｉ）で構成されるポリアルキレングリコールであり、更
に、好ましくは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般式
（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n
−で、ｎは４〜６８０の整数である、ポリアルキレング
リコールである。
【０００８】
【化２】
【０００９】（式中、ｌは０〜１０の整数，ｍは１〜１
０の整数である。） また、本発明は、上記のポリアルキレングリコールを必
須成分として１〜１００重量％含有する事を特徴とする
界面活性剤組成物、更には、上記のポリアルキレングリ
コール０．００１〜５０重量％と水１〜９９．９９９重
量％とを必須成分として含有する事を特徴とする洗浄剤
組成物に関するものである。
０の整数である。） また、本発明は、上記のポリアルキレングリコールを必
須成分として１〜１００重量％含有する事を特徴とする
界面活性剤組成物、更には、上記のポリアルキレングリ
コール０．００１〜５０重量％と水１〜９９．９９９重
量％とを必須成分として含有する事を特徴とする洗浄剤
組成物に関するものである。
【００１０】本発明のポリアルキレングリコールは、一
般式（Ｉ）において表される様に親水部であるＢ部と、
その両末端または片末端に疎水部であるＡ１、Ａ２部が
結合した構造を有するものである。Ｂ部は親水性である
必要があり、そのためには、Ｂ部は、−（ＣＨ2 ＣＨ2
Ｏ）−、−（Ｃz Ｈ2z-2i Ｏ）−の結合より構成される
ものであり、ｎは４〜６８０の整数、ｐは０≦ｐ／（ｎ
＋ｐ）≦０．１を満足する整数であり、とりわけｐ＝０
即ち、Ｂ部が−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n −である事が好ま
しい。ｐ／（ｎ＋ｐ）が０．１より大であると、Ｂ部の
親水性が十分でなく、洗浄力、界面活性効果が低下して
好ましくない。また、ｎは４〜６８０の整数である。ｎ
が４未満では親水性が十分でなく、洗浄力、界面活性効
果が低下して好ましくなく、６８０より大であると、分
子量が大きすぎて溶解度が低下し好ましくない。ｚは３
〜１０の整数であり、ｚが１０より大ではＢ部の親水性
を低下させ、その為、洗浄力、界面活性効果が低下して
好ましくない。Ｂ部において−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）−単
位と−（Ｃz Ｈ2z-2i Ｏ）−単位は上記の条件を満たし
ていれば、ランダム、規則的、またブロック状に結合し
ていても良い。
般式（Ｉ）において表される様に親水部であるＢ部と、
その両末端または片末端に疎水部であるＡ１、Ａ２部が
結合した構造を有するものである。Ｂ部は親水性である
必要があり、そのためには、Ｂ部は、−（ＣＨ2 ＣＨ2
Ｏ）−、−（Ｃz Ｈ2z-2i Ｏ）−の結合より構成される
ものであり、ｎは４〜６８０の整数、ｐは０≦ｐ／（ｎ
＋ｐ）≦０．１を満足する整数であり、とりわけｐ＝０
即ち、Ｂ部が−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n −である事が好ま
しい。ｐ／（ｎ＋ｐ）が０．１より大であると、Ｂ部の
親水性が十分でなく、洗浄力、界面活性効果が低下して
好ましくない。また、ｎは４〜６８０の整数である。ｎ
が４未満では親水性が十分でなく、洗浄力、界面活性効
果が低下して好ましくなく、６８０より大であると、分
子量が大きすぎて溶解度が低下し好ましくない。ｚは３
〜１０の整数であり、ｚが１０より大ではＢ部の親水性
を低下させ、その為、洗浄力、界面活性効果が低下して
好ましくない。Ｂ部において−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）−単
位と−（Ｃz Ｈ2z-2i Ｏ）−単位は上記の条件を満たし
ていれば、ランダム、規則的、またブロック状に結合し
ていても良い。
【００１１】Ａ１、Ａ２部は疎水性である必要があり、
一般式（Ｉ）で表される様にＡ１部は−（ＯＣx Ｈ
2x-2h ）l ＯＨ（ｘは４〜２０の整数、ｌは０〜１０の
整数、ｈは０〜４の整数を表す）、Ａ２部は−（Ｃy Ｈ
2y-2k Ｏ）m Ｈ（ｙは４〜２０の整数、ｍは０〜１０の
整数、ｋは０〜４の整数を表す）の構造である必要があ
る。更に、とりわけ、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一
般式（ＩＩ）で構成されるポリアルキレングリコールが
好ましく、更には、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般
式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）
n −で、ｎは４〜６８０の整数である、ポリアルキレン
グリコールが好ましい。
一般式（Ｉ）で表される様にＡ１部は−（ＯＣx Ｈ
2x-2h ）l ＯＨ（ｘは４〜２０の整数、ｌは０〜１０の
整数、ｈは０〜４の整数を表す）、Ａ２部は−（Ｃy Ｈ
2y-2k Ｏ）m Ｈ（ｙは４〜２０の整数、ｍは０〜１０の
整数、ｋは０〜４の整数を表す）の構造である必要があ
る。更に、とりわけ、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一
般式（ＩＩ）で構成されるポリアルキレングリコールが
好ましく、更には、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般
式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）
n −で、ｎは４〜６８０の整数である、ポリアルキレン
グリコールが好ましい。
【００１２】十分な疎水性を示すためにはｘ、ｙが４〜
２０の整数である必要があり、とりわけ５〜８が好まし
く用いられる。ｘ、ｙが４未満ではＡ１，Ａ２部の疎水
性が十分でなく、洗浄力、界面活性効果を低下させ好ま
しくなく、また、２０より大きいと、得られるポリアル
キレングリコールの、水への溶解性が低下して、同じく
好ましくない。繰り返し単位のｌは０〜１０の整数、ｍ
は１〜１０の整数である事が必要である。ｌ、ｍが１０
を越えると、Ａ１，Ａ２部の疎水性が高くなり、得られ
るポリアルキレングリコールの、洗浄力、界面活性効果
を低下させ、好ましくない。また、両者とも０の構造で
は、疎水部が存在しなくなる事から、界面活性効果が無
くなり好ましくなく、少なくともｌ＝０、ｍ＝１である
必要がある。通常、合成物はｌ、ｍの異なるポリアルキ
レングリコールの混合物として得られるので、使用に際
しては、それをそのまま分離すること無く用いても良い
し、必要があれば更に、精製して上記の範囲のｌ、ｍ成
分のみ、あるいは、更にその中でも特定のｌ、ｍ成分の
みを分離して用いても良い。
２０の整数である必要があり、とりわけ５〜８が好まし
く用いられる。ｘ、ｙが４未満ではＡ１，Ａ２部の疎水
性が十分でなく、洗浄力、界面活性効果を低下させ好ま
しくなく、また、２０より大きいと、得られるポリアル
キレングリコールの、水への溶解性が低下して、同じく
好ましくない。繰り返し単位のｌは０〜１０の整数、ｍ
は１〜１０の整数である事が必要である。ｌ、ｍが１０
を越えると、Ａ１，Ａ２部の疎水性が高くなり、得られ
るポリアルキレングリコールの、洗浄力、界面活性効果
を低下させ、好ましくない。また、両者とも０の構造で
は、疎水部が存在しなくなる事から、界面活性効果が無
くなり好ましくなく、少なくともｌ＝０、ｍ＝１である
必要がある。通常、合成物はｌ、ｍの異なるポリアルキ
レングリコールの混合物として得られるので、使用に際
しては、それをそのまま分離すること無く用いても良い
し、必要があれば更に、精製して上記の範囲のｌ、ｍ成
分のみ、あるいは、更にその中でも特定のｌ、ｍ成分の
みを分離して用いても良い。
【００１３】また、本発明のポリアルキレングリコール
は、数平均分子量が３５０〜３００００である必要があ
り、特に３５０〜１００００が好ましい。数平均分子量
が３５０未満では、特にＢ部の分子量が小さすぎて、親
水性が十分でなく、洗浄力、界面活性効果が低下して好
ましくないく、数平均分子量が３００００より大きい場
合は分子量が大きすぎて界面活性効果を低下させ、同じ
く好ましくない。
は、数平均分子量が３５０〜３００００である必要があ
り、特に３５０〜１００００が好ましい。数平均分子量
が３５０未満では、特にＢ部の分子量が小さすぎて、親
水性が十分でなく、洗浄力、界面活性効果が低下して好
ましくないく、数平均分子量が３００００より大きい場
合は分子量が大きすぎて界面活性効果を低下させ、同じ
く好ましくない。
【００１４】本発明の、ポリアルキレングリコールは種
々の方法で合成可能であるが、例えば次に記載の方法に
より合成する事ができる。まず、エチレンオキサイドを
単独で重合、又は必要に応じて炭素数３〜１０のアルキ
レンオキサイドと共重合する事によりＢ部の構造を有す
る重合体を得る。ここで得られた単独重合体、又は共重
合体を分離、精製してして、又は分離すること無く引き
続いていて、更にその末端に炭素数４〜２０のアルキレ
ンオキサイドを付加させる。これにより、Ｂ部の両末端
にＡ１、Ａ２部が結合した構造を有する一般式（Ｉ）で
表されるポリアルキレングリコールを得る事が出来る。
々の方法で合成可能であるが、例えば次に記載の方法に
より合成する事ができる。まず、エチレンオキサイドを
単独で重合、又は必要に応じて炭素数３〜１０のアルキ
レンオキサイドと共重合する事によりＢ部の構造を有す
る重合体を得る。ここで得られた単独重合体、又は共重
合体を分離、精製してして、又は分離すること無く引き
続いていて、更にその末端に炭素数４〜２０のアルキレ
ンオキサイドを付加させる。これにより、Ｂ部の両末端
にＡ１、Ａ２部が結合した構造を有する一般式（Ｉ）で
表されるポリアルキレングリコールを得る事が出来る。
【００１５】ここで、エチレンオキサイドと共にＢ部を
構成する事ができるアルキレンオキサイドは、例えば、
プロピレンオキサイド、イソブチレンオキサイド、１−
ブテンオキサイド、シクロペンテンオキサイド等があげ
られる。また、Ａ１、Ａ２部を構成するアルキレンオキ
サイドとしては、例えば、イソブチレンオキサイド、１
−ブテンオキサイド、ブタジエンモノオキサイド、シク
ロペンテンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、シ
クロオクテンオキサイド、スチレンオキサイド、１，２
−エポキシデカン、１，２−エポキシシクロドデカン等
があげられる。とりわけ、炭素数５〜８のアルキレンオ
キサイドが好ましく使用され、更に、シクロヘキセンオ
キサイドが特に好ましく使用される。
構成する事ができるアルキレンオキサイドは、例えば、
プロピレンオキサイド、イソブチレンオキサイド、１−
ブテンオキサイド、シクロペンテンオキサイド等があげ
られる。また、Ａ１、Ａ２部を構成するアルキレンオキ
サイドとしては、例えば、イソブチレンオキサイド、１
−ブテンオキサイド、ブタジエンモノオキサイド、シク
ロペンテンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、シ
クロオクテンオキサイド、スチレンオキサイド、１，２
−エポキシデカン、１，２−エポキシシクロドデカン等
があげられる。とりわけ、炭素数５〜８のアルキレンオ
キサイドが好ましく使用され、更に、シクロヘキセンオ
キサイドが特に好ましく使用される。
【００１６】ここでＢ部を構成するポリアルキレングリ
コールの合成、及び該ポリアルキレングリコールとＡ
１、Ａ２部を構成する炭素数４〜２０のアルキレンオキ
サイドの反応に際しては、種々の触媒を使用する事が可
能であり、具体的には、酸触媒、アルカリ触媒、遷移金
属触媒等が使用可能である。例えば酸触媒としては三フ
ッ化ホウ素、ジエチルエーテル三フッ化ホウ素付加物、
四フッ化ホウ素、五塩化アンチモン、四塩化錫、三塩化
アルミニウム、三塩化鉄等の金属および半金族のハロゲ
ン化物、塩化水素、臭化水素、硫酸、過塩素酸等の鉱
酸、酢酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸、ゼオラ
イト、モンモリロナイト、カチオン交換樹脂等の固体酸
触媒が挙げられる。アルカリ触媒としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウ
ム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属水酸化物、ナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウム、カリ
ウムアルコラート等のアルカリ金属アルコラート、アル
キルアミン、水酸化四級アンモニウム塩、アニオン交換
樹脂等が挙げられる。これらの内、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属、アルカリ金属アルコラートが好まし
く使用され、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナト
リウム金属がより好ましく使用される。
コールの合成、及び該ポリアルキレングリコールとＡ
１、Ａ２部を構成する炭素数４〜２０のアルキレンオキ
サイドの反応に際しては、種々の触媒を使用する事が可
能であり、具体的には、酸触媒、アルカリ触媒、遷移金
属触媒等が使用可能である。例えば酸触媒としては三フ
ッ化ホウ素、ジエチルエーテル三フッ化ホウ素付加物、
四フッ化ホウ素、五塩化アンチモン、四塩化錫、三塩化
アルミニウム、三塩化鉄等の金属および半金族のハロゲ
ン化物、塩化水素、臭化水素、硫酸、過塩素酸等の鉱
酸、酢酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸、ゼオラ
イト、モンモリロナイト、カチオン交換樹脂等の固体酸
触媒が挙げられる。アルカリ触媒としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウ
ム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属水酸化物、ナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属、ナトリウム、カリ
ウムアルコラート等のアルカリ金属アルコラート、アル
キルアミン、水酸化四級アンモニウム塩、アニオン交換
樹脂等が挙げられる。これらの内、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属、アルカリ金属アルコラートが好まし
く使用され、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナト
リウム金属がより好ましく使用される。
【００１７】反応条件として、例えば、反応温度は５０
〜２００℃、反応圧力は常圧、又は加圧下で行う事でき
る。又、必要に応じて、反応溶媒を用いる事もできる。
本発明のポリアルキレングリコールは前述の種々の用途
に使用可能であり、例えば、界面活性剤として好適に用
いる事ができる。その際、本発明品の他に、必要に応じ
て、他の界面活性剤、例えばアニオン系界面活性剤、カ
チオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面
活性剤等や溶剤、添加剤等を加える事もできる。他成分
を添加するに際しては、本発明のポリアルキレングリコ
ールの界面活性剤組成物中の含有率が１重量％以上であ
る必要があり、それ以下では本発明品の特徴である低泡
性、且つ洗浄力に優れると言う特徴が十分でない。ま
た、本発明のポリアルキレングリコールは水と混合する
事により洗浄剤組成物として好適に用いる事ができる。
その際、本発明のポリアルキレングリコールの洗浄剤組
成物中の含有率は０．００１〜５０重量％である必要が
ある。含有率が０．００１重量％未満では、洗浄力が十
分でなく、又、５０重量％より大きいと水と十分に混和
せずに好ましくない。この洗浄剤組成物に、必要に応じ
て他の界面活性剤、溶剤、添加剤等を含有させる事は差
し支えない。
〜２００℃、反応圧力は常圧、又は加圧下で行う事でき
る。又、必要に応じて、反応溶媒を用いる事もできる。
本発明のポリアルキレングリコールは前述の種々の用途
に使用可能であり、例えば、界面活性剤として好適に用
いる事ができる。その際、本発明品の他に、必要に応じ
て、他の界面活性剤、例えばアニオン系界面活性剤、カ
チオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面
活性剤等や溶剤、添加剤等を加える事もできる。他成分
を添加するに際しては、本発明のポリアルキレングリコ
ールの界面活性剤組成物中の含有率が１重量％以上であ
る必要があり、それ以下では本発明品の特徴である低泡
性、且つ洗浄力に優れると言う特徴が十分でない。ま
た、本発明のポリアルキレングリコールは水と混合する
事により洗浄剤組成物として好適に用いる事ができる。
その際、本発明のポリアルキレングリコールの洗浄剤組
成物中の含有率は０．００１〜５０重量％である必要が
ある。含有率が０．００１重量％未満では、洗浄力が十
分でなく、又、５０重量％より大きいと水と十分に混和
せずに好ましくない。この洗浄剤組成物に、必要に応じ
て他の界面活性剤、溶剤、添加剤等を含有させる事は差
し支えない。
【００１８】
【実施例】実施例中の試験は下記の方法に従って行っ
た。 （１）起泡性試験 試験液として０．１重量％の水溶液を用いて、ＪＩＳ
Ｋ ３３６２、ロスマイルス法に準じて、温度２０℃
で、試験液の起泡性を試験液滴下直後の泡の高さで示し
た。値が小さいほど低泡性である。 （２）洗浄力試験 試験液として、０．０２、０．２重量％の水溶液を用
い、以下の条件で金網（ｓｕｓ３０４製、３０メッシ
ュ、４５×８５ｍｍ）に付着させた切削油（日本石油
製、ユニカットＧＨ３５）を洗浄して、試験片（Ａｇ）
を作成した。
た。 （１）起泡性試験 試験液として０．１重量％の水溶液を用いて、ＪＩＳ
Ｋ ３３６２、ロスマイルス法に準じて、温度２０℃
で、試験液の起泡性を試験液滴下直後の泡の高さで示し
た。値が小さいほど低泡性である。 （２）洗浄力試験 試験液として、０．０２、０．２重量％の水溶液を用
い、以下の条件で金網（ｓｕｓ３０４製、３０メッシ
ュ、４５×８５ｍｍ）に付着させた切削油（日本石油
製、ユニカットＧＨ３５）を洗浄して、試験片（Ａｇ）
を作成した。
【００１９】試験片の作成：１，１，１−トリクロロエ
タンに切削油２５％を溶解させた液に、金網を浸漬後、
引き上げる。その後、１００℃で乾燥し、１，１，１−
トリクロルエタンを蒸発させた物の重量を測定し、試験
片（Ｂｇ）とした。 洗浄条件：上記試験片を洗浄液温５０℃にて、超音波洗
浄器中で３０秒間洗浄、流水中で３分間すすいだ。その
後、１００℃で乾燥し、水を蒸発させた後、試験片の重
量を測定し、試験片（Ｃｇ）とした。
タンに切削油２５％を溶解させた液に、金網を浸漬後、
引き上げる。その後、１００℃で乾燥し、１，１，１−
トリクロルエタンを蒸発させた物の重量を測定し、試験
片（Ｂｇ）とした。 洗浄条件：上記試験片を洗浄液温５０℃にて、超音波洗
浄器中で３０秒間洗浄、流水中で３分間すすいだ。その
後、１００℃で乾燥し、水を蒸発させた後、試験片の重
量を測定し、試験片（Ｃｇ）とした。
【００２０】下式により洗浄率を求め、試験液の洗浄力
を表した。洗浄率の値が大きいほど、洗浄力が優れてい
る。 洗浄率（％）＝（Ｂ−Ｃ）／（Ｂ−Ａ）×１００
を表した。洗浄率の値が大きいほど、洗浄力が優れてい
る。 洗浄率（％）＝（Ｂ−Ｃ）／（Ｂ−Ａ）×１００
【００２１】
【実施例１】温度計、攪拌機、還流冷却管、滴下ロート
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃６０
０（平均分子量６００）１４２．７ｇ、テトラグライム
１２０ｇ、水酸化ナトリウム２３．８ｇを仕込み、１６
０℃で加熱撹はんした。滴下ロートにシクロヘキセンオ
キサイド９３．６ｇを仕込んだ後、１時間かけて徐々に
フラスコ中に滴下した。その後、更に１６０℃で１時間
加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ分析より、シクロヘ
キセンオキサイドの転化率は１００％であった。放冷
後、反応液に１Ｎ硫酸水溶液、塩化メチレンを加えて振
とう、分液し、更に塩化メチレン相に水を加えて振と
う、分液した。この操作により、触媒の水酸化ナトリウ
ムを中和し、更に生成した無機塩を除いた。塩化メチレ
ン相を減圧下に加熱し、塩化メチレンと反応溶媒である
テトラグライムを除いて、目的物のポリアルキレングリ
コール８３．４ｇを得た。
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃６０
０（平均分子量６００）１４２．７ｇ、テトラグライム
１２０ｇ、水酸化ナトリウム２３．８ｇを仕込み、１６
０℃で加熱撹はんした。滴下ロートにシクロヘキセンオ
キサイド９３．６ｇを仕込んだ後、１時間かけて徐々に
フラスコ中に滴下した。その後、更に１６０℃で１時間
加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ分析より、シクロヘ
キセンオキサイドの転化率は１００％であった。放冷
後、反応液に１Ｎ硫酸水溶液、塩化メチレンを加えて振
とう、分液し、更に塩化メチレン相に水を加えて振と
う、分液した。この操作により、触媒の水酸化ナトリウ
ムを中和し、更に生成した無機塩を除いた。塩化メチレ
ン相を減圧下に加熱し、塩化メチレンと反応溶媒である
テトラグライムを除いて、目的物のポリアルキレングリ
コール８３．４ｇを得た。
【００２２】得られたポリアルキレングリコールの水酸
基価測定より求めた分子量は８２９であり、ポリエチレ
ングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイド
付加モル数は２．４モルであった。即ち、得られたポリ
アルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2
は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１．２、ｍの平均値が
１．２、ｎの平均値が１３．２）で表される本発明のポ
リアルキレングリコールの混合物である。得られたポリ
アルキレングリコールの赤外線吸収スペクトル、プロト
ン核磁気共鳴スペクトルを図１、図２に示す。
基価測定より求めた分子量は８２９であり、ポリエチレ
ングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイド
付加モル数は２．４モルであった。即ち、得られたポリ
アルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2
は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１．２、ｍの平均値が
１．２、ｎの平均値が１３．２）で表される本発明のポ
リアルキレングリコールの混合物である。得られたポリ
アルキレングリコールの赤外線吸収スペクトル、プロト
ン核磁気共鳴スペクトルを図１、図２に示す。
【００２３】このポリアルキレングリコールを水に溶解
し、起泡性試験、洗浄力試験を行った。結果を表１に示
した。
し、起泡性試験、洗浄力試験を行った。結果を表１に示
した。
【００２４】
【実施例２】温度計、攪拌機、還流冷却管、滴下ロート
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃１０
００（平均分子量１０００）１００．０ｇ、テトラグラ
イム５９ｇ、水酸化ナトリウム１０．１ｇを仕込み、１
６０℃で加熱攪拌した。滴下ロートにシクロヘキセンオ
キサイド２４．６ｇを仕込んだ後、１時間かけて徐々に
フラスコ中に滴下した。その後、更に１６０℃で１時間
加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ分析より、シクロヘ
キセンオキサイドの転化率は１００％であった。その
後、実施例１と同様の処理をして、目的物のポリアルキ
レングリコール４１．６ｇを得た。
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃１０
００（平均分子量１０００）１００．０ｇ、テトラグラ
イム５９ｇ、水酸化ナトリウム１０．１ｇを仕込み、１
６０℃で加熱攪拌した。滴下ロートにシクロヘキセンオ
キサイド２４．６ｇを仕込んだ後、１時間かけて徐々に
フラスコ中に滴下した。その後、更に１６０℃で１時間
加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ分析より、シクロヘ
キセンオキサイドの転化率は１００％であった。その
後、実施例１と同様の処理をして、目的物のポリアルキ
レングリコール４１．６ｇを得た。
【００２５】得られたポリアルキレングリコールの水酸
基価測定より求めた分子量は１２７１であり、ポリエチ
レングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイ
ド付加モル数は２．８モルであった。即ち、得られたポ
リアルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ
2 は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2Ｃ
Ｈ2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１．４、ｍの平均値が
１．４、ｎの平均値が２２．３）で表されるポリアルキ
レングリコールの混合物である。得られたポリアルキレ
ングリコールの赤外線吸収スペクトル、プロトン核磁気
共鳴スペクトルを図３、図４に示す。
基価測定より求めた分子量は１２７１であり、ポリエチ
レングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイ
ド付加モル数は２．８モルであった。即ち、得られたポ
リアルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ
2 は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2Ｃ
Ｈ2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１．４、ｍの平均値が
１．４、ｎの平均値が２２．３）で表されるポリアルキ
レングリコールの混合物である。得られたポリアルキレ
ングリコールの赤外線吸収スペクトル、プロトン核磁気
共鳴スペクトルを図３、図４に示す。
【００２６】このポリアルキレングリコールを水に溶解
し、起泡性試験、洗浄力試験を行った。結果を表１に示
した。
し、起泡性試験、洗浄力試験を行った。結果を表１に示
した。
【００２７】
【比較例１】低泡性の界面活性剤として知られている、
プルロニックＬ３１（旭電化工業製、平均分子量１１０
０、構造式はＨＯ（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）a （ＣＨ2 ＣＨ
（ＣＨ 3 ）Ｏ）b （ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）c Ｈで表され、全
分子中のエチレンオキサイド部の割合は１０重量％）を
水に溶解し、起泡性試験、洗浄力試験を行った。結果を
表１に示した。
プルロニックＬ３１（旭電化工業製、平均分子量１１０
０、構造式はＨＯ（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）a （ＣＨ2 ＣＨ
（ＣＨ 3 ）Ｏ）b （ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）c Ｈで表され、全
分子中のエチレンオキサイド部の割合は１０重量％）を
水に溶解し、起泡性試験、洗浄力試験を行った。結果を
表１に示した。
【００２８】
【比較例２】低泡性の界面活性剤として知られている、
プルロニックＬ６１（旭電化工業製、平均分子量２００
０、構造式はＨＯ（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）a （ＣＨ2 ＣＨ
（ＣＨ 3 ）Ｏ）b （ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）c Ｈで表され、全
分子中のエチレンオキサイド部の割合１０重量％）を水
に溶解し、起泡性試験、洗浄力試験を行った。結果を表
１に示した。
プルロニックＬ６１（旭電化工業製、平均分子量２００
０、構造式はＨＯ（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）a （ＣＨ2 ＣＨ
（ＣＨ 3 ）Ｏ）b （ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）c Ｈで表され、全
分子中のエチレンオキサイド部の割合１０重量％）を水
に溶解し、起泡性試験、洗浄力試験を行った。結果を表
１に示した。
【００２９】
【実施例３】温度計、攪拌機、還流冷却管、滴下ロート
を備え付けたフラスコへテトラエチレングリコール（分
子量１９４）２０．１ｇ、水酸化ナトリウム１０．４ｇ
を仕込み、１８０℃で加熱攪拌した。滴下ロートにシク
ロヘキセンオキサイド４０．４ｇを仕込んだ後、１時間
かけて徐々にフラスコ中に滴下した。その後、更に１８
０℃で１時間加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ分析よ
り、シクロヘキセンオキサイドの転化率は１００％であ
った。実施例１と同様の処理をして、目的物のポリアル
キレングリコールを得た。
を備え付けたフラスコへテトラエチレングリコール（分
子量１９４）２０．１ｇ、水酸化ナトリウム１０．４ｇ
を仕込み、１８０℃で加熱攪拌した。滴下ロートにシク
ロヘキセンオキサイド４０．４ｇを仕込んだ後、１時間
かけて徐々にフラスコ中に滴下した。その後、更に１８
０℃で１時間加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ分析よ
り、シクロヘキセンオキサイドの転化率は１００％であ
った。実施例１と同様の処理をして、目的物のポリアル
キレングリコールを得た。
【００３０】得られたポリアルキレングリコールの水酸
基価測定より求めた分子量は５３２であり、テトラエチ
レングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイ
ド付加モル数は３．４モルであった。即ち、得られたポ
リアルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ
2 は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2Ｃ
Ｈ2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１．７、ｍの平均値が
１．７、ｎの値が４）で表される本発明のポリアルキレ
ングリコールの混合物である。
基価測定より求めた分子量は５３２であり、テトラエチ
レングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイ
ド付加モル数は３．４モルであった。即ち、得られたポ
リアルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ
2 は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2Ｃ
Ｈ2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１．７、ｍの平均値が
１．７、ｎの値が４）で表される本発明のポリアルキレ
ングリコールの混合物である。
【００３１】得られたポリアルキレングリコールを水に
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は９９％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は９９％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
【００３２】
【実施例４】温度計、攪拌機、還流冷却管、滴下ロート
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃６０
０（平均分子量６００）１２０４ｇ、ナトリウム金属２
３．０ｇを仕込み、１６５℃で加熱攪拌した。滴下ロー
トにシクロヘキセンオキサイド４３３ｇを仕込んだ後、
１時間かけて徐々にフラスコ中に滴下した。その後、更
に１６５℃で１時間加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ
分析より、シクロヘキセンオキサイドの転化率は１００
％であった。実施例１と同様の処理をして、目的物のポ
リアルキレングリコール８３０ｇを得た。
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃６０
０（平均分子量６００）１２０４ｇ、ナトリウム金属２
３．０ｇを仕込み、１６５℃で加熱攪拌した。滴下ロー
トにシクロヘキセンオキサイド４３３ｇを仕込んだ後、
１時間かけて徐々にフラスコ中に滴下した。その後、更
に１６５℃で１時間加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ
分析より、シクロヘキセンオキサイドの転化率は１００
％であった。実施例１と同様の処理をして、目的物のポ
リアルキレングリコール８３０ｇを得た。
【００３３】得られたポリアルキレングリコールの水酸
基価測定より求めた分子量は７９５であり、ポリエチレ
ングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイド
付加モル数は２．０モルであった。即ち、得られたポリ
アルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2
は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１、ｍの平均値が１、ｎ
の平均値が１３．２）で表される本発明のポリアルキレ
ングリコールの混合物である。
基価測定より求めた分子量は７９５であり、ポリエチレ
ングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイド
付加モル数は２．０モルであった。即ち、得られたポリ
アルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2
は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１、ｍの平均値が１、ｎ
の平均値が１３．２）で表される本発明のポリアルキレ
ングリコールの混合物である。
【００３４】得られたポリアルキレングリコールを水に
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は１００％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は１００％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
【００３５】
【実施例５】温度計、攪拌機、還流冷却管、滴下ロート
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃６０
０（平均分子量６００）１２０４ｇ、ナトリウム金属２
３．０ｇを仕込み、１６５℃で加熱攪拌した。滴下ロー
トにスチレンオキサイド５３０ｇを仕込んだ後、１時間
かけて徐々にフラスコ中に滴下した。その後、更に１６
５℃で１時間加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ分析よ
り、スチレンオキサイドの転化率は１００％であった。
その後、実施例１と同様の処理をして、目的物のポリア
ルキレングリコール９５０ｇを得た。
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃６０
０（平均分子量６００）１２０４ｇ、ナトリウム金属２
３．０ｇを仕込み、１６５℃で加熱攪拌した。滴下ロー
トにスチレンオキサイド５３０ｇを仕込んだ後、１時間
かけて徐々にフラスコ中に滴下した。その後、更に１６
５℃で１時間加熱攪拌を行った。反応液のＧＰＣ分析よ
り、スチレンオキサイドの転化率は１００％であった。
その後、実施例１と同様の処理をして、目的物のポリア
ルキレングリコール９５０ｇを得た。
【００３６】得られたポリアルキレングリコールの水酸
基価測定より求めた分子量は８５２であり、ポリエチレ
ングリコール１モルに対するスチレンオキサイド付加モ
ル数は２．１モルであった。即ち、得られたポリアルキ
レングリコールは一般式（Ｉ）（ｘ＝ｙ＝８、ｈ＝ｋ＝
４、ｐ＝０、ｌの平均値が１．０５、ｍの平均値が１．
０５、ｎの平均値が１３．２）で表される本発明のポリ
アルキレングリコールの混合物である。
基価測定より求めた分子量は８５２であり、ポリエチレ
ングリコール１モルに対するスチレンオキサイド付加モ
ル数は２．１モルであった。即ち、得られたポリアルキ
レングリコールは一般式（Ｉ）（ｘ＝ｙ＝８、ｈ＝ｋ＝
４、ｐ＝０、ｌの平均値が１．０５、ｍの平均値が１．
０５、ｎの平均値が１３．２）で表される本発明のポリ
アルキレングリコールの混合物である。
【００３７】得られたポリアルキレングリコールを水に
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は９９％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は９９％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
【００３８】
【実施例６】温度計、攪拌機、還流冷却管、滴下ロート
を備え付けたフラスコへエチレンオキサイドプロピレン
オキサイドランダム共重合体（平均分子量１２００、エ
チレンオキサイド含有率９５モル％）２４０ｇ、ナトリ
ウム金属２．５ｇを仕込み、１６５℃で加熱攪拌した。
滴下ロートにシクロヘキセンオキサイド３９．２ｇを仕
込んだ後、１時間かけて徐々にフラスコ中に滴下した。
その後、更に１６５℃で１時間加熱攪拌を行った。反応
液のＧＰＣ分析より、シクロヘキセンオキサイドの転化
率は１００％であった。実施例１と同様の処理をして、
目的物のポリアルキレングリコール２２０ｇを得た。
を備え付けたフラスコへエチレンオキサイドプロピレン
オキサイドランダム共重合体（平均分子量１２００、エ
チレンオキサイド含有率９５モル％）２４０ｇ、ナトリ
ウム金属２．５ｇを仕込み、１６５℃で加熱攪拌した。
滴下ロートにシクロヘキセンオキサイド３９．２ｇを仕
込んだ後、１時間かけて徐々にフラスコ中に滴下した。
その後、更に１６５℃で１時間加熱攪拌を行った。反応
液のＧＰＣ分析より、シクロヘキセンオキサイドの転化
率は１００％であった。実施例１と同様の処理をして、
目的物のポリアルキレングリコール２２０ｇを得た。
【００３９】得られたポリアルキレングリコールの水酸
基価測定より求めた分子量は１３８６であり、エチレン
オキサイドプロピレンオキサイドランダム共重合体１モ
ルに対するシクロヘキセンオキサイド付加モル数は１．
９モルであった。即ち、得られたポリアルキレングリコ
ールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般式（ＩＩ）
で構成されるポリアルキレングリコールであり、（ｚ＝
３、ｉ＝０、ｌの平均値が０．９５、ｍの平均値が０．
９５、ｎの平均値が２５．５、ｐの平均値が１．３、ｐ
／（ｎ＋ｐ）＝０．０５）で表される本発明のポリアル
キレングリコールの混合物である。
基価測定より求めた分子量は１３８６であり、エチレン
オキサイドプロピレンオキサイドランダム共重合体１モ
ルに対するシクロヘキセンオキサイド付加モル数は１．
９モルであった。即ち、得られたポリアルキレングリコ
ールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般式（ＩＩ）
で構成されるポリアルキレングリコールであり、（ｚ＝
３、ｉ＝０、ｌの平均値が０．９５、ｍの平均値が０．
９５、ｎの平均値が２５．５、ｐの平均値が１．３、ｐ
／（ｎ＋ｐ）＝０．０５）で表される本発明のポリアル
キレングリコールの混合物である。
【００４０】得られたポリアルキレングリコールを水に
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は９９％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は９９％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
【００４１】
【実施例７】温度計、攪拌機、還流冷却管、滴下ロート
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃４０
００（平均分子量４０００）１００．０ｇ、テトラグラ
イム５０ｇ、水酸化ナトリウム１．５ｇを仕込み、１８
０℃で加熱攪拌した。滴下ロートにシクロヘキセンオキ
サイド３６．８ｇを仕込んだ後、２時間かけて徐々にフ
ラスコ中に滴下した。更に１８０℃で３時間加熱攪拌を
行った。反応液のＧＰＣ分析より、シクロヘキセンオキ
サイドの転化率は１００％であった。実施例１と同様の
処理をして、目的物のポリアルキレングリコール１０４
ｇを得た。
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃４０
００（平均分子量４０００）１００．０ｇ、テトラグラ
イム５０ｇ、水酸化ナトリウム１．５ｇを仕込み、１８
０℃で加熱攪拌した。滴下ロートにシクロヘキセンオキ
サイド３６．８ｇを仕込んだ後、２時間かけて徐々にフ
ラスコ中に滴下した。更に１８０℃で３時間加熱攪拌を
行った。反応液のＧＰＣ分析より、シクロヘキセンオキ
サイドの転化率は１００％であった。実施例１と同様の
処理をして、目的物のポリアルキレングリコール１０４
ｇを得た。
【００４２】得られたポリアルキレングリコールの水酸
基価測定より求めた分子量は５２１５であり、ポリエチ
レングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイ
ド付加モル数は１２．４モルであった。即ち、得られた
ポリアルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、
Ａ2 は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ 2
ＣＨ2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が６．２、ｍの平均値
が６．２、ｎの平均値が９０．５）で表される本発明の
ポリアルキレングリコールの混合物である。
基価測定より求めた分子量は５２１５であり、ポリエチ
レングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイ
ド付加モル数は１２．４モルであった。即ち、得られた
ポリアルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、
Ａ2 は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ 2
ＣＨ2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が６．２、ｍの平均値
が６．２、ｎの平均値が９０．５）で表される本発明の
ポリアルキレングリコールの混合物である。
【００４３】得られたポリアルキレングリコールを水に
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は９９％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は９９％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
【００４４】
【実施例８】温度計、攪拌機、還流冷却管、滴下ロート
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃６０
０（平均分子量６００）５０．０ｇ、Ｙ型ゼオライト
（東ソー（株）製、ＨＳ−ＵＳＹ、ＨＳＺ−３６０Ｕ
Ａ、Ｈタイプ）２．５ｇを仕込み、１７０℃で加熱攪拌
した。滴下ロートにシクロヘキセンオキサイド１８．０
ｇを仕込んだ後、１時間かけて徐々にフラスコ中に滴下
した。その後、更に１７０℃で４時間加熱攪拌を行っ
た。反応液のＧＰＣ分析より、シクロヘキセンオキサイ
ドの転化率は１００％であった。反応液よりゼオライト
をろ別して、目的物のポリアルキレングリコール８３０
ｇを得た。
を備え付けたフラスコへポリエチレングリコール＃６０
０（平均分子量６００）５０．０ｇ、Ｙ型ゼオライト
（東ソー（株）製、ＨＳ−ＵＳＹ、ＨＳＺ−３６０Ｕ
Ａ、Ｈタイプ）２．５ｇを仕込み、１７０℃で加熱攪拌
した。滴下ロートにシクロヘキセンオキサイド１８．０
ｇを仕込んだ後、１時間かけて徐々にフラスコ中に滴下
した。その後、更に１７０℃で４時間加熱攪拌を行っ
た。反応液のＧＰＣ分析より、シクロヘキセンオキサイ
ドの転化率は１００％であった。反応液よりゼオライト
をろ別して、目的物のポリアルキレングリコール８３０
ｇを得た。
【００４５】得られたポリアルキレングリコールの水酸
基価測定より求めた分子量は７９５であり、ポリエチレ
ングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイド
付加モル数は２．０モルであった。即ち、得られたポリ
アルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2
は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１、ｍの平均値が１、ｎ
の平均値が１３．２）で表される本発明のポリアルキレ
ングリコールの混合物である。
基価測定より求めた分子量は７９５であり、ポリエチレ
ングリコール１モルに対するシクロヘキセンオキサイド
付加モル数は２．０モルであった。即ち、得られたポリ
アルキレングリコールは、一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2
は一般式（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ）n −で、（ｌの平均値が１、ｍの平均値が１、ｎ
の平均値が１３．２）で表される本発明のポリアルキレ
ングリコールの混合物である。
【００４６】得られたポリアルキレングリコールを水に
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は１００％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
溶解し、実施例１〜２と同様にして起泡性試験、洗浄力
試験を行った結果、起泡性は０ｍｍ、洗浄率は１００％
（洗浄液濃度０．２％）であった。
【００４７】
【表１】
【００４８】
【発明の効果】本発明の新規なポリアルキレングリコー
ルは極めて低泡性でかつ、洗浄力に優れた界面活性剤組
成物、洗浄剤組成物として用いる事ができ、その工業的
価値はきわめて高い。
ルは極めて低泡性でかつ、洗浄力に優れた界面活性剤組
成物、洗浄剤組成物として用いる事ができ、その工業的
価値はきわめて高い。
【図１】実施例１のポリアルキレングリコールの赤外線
吸収スペクトル図ある。
吸収スペクトル図ある。
【図２】実施例１のポリアルキレングリコールのプロト
ン核磁気共鳴スペクトル図である。
ン核磁気共鳴スペクトル図である。
【図３】実施例２のポリアルキレングリコールの赤外線
吸収スペクトル図である。
吸収スペクトル図である。
【図４】実施例２のポリアルキレングリコールのプロト
ン核磁気共鳴スペクトル図である。
ン核磁気共鳴スペクトル図である。
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表され、かつ、数平均分
子量が３５０〜３００００であることを特徴とするポリ
アルキレングリコール。 Ａ1 −Ｂ−Ａ2 （Ｉ） （ここで、Ａ1 は−（ＯＣx Ｈ2x-2h ）l ＯＨ、Ａ2 は
−（Ｃy Ｈ2y-2k Ｏ） m Ｈ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）
−、−（Ｃz Ｈ2z-2i Ｏ）−の構成がそれぞれｎ、ｐ個
の結合より構成されるものであり、式中、ｘ、ｙは４〜
２０の整数、ｌは０〜１０の整数，ｍは１〜１０の整
数、ｈはｘが４〜６のとき０〜２、７のとき０〜３、８
〜２０のとき０〜４の整数、ｋはｙが４〜６のとき０〜
２、７のとき０〜３、８〜２０のとき０〜４の整数、ｉ
はｚが３のとき０〜１、４〜６のとき０〜２、７のとき
０〜３、８〜１０のとき０〜４の整数、ｚは３〜１０の
整数、ｎは４〜６８０の整数、ｐは０≦ｐ／（ｎ＋ｐ）
≦０．１を満足する様な整数を表す。） - 【請求項２】 一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般式
（ＩＩ）で構成されることを特徴とする請求項１記載の
ポリアルキレングリコール。 【化１】 （式中、ｌは０〜１０の整数，ｍは１〜１０の整数であ
る。） - 【請求項３】 一般式（Ｉ）中、Ａ1 、Ａ2 は一般式
（ＩＩ）で表され、かつ、Ｂは−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）n
−で、ｎは４〜６８０の整数であることを特徴とする請
求項１記載のポリアルキレングリコール。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載のポリア
ルキレングリコールを必須成分として１〜１００重量％
含有する事を特徴とする界面活性剤組成物。 - 【請求項５】 請求項１〜３のいずれかに記載のポリア
ルキレングリコール０．００１〜５０重量％と水１〜９
９．９９９重量％とを必須成分として含有する事を特徴
とする洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08473194A JP3423407B2 (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | ポリアルキレングリコール、及びその組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08473194A JP3423407B2 (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | ポリアルキレングリコール、及びその組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07292098A true JPH07292098A (ja) | 1995-11-07 |
| JP3423407B2 JP3423407B2 (ja) | 2003-07-07 |
Family
ID=13838846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08473194A Expired - Fee Related JP3423407B2 (ja) | 1994-04-22 | 1994-04-22 | ポリアルキレングリコール、及びその組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3423407B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20110083503A (ko) * | 2008-12-12 | 2011-07-20 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 오일 증량 고무 조성물 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54151138A (en) * | 1978-05-18 | 1979-11-28 | Akzo Nv | Cosmetic emulsion * cream * paste and stick material |
| JPS5794018A (en) * | 1980-10-10 | 1982-06-11 | Oreal | Polyethylene glycol derivative and cosmetic and medicinal composition |
| JPH02142748A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリエーテル化合物 |
| JPH03206001A (ja) * | 1989-12-29 | 1991-09-09 | Sanyo Chem Ind Ltd | 殺生水性乳濁剤用乳化剤 |
| JPH0421647A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-01-24 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリエーテル化合物およびエポキシ樹脂 |
-
1994
- 1994-04-22 JP JP08473194A patent/JP3423407B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54151138A (en) * | 1978-05-18 | 1979-11-28 | Akzo Nv | Cosmetic emulsion * cream * paste and stick material |
| JPS5794018A (en) * | 1980-10-10 | 1982-06-11 | Oreal | Polyethylene glycol derivative and cosmetic and medicinal composition |
| JPH02142748A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリエーテル化合物 |
| JPH03206001A (ja) * | 1989-12-29 | 1991-09-09 | Sanyo Chem Ind Ltd | 殺生水性乳濁剤用乳化剤 |
| JPH0421647A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-01-24 | Daicel Chem Ind Ltd | ポリエーテル化合物およびエポキシ樹脂 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20110083503A (ko) * | 2008-12-12 | 2011-07-20 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 오일 증량 고무 조성물 |
| JP2012511616A (ja) * | 2008-12-12 | 2012-05-24 | スティロン ヨーロッパ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 油展ゴム組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3423407B2 (ja) | 2003-07-07 |
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