JP2642990B2 - Transfer device - Google Patents

Transfer device

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JP2642990B2
JP2642990B2 JP15850089A JP15850089A JP2642990B2 JP 2642990 B2 JP2642990 B2 JP 2642990B2 JP 15850089 A JP15850089 A JP 15850089A JP 15850089 A JP15850089 A JP 15850089A JP 2642990 B2 JP2642990 B2 JP 2642990B2
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【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、搬送装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial application field) The present invention relates to a transport device.

(従来の技術) プロセス部側とローダ部側とに大別されたスパッタ装
置では、前記プロセス部側に、複数のスパッタ処理容器
と、この各スパッタ処理容器に連通するチャンバーと、
このチャンバー内に配置されて各スパッタ処理容器に対
する被処理体の搬入出が可能な第1の搬送アームとを備
えている。一方、ローダ部側には、被処理体を搭載した
キャリアカセットと、このキャリアカセットに対して被
処理体を搬出入する第2の搬送アームと、上記第1,第2
のアーム間で被処理体を受け渡すために、被処理体を載
置するテーブルとを備えている。
(Prior Art) In a sputtering apparatus roughly divided into a process section side and a loader section side, a plurality of sputter processing vessels, a chamber communicating with each of the sputter processing vessels,
A first transfer arm disposed in the chamber and capable of loading and unloading an object to be processed into and out of each sputter processing container. On the other hand, on the loader section side, a carrier cassette on which the object to be processed is mounted, a second transfer arm for carrying in and out the object to and from the carrier cassette,
And a table on which the object is placed to transfer the object between the arms.

そして、キャリアカセット内に搭載された一枚の被処
理体を前記第2の搬送アームによって取出し、これをテ
ーブル上に載置する。このテーブル上に載置された被処
理体は、プロセス部側の第1の搬送アームによって支持
され、チャンバー内を搬送された後に1つのスパッタ処
理容器に搬入されることになる。
Then, one object to be processed mounted in the carrier cassette is taken out by the second transfer arm, and is placed on a table. The target object placed on the table is supported by the first transfer arm on the process section side, and is transferred into one sputter processing container after being transferred in the chamber.

一方、前記スパッタ処理容器にてスパッタ処理の終了
した被処理体は、前記第1,第2の搬送アーム及びテーブ
ルを用い、被処理体の搬入工程は逆工程を実施すること
で、キャリアカセット内に戻し搬送されることになる。
On the other hand, the object to be processed, which has been subjected to the sputter processing in the sputter processing container, uses the first and second transfer arms and a table, and carries out the reverse of the step of loading the object to be processed. To be transported.

そして、上記のような被処理体の搬入出動作を、チャ
ンバーに連通された複数の各スパッタ処理容器に対して
行うことで、各スパッタ処理容器内にて複数の被処理体
を並列的にスパッタ処理するようにしている。
By carrying out the loading / unloading operation of the object to be processed as described above for each of the plurality of sputter processing containers connected to the chamber, the plurality of objects to be processed are sputtered in parallel in each of the sputter processing containers. To be processed.

(発明が解決しようとする課題) 上記のようなスパッタ装置では、ウエハの搬入出のた
めの時間を短縮することができないため、スループット
が低下していた。
(Problems to be Solved by the Invention) In the sputtering apparatus as described above, the time for carrying in and out the wafer cannot be reduced, so that the throughput has been reduced.

すなわち、プロセス部側のある1つのスパッタ処理容
器でのスパッタ処理が終了した状態を想定すると、この
処理の終了したウエハは第1の搬送アームによって容器
より搬出されてテーブル上に載置される。このテーブル
に載置されたウエハは第2の搬送アームによってキャリ
アカセット内に戻し搬送され、その後この第2の搬送ア
ームによって新たなウエハがキャリアカセットより取出
され前記テーブル上に載置されることになる。従って、
プロセス部側の第1の搬送アームは、ローダ部側の第2
の搬送アームの駆動による処理済みウエハの収納処理,
新たなウエハの搬出処理が終了するまで、その位置にて
待機せざるを得なかった。
That is, assuming that the sputter processing in one of the sputter processing containers on the processing unit side has been completed, the wafer on which this processing has been completed is carried out of the container by the first transfer arm and placed on the table. The wafer placed on this table is transported back into the carrier cassette by the second transport arm, and then a new wafer is taken out of the carrier cassette and placed on the table by the second transport arm. Become. Therefore,
The first transfer arm on the process unit side is connected to the second transfer arm on the loader unit side.
Of the processed wafer by driving the transfer arm
Until the process of unloading a new wafer has been completed, it has to wait at that position.

そこで、本発明の目的とするところは、搬送アームが
テーブル上の被搬送体を受け取るまでの待機時間を大幅
に短縮することで、スループットを向上することができ
る搬送装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a transfer device capable of improving throughput by greatly reducing a standby time until a transfer arm receives a transferred object on a table.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 請求項1に記載の発明に係る搬送装置は、被処理体を
支持して、処理部と収納部との間で前記被処理体の搬入
出を行う搬送装置において、前記処理部に対して前記被
処理体の搬出入を行う第1の搬送アームと、前記第1の
搬送アームと異なる高さ位置に設定され、前記収納部に
対して前記被処理体の搬出入を行う第2の搬送アーム
と、前記第1の搬送アームと前記第2の搬送アームとの
間で昇降可能に形成され、前記第1、第2の搬送アーム
からの前記被処理体の受け渡しを行う複数段の支持テー
ブルと、を有することを特徴とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The transfer device according to the first aspect of the present invention supports an object to be processed and loads the object between a processing unit and a storage unit. A first transfer arm for transferring the object into and out of the processing unit, and a height different from that of the first transfer arm; A second transfer arm for carrying the object in and out; and a second transfer arm formed between the first and second transfer arms so as to be movable up and down. A plurality of support tables for transferring the object to be processed.

請求項2に記載の発明に係る搬送装置は、請求項1に
おいて、前記第1の搬送アームを収容したチャンバーに
複数の前記処理部が連結され、前記第1の搬送アーム
は、複数の前記処理部と前記複数段の支持テーブルとの
間で前記被処理体の受け渡しを行うことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the transfer apparatus according to the first aspect, a plurality of the processing units are connected to a chamber accommodating the first transfer arm, and the first transfer arm includes a plurality of the processing units. The transfer of the object to be processed is performed between the unit and the plurality of support tables.

(作 用) 請求項1に記載の発明によれば、以下の作用効果を有
する。
(Operation) According to the invention described in claim 1, the following operation and effect are obtained.

(イ)収納部と処理部との間で被処理体の搬送を行うに
は、第2の搬送アームを用い収納部への被処理体の搬出
入を行うと共に、処理部への被処理体の搬出入を第1の
搬送アームにて行う。そして、第1、第2の搬送アーム
間に昇降自在に配設された複数段の支持アームを用い
て、第1、第2の搬送アーム間の被処理体の受け渡しを
行えば良い。
(A) In order to transport the object to be processed between the storage unit and the processing unit, the object to be processed is transferred into and out of the storage unit using the second transfer arm, and the object to be processed is transferred to the processing unit. Is carried out by the first transfer arm. Then, the object to be processed may be transferred between the first and second transfer arms by using a plurality of stages of support arms arranged to be able to move up and down between the first and second transfer arms.

ここで、第1の搬送アームは処理部での操作に用い、
第2の搬送アームは収納部での操作に各々独立して用い
る。従来は、例えば特開昭63−288677号公報等のよう
に、アームは処理部と収納部への双方に移動される一部
材で形成されてた。このため、処理部と収納部との間の
距離が長い場合は、アームの腕を長くする必要があり、
装置の大型化を招いていた。これに対し本請求項では、
処理部、収納部での搬入出用の第1、第2の搬送アーム
を各々設けているので、処理部と収納部との距離が長い
場合に、アームを大型化する必要がなくなる。
Here, the first transfer arm is used for operation in the processing unit,
The second transfer arms are used independently for operations in the storage unit. Conventionally, as in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-288677, for example, the arm is formed of one member that is moved to both the processing section and the storage section. Therefore, when the distance between the processing unit and the storage unit is long, it is necessary to lengthen the arm of the arm,
This has led to an increase in the size of the device. In contrast, in the present claim,
Since the first and second transfer arms for loading and unloading in the processing unit and the storage unit are provided, it is not necessary to increase the size of the arm when the distance between the processing unit and the storage unit is long.

(ロ)また、第1、第2の搬送アームが各々独立して移
動できるので、被処理体を処理部に積層する際の上下動
を第1の搬送アームで、被処理体を収納部に積層する際
の上下動を第2の搬送アームで、各々独立して行える。
(B) Since the first and second transfer arms can be moved independently of each other, the first transfer arm moves the object to be processed up and down when the object is stacked on the processing unit, and the object to be processed is stored in the storage unit. Vertical movement during stacking can be performed independently by the second transfer arms.

この点、従来の例えば特開昭63−288677号公報等のよ
うに、2つの各アームが連結されて独立して動作できな
いような装置の場合は、一方のアームが処理部に対して
高さ調整を行う間は、他方のアームが一方のアームの移
動に拘束されるため、収納部への収納作業を行うことが
できない。
In this regard, in the case of a device in which two arms cannot be operated independently by being connected to each other, such as a conventional Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-288677, one arm has a height relative to the processing unit. During the adjustment, the other arm is restricted by the movement of the one arm, so that the storing operation to the storing section cannot be performed.

これに対し本請求項では、第1、第2のアームは互い
に拘束されることなく、平面での移動に加えて高さ方向
の移動でも独立して自由に移動できる。このため、従来
装置で生じた一方のアームの高さ方向の移動調整時に一
方のアームの移動に拘束されて他方のアームが独立移動
できない期間、及び他方のアームの高さ方向の移動調整
時に他方のアームの移動に拘束されて一方のアームが独
立移動できない期間、を有効に利用し、この期間の工程
実施中に他の搬送工程の実施が可能となる。これによ
り、例えば高さ方向で第1の搬送アームを使用している
間に第2の搬送アームを使用することで、全体の搬送工
程を迅速に行うことが可能となる。
On the other hand, in the present invention, the first and second arms are not restricted to each other, and can freely move independently in the height direction in addition to the movement in the plane. For this reason, during the height adjustment of one arm caused by the conventional device, the other arm cannot be moved independently due to the restraint of the movement of one arm, and the other time when the movement of the other arm is adjusted in the height direction. The period during which one arm cannot be moved independently due to the movement of one arm can be effectively used, and another transfer process can be performed during the process during this period. Thus, for example, by using the second transfer arm while using the first transfer arm in the height direction, it is possible to quickly perform the entire transfer process.

加えて、例えば処理部、収納部が各々複数形成される
場合に上記従来装置を使用する場合、上記一方又は他方
のアームが拘束される期間が増大する。このため、これ
ら従来装置で無駄となる期間を、本請求項ではすべて有
効利用できるので、特に処理部、収納部が各々複数形成
される場合に特に有効となる。
In addition, for example, when the conventional apparatus is used when a plurality of processing units and a plurality of storage units are formed, a period in which the one or the other arm is restrained increases. For this reason, all of the useless periods in the conventional apparatus can be effectively used in the present invention, and this is particularly effective when a plurality of processing units and storage units are formed.

(ハ)処理部と収納部との間で被処理体を受け渡すため
の支持テーブルは、複数段のテーブルが昇降する構成と
なっているので、異なる高さに設定された第1、第2の
搬送アーム間の被処理体の受け渡しができ、第1、第2
の搬送アームの各移動距離を短くしながらも、被処理体
の受け渡しを能率よく行うことができる。
(C) The support table for transferring the object to be processed between the processing unit and the storage unit has a configuration in which a plurality of tables are raised and lowered, so that the first and second heights set at different heights are different. The object to be processed can be transferred between the transfer arms of the first and second transfer arms.
The object to be processed can be efficiently delivered while shortening each moving distance of the transfer arm.

請求項2に記載の発明によれば、複数の処理部に対す
る各搬入・搬出動作を第1の搬送アームにて行うことが
できる。
According to the second aspect of the present invention, each loading / unloading operation for a plurality of processing units can be performed by the first transport arm.

このように、複数の処理部を有する場合、複数段に形
成された支持テーブルの各層に、各処理部にて処理され
た処理済みの各被処理体、各処理部にて処理されるべき
未処理の被処理体等を待機させておくことができる。こ
のため、各処理部での処理を行う度にアームを処理部か
ら収納部にまで搬送する場合に比して、第1、第2の各
搬送アームの移動距離も短くて済み、複数の処理部に対
する未処理の被処理体と処理済みの被処理体との受け渡
しを能率良く実施することができる。
As described above, when a plurality of processing units are provided, each layer of the support table formed in a plurality of stages has each processed object processed by each processing unit, and is to be processed by each processing unit. An object to be processed or the like can be kept on standby. For this reason, the moving distance of each of the first and second transfer arms can be reduced as compared with the case where the arm is transferred from the processing unit to the storage unit each time the processing in each processing unit is performed. Delivery of the unprocessed object and the processed object to and from the unit can be efficiently performed.

(実施例) 以下、本発明の適用した搬送装置の一実施例につい
て、図面を参照して具体的に説明する。
(Example) Hereinafter, an example of a transport device to which the present invention is applied will be specifically described with reference to the drawings.

この搬送装置は、第2図に示すようにプロセス部10と
ローダ部20とに大別される。前記プロセス部10側には、
例えば放射状に配列された複数のスパッタ処理容器12
と、その中心に位置することで各スパッタ処理容器12に
連通するチャンバー14と、このチャンバー14内に配置さ
れた第1の搬送アーム16とから構成されている。
This transport device is roughly divided into a process section 10 and a loader section 20, as shown in FIG. On the process unit 10 side,
For example, a plurality of sputter processing vessels 12 arranged radially
And a chamber 14 which is located at the center thereof and communicates with each sputter processing container 12, and a first transfer arm 16 arranged in the chamber 14.

一方、前記ローダ部20側には、前記チャンバー14と連
通するローダ室20aと、多数枚のウエハ24を搭載した例
えば2つのキャリアカセット22をそれぞれ収納するため
のカセット収納部20bとから構成されている。前記ロー
ダ室20a内には、第2の搬送アーム26とハンドオフテー
ブル28とが配置され、この第2の搬送アーム26によって
前記キャリアカセット22とハンドオフテーブル28との間
の受け渡しを可能としている。尚、上記各ブロックは真
空引きされており、カセット収納部20b,ローダ室20a,チ
ャンバー14,スパッタ処理容器12の順で高真空度となる
ように真空引きされる。前記第2の搬送アーム26は、2
枚の平板を回動支点にて連結した構成である。そして、
この第2の搬送アーム26は搬送ユニット30上に搭載さ
れ、前記ローダ室20a外に設けた搬送ユニット駆動モー
タ32の駆動力によって、第2図の矢印方向に往復動可能
となっている。また、第2の搬送アーム駆動部に蓄積さ
れる熱を真空中のローダ室20a外部に放熱するために、
前記搬送ユニット30にはクーリングチューブ34が接続さ
れている。
On the other hand, the loader section 20 includes a loader chamber 20a that communicates with the chamber 14, and a cassette storage section 20b for storing, for example, two carrier cassettes 22 each having a large number of wafers 24 mounted thereon. I have. A second transfer arm 26 and a hand-off table 28 are arranged in the loader chamber 20a, and the second transfer arm 26 enables transfer between the carrier cassette 22 and the hand-off table 28. Each of the above blocks is evacuated, and the cassette storage section 20b, the loader room 20a, the chamber 14, and the sputter processing container 12 are evacuated to a high degree of vacuum in this order. The second transfer arm 26 includes
In this configuration, two flat plates are connected at a pivot point. And
The second transfer arm 26 is mounted on the transfer unit 30, and can reciprocate in the direction of the arrow in FIG. 2 by the driving force of the transfer unit drive motor 32 provided outside the loader chamber 20a. Further, in order to radiate the heat accumulated in the second transfer arm drive unit to the outside of the loader chamber 20a in a vacuum,
A cooling tube 34 is connected to the transfer unit 30.

次に、前記プロセス部10側の第1の搬送アーム16につ
いて、第4図を参照して説明する。
Next, the first transfer arm 16 on the process section 10 side will be described with reference to FIG.

この第1の搬送アーム16は、ウエハホルダー40を連結
したアッパーアーム42と、ロウアーアーム44からなり、
回転軸60に固着した前記ロウアーアーム44及びこのロウ
アーアーム44の自由端側にて回転自在に支持されたアッ
パーアーム42とをそれぞれ回転駆動することで、第2図
に示す各スパッタ処理容器12とローダ部20側のハンドオ
フテーブル28との間で、ウエハ24の受け渡しを可能とし
ている。
The first transfer arm 16 includes an upper arm 42 to which a wafer holder 40 is connected, and a lower arm 44.
The lower arm 44 fixed to the rotating shaft 60 and the upper arm 42 rotatably supported on the free end side of the lower arm 44 are driven to rotate, respectively, so that each of the sputter processing containers 12 shown in FIG. The transfer of the wafer 24 to and from the handoff table 28 on the loader unit 20 side is enabled.

前記ロウアーアーム44を回転駆動するために第1のモ
ータ46が設けられ、このモータ出力は2組の一対のプー
リ48,50及び54,56と、この各組のプーリに掛け渡された
ベルト52及び58を介して前記回転軸60に伝達される。一
方、前記アッパーアーム42を回転駆動するために前記回
転軸60と同軸に第2のモータ62が配置され、このモータ
の回転出力は一対のプーリ64,66及びこれに掛け渡され
たベルト68を介して、前記アッパーアーム42の回転軸に
伝達されるようになっている。
A first motor 46 is provided to rotationally drive the lower arm 44. The output of the motor is two pairs of pulleys 48, 50 and 54, 56 and a belt 52 stretched over each pair of pulleys. And 58 to the rotating shaft 60. On the other hand, a second motor 62 is arranged coaxially with the rotation shaft 60 to rotationally drive the upper arm 42, and the rotation output of this motor is a pair of pulleys 64, 66 and a belt 68 wrapped around the pair of pulleys 64, 66. Through the rotation shaft of the upper arm 42.

前記ウエハホルダー40は、第5図に示すように円弧状
のホルダー形状なっていて、その内周側にはホールド部
40aと切欠部40bとが交互に形成されている。そして、こ
のホールド部40a上にウエハ24を載置可能としている。
The wafer holder 40 has an arc-shaped holder shape as shown in FIG.
40a and notches 40b are formed alternately. Then, the wafer 24 can be placed on the holding section 40a.

次に、本実施例の特徴的構成である前記ハンドオフテ
ーブル28について、第1図(A),(B)を参照して説
明する。
Next, the handoff table 28 which is a characteristic configuration of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 (A) and 1 (B).

このハンドオフテーブル28は2段テーブル構成となっ
ていて、ロウアーテーブル72の上方にコ字状の連結具74
を介してアッパーテーブル70が平行に配置されている。
この両テーブル70,72はテーブルベース76に固定され、
このテーブルベース76とその下方のベースプレート78と
の間にはベローズ80が伸縮自在に配置されている。この
ベースプレート78よりも上方の部材が、前記チャンバー
14内の真空室内に配置されることになる。そして、前記
テーブルベース76の下端に固着され、前記ベローズ80内
及びベースプレート78の穴部を通過して下方に伸びるパ
イプ84が設けられている。このパイプ84の下端には可動
部86が連結固定され、この可動部86は前記ベースプレー
ト78の下側に設けた筐体82内にて固定されているリニア
ガイド88に沿って上下動可能となっている。さらに、下
端側が前記筐体82に回転自在に支持され、上端側が前記
パイプ84の内周部に収納されたボールねじ90が設けられ
ている。また、このボールねじ90の回転駆動用のモータ
92が前記筐体82内に設けられ、このモータ92の出力軸に
固着したプーリ94と、前記ボールねじ90の下端側に固着
したプーリ96との間にベルト98を掛け渡している。そし
て、このボールねじ90の可逆回転駆動により、ボールね
じナット部と結合された可動部86,可動部86に固定され
たパイプ84がリニアガイド88に沿って上下動し、この結
果アッパーテーブル70およびロウアーテーブル72を一体
的に上下動可能としている。
The hand-off table 28 has a two-stage table structure, and has a U-shaped connecting member 74 above the lower table 72.
The upper table 70 is arranged in parallel with the intermediary of the upper table 70.
The two tables 70 and 72 are fixed to the table base 76,
A bellows 80 is arranged between the table base 76 and a base plate 78 below the table base 76 so as to be able to expand and contract. The member above the base plate 78 is
14 will be placed in the vacuum chamber. A pipe 84 is provided which is fixed to the lower end of the table base 76 and extends downward through the inside of the bellows 80 and the hole of the base plate 78. A movable portion 86 is connected and fixed to the lower end of the pipe 84, and the movable portion 86 can move up and down along a linear guide 88 fixed in a housing 82 provided below the base plate 78. ing. Further, a ball screw 90 whose lower end is rotatably supported by the housing 82 and whose upper end is accommodated in the inner peripheral portion of the pipe 84 is provided. A motor for rotating the ball screw 90
A belt 92 is provided between the pulley 94 fixed to the output shaft of the motor 92 and the pulley 96 fixed to the lower end of the ball screw 90. Then, by the reversible rotation drive of the ball screw 90, the movable portion 86 coupled to the ball screw nut portion, and the pipe 84 fixed to the movable portion 86 move up and down along the linear guide 88, and as a result, the upper table 70 The lower table 72 can be integrally moved up and down.

前記アッパーテーブル70およびロウアーテーブル72は
共に同一の構成を有し、第3図に示すように、底面100
の周縁円弧領域に第1の周縁立上り部102が形成されて
いる。この第1の周縁立上り部102の上面側には、所定
間隔を置いた複数箇所に放射方向に突起したウエハ載置
面104が形成され、かつ、このウエハ載置面104の外周縁
には、ウエハ24の落下防止用の第2の周縁立上り部106
が形成されている。
The upper table 70 and the lower table 72 have the same configuration, and as shown in FIG.
A first peripheral rising portion 102 is formed in the peripheral circular arc region of. On the upper surface side of the first peripheral rising portion 102, a wafer mounting surface 104 protruding in a radial direction is formed at a plurality of locations at predetermined intervals, and an outer peripheral edge of the wafer mounting surface 104 is Second peripheral rising portion 106 for preventing falling of wafer 24
Are formed.

次に、上記実施例装置の作用、特に、第1,第2の搬送
アーム16,26の間でウエハ24を受け渡すためのハンドオ
フテーブル28の動作について、第6図〜第9図を参照し
て説明する。尚、上記各図に示すように、本実施例装置
では第1の搬送アーム16の高さ方向のポジションと、第
2の搬送アーム26の高さ方向のポジションとが異なって
おり、このためハンドオフテーブル28は後述するように
8ヵ所の停止位置を有するようになっている。
Next, the operation of the above-described embodiment apparatus, in particular, the operation of the handoff table 28 for transferring the wafer 24 between the first and second transfer arms 16 and 26 will be described with reference to FIGS. Will be explained. As shown in the above figures, the position of the first transfer arm 16 in the height direction is different from the position of the second transfer arm 26 in the height direction in the apparatus of the present embodiment. The table 28 has eight stop positions as described later.

本実施例装置では前記ハンドオフテーブル28が2段テ
ーブル構成となっているので、プロセス部10側の各スパ
ッタ処理容器12でのスパッタの並列処理中に、次に処理
すべき新たなウエハ24をハンドオフテーブル28の一方の
テーブルに載置可能となっている。まずこの動作につい
て、第6図を参照して説明する。ハンドオフテーブル28
のイニシャル位置は、同図(A)に示す原点aの位置と
なっている。この原点aの位置とは、第2の搬送アーム
26のポジションよりも、アッパーテーブル70が下方に設
定される位置である。第6図(A)では、ハンドオフテ
ーブル28を原点aの位置に設定し、かつ、第2の搬送ア
ーム26によってハンドオフテーブル28上にウエハ24を配
置した状態を示している。その後、同図(B)に示すよ
うに、ハンドオフテーブル28を位置bまで上昇させる。
そうすると、ハンドオフテーブル28のアッパーテーブル
70に形成したウエハ載置面104によって支持されるウエ
ハ24は、第2の搬送アーム26の上面より離脱することに
なる。そして、第2の搬送アーム26は、ウエハ24の下面
とアッパーテーブル70の底面100との間に配置されるこ
とになる。この後、第2の搬送アーム26を駆動すること
によって、この第2の搬送アーム26をウエハ24の下方よ
り離脱させることができる。
In the present embodiment, since the handoff table 28 has a two-stage table configuration, a new wafer 24 to be processed next is handed off during the parallel processing of the sputters in the sputter processing containers 12 on the process section 10 side. It can be placed on one of the tables 28. First, this operation will be described with reference to FIG. Handoff table 28
Are the positions of the origin a shown in FIG. The position of the origin a is defined as the second transfer arm
This is a position where the upper table 70 is set below the position 26. FIG. 6A shows a state in which the handoff table 28 is set at the position of the origin a and the wafer 24 is placed on the handoff table 28 by the second transfer arm 26. Thereafter, the handoff table 28 is raised to the position b as shown in FIG.
Then, the upper table of the handoff table 28
The wafer 24 supported by the wafer mounting surface 104 formed on 70 is separated from the upper surface of the second transfer arm 26. Then, the second transfer arm 26 is disposed between the lower surface of the wafer 24 and the bottom surface 100 of the upper table 70. Thereafter, by driving the second transfer arm 26, the second transfer arm 26 can be detached from below the wafer 24.

その後、ハンドオフテーブル28を第7図(A)に示す
位置cまで上昇させ、この位置にて第1の搬送アーム16
による処理済みウエハ24の搬出を待機することになる。
プロセス部10側の1つのスパッタ処理容器12内にてスパ
ッタ処理が終了すると、この処理済みウエハ24は第1の
搬送アーム16によって取出され、第7図(A)に示すよ
うに、ロウアーテーブル72の上方にこのウエハ24を設定
することになる。その後、ハンドオフテーブル28を同図
(B)に示す位置dまで上昇させる。この際、ロウアー
テーブル72は第1の搬送アーム16のウエハホルダー40を
通過して上昇することになるがこの際第5図に示すよう
に、ロウアーテーブル72のウエハ載置面104は、前記ウ
エハホルダー40に設けた切欠部40bを通過することにな
るので、両者の干渉が防止される。そして、上記の上昇
動作によって処理済みウエハ24はロウアーテーブル72の
ウエハ載置面104に支持され、ウエハホルダー40から離
脱されることになる。
Thereafter, the handoff table 28 is raised to a position c shown in FIG. 7A, and the first transfer arm 16
And waits for unloading of the processed wafer 24.
When the sputter processing is completed in one sputter processing vessel 12 on the processing section 10 side, the processed wafer 24 is taken out by the first transfer arm 16 and, as shown in FIG. This wafer 24 is set above. Thereafter, the hand-off table 28 is raised to a position d shown in FIG. At this time, the lower table 72 rises after passing through the wafer holder 40 of the first transfer arm 16. At this time, as shown in FIG. 5, the wafer mounting surface 104 of the lower table 72 Since the light passes through the notch 40b provided in the holder 40, interference between the two is prevented. Then, the processed wafer 24 is supported by the wafer mounting surface 104 of the lower table 72 by the above-described lifting operation, and is separated from the wafer holder 40.

上記のように処理済みウエハ24を第1の搬送アーム16
よりロウアーテーブル72に受け渡した後は、この第1の
搬送アーム16への新ウエハ24の受け渡しを即座に実施す
ることができる。このために、第1の搬送アーム16を退
避させた後第7図(B)に示す位置dよりハンドオフテ
ール28を下降させ、第8図(A)に示す位置eで再び第
1の搬送アームをアッパーテーブル70の下に停止または
待機させ、ハンドオフテーブル28を位置fまで下降させ
る。この下降動作によってアッパーテーブル70に載置さ
れていた新ウエハ24は、第1の搬送アーム16のウエハホ
ルダー40によって支持されることになる。従って、第1
の搬送アーム16は待機時間をほとんど要せずに新ウエハ
24を受け取ることができる。その後、この第1の搬送ア
ーム16を駆動して1つのスパッタ処理容器12に新ウエハ
24を搬入することが可能となる。
The wafer 24 processed as described above is transferred to the first transfer arm 16.
After the transfer to the lower table 72, the transfer of the new wafer 24 to the first transfer arm 16 can be immediately performed. For this purpose, after the first transfer arm 16 is retracted, the hand-off tail 28 is lowered from the position d shown in FIG. 7B, and the first transfer arm is again moved to the position e shown in FIG. 8A. Is stopped or waited below the upper table 70, and the hand-off table 28 is lowered to the position f. By this lowering operation, the new wafer 24 placed on the upper table 70 is supported by the wafer holder 40 of the first transfer arm 16. Therefore, the first
Transfer arm 16 requires little standby time
24 can be received. After that, the first transfer arm 16 is driven so that the new wafer
24 can be carried in.

次に、ロウアーテーブル72上に載置されている処理済
みウエハ24を第2の搬送アーム26に受け渡すために、ハ
ンドオフテーブル28を第8図(B)に示す位置fよりさ
らに下降させ、第9図(A)に示す位置gにて停止させ
る。この後に、同図(A)に示すように第2の搬送アー
ム26を処理済みウエハ24とロウアーテーブル72の底面10
0との間に挿入する。この後、ハンドオフテーブル28を
さらに下降させ、同図(B)に示す位置hまで移送す
る。そうすると、ロウアーテーブル72に支持されていた
処理済みウエハ24は第2の搬送アーム26上に支持される
ことになる。従って、この後はこの第2の搬送アーム26
を駆動することによって、この処理済みウエハ24をキャ
リアカセット22内に戻し搬送することが可能となる。
Next, in order to transfer the processed wafer 24 placed on the lower table 72 to the second transfer arm 26, the hand-off table 28 is further lowered from the position f shown in FIG. 9 Stop at the position g shown in FIG. Thereafter, the second transfer arm 26 is moved between the processed wafer 24 and the bottom surface 10 of the lower table 72 as shown in FIG.
Insert between 0. Thereafter, the hand-off table 28 is further lowered and transferred to a position h shown in FIG. Then, the processed wafer 24 supported on the lower table 72 is supported on the second transfer arm 26. Therefore, after this, the second transfer arm 26
, The processed wafer 24 can be returned and transferred into the carrier cassette 22.

以下、同様にして次々と処理の終了する各スパッタ処
理容器12での処理終了タイミングに合せ、予め新たなウ
エハ24をハンドオフテーブル28上に載置しておくように
すれば、第1の搬送アーム16に対する処理済みウエハお
よび新ウエハの受け渡しの待機時間を最少にして実施す
ることができるので、搬送装置のスループットを大幅に
向上することができる。
Hereinafter, if a new wafer 24 is previously placed on the hand-off table 28 in accordance with the processing end timing in each of the sputter processing containers 12 in which the processing is completed one after another, the first transfer arm Since the waiting time for transferring the processed wafer and the new wafer to the wafer 16 can be minimized, the throughput of the transfer device can be greatly improved.

尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment,
Various modifications can be made within the scope of the present invention.

例えば、ハンドオフテーブル28としては必ずしも2段
のテーブル構成とするものに限らず、3段以上のテーブ
ルを有するものであってもよい。この際、各段のテーブ
ルに必要に応じて加熱部あるいは冷却部等を設け、ハン
ドオフテーブル28にてウエハ24を保持している間に、ウ
エハ24の加熱または冷却を実施することもできる。
For example, the handoff table 28 is not necessarily limited to a two-stage table configuration, but may be a table having three or more stages. At this time, a heating unit or a cooling unit or the like may be provided on the table of each stage as necessary, and heating or cooling of the wafer 24 may be performed while the wafer 24 is held by the hand-off table 28.

[発明の構成] 請求項1の発明によれば、処理部、収納部での搬入出
用の第1、第2の搬送アームを各々設けているので、処
理部と収納部との距離が長い場合に、アームを大型化す
る必要がなくなる。
[Constitution of the Invention] According to the first aspect of the present invention, since the first and second transfer arms for carrying in and out of the processing section and the storage section are provided, the distance between the processing section and the storage section is long. In this case, it is not necessary to increase the size of the arm.

また、被処理体を処理部に積層する際の上下動を第1
の搬送アームで、被処理体を収納部に積層する際の上下
動を第2の搬送アームで、各々独立して行えるので、搬
送時間を有効に利用することができ、全体の搬送工程を
迅速に行うことが可能となる。
In addition, the vertical movement when stacking the object to be processed on the processing unit is the first movement.
In the transfer arm, the vertical movement when stacking the object to be processed in the storage section can be performed independently by the second transfer arm, so that the transfer time can be effectively used and the entire transfer process can be performed quickly. Can be performed.

請求項2の発明によれば、複数の処理部を有する場
合、この複数の処理部に対する各搬入・搬出動作を第1
の搬送アームにて行うことができ、第1、第2の搬送ア
ーム間の受け渡しを実施するための支持テーブルを複数
段の構成としておくこで、複数の処理部に対する未処理
の被搬送体と処理済みの被処理体との受け渡しを能率良
く実施することができる。
According to the invention of claim 2, when a plurality of processing units are provided, each loading / unloading operation for the plurality of processing units is performed by the first processing unit.
And a plurality of support tables for carrying out the transfer between the first and second transfer arms. Delivery to and from the processed object can be efficiently performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(A),(B)は、それぞれ本発明を適用した搬
送装置の要部であるハンドオフテーブルを説明するため
の概略説明図、 第2図は、実施例装置の全体構成を説明するための概略
説明図、 第3図(A),(B)は、それぞれ各段のテーブル構成
を説明するための平面図,A−A断面図、 第4図は、プロセス部側に配置される第1の搬送アーム
の一例を示す概略斜視図、 第5図は、第1の搬送アームのウエハホルダーとテーブ
ルとの位置関係を説明するための概略説明図、 第6図〜第9図は、それぞれ第1,第2の搬送アーム及び
テーブルとの間で実施されるウエハの受け渡し動作を説
明するための概略説明図である。 10……プロセス部、12……スパッタ処理容器、 14……チャンバー、16……第1の搬送アーム、 20……ローダ部、22……キャリアカセット、 24……被処理体、26……第2の搬送アーム、 28……テーブル、70……アッパーテーブル、 72……ロウアーテーブル。
1 (A) and 1 (B) are schematic explanatory diagrams for explaining a hand-off table which is a main part of a transport apparatus to which the present invention is applied, and FIG. 2 is a diagram for explaining the overall configuration of the apparatus of the embodiment. FIGS. 3 (A) and 3 (B) are a plan view and a cross-sectional view taken along line AA, respectively, for explaining the table configuration of each stage, and FIG. 4 is arranged on the process unit side. FIG. 5 is a schematic perspective view showing an example of a first transfer arm, FIG. 5 is a schematic explanatory view for explaining a positional relationship between a wafer holder and a table of the first transfer arm, and FIGS. FIG. 9 is a schematic explanatory diagram for explaining a wafer transfer operation performed between the first and second transfer arms and the table. 10 process part, 12 sputter processing container, 14 chamber, 16 first transfer arm, 20 loader part, 22 carrier cassette, 24 object to be processed, 26th 2 transfer arm, 28 ... table, 70 ... upper table, 72 ... lower table.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】被処理体を支持して、処理部と収納部との
間で前記被処理体の搬入出を行う搬送装置において、 前記処理部に対して前記被処理体の搬出入を行う第1の
搬送アームと、 前記第1の搬送アームと異なる高さ位置に設定され、前
記収納部に対して前記被処理体の搬出入を行う第2の搬
送アームと、 前記第1の搬送アームと前記第2の搬送アームとの間で
昇降可能に形成され、前記第1、第2の搬送アームから
の前記被処理体の受け渡しを行う複数段の支持テーブル
と、 を有することを特徴とする搬送装置。
A transfer device for supporting the object to be processed and loading and unloading the object between a processing unit and a storage unit, wherein the processing unit transports the object to and from the processing unit. A first transfer arm, a second transfer arm set at a different height from the first transfer arm, and carrying the object in and out of the storage unit; and a first transfer arm. And a plurality of stages of support tables formed so as to be able to ascend and descend between the first and second transfer arms and transferring the object to be processed from the first and second transfer arms. Transport device.
【請求項2】請求項(1)において、 前記第1の搬送アームを収容したチャンバーに複数の前
記処理部が連結され、 前記第1の搬送アームは、複数の前記処理部と前記複数
段の支持テーブルとの間で前記被処理体の受け渡しを行
うことを特徴とする搬送装置。
2. The method according to claim 1, wherein a plurality of the processing units are connected to a chamber accommodating the first transfer arm, and the first transfer arm is connected to the plurality of the processing units and the plurality of stages. A transfer device for transferring the object to and from a support table.
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