JPH0728962U - End station for substrate processing equipment - Google Patents

End station for substrate processing equipment

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JPH0728962U
JPH0728962U JP6310293U JP6310293U JPH0728962U JP H0728962 U JPH0728962 U JP H0728962U JP 6310293 U JP6310293 U JP 6310293U JP 6310293 U JP6310293 U JP 6310293U JP H0728962 U JPH0728962 U JP H0728962U
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JP
Japan
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cassette
transfer robot
substrate
substrate transfer
turntable
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智 湯浅
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Nissin Electric Co Ltd
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Nissin Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 小さなスペースで、1台の基板搬送ロボット
によってハンドリング可能なカセット数を増やすことが
できるようにしたエンドステーションを提供する。 【構成】 このエンドステーション30は、基板搬送ロ
ボット32、昇降機構40、カセット着脱部60及びカ
セット搬送機構70を備える。基板搬送ロボット32
は、基板16収納用のカセット20に対してアーム36
〜38によって基板16の出し入れを行う。昇降機構4
0は、基板搬送ロボット32のアーム38の移動領域内
に設けられていて、上下二つの昇降台42を有しそれら
を同時に上下二つのレベルに昇降させる。各昇降台42
上には、カセット20を載せるターンテーブル56およ
びそれを左右に回転させてカセット20を基板搬送ロボ
ット32の方に向ける回転駆動源58が設けられてい
る。カセット搬送機構70は、カセット着脱部60と、
それと同じレベルに位置したターンテーブル56上との
間でカセット20を搬送する。
(57) [Summary] [Object] To provide an end station capable of increasing the number of cassettes that can be handled by one substrate transfer robot in a small space. [Structure] The end station 30 includes a substrate transfer robot 32, a lifting mechanism 40, a cassette attachment / detachment unit 60, and a cassette transfer mechanism 70. Substrate transfer robot 32
Is the arm 36 with respect to the cassette 20 for storing the substrate 16.
Substrate 16 is taken in and out by ~ 38. Lifting mechanism 4
0 is provided in the movement area of the arm 38 of the substrate transfer robot 32, and has two upper and lower lifts 42 and simultaneously lifts and lowers them to two levels. Each lift 42
A turntable 56 on which the cassette 20 is placed and a rotary drive source 58 that turns the cassette 20 to the left and right to orient the cassette 20 toward the substrate transfer robot 32 are provided above. The cassette carrying mechanism 70 includes a cassette attaching / detaching portion 60,
The cassette 20 is conveyed between the turntable 56 and the turntable 56 located at the same level.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

この考案は、基板にイオン注入、イオンビーム照射、ドライエッチング、薄膜 形成等の処理を施す基板処理装置に用いられるものであって、処理前後の基板を カセットに対して出し入れする機構部であるエンドステーションに関し、より具 体的には、小さいなスペースで、ハンドリング可能なカセット数を増やす手段に 関する。 This invention is used in a substrate processing apparatus that performs processes such as ion implantation, ion beam irradiation, dry etching, and thin film formation on a substrate, and is an end unit that is a mechanism unit for loading and unloading a substrate before and after processing into a cassette. Regarding stations, more specifically, it relates to means for increasing the number of cassettes that can be handled in a small space.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

図3は、従来のエンドステーションを備えた基板処理装置の一例を部分的に示 す平面図である。真空弁6を介して真空予備室2と処理室8とが互いに隣接され ている。真空予備室2と大気側との間には、真空弁4が設けられている。処理室 8内において、基板(例えばウェーハ)16に対する処理、例えばイオン注入、 イオンビーム照射、ドライエッチング、薄膜形成等が行われる。処理室8と大気 側との間の基板16の出し入れは、真空予備室2を経由して行われる。 FIG. 3 is a plan view partially showing an example of a substrate processing apparatus having a conventional end station. The vacuum preliminary chamber 2 and the processing chamber 8 are adjacent to each other via a vacuum valve 6. A vacuum valve 4 is provided between the preliminary vacuum chamber 2 and the atmosphere side. In the processing chamber 8, a substrate (for example, a wafer) 16 is processed, for example, ion implantation, ion beam irradiation, dry etching, thin film formation and the like. The substrate 16 is taken in and out between the processing chamber 8 and the atmosphere side via the vacuum preliminary chamber 2.

【0003】 真空予備室2の入口側に、エンドステーション10が設けられている。このエ ンドステーション10は、基板搬送ロボット12およびカセットテーブル18を 備えている。An end station 10 is provided on the inlet side of the vacuum preliminary chamber 2. The end station 10 includes a substrate transfer robot 12 and a cassette table 18.

【0004】 カセットテーブル18は、この例では固定式のものであり、その上にこの例で は二つのカセット20が、その入口20aを基板搬送ロボット12の方に向けて 装着される。各カセット20は、複数枚の基板16を多段に収納可能である。The cassette table 18 is of a fixed type in this example, and two cassettes 20 in this example are mounted on the cassette table 18 with their inlets 20 a facing the substrate transfer robot 12. Each cassette 20 can accommodate a plurality of substrates 16 in multiple stages.

【0005】 基板搬送ロボット12は、アーム14を有しており、このアーム14によって 、一方のカセット20から基板16を1枚ずつ取り出してそれを真空予備室2内 に搬入する動作、およびその逆に、真空予備室2内から基板16を1枚ずつ取り 出してそれを元のまたは他方のカセット20内に収納する動作を行う。The substrate transfer robot 12 has an arm 14, and the arm 14 takes out the substrates 16 one by one from one of the cassettes 20 and carries them into the vacuum preliminary chamber 2, and vice versa. Then, the operation of taking out the substrates 16 one by one from the vacuum preliminary chamber 2 and storing them in the original or the other cassette 20 is performed.

【0006】[0006]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

上記のようなエンドステーション10においては、カセット20を基板搬送ロ ボット12を中心に放射状に配置しているが、基板搬送ロボット12のアーム1 4の伸縮および旋回領域に自ずと限界があるため、また基板16のサイズによっ てカセット20の大きさも決まりカセット20を小さくすることもできないため 、1台の基板搬送ロボット12でハンドリングできるカセット20の数に制限が あり、実用上は、この例のように1台の基板搬送ロボット12に対して二つのカ セット20が限界である。 In the end station 10 as described above, the cassettes 20 are arranged radially around the substrate transfer robot 12, but since the arms 14 of the substrate transfer robot 12 are naturally limited in expansion and contraction and swivel area, Since the size of the cassette 20 also determines the size of the cassette 20 and the size of the cassette 20 cannot be reduced, the number of cassettes 20 that can be handled by one substrate transfer robot 12 is limited. In addition, two cassettes 20 are limited to one substrate transfer robot 12.

【0007】 ちなみに、カセット20の数を増やすことができれば、そのぶんカセット20 の交換頻度、交換に伴う待ち時間等が少なくて済むため、基板処理装置のスルー プットが向上する。By the way, if the number of the cassettes 20 can be increased, the replacement frequency of the cassettes 20, the waiting time associated with the replacement, and the like can be reduced, so that the throughput of the substrate processing apparatus is improved.

【0008】 上記問題に対しては、カセットテーブル18を矢印Kのように移動可能とする ことで、1台の基板搬送ロボット12でハンドリングできるカセット20の数を 増やすことは可能であるが、そのようにすると、カセットテーブル18の移動ス ペースが必要となり、エンドステーション10の横幅(矢印Kの方向)が非常に 大きくなるという別の問題が発生する。To solve the above problem, it is possible to increase the number of cassettes 20 that can be handled by one substrate transfer robot 12 by making the cassette table 18 movable as indicated by arrow K. This requires another space for moving the cassette table 18, which causes another problem that the lateral width (in the direction of arrow K) of the end station 10 becomes very large.

【0009】 特に、半導体生産工場では、通常は、1点鎖線22から右側のエンドステーシ ョン10はクリーンルーム内に配置されており、上記のようにエンドステーショ ン10の横幅が非常に大きくなることは、高価なクリーンルームを占有する幅が 非常に大きくなるので好ましくない。Particularly, in a semiconductor production factory, the end station 10 on the right side of the one-dot chain line 22 is usually arranged in a clean room, and the width of the end station 10 becomes extremely large as described above. Is unfavorable because it occupies a very large space in an expensive clean room.

【0010】 そこでこの考案は、小さなスペースで、1台の基板搬送ロボットによってハン ドリング可能なカセット数を増やすことができるようにしたエンドステーション を提供することを主たる目的とする。Therefore, the main object of the present invention is to provide an end station capable of increasing the number of cassettes that can be handled by one substrate transfer robot in a small space.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

上記目的を達成するため、この考案のエンドステーションは、基板収納用のカ セットに対してアームによって基板の出し入れを行う基板搬送ロボットと、この 基板搬送ロボットのアームの移動領域内に設けられていて、上下に配置された二 つの昇降台を有しそれらを同時に上下二つのレベルに昇降させる昇降機構と、各 昇降台上に設けられたターンテーブルおよびそれを左右に回転させてターンテー ブル上に載せられたカセットを基板搬送ロボットの方に向ける回転駆動源と、基 板搬送ロボットによって基板が出し入れされるカセットと同じレベルにおいてカ セットの着脱を行うカセット着脱部と、このカセット着脱部およびそれと同じレ ベルに位置したターンテーブル上の間でカセットを搬送するカセット搬送機構と を備えることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the end station of the present invention is provided in a substrate transfer robot for loading and unloading a substrate with respect to a cassette for storing a substrate, and in a moving area of the arm of the substrate transfer robot. , An elevating mechanism that has two elevating stands arranged above and below and simultaneously elevates them to two levels, a turntable provided on each elevating stand and rotating it left and right to place it on the turntable. The rotation drive source that directs the cassette toward the substrate transfer robot, the cassette attachment / detachment unit that attaches / detachs the cassette at the same level as the cassette in which the substrate is transferred by the substrate transfer robot, the cassette attachment / detachment unit and the same And a cassette transport mechanism for transporting the cassette between turntables located on the bell. And butterflies.

【0012】[0012]

【作用】[Action]

上記構成によれば、昇降機構によって二つの昇降台を昇降させることによって 、各昇降台上に設けられたターンテーブル上にカセットを、カセット搬送機構に よって搬送することができる。またその逆に、各昇降台上に設けられたターンテ ーブル上からカセットを、カセット着脱部へ搬送することができる。各ターンテ ーブル上に載せられたカセットは、回転駆動源によって基板搬送ロボットの方に それぞれ向けることができる。 According to the above configuration, by raising and lowering the two elevators by the elevator mechanism, the cassette can be transported by the cassette transport mechanism onto the turntables provided on each elevator. On the contrary, the cassette can be conveyed to the cassette attaching / detaching part from the turntable provided on each lifting table. The cassette mounted on each turn table can be directed toward the substrate transfer robot by a rotary drive source.

【0013】 一方、二つの昇降台上のターンテーブル上に載せられた二つのカセットに対し ては、昇降機構によって二つの昇降台を昇降させることによって、1台の基板搬 送ロボットによって基板の出し入れを行うことができる。On the other hand, with respect to the two cassettes placed on the turntables on the two lifts, the lift mechanism raises and lowers the two lifts to move the substrates in and out by one substrate transfer robot. It can be performed.

【0014】 このように、上記構成によれば、カセットを2段積みにしており、その両カセ ットに対して1台の基板搬送ロボットで基板のハンドリングを行うことができる ので、小さなスペースで、ハンドリング可能なカセット数を倍増することができ る。As described above, according to the above configuration, the cassettes are stacked in two stages, and the substrates can be handled by one substrate transfer robot for both cassettes, so that the space can be saved in a small space. The number of cassettes that can be handled can be doubled.

【0015】[0015]

【実施例】【Example】

図1は、この考案の一実施例に係るエンドステーションを示す側面図である。 図2は、図1のエンドステーションの平面図である。図3の従来例と同一または 相当する部分には同一符号を付し、以下においては当該従来例との相違点を主に 説明する。 FIG. 1 is a side view showing an end station according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the end station of FIG. The same or corresponding portions as those of the conventional example of FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and the differences from the conventional example will be mainly described below.

【0016】 この実施例のエンドステーション30は、1台の基板搬送ロボット32に対し て、図2からも分かるように、互いに同構造の二つの昇降機構40およびそれに 関連する機構を並設している。In the end station 30 of this embodiment, as shown in FIG. 2, one substrate transfer robot 32 is provided with two lifting mechanisms 40 having the same structure and related mechanisms in parallel. There is.

【0017】 基板搬送ロボット32は、この例では矢印Aのように昇降する軸34と、それ に取り付けられていて矢印Bのように往復旋回するアーム36と、それに取り付 けられていて矢印Cのように往復旋回するアーム37と、それに取り付けられて いて矢印Dのように往復旋回するアーム38とを備えている。各アーム36〜3 8の協働によって、先の部分にウェーハ16を載せるアーム38は、後述する二 つのターンテーブル56上の各カセット20の入口20aの正面に位置させた状 態で、矢印Eのように前後に直進させることができる。また、軸34によって、 当該アーム38を上下に昇降させることができる。In this example, the substrate transfer robot 32 includes a shaft 34 that moves up and down as shown by an arrow A, an arm 36 attached to the shaft 34 that reciprocates as shown by an arrow B, and an arm C that is attached to the arm 36. An arm 37 that reciprocates as described above and an arm 38 that is attached thereto and that reciprocates as indicated by arrow D are provided. By the cooperation of the arms 36 to 38, the arm 38 for mounting the wafer 16 on the front portion is positioned in front of the entrance 20a of each cassette 20 on the two turntables 56, which will be described later, and is indicated by the arrow E. You can go straight forward and backward like. Further, the shaft 38 can move the arm 38 up and down.

【0018】 基板搬送ロボット32は、上記のような構成によって、各カセット20に対し て基板16の出し入れを行うことができる。また、図3に示すような真空予備室 2に対しても、基板16の出し入れを行うことができる。The substrate transfer robot 32 is capable of loading and unloading the substrate 16 with respect to each cassette 20 with the above configuration. Further, the substrate 16 can be taken in and out of the vacuum preliminary chamber 2 as shown in FIG.

【0019】 この基板搬送ロボット32のアーム38の移動領域内に、この例では二つの互 いに同構造の昇降機構40が図2に示すように並設されている。In the movement area of the arm 38 of the substrate transfer robot 32, two lifting mechanisms 40 having the same structure in this example are arranged side by side as shown in FIG.

【0020】 各昇降機構40は、図1を参照して、上下2段に配置された二つの昇降台42 をそれぞれ有している。両昇降台42には、ボールナット44がそれぞれ取り付 けられており、それに1本のボールねじ46が螺合されており、このボールねじ 46はモータ48に結合されていてそれによって矢印Fのように往復回転させら れる。また、両昇降台42には、リニヤ軸受52が複数個ずつ取り付けられてお り、それに支軸50がそれぞれ通されている。この支軸50および上記モータ4 8は、この例ではべース54上に固定されている。Each elevating mechanism 40 has, as shown in FIG. 1, two elevating bases 42 arranged in upper and lower two stages. A ball nut 44 is attached to each of the lifts 42, and a ball screw 46 is screwed to the ball nut 44, and the ball screw 46 is connected to a motor 48, whereby an arrow F It is rotated back and forth. In addition, a plurality of linear bearings 52 are attached to each of the elevators 42, and support shafts 50 are respectively passed through the linear bearings 52. The spindle 50 and the motor 48 are fixed on the base 54 in this example.

【0021】 各昇降機構40は、それぞれ上記のような構成をしており、モータ48を矢印 Fのように左右に回転させることによって、矢印Gのように、二つの昇降台42 を同時に上下二つのレベルに昇降させることができる。即ち上側の昇降台42を 中間レベルL2 と上レベルL3 との間で、かつ下側の昇降台42を下レベルL1 と中間レベルL2 との間で、互いに同時に昇降させることができる。Each elevating mechanism 40 is configured as described above, and by rotating the motor 48 left and right as indicated by arrow F, two elevating tables 42 are simultaneously moved up and down as indicated by arrow G. Can be raised and lowered to one level. That is, the upper lift table 42 can be moved up and down simultaneously between the intermediate level L 2 and the upper level L 3 , and the lower lift table 42 can be moved up and down simultaneously between the lower level L 1 and the intermediate level L 2. ..

【0022】 各昇降台42上には、それぞれ、カセット20を載せるターンテーブル56と 、それを矢印Hのように左右に回転させて、このターンテーブル56上に載せら れたカセット20の入口20aを基板搬送ロボット32の方に向ける回転駆動源 58とが設けられている。回転駆動源58は、例えばロータリーアクチュエータ であるが、それ以外のものでも良い。A turntable 56 on which the cassette 20 is placed is placed on each of the lifts 42, and the entrance 20a of the cassette 20 placed on the turntable 56 is rotated by rotating the turntable 56 left and right as shown by an arrow H. And a rotary drive source 58 for directing the laser beam toward the substrate transfer robot 32. The rotary drive source 58 is, for example, a rotary actuator, but may be another one.

【0023】 各昇降機構40に隣接する部分であって基板搬送ロボット32とは反対側に、 カセット着脱部60がそれぞれ設けられている。各カセット着脱部60は、この 例では、上記中間レベルL2 に位置したターンテーブル56と同じレベルにある 二つのガイド62を有しており、それらは架台64によってベース54から支え られている。A cassette attaching / detaching portion 60 is provided on a portion adjacent to each elevating mechanism 40 and on a side opposite to the substrate transfer robot 32. Each cassette attaching / detaching portion 60 has, in this example, two guides 62 at the same level as the turntable 56 located at the intermediate level L 2 , and they are supported from the base 54 by a mount 64.

【0024】 このカセット着脱部60において、基板搬送ロボット32によって基板16が 出し入れされるカセット20と同じレベルにおいて、カセット20の着脱を行う ことができる。このカセット着脱部60に対するカセット20の着脱は、例えば 自走型搬送車(AGV)を用いて行っても良いし、人が行っても良い。In the cassette attachment / detachment section 60, the cassette 20 can be attached / detached at the same level as the cassette 20 into / from which the substrate 16 is loaded / unloaded by the substrate transfer robot 32. The attachment / detachment of the cassette 20 to / from the cassette attachment / detachment unit 60 may be performed by using, for example, an automatic guided vehicle (AGV) or by a person.

【0025】 各カセット着脱部60の下部には、この例では、カセット着脱部60と、それ と同じレベルに位置したターンテーブル56上との間でカセット20を搬送する カセット搬送機構70がそれぞれ設けられている。各カセット搬送機構70は、 この例では、矢印Jのようにロッド74を伸縮させるシリンダ72と、ロッド7 4の先端部に設けられていてカセット20を引っ掛ける係合部76とを備えてい る。In this example, a cassette transfer mechanism 70 that transfers the cassette 20 between the cassette attachment / detachment portion 60 and the turntable 56 located at the same level as the cassette attachment / detachment portion 60 is provided below each cassette attachment / detachment portion 60. Has been. In this example, each cassette transport mechanism 70 includes a cylinder 72 that expands and contracts a rod 74 as indicated by an arrow J, and an engaging portion 76 that is provided at the tip of the rod 74 and that hooks the cassette 20.

【0026】 このエンドステーション30の全体的な動作例を説明すると、例えば昇降機構 40によって二つの昇降台42を上昇させておいた状態で、カセット着脱部60 上に、未処理の基板16を収納したカセット20をまず一つ載せる。そしてこの カセット20を、カセット搬送機構70によって横に搬送して一方の(即ち下側 の)ターンテーブル56上に載せる。次に、昇降機構40によって二つの昇降台 42を下降させた状態にして、カセット着脱部60上に、未処理の基板16を収 納した別のカセット20を載せる。そしてこのカセット20を、カセット搬送機 構70によって横に搬送して他方の(即ち上側の)ターンテーブル56上に載せ る。この状態が、図1中の実線で示す状態である。An example of the overall operation of the end station 30 will be described. For example, the unprocessed substrate 16 is stored on the cassette attachment / detachment unit 60 in a state where the two lifts 42 are raised by the lift mechanism 40. First, place one of the cassettes 20 that has been made. Then, the cassette 20 is laterally conveyed by the cassette conveying mechanism 70 and placed on one (namely, lower) turntable 56. Next, the two lifts 42 are lowered by the lift mechanism 40, and another cassette 20 containing the unprocessed substrate 16 is placed on the cassette attaching / detaching part 60. Then, the cassette 20 is laterally transported by the cassette transport mechanism 70 and placed on the other (that is, the upper) turntable 56. This state is the state shown by the solid line in FIG.

【0027】 上記のような動作を、例えば、二つある昇降機構40についてそれぞれ行う。The above operation is performed for each of the two lifting mechanisms 40, for example.

【0028】 基板16の処理に際しては、基板搬送ロボット32によって、上記他方の(上 側の)ターンテーブル56上のカセット20に対して基板16のハンドリングを 行う。例えば、当該カセット20から基板16を1枚ずつ取り出して、それを前 述した真空予備室2内へ搬送し、更に当該基板を別の搬送手段によって処理室8 内へ搬送する。なお、処理後の基板16は、元のカセット20内へ戻しても良い し、別のカセット20内へ収納しても良い。この実施例では、一例として、隣の 昇降機構40上のカセット20内へ収納するようにしている。When processing the substrate 16, the substrate transfer robot 32 handles the substrate 16 with respect to the cassette 20 on the other (upper) turntable 56. For example, the substrates 16 are taken out one by one from the cassette 20 and transferred into the vacuum preliminary chamber 2 described above, and further transferred into the processing chamber 8 by another transfer means. The processed substrate 16 may be returned to the original cassette 20 or may be stored in another cassette 20. In this embodiment, as an example, it is accommodated in the cassette 20 on the adjacent lifting mechanism 40.

【0029】 基板搬送ロボット32による、上記他方の(上側の)ターンテーブル56上の カセット20からの基板16の搬出が完了したら、昇降機構40によって二つの 昇降台42を同時に上昇させて、上記一方の(下側の)ターンテーブル56上の カセット20に対して上記と同様のハンドリングを行う。When the substrate transfer robot 32 completes the unloading of the substrate 16 from the cassette 20 on the other (upper) turntable 56, the elevating mechanism 40 simultaneously elevates the two elevating tables 42 to move the one The same handling as above is performed on the cassette 20 on the (lower) turntable 56.

【0030】 上記一方の(下側の)ターンテーブル56上のカセット20からの基板16の 搬出が完了したら、当該カセット20をカセット搬送機構70によってカセット 着脱部60上に搬出する。そこでカセット20を未処理の基板16を収納した次 のカセット20と交換して、それをカセット搬送機構70によって同じターンテ ーブル56上へ搬送する。このようにして、カセット20の入れ換えを行う。When the unloading of the substrate 16 from the cassette 20 on the one (lower) turntable 56 is completed, the cassette 20 is unloaded onto the cassette attaching / detaching part 60 by the cassette carrying mechanism 70. Then, the cassette 20 is exchanged with the next cassette 20 containing the unprocessed substrate 16, and the cassette 20 is transferred onto the same turntable 56 by the cassette transfer mechanism 70. In this way, the cassette 20 is exchanged.

【0031】 次いで、昇降機構40によって二つの昇降台42を同時に下降させて、上記他 方の(上側の)ターンテーブル56に対するカセット20の入れ換えを、上記と 同様にして行う。Next, the two lifting platforms 42 are simultaneously lowered by the lifting mechanism 40, and the cassette 20 is replaced with respect to the other (upper) turntable 56 in the same manner as described above.

【0032】 それ以降は、上記のような動作を適宜繰り返せば良い。After that, the above operation may be appropriately repeated.

【0033】 このように、このエンドステーション30では、各昇降機構40の部分におい てカセット20をそれぞれ2段積みにしており、その上下両カセット20に対し て1台の基板搬送ロボット32で基板16のハンドリングを行うことができるの で、小さなスペースで、ハンドリング可能なカセット数を倍増することができる 。従って例えば、基本的には図3と同様のレイアウトを採用しつつ、その横幅を 大きくすることなく、カセット数を倍増することができる。As described above, in the end station 30, the cassettes 20 are stacked in two stages in each of the raising / lowering mechanisms 40, and the substrate 16 is transferred to the upper and lower cassettes 20 by the single substrate transfer robot 32. Since it is possible to handle, the number of cassettes that can be handled can be doubled in a small space. Therefore, for example, it is possible to basically double the number of cassettes without increasing the lateral width while adopting the same layout as in FIG.

【0034】 また、単にカセットを2段積みにしただけでは、基板搬送ロボットの上下方向 のストロークを長くする必要があり、基板搬送ロボットの大幅な仕様変更になる が、上記エンドステーション30では昇降機構40によってカセット20を昇降 させるので、基板搬送ロボット32の上下方向のストロークは従来例と同じで済 む。Further, if the cassettes are simply stacked in two stages, it is necessary to lengthen the vertical stroke of the substrate transfer robot, which causes a drastic change in the specifications of the substrate transfer robot. Since the cassette 20 is moved up and down by 40, the vertical stroke of the substrate transfer robot 32 can be the same as the conventional example.

【0035】 なお、基板搬送ロボット32による基板16のハンドリングは、上記上レベル L3 にある昇降台42上のカセット20に対して行うようにしても良い。The substrate 16 may be handled by the substrate transfer robot 32 with respect to the cassette 20 on the lift table 42 at the upper level L 3 .

【0036】 また、昇降機構40等は上記のように1台の基板搬送ロボット32に対して二 つ設けずに、一つでも良いのは勿論である。Further, it is needless to say that the elevating mechanism 40 and the like may be one instead of providing two for one substrate transfer robot 32 as described above.

【0037】[0037]

【考案の効果】[Effect of device]

以上のようにこの考案によれば、カセットを2段積みにしており、その両カセ ットに対して1台の基板搬送ロボットで基板のハンドリングを行うことができる ので、小さなスペースで、ハンドリング可能なカセット数を倍増することができ る。 As described above, according to the present invention, since the cassettes are stacked in two stages and the single substrate transfer robot can handle the substrates for both cassettes, it is possible to handle them in a small space. The number of different cassettes can be doubled.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この考案の一実施例に係るエンドステーション
を示す側面図である。
FIG. 1 is a side view showing an end station according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のエンドステーションの平面図である。2 is a plan view of the end station of FIG. 1. FIG.

【図3】従来のエンドステーションを備えた基板処理装
置の一例を部分的に示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view partially showing an example of a substrate processing apparatus including a conventional end station.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

16 基板 20 カセット 30 実施例のエンドステーション 32 基板搬送ロボット 36〜38 アーム 40 昇降機構 42 昇降台 56 ターンテーブル 58 回転駆動源 60 カセット着脱部 70 カセット搬送機構 72 シリンダ 16 Substrate 20 Cassette 30 End Station of Example 32 Substrate Transfer Robot 36 to 38 Arm 40 Elevating Mechanism 42 Elevating Table 56 Turntable 58 Rotational Drive Source 60 Cassette Attaching / Detaching Part 70 Cassette Transfer Mechanism 72 Cylinder

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C23F 4/00 A 8417−4K H01J 37/317 B 9172−5E H01L 21/265 21/68 A Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI Technical display location C23F 4/00 A 8417-4K H01J 37/317 B 9172-5E H01L 21/265 21/68 A

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 基板収納用のカセットに対してアームに
よって基板の出し入れを行う基板搬送ロボットと、この
基板搬送ロボットのアームの移動領域内に設けられてい
て、上下に配置された二つの昇降台を有しそれらを同時
に上下二つのレベルに昇降させる昇降機構と、各昇降台
上に設けられたターンテーブルおよびそれを左右に回転
させてターンテーブル上に載せられたカセットを基板搬
送ロボットの方に向ける回転駆動源と、基板搬送ロボッ
トによって基板が出し入れされるカセットと同じレベル
においてカセットの着脱を行うカセット着脱部と、この
カセット着脱部およびそれと同じレベルに位置したター
ンテーブル上の間でカセットを搬送するカセット搬送機
構とを備えることを特徴とする基板処理装置用のエンド
ステーション。
1. A substrate transfer robot for loading and unloading a substrate with respect to a cassette for storing substrates, and two lifts arranged in a moving region of the arm of the substrate transfer robot and arranged vertically. Elevating mechanism which has up and down two levels at the same time, and a turntable provided on each elevator and the cassette mounted on the turntable by rotating it to the left and right to the substrate transfer robot. Transport the cassette between the rotation drive source, the cassette attachment / detachment unit that attaches / detachs the cassette at the same level as the cassette in which the substrate is transferred by the substrate transfer robot, and this cassette attachment / detachment unit and the turntable located at the same level as the cassette attachment / detachment unit. An end station for a substrate processing apparatus, comprising:
JP6310293U 1993-10-29 1993-10-29 End station for substrate processing equipment Pending JPH0728962U (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003517717A (en) * 1998-09-30 2003-05-27 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド Substrate transfer device
JP2014530496A (en) * 2011-09-14 2014-11-17 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド Road station
KR102398632B1 (en) * 2021-08-24 2022-05-16 이용근 Upward and downward mobility type turntable apparatus for food stowage

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