JPH0729169A - 高平坦度磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク - Google Patents
高平坦度磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH0729169A JPH0729169A JP19278493A JP19278493A JPH0729169A JP H0729169 A JPH0729169 A JP H0729169A JP 19278493 A JP19278493 A JP 19278493A JP 19278493 A JP19278493 A JP 19278493A JP H0729169 A JPH0729169 A JP H0729169A
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- Japan
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- glass substrate
- magnetic disk
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Abstract
(57)【要約】
【目的】化学強化処理後においても平坦度の極めて高い
磁気ディスク用ガラス基板を得る。 【構成】磁気ディスク用ガラス基板の化学強化処理にお
いて、硝酸カリウム等の溶融塩より該ガラス基板を取り
出す際、溶融塩の温度をあらかじめガラスの歪点より少
なくとも１００℃低くしたのちにガラス基板を取り出
す。
磁気ディスク用ガラス基板を得る。 【構成】磁気ディスク用ガラス基板の化学強化処理にお
いて、硝酸カリウム等の溶融塩より該ガラス基板を取り
出す際、溶融塩の温度をあらかじめガラスの歪点より少
なくとも１００℃低くしたのちにガラス基板を取り出
す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高平坦度磁気ディスク
用ガラス基板の製造方法に関する。
用ガラス基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、化学強化処理により磁気ディスク
用ガラス基板の平坦度が悪化することが知られていた。
化学強化処理は通常４００〜５００℃の硝酸カリウム、
硝酸ナトリウムまたはこれらの混合溶融塩中にガラス物
品を所定時間浸漬することにより行われる。一般には溶
融塩の温度は常に一定に保たれており、塩浴から取り出
す際は、熱衝撃による割れを防ぐため、雰囲気温度を塩
浴温度と同等あるいはその近傍まで加熱しておき、取り
出し後に徐々に冷却するという方法がとられていた。
用ガラス基板の平坦度が悪化することが知られていた。
化学強化処理は通常４００〜５００℃の硝酸カリウム、
硝酸ナトリウムまたはこれらの混合溶融塩中にガラス物
品を所定時間浸漬することにより行われる。一般には溶
融塩の温度は常に一定に保たれており、塩浴から取り出
す際は、熱衝撃による割れを防ぐため、雰囲気温度を塩
浴温度と同等あるいはその近傍まで加熱しておき、取り
出し後に徐々に冷却するという方法がとられていた。
【０００３】溶融塩の温度を一定に保っておく理由は、
強化プロセスの安定化のために温度を一定に保持するこ
とが重要と考えられていることと、溶融塩の温度を変動
させることはコストおよび生産性の点で不利であり、プ
ラスの意味はないと考えられていたためである。しかし
ながら従来法では、化学強化処理による変形が大きく、
磁気ディスク用基板としても磁気ディスクとしても十分
な平坦度が得られなかった。とりわけロールオフと呼ば
れる、半径方向の直線からのずれ、特に外周端面付近で
の面ダレおよび盛り上がりについては、従来法では局部
的に磁気ヘッドの浮上性に好ましくない影響を及ぼすほ
ど大きな変形が見られていた。
強化プロセスの安定化のために温度を一定に保持するこ
とが重要と考えられていることと、溶融塩の温度を変動
させることはコストおよび生産性の点で不利であり、プ
ラスの意味はないと考えられていたためである。しかし
ながら従来法では、化学強化処理による変形が大きく、
磁気ディスク用基板としても磁気ディスクとしても十分
な平坦度が得られなかった。とりわけロールオフと呼ば
れる、半径方向の直線からのずれ、特に外周端面付近で
の面ダレおよび盛り上がりについては、従来法では局部
的に磁気ヘッドの浮上性に好ましくない影響を及ぼすほ
ど大きな変形が見られていた。
【０００４】現在、磁気ディスクは厚さ０．３８１ｍｍ
程度のものが主流となりつつあり、外径は３４ｍｍから
９５ｍｍ程度まで多様化している。さらに、記憶媒体と
しての高記録密度化の要求から、情報書き込み、読み取
り用の磁気ヘッドが３６００〜７０００ｒｐｍで高速回
転するディスク表面上を僅か２５０〜５００Åの高さで
飛行するという条件を満たさねばならないため、ディス
クの平坦度に対する要求も極めて厳しいものとなってい
る。
程度のものが主流となりつつあり、外径は３４ｍｍから
９５ｍｍ程度まで多様化している。さらに、記憶媒体と
しての高記録密度化の要求から、情報書き込み、読み取
り用の磁気ヘッドが３６００〜７０００ｒｐｍで高速回
転するディスク表面上を僅か２５０〜５００Åの高さで
飛行するという条件を満たさねばならないため、ディス
クの平坦度に対する要求も極めて厳しいものとなってい
る。
【０００５】ここでは、平坦度を任意の直径に沿った最
大高さと最小高さの差の最大値あるいは最小二乗法で求
めた基準平面からの最大変位点と最小変位点との差のい
ずれか大きいほうとして定義する。平坦度として求めら
れている数値の目安としては、外径４８ｍｍ、厚さ０．
３８１ｍｍのものを例にとれば４μｍ程度である。通
常、強化前の平坦度は２μｍ程度であるから、化学強化
プロセスで許される変形量は最大２μｍまでといえる。
大高さと最小高さの差の最大値あるいは最小二乗法で求
めた基準平面からの最大変位点と最小変位点との差のい
ずれか大きいほうとして定義する。平坦度として求めら
れている数値の目安としては、外径４８ｍｍ、厚さ０．
３８１ｍｍのものを例にとれば４μｍ程度である。通
常、強化前の平坦度は２μｍ程度であるから、化学強化
プロセスで許される変形量は最大２μｍまでといえる。
【０００６】すなわち、薄板化が進むにつれて平坦度に
対する要求もより厳しくなる傾向にあるが、一方では薄
板ほど熱変形が起こりやすく平坦度に対する要求を満た
すことは困難を極めていた。さらに、ロールオフについ
ては、従来法では局部的に大きな変形が見られていた。
これらの局部変形は、平坦度には大きな影響を及ぼさな
いが、長周期のうねりと異なり、高速で飛行する磁気ヘ
ッドがディスク面の変形に追随しきれず、ディスクへの
衝突や浮上姿勢の乱れに基づくノイズの原因となってい
た。
対する要求もより厳しくなる傾向にあるが、一方では薄
板ほど熱変形が起こりやすく平坦度に対する要求を満た
すことは困難を極めていた。さらに、ロールオフについ
ては、従来法では局部的に大きな変形が見られていた。
これらの局部変形は、平坦度には大きな影響を及ぼさな
いが、長周期のうねりと異なり、高速で飛行する磁気ヘ
ッドがディスク面の変形に追随しきれず、ディスクへの
衝突や浮上姿勢の乱れに基づくノイズの原因となってい
た。
【０００７】ここでロールオフについては半径方向に定
められた２点間で触針により直線からのズレ量の最大値
として定義されるが、ここではさらに、それらの値の面
内での最大値として表した。
められた２点間で触針により直線からのズレ量の最大値
として定義されるが、ここではさらに、それらの値の面
内での最大値として表した。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、これらの局
部変形も含め化学強化処理後においても平坦度の極めて
高い磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを得
ることを目的とする。
部変形も含め化学強化処理後においても平坦度の極めて
高い磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを得
ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は磁気ディスク用
ガラス基板の化学強化処理において、硝酸カリウム等の
溶融塩より該ガラス基板を取り出す際、溶融塩の温度を
あらかじめガラスの歪点より少なくとも１００℃低くし
たのちにガラス基板を取り出すことを特徴とする高平坦
度ガラス磁気ディスクの製造方法を提供するものであ
る。また本発明は、上記の製造方法によりつくられたガ
ラス基板を用いてなることを特徴とする磁気ディスクを
提供するものである。
ガラス基板の化学強化処理において、硝酸カリウム等の
溶融塩より該ガラス基板を取り出す際、溶融塩の温度を
あらかじめガラスの歪点より少なくとも１００℃低くし
たのちにガラス基板を取り出すことを特徴とする高平坦
度ガラス磁気ディスクの製造方法を提供するものであ
る。また本発明は、上記の製造方法によりつくられたガ
ラス基板を用いてなることを特徴とする磁気ディスクを
提供するものである。
【００１０】本発明では、化学強化処理による変形原因
がガラスを溶融塩から取り出した後の、冷却時の自重に
よる変形であることを見いだしたことに基づく。化学強
化処理の温度は、通常ガラスの歪点よりもかなり低い温
度（通常、歪点よりも５０℃以上低い温度）で行われて
おり、この温度では軟化による変形はないと考えられて
いた。
がガラスを溶融塩から取り出した後の、冷却時の自重に
よる変形であることを見いだしたことに基づく。化学強
化処理の温度は、通常ガラスの歪点よりもかなり低い温
度（通常、歪点よりも５０℃以上低い温度）で行われて
おり、この温度では軟化による変形はないと考えられて
いた。
【００１１】しかしながら、徐冷点５７０℃、歪点５２
７℃のガラスを用いて実験を行ったところ、４２０℃で
自重による変形が起こることを見いだした。通常、この
ような温度特性を有するガラスに対する化学強化温度は
４２０℃よりも高く一般的には４５０〜５００℃であ
る。本発明の実施例では、強化時に塩浴投入前に予熱を
行わず、塩浴から取り出す際は、あらかじめ溶融塩温度
を４２０℃以下にした後、ガラスを取り出すことによ
り、優れた平坦度が得られることを見いだした。
７℃のガラスを用いて実験を行ったところ、４２０℃で
自重による変形が起こることを見いだした。通常、この
ような温度特性を有するガラスに対する化学強化温度は
４２０℃よりも高く一般的には４５０〜５００℃であ
る。本発明の実施例では、強化時に塩浴投入前に予熱を
行わず、塩浴から取り出す際は、あらかじめ溶融塩温度
を４２０℃以下にした後、ガラスを取り出すことによ
り、優れた平坦度が得られることを見いだした。
【００１２】
【作用】化学強化処理の際の、予熱温度および塩浴から
取り出す際の溶融塩温度が重要な理由は、ガラスの比重
が２．７であるのに対し、硝酸カリウムの比重が２．４
であるため両者の比重差は極めて小さいことに基づく。
すなわち強化処理中は、浮力によって変形は無視できる
のに対し、空気中では自重により変形する。
取り出す際の溶融塩温度が重要な理由は、ガラスの比重
が２．７であるのに対し、硝酸カリウムの比重が２．４
であるため両者の比重差は極めて小さいことに基づく。
すなわち強化処理中は、浮力によって変形は無視できる
のに対し、空気中では自重により変形する。
【００１３】そこで、ガラスの変形開始温度を知ること
により、あらかじめ溶融塩中でガラスの温度を変形開始
温度以下にすることにより、変形を防止できる。しかし
従来法では、化学強化温度は、ガラスの変形開始温度よ
りも高いため、塩浴から取り出した後、急冷を行っても
取り出した瞬間のガラスの温度は変形開始温度を超えて
いるため、完全に変形を防止することはできなかった。
により、あらかじめ溶融塩中でガラスの温度を変形開始
温度以下にすることにより、変形を防止できる。しかし
従来法では、化学強化温度は、ガラスの変形開始温度よ
りも高いため、塩浴から取り出した後、急冷を行っても
取り出した瞬間のガラスの温度は変形開始温度を超えて
いるため、完全に変形を防止することはできなかった。
【００１４】
【実施例】徐冷点５７０℃、歪点５２７℃のガラスから
なり、外径４８ｍｍ、内径１２ｍｍ、厚さ０．３８１ｍ
ｍの磁気ディスク用ガラス基板を、ガラスの予熱を行わ
ず、４７０℃の硝酸カリウム溶融塩中で１０時間保持し
た後、溶融塩の温度を４００℃に下げ、その後にガラス
基板を溶融塩から取り出すことにより化学強化処理を行
った。取り出し時の雰囲気温度は４００℃であった。
なり、外径４８ｍｍ、内径１２ｍｍ、厚さ０．３８１ｍ
ｍの磁気ディスク用ガラス基板を、ガラスの予熱を行わ
ず、４７０℃の硝酸カリウム溶融塩中で１０時間保持し
た後、溶融塩の温度を４００℃に下げ、その後にガラス
基板を溶融塩から取り出すことにより化学強化処理を行
った。取り出し時の雰囲気温度は４００℃であった。
【００１５】比較例１では取り出し雰囲気温度４７０℃
において４７０℃の溶融塩からガラス基板を取り出し、
９０分かけて２００℃まで冷却した。比較例２では取り
出し雰囲気温度３７０℃において４７０℃の溶融塩から
ガラス基板を取り出し、３０分かけて２００℃まで冷却
した。その他の点は、実施例と同様である。強化前のデ
ィスクの平坦度は平均２．１μｍであった。
において４７０℃の溶融塩からガラス基板を取り出し、
９０分かけて２００℃まで冷却した。比較例２では取り
出し雰囲気温度３７０℃において４７０℃の溶融塩から
ガラス基板を取り出し、３０分かけて２００℃まで冷却
した。その他の点は、実施例と同様である。強化前のデ
ィスクの平坦度は平均２．１μｍであった。
【００１６】
【表１】
【００１７】この結果、実施例では比較例と比べて平坦
度の平均値および最大値が大幅に改善されただけでな
く、ロールオフも平均値および最大値ともに飛躍的に改
善された。
度の平均値および最大値が大幅に改善されただけでな
く、ロールオフも平均値および最大値ともに飛躍的に改
善された。
【００１８】
（１）本発明により化学強化処理によるガラス基板の変
形量を極めて小さくできる。したがって本発明によって
得られる磁気ディスク用ガラス基板は平坦度が著しく高
い。 （２）本発明によりガラス基板の局所変形−例えばロー
ルオフ等の半径方向の直線からのずれ、すなわち、特に
外周端面付近での面ダレおよび盛り上がり−については
ほぼ完全に解決できた。 （３）したがってかかるガラス基板を用い、所定の下地
層、磁気記録層、保護層、潤滑層などを設けてなる磁気
ディスクもまた極めて平坦度が高い。
形量を極めて小さくできる。したがって本発明によって
得られる磁気ディスク用ガラス基板は平坦度が著しく高
い。 （２）本発明によりガラス基板の局所変形−例えばロー
ルオフ等の半径方向の直線からのずれ、すなわち、特に
外周端面付近での面ダレおよび盛り上がり−については
ほぼ完全に解決できた。 （３）したがってかかるガラス基板を用い、所定の下地
層、磁気記録層、保護層、潤滑層などを設けてなる磁気
ディスクもまた極めて平坦度が高い。
Claims (2)
- 【請求項１】磁気ディスク用ガラス基板の化学強化処理
において、硝酸カリウム等の溶融塩より該ガラス基板を
取り出す際、溶融塩の温度をあらかじめガラスの歪点よ
り少なくとも１００℃低くしたのちにガラス基板を取り
出すことを特徴とする高平坦度磁気ディスク用ガラス基
板の製造方法。 - 【請求項２】請求項１の製造方法によりつくられたガラ
ス基板を用いてなることを特徴とする磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19278493A JPH0729169A (ja) | 1993-07-07 | 1993-07-07 | 高平坦度磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19278493A JPH0729169A (ja) | 1993-07-07 | 1993-07-07 | 高平坦度磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0729169A true JPH0729169A (ja) | 1995-01-31 |
Family
ID=16296945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19278493A Pending JPH0729169A (ja) | 1993-07-07 | 1993-07-07 | 高平坦度磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729169A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2744440A1 (fr) * | 1996-02-07 | 1997-08-08 | Saint Gobain Vitrage | Procede de traitement de substrats en verre |
| WO2008062662A1 (fr) * | 2006-11-21 | 2008-05-29 | Konica Minolta Opto, Inc. | Procédé pour produire un substrat en verre pour un support d'enregistrement d'informations, substrat en verre pour un support d'enregistrement d'informations et support d'enregistrement d'informations |
-
1993
- 1993-07-07 JP JP19278493A patent/JPH0729169A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2744440A1 (fr) * | 1996-02-07 | 1997-08-08 | Saint Gobain Vitrage | Procede de traitement de substrats en verre |
| WO1997029058A1 (fr) * | 1996-02-07 | 1997-08-14 | Saint-Gobain Vitrage | Procede de traitement de substrats en verre |
| WO2008062662A1 (fr) * | 2006-11-21 | 2008-05-29 | Konica Minolta Opto, Inc. | Procédé pour produire un substrat en verre pour un support d'enregistrement d'informations, substrat en verre pour un support d'enregistrement d'informations et support d'enregistrement d'informations |
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