JPH07287843A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH07287843A JPH07287843A JP10440194A JP10440194A JPH07287843A JP H07287843 A JPH07287843 A JP H07287843A JP 10440194 A JP10440194 A JP 10440194A JP 10440194 A JP10440194 A JP 10440194A JP H07287843 A JPH07287843 A JP H07287843A
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- magnetic
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
- B05C11/1039—Recovery of excess liquid or other fluent material; Controlling means therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高密度記録に適した、良好な高品質の磁気記
録媒体を安定して生産できる極めて平易な磁気記録媒体
の製造方法を提供する。 【構成】 連続的に走行する支持体上に少なくとも板状
磁性体を分散させた塗布液８を塗布した後にドクターブ
レード４により掻き落として磁性層１５を形成するとき
に、前記塗布液８を湿潤状態で前記磁性体の平均直径の
１０倍以下の厚みで塗布し、さらに前記磁性層の乾燥膜
厚を０．４μｍ以下とする磁気記録媒体の製造方法。
録媒体を安定して生産できる極めて平易な磁気記録媒体
の製造方法を提供する。 【構成】 連続的に走行する支持体上に少なくとも板状
磁性体を分散させた塗布液８を塗布した後にドクターブ
レード４により掻き落として磁性層１５を形成するとき
に、前記塗布液８を湿潤状態で前記磁性体の平均直径の
１０倍以下の厚みで塗布し、さらに前記磁性層の乾燥膜
厚を０．４μｍ以下とする磁気記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体んも製造
方法に関し、さらに詳しくは、長波長から短波長の広い
波長領域にわたって再生出力が高く、磁性層内の磁性粒
子の磁化容易軸が支持体の面に対して任意の角度の垂直
成分を有する高密度な記録が可能な磁気記録媒体の製造
方法に関する。
方法に関し、さらに詳しくは、長波長から短波長の広い
波長領域にわたって再生出力が高く、磁性層内の磁性粒
子の磁化容易軸が支持体の面に対して任意の角度の垂直
成分を有する高密度な記録が可能な磁気記録媒体の製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、例えば磁気テープ、フロッピ
イディスク等の磁気記録媒体は、一般に走行する帯状の
可撓性支持体上に有機溶剤で溶解された樹脂中に磁性微
粒子を分散させてなる塗布液を塗布し、引き続きその塗
布層を配向処理、乾燥固化および表面処理した後、裁断
あるいは打ち抜いて製造されている。磁気テープ、フロ
ッピーディスクに対し、限られた記録面積内に大容量の
情報を記録するいわゆる高密度化への要求がますます強
まってきており、このために磁気ヘッドから発生する磁
束を微小な面積に集中させなければならず、磁気ヘッド
の小型化が進められている。この磁気ヘッドの小型化に
よる発生磁束の減少に伴ない、磁化の方向を反転させる
ことができる磁性層の体積も減少するため、記録の高密
度化に対して磁性層の薄層化が要求されている。
イディスク等の磁気記録媒体は、一般に走行する帯状の
可撓性支持体上に有機溶剤で溶解された樹脂中に磁性微
粒子を分散させてなる塗布液を塗布し、引き続きその塗
布層を配向処理、乾燥固化および表面処理した後、裁断
あるいは打ち抜いて製造されている。磁気テープ、フロ
ッピーディスクに対し、限られた記録面積内に大容量の
情報を記録するいわゆる高密度化への要求がますます強
まってきており、このために磁気ヘッドから発生する磁
束を微小な面積に集中させなければならず、磁気ヘッド
の小型化が進められている。この磁気ヘッドの小型化に
よる発生磁束の減少に伴ない、磁化の方向を反転させる
ことができる磁性層の体積も減少するため、記録の高密
度化に対して磁性層の薄層化が要求されている。
【０００３】又、記録の高密度化を図るべく磁性層の薄
層化する提案（例えば、特開平４−１１９５２０号公報
など）はこれまで種々行われている。また、磁気記録、
再生にはＣｏ含有磁性酸化鉄、ＣｒＯ2 などの針状結晶
からなる強磁性体をバインダー中に分散させた磁性塗液
を非磁性支持体に塗布した磁気記録媒体が広く用いられ
てきた。上述のごとく近年においては、記録密度の向上
が強く要望されており、従来のＣｏ含有磁性酸化鉄にお
いても、より微粒子化されてきている。しかしながら、
短波長の高周波領域での再生出力を上げるには、まだ不
充分である。そこで、特に最近、板状の六方晶フエライ
ト系の強磁性体が開発されているが、この磁性体を用い
た磁気記録媒体は短波長の高周波側の出力が高いことが
知られている。また、特公平５−２０８０８号公報に
は、バリウムフエライト系の磁性体とｒ−Ｆｅ2 Ｏ3 系
磁性粉とを用いて、強磁性合金粉末を含む第１の磁性層
の上にきわめて薄層の六方晶フエライト系の磁性体を含
む第２の磁性層を設けるという構成、これらの磁性材料
の組合せの時に低周波側から高周波側まで顕著に高い再
生出力が得られることが開示されている。
層化する提案（例えば、特開平４−１１９５２０号公報
など）はこれまで種々行われている。また、磁気記録、
再生にはＣｏ含有磁性酸化鉄、ＣｒＯ2 などの針状結晶
からなる強磁性体をバインダー中に分散させた磁性塗液
を非磁性支持体に塗布した磁気記録媒体が広く用いられ
てきた。上述のごとく近年においては、記録密度の向上
が強く要望されており、従来のＣｏ含有磁性酸化鉄にお
いても、より微粒子化されてきている。しかしながら、
短波長の高周波領域での再生出力を上げるには、まだ不
充分である。そこで、特に最近、板状の六方晶フエライ
ト系の強磁性体が開発されているが、この磁性体を用い
た磁気記録媒体は短波長の高周波側の出力が高いことが
知られている。また、特公平５−２０８０８号公報に
は、バリウムフエライト系の磁性体とｒ−Ｆｅ2 Ｏ3 系
磁性粉とを用いて、強磁性合金粉末を含む第１の磁性層
の上にきわめて薄層の六方晶フエライト系の磁性体を含
む第２の磁性層を設けるという構成、これらの磁性材料
の組合せの時に低周波側から高周波側まで顕著に高い再
生出力が得られることが開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高密度
の記録に適した従来における垂直配向媒体を得る方法と
しては、ほとんどの場合において、磁性層を単に薄く塗
布する技術的方向性（特開平４−１１９５２０号公報な
ど）をもった内容であったり、或いは特公平５−２０８
０８号公報の如く異なった性質の磁性層を多層にしたり
して比較的複雑な塗布方法を用いたものであった。ま
た、従来においては、磁性体粒子はできるだけ密に充填
され、同一の方向を向いていることが好ましいことはご
く一般にいわれていることから、その充填密度をあげた
り、配向を工夫したりする方法も多数提案されている。
しかし、この配向等においては、できるだけ好ましい状
態にすべく各種の配向操作が施されるのだが、完璧では
有り得えず、より品質を高める方向性が模索されてい
る。
の記録に適した従来における垂直配向媒体を得る方法と
しては、ほとんどの場合において、磁性層を単に薄く塗
布する技術的方向性（特開平４−１１９５２０号公報な
ど）をもった内容であったり、或いは特公平５−２０８
０８号公報の如く異なった性質の磁性層を多層にしたり
して比較的複雑な塗布方法を用いたものであった。ま
た、従来においては、磁性体粒子はできるだけ密に充填
され、同一の方向を向いていることが好ましいことはご
く一般にいわれていることから、その充填密度をあげた
り、配向を工夫したりする方法も多数提案されている。
しかし、この配向等においては、できるだけ好ましい状
態にすべく各種の配向操作が施されるのだが、完璧では
有り得えず、より品質を高める方向性が模索されてい
る。
【０００５】すなわち、従来においては単に薄く塗布す
るとか、複雑な塗布方法を用いたり、配向磁場のかけ方
を工夫した配向方法を採用したものであって、複雑な方
法が採用されているのが現状であり、又、どのような点
を目安にすれば高品質な磁性層が安定的に製造できるの
かを極めて簡単な目安で規定できる磁気記録媒体の製造
方法は提案されていなかった。本発明は前述の問題に鑑
みて提案されたものであり、高密度記録に適した、良好
な高品質の磁気記録媒体を安定して生産できる極めて平
易な磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
るとか、複雑な塗布方法を用いたり、配向磁場のかけ方
を工夫した配向方法を採用したものであって、複雑な方
法が採用されているのが現状であり、又、どのような点
を目安にすれば高品質な磁性層が安定的に製造できるの
かを極めて簡単な目安で規定できる磁気記録媒体の製造
方法は提案されていなかった。本発明は前述の問題に鑑
みて提案されたものであり、高密度記録に適した、良好
な高品質の磁気記録媒体を安定して生産できる極めて平
易な磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、連
続的に走行する支持体上に少なくとも板状磁性体を分散
させた塗布液を塗布した後にドクターブレードにより掻
き落として磁性層を形成するときに、前記塗布液を湿潤
状態で前記磁性体の平均直径の１０倍以下の厚みで塗布
し、さらに前記磁性層の乾燥膜厚を０．４μｍ以下とす
る磁気記録媒体の製造方法により達成することができ
る。また、上記方法に加えて、前記塗布液における固形
成分と塗布液全体との重量比率を１対３〜１対１０の範
囲としたり、また、前記板状磁性体の粒子直径を０．０
３μｍ〜０．２μｍの範囲としたり、更に、前記塗布液
を前記ドクターブレードにより掻き落とした後に、前記
磁性層に対して、該層の厚み方向に沿った磁界をかけて
配向する磁気記録媒体の製造方法によっても上記目的を
達成することができるものである。
続的に走行する支持体上に少なくとも板状磁性体を分散
させた塗布液を塗布した後にドクターブレードにより掻
き落として磁性層を形成するときに、前記塗布液を湿潤
状態で前記磁性体の平均直径の１０倍以下の厚みで塗布
し、さらに前記磁性層の乾燥膜厚を０．４μｍ以下とす
る磁気記録媒体の製造方法により達成することができ
る。また、上記方法に加えて、前記塗布液における固形
成分と塗布液全体との重量比率を１対３〜１対１０の範
囲としたり、また、前記板状磁性体の粒子直径を０．０
３μｍ〜０．２μｍの範囲としたり、更に、前記塗布液
を前記ドクターブレードにより掻き落とした後に、前記
磁性層に対して、該層の厚み方向に沿った磁界をかけて
配向する磁気記録媒体の製造方法によっても上記目的を
達成することができるものである。
【０００７】
【実施態様】以下、添付図面に従って本発明の実施態様
を詳細に説明する。図１は本発明の塗布装置の一例を示
す側面図であり、図２は図１に示したドクターブレード
の部分の拡大図である。図１に示すように、支持ローラ
５と９との間において加圧型エクストルージョン塗布ヘ
ッド７により塗布液８が支持体１（以下、ウエブとい
う）上に比較的薄層に塗布される。前記塗布液８が塗布
されたウエブ１は、その後ウエブ搬送装置により支持ロ
ーラ５，６を迂回させられる。又、前記支持ローラ５と
前記支持ローラ６の間にドクターブレード４が設けられ
ている。前記ドクターブレード４はほぼウエブ１の巾方
向に沿ってウエブの進行方向と直角に配置されている。
前記ドクターブレード４を前記ウエブ１に押しつけて
（実際には塗布液が間に介在するので非接触）、前記ウ
エブ１の表面から所望量の前記塗布液８の一部を掻き落
として所定の薄層の塗膜１５とする。前記塗布液８は送
液ポンプ１０等を備えた送液系にて適宜行われる。
を詳細に説明する。図１は本発明の塗布装置の一例を示
す側面図であり、図２は図１に示したドクターブレード
の部分の拡大図である。図１に示すように、支持ローラ
５と９との間において加圧型エクストルージョン塗布ヘ
ッド７により塗布液８が支持体１（以下、ウエブとい
う）上に比較的薄層に塗布される。前記塗布液８が塗布
されたウエブ１は、その後ウエブ搬送装置により支持ロ
ーラ５，６を迂回させられる。又、前記支持ローラ５と
前記支持ローラ６の間にドクターブレード４が設けられ
ている。前記ドクターブレード４はほぼウエブ１の巾方
向に沿ってウエブの進行方向と直角に配置されている。
前記ドクターブレード４を前記ウエブ１に押しつけて
（実際には塗布液が間に介在するので非接触）、前記ウ
エブ１の表面から所望量の前記塗布液８の一部を掻き落
として所定の薄層の塗膜１５とする。前記塗布液８は送
液ポンプ１０等を備えた送液系にて適宜行われる。
【０００８】前記塗膜１５は、前記ドクターブレード４
により掻き落として磁性層を形成するときに、該塗膜１
５を湿潤状態で図７に示すような板状磁性体７０の平均
直径Ｄの１０倍以下の厚みで塗布される。さらに前記塗
膜１５は必要に応じて磁場配向部２０にて適宜配向し、
その後乾燥室３０にて適宜搬送される。また、図示はし
ないが、乾燥後若しくは乾燥中においてカレンダー処理
して所定長の原反ロールが製造される。そして、この乾
燥した前記塗膜１５は乾燥膜厚が０．４μｍ以下となる
ようにしている。このようにすることにより、前記塗膜
１５が湿潤状態で前記板状磁性体７０の大きさ（平均直
径Ｄ）に対して、１０倍以下の厚みとなっていることに
より、該板状磁性体７０の凝集が起こり難くなるものと
推測され、この結果、前記板状磁性体７０は前記塗布液
８の分散時の単一な結晶状態を保ち易い状態に保たれて
おり、また、塗膜面にその平板面が沿うような配列状態
になるものと推定される。
により掻き落として磁性層を形成するときに、該塗膜１
５を湿潤状態で図７に示すような板状磁性体７０の平均
直径Ｄの１０倍以下の厚みで塗布される。さらに前記塗
膜１５は必要に応じて磁場配向部２０にて適宜配向し、
その後乾燥室３０にて適宜搬送される。また、図示はし
ないが、乾燥後若しくは乾燥中においてカレンダー処理
して所定長の原反ロールが製造される。そして、この乾
燥した前記塗膜１５は乾燥膜厚が０．４μｍ以下となる
ようにしている。このようにすることにより、前記塗膜
１５が湿潤状態で前記板状磁性体７０の大きさ（平均直
径Ｄ）に対して、１０倍以下の厚みとなっていることに
より、該板状磁性体７０の凝集が起こり難くなるものと
推測され、この結果、前記板状磁性体７０は前記塗布液
８の分散時の単一な結晶状態を保ち易い状態に保たれて
おり、また、塗膜面にその平板面が沿うような配列状態
になるものと推定される。
【０００９】これは、前記塗布ヘッド７によって比較的
薄く（湿潤状態で２〜５μｍ程度）塗布された後に、前
記ドクターブレード４により更に薄くなるように掻き落
とされるときおいて、上記配列状態に寄与するある程度
機械的な付勢が加えられるのかもしれない。この結果、
前記板状磁性体７０の配列状態を磁気特性上好ましい状
態とすることができる。また、この方法においては、塗
布工程等に特に複雑な操作を必要とすることなく、垂直
方向の配向がなされた磁気記録媒体を安定して且つ生産
性よく提供できる。なお、前記板状磁性体７０において
は、その厚みＴと最大径Ｄとの比（D/T)を板状比とす
る。また、前記板状磁性体７０はその結晶構造で大きさ
にばらつきが有るために平均粒径とすることによりその
大きさを定義することができる。さらに、前記板状磁性
体７０は前記塗布液８を造るときに、ボールミル等の装
置により所定の時間攪拌分散されるが、該板状磁性体７
０はこの分散工程によって欠けたりすることは殆どな
い。したがって、その平均粒径は磁性層を形成している
ときと、素材のときとの差はなく、素材時の平均粒径で
容易に測定することができる。
薄く（湿潤状態で２〜５μｍ程度）塗布された後に、前
記ドクターブレード４により更に薄くなるように掻き落
とされるときおいて、上記配列状態に寄与するある程度
機械的な付勢が加えられるのかもしれない。この結果、
前記板状磁性体７０の配列状態を磁気特性上好ましい状
態とすることができる。また、この方法においては、塗
布工程等に特に複雑な操作を必要とすることなく、垂直
方向の配向がなされた磁気記録媒体を安定して且つ生産
性よく提供できる。なお、前記板状磁性体７０において
は、その厚みＴと最大径Ｄとの比（D/T)を板状比とす
る。また、前記板状磁性体７０はその結晶構造で大きさ
にばらつきが有るために平均粒径とすることによりその
大きさを定義することができる。さらに、前記板状磁性
体７０は前記塗布液８を造るときに、ボールミル等の装
置により所定の時間攪拌分散されるが、該板状磁性体７
０はこの分散工程によって欠けたりすることは殆どな
い。したがって、その平均粒径は磁性層を形成している
ときと、素材のときとの差はなく、素材時の平均粒径で
容易に測定することができる。
【００１０】図２は本実施態様における前記ブレード４
の先端部分の拡大断面略図であって、前記塗布液８の一
部が掻き落とされる様子を示す。前記ブレード４におけ
る前記ウエブ１と対面する先端面１１は、例えば２ｍｍ
〜３０ｍｍの曲率Ｒで湾曲した構成とすることができ
る。前記ウエブ１を前記先端面１１の入射角（前縁にお
ける接線Ｘとの角度）である上流側ベースラップ角θｉ
ｎを例えば−２°〜１０°（図中上側をプラスのラップ
とする）の範囲でラップした状態で進入させる。前記ブ
レード４を上記の曲率で湾曲させ且つ前記角度θｉｎを
前記のように設定するとともに、前記ウエブ１のテンシ
ョンを適宜設定し、更に離れ角である下側ベースラップ
角θｏｕｔ（後縁における接線Ｙとの角度であって図中
下側にプラスとする）をも適度に設定することにより、
前記ウエブ１と前記先端面１１との間隙を極狭く抑えて
該間隙を通過する塗布液量を微少にすることが可能であ
る。又、一般には前記ブレード４の上流端の前記接線Ｘ
よりも甘い角度（プラスの角度）で前記ウエブ１を入射
させることでウエブの削れに対する対策をする。
の先端部分の拡大断面略図であって、前記塗布液８の一
部が掻き落とされる様子を示す。前記ブレード４におけ
る前記ウエブ１と対面する先端面１１は、例えば２ｍｍ
〜３０ｍｍの曲率Ｒで湾曲した構成とすることができ
る。前記ウエブ１を前記先端面１１の入射角（前縁にお
ける接線Ｘとの角度）である上流側ベースラップ角θｉ
ｎを例えば−２°〜１０°（図中上側をプラスのラップ
とする）の範囲でラップした状態で進入させる。前記ブ
レード４を上記の曲率で湾曲させ且つ前記角度θｉｎを
前記のように設定するとともに、前記ウエブ１のテンシ
ョンを適宜設定し、更に離れ角である下側ベースラップ
角θｏｕｔ（後縁における接線Ｙとの角度であって図中
下側にプラスとする）をも適度に設定することにより、
前記ウエブ１と前記先端面１１との間隙を極狭く抑えて
該間隙を通過する塗布液量を微少にすることが可能であ
る。又、一般には前記ブレード４の上流端の前記接線Ｘ
よりも甘い角度（プラスの角度）で前記ウエブ１を入射
させることでウエブの削れに対する対策をする。
【００１１】又、前記ウエブ１を前記先端面１１の接線
方向に概ね沿った方向にラップさせて進入させることに
より、前記塗布液８内の異物がトラップせず前記先端面
１１上に入り込み通過し易い構造となっている。尚、塗
布膜厚の調整は、例えばドクタブレードのＲ形状、前記
ウエブ１のラップ角である入射角( θin＝−５°〜２０
°）、離れ角( θout ＝−５°〜１０°）、前記ウエブ
１の搬送速度( ２０m/分 〜２００ m/ 分) 、張力( ５
kgf/m 〜30kgf/m ）、塗布液の物性（特にロトビスコ粘
度計ν＝４６５００sec -1における粘性が３ｃｐ〜２５
ｃｐ）によって調整することができる。これらの数値範
囲は適宜変更可能することができ、特にθin及びθout
はドクタブレードのＲ形状に大きく左右されるものであ
る。
方向に概ね沿った方向にラップさせて進入させることに
より、前記塗布液８内の異物がトラップせず前記先端面
１１上に入り込み通過し易い構造となっている。尚、塗
布膜厚の調整は、例えばドクタブレードのＲ形状、前記
ウエブ１のラップ角である入射角( θin＝−５°〜２０
°）、離れ角( θout ＝−５°〜１０°）、前記ウエブ
１の搬送速度( ２０m/分 〜２００ m/ 分) 、張力( ５
kgf/m 〜30kgf/m ）、塗布液の物性（特にロトビスコ粘
度計ν＝４６５００sec -1における粘性が３ｃｐ〜２５
ｃｐ）によって調整することができる。これらの数値範
囲は適宜変更可能することができ、特にθin及びθout
はドクタブレードのＲ形状に大きく左右されるものであ
る。
【００１２】また、前記先端面１１が湾曲した形状の前
記ドクターブレード４により前記塗布液８を掻き取る
と、前述の如くほぼ均一な厚みの薄層の塗膜が残存する
だけでなく、前記ブレード４に対向して前記ウエブ１の
サポート（バックアップロール）がないため該ウエブ上
の異物のブレード先端通過性がバックアップロール付ド
クターブレードより良好でスジ発生やウエブ切断のトラ
ブルを極端に少なくすることができる。これは下記のよ
うな理由によるもので、この理由を基に上述の膜厚制御
条件を設定することにより良好な成膜が達成される。な
お、上流側ベースラップ角θｉｎ（先端面１１のブレー
ド上流端接線を０°、口開き側をプラスとする）の増加
に伴ない、塗布量が増加するが、このラップ角を大から
小にしていくときθｉｎ＝０°近傍はブレード上流端
（上流エッジ）の影響により塗布量が急激に変化し易
い。
記ドクターブレード４により前記塗布液８を掻き取る
と、前述の如くほぼ均一な厚みの薄層の塗膜が残存する
だけでなく、前記ブレード４に対向して前記ウエブ１の
サポート（バックアップロール）がないため該ウエブ上
の異物のブレード先端通過性がバックアップロール付ド
クターブレードより良好でスジ発生やウエブ切断のトラ
ブルを極端に少なくすることができる。これは下記のよ
うな理由によるもので、この理由を基に上述の膜厚制御
条件を設定することにより良好な成膜が達成される。な
お、上流側ベースラップ角θｉｎ（先端面１１のブレー
ド上流端接線を０°、口開き側をプラスとする）の増加
に伴ない、塗布量が増加するが、このラップ角を大から
小にしていくときθｉｎ＝０°近傍はブレード上流端
（上流エッジ）の影響により塗布量が急激に変化し易
い。
【００１３】また、下流側ベースラップ角θｏｕｔ（先
端面１１のブレード下流端接線を０°、口開き側をプラ
スとする）の増加に伴ない塗布量が減少する。このラッ
プ角による塗布量の調整は前記ブレード４の厚みｔが薄
いほど容易である。この厚みｔは例えば０．３ｍｍ〜１
０ｍｍ程度とすることができるが、ドクターブレードの
Ｒ形状（寸法）によってはこの範囲外の場合もある。さ
らに、前記ドクターブレード４の曲率Ｒの大きさに関し
ては、ほぼ曲率Ｒの大きさに比例して塗布量が増加す
る。これはウエブの曲げ剛性が無視できる場合、ブレー
ド先端の液圧が曲率Ｒに反比例するためと考えられる。
又、ドクターブレードのＲ形状によっては塗布不可能な
厚みも考えられる（例えば、曲率半径Ｒが５ｍｍのドク
ターブレードにおいては１０ｍｍ程度の塗布厚みはほと
んど塗布できない）。また、前記ウエブ１のテンション
に関しては、テンションの増加に伴ない塗布量が減少す
る。これはブレードの曲率Ｒの大きさ同様テンション増
加に伴なうブレード先端の液圧増加による。
端面１１のブレード下流端接線を０°、口開き側をプラ
スとする）の増加に伴ない塗布量が減少する。このラッ
プ角による塗布量の調整は前記ブレード４の厚みｔが薄
いほど容易である。この厚みｔは例えば０．３ｍｍ〜１
０ｍｍ程度とすることができるが、ドクターブレードの
Ｒ形状（寸法）によってはこの範囲外の場合もある。さ
らに、前記ドクターブレード４の曲率Ｒの大きさに関し
ては、ほぼ曲率Ｒの大きさに比例して塗布量が増加す
る。これはウエブの曲げ剛性が無視できる場合、ブレー
ド先端の液圧が曲率Ｒに反比例するためと考えられる。
又、ドクターブレードのＲ形状によっては塗布不可能な
厚みも考えられる（例えば、曲率半径Ｒが５ｍｍのドク
ターブレードにおいては１０ｍｍ程度の塗布厚みはほと
んど塗布できない）。また、前記ウエブ１のテンション
に関しては、テンションの増加に伴ない塗布量が減少す
る。これはブレードの曲率Ｒの大きさ同様テンション増
加に伴なうブレード先端の液圧増加による。
【００１４】前記ブレード４はＷＣ−ＴＡＣの如き超硬
合金またはファインセラミックス、アルミナＡ−１５
０、ジルコニア等の硬質体か、少なくとも表面部分をこ
れらの材料で被覆した部材より構成されており、その表
面はＲmax で０．５μｍ以下のあらさ、すなわち、高度
の平滑性を有しているものである。上記実施態様におい
ては、塗布装置として、加圧型エクストージョン塗布ヘ
ッドを用いたが、本発明においては、これに限定される
ものではなく、その他種々の塗布装置を用いることがで
きる。
合金またはファインセラミックス、アルミナＡ−１５
０、ジルコニア等の硬質体か、少なくとも表面部分をこ
れらの材料で被覆した部材より構成されており、その表
面はＲmax で０．５μｍ以下のあらさ、すなわち、高度
の平滑性を有しているものである。上記実施態様におい
ては、塗布装置として、加圧型エクストージョン塗布ヘ
ッドを用いたが、本発明においては、これに限定される
ものではなく、その他種々の塗布装置を用いることがで
きる。
【００１５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の方法は、連
続的に走行する支持体上に少なくとも板状磁性体を分散
させた塗布液を塗布した後にドクターブレードにより掻
き落として磁性層を形成するときに、前記塗布液を湿潤
状態で前記磁性体の平均直径の１０倍以下の厚みで塗布
し、さらに前記磁性層の乾燥膜厚を０．４μｍ以下とす
るという極めて簡単な方法によって、板状磁性体の配列
状態を磁気特性上好ましい状態とすることができ、よっ
て均一な垂直配向がなされた磁気記録媒体を安定して且
つ生産性よく提供することができた。
続的に走行する支持体上に少なくとも板状磁性体を分散
させた塗布液を塗布した後にドクターブレードにより掻
き落として磁性層を形成するときに、前記塗布液を湿潤
状態で前記磁性体の平均直径の１０倍以下の厚みで塗布
し、さらに前記磁性層の乾燥膜厚を０．４μｍ以下とす
るという極めて簡単な方法によって、板状磁性体の配列
状態を磁気特性上好ましい状態とすることができ、よっ
て均一な垂直配向がなされた磁気記録媒体を安定して且
つ生産性よく提供することができた。
【００１６】
【実施例】試験方法としては、二つの方法を用いて行っ
た。その第一試験方法は、 １．塗布液 ：表１に示すものを用いた。 ２．塗布装置：図１に示した加圧型エクストルージョン
ヘッドにより塗布した後、先端部がＲ形状のブレードに
より掻き落として、所望の塗布液の残存量を得た。な
お、塗布残存量の調整は支持体のテンションと支持体の
ラップ角度によって行った。 ３．配向磁石：Ｎ−Ｓ対向磁石による配向とした。磁石
中心部の磁界を測定したところ５５００ガウスを示し
た。 ４．乾燥 ：乾燥室内の温度と風量を一定にして乾燥
を行った。
た。その第一試験方法は、 １．塗布液 ：表１に示すものを用いた。 ２．塗布装置：図１に示した加圧型エクストルージョン
ヘッドにより塗布した後、先端部がＲ形状のブレードに
より掻き落として、所望の塗布液の残存量を得た。な
お、塗布残存量の調整は支持体のテンションと支持体の
ラップ角度によって行った。 ３．配向磁石：Ｎ−Ｓ対向磁石による配向とした。磁石
中心部の磁界を測定したところ５５００ガウスを示し
た。 ４．乾燥 ：乾燥室内の温度と風量を一定にして乾燥
を行った。
【００１７】第二試験方法としては、塗布条件は上記第
一試験方法に準じ、特に垂直配向を行わず、塗布膜厚、
液組成（表１）を変えてサンプルを採取した。
一試験方法に準じ、特に垂直配向を行わず、塗布膜厚、
液組成（表１）を変えてサンプルを採取した。
【００１８】（サンプルの特性の測定方法）ＶＳＭ（Vi
brating Sample Magnetometer:振動試料型磁力計、東英
工業株式会社製）によって膜面に対して平行・垂直の２
方向にＨｃを測定し、両者の比によって垂直方向の配向
度合を抗磁力比として評価した。なお、図３から図６に
示したグラフの縦軸にこの抗磁力比を用いた。
brating Sample Magnetometer:振動試料型磁力計、東英
工業株式会社製）によって膜面に対して平行・垂直の２
方向にＨｃを測定し、両者の比によって垂直方向の配向
度合を抗磁力比として評価した。なお、図３から図６に
示したグラフの縦軸にこの抗磁力比を用いた。
【００１９】 塗布液について （Ａ液） （重量部） Ｃｏ置換ＢａＦｅ ３００部 平均粒径０．１μｍ、板状比３．３ 平均厚さ０．０３μｍ、抗磁力６６０ Oe 塩化ビニル・酢酸ビニル・無水マレイン酸 共重合体 重合度４５０ ４５部 ステアリン酸アミル １０部 レシチン ３部 酸化クロム ５部 メチルエチルケトン（ＭＥＫ） Ｘ部 シクロヘキサノン（アノン） Ｘ部
【００２０】（Ｂ液） Ｃｏ置換ＢａＦｅ ３００部 平均粒径０．２μｍ、板状比５．５ 平均厚さ０．０４μｍ、抗磁力７００ Oe これ以外については全て前記Ａ液と同処方とした。 （Ｃ液） Ｃｏ置換ＢａＦｅ ３００部 平均粒径０．０３μｍ、板状比６．０ 平均厚さ０．００５μｍ、抗磁力５８０ Oe これ以外については全て前記Ａ液と同処方とした。
【００２１】以上のＡ、Ｂ、Ｃ液をそれぞれＭＥＫ：ア
ノン＝１：１の希釈溶剤（上記ように共にＸ重量部）に
よって所望濃度まで希釈し、塗布液として用いた。各サ
ンプルの塗布液の液表示記号とその濃度（Ｃｏ置換Ｂａ
Ｆｅと塗布液全体との重量比）は表１のとおりである。
因みに、塗布液Ａ−０の場合はメチルエチルケトン並び
にシクロヘキサノンが共に３００重量部である。
ノン＝１：１の希釈溶剤（上記ように共にＸ重量部）に
よって所望濃度まで希釈し、塗布液として用いた。各サ
ンプルの塗布液の液表示記号とその濃度（Ｃｏ置換Ｂａ
Ｆｅと塗布液全体との重量比）は表１のとおりである。
因みに、塗布液Ａ−０の場合はメチルエチルケトン並び
にシクロヘキサノンが共に３００重量部である。
【００２２】
【表１】
【００２３】塗布装置については、更に詳細には、ドク
タブレードのＲ形状を半径２ｍｍ、刃先厚みt は０．８
ｍｍとし、又、支持体の入射角はθin＝５°、離れ角は
θout ＝０°、支持体の搬送速度は５０〜２００m/min
、張力は２０ｋｇｆ／ｍとした。
タブレードのＲ形状を半径２ｍｍ、刃先厚みt は０．８
ｍｍとし、又、支持体の入射角はθin＝５°、離れ角は
θout ＝０°、支持体の搬送速度は５０〜２００m/min
、張力は２０ｋｇｆ／ｍとした。
【００２４】実施例の結果は図３から図６に示す。 （実施例−１）塗布液は表１に示す液表示記号がＡ−０
のものを使用した。そして、速度を変えて配向状態を観
察したデータを図３に示す。速度条件によって配向の程
度が変わり、厚み〜速度の最適値があるのがわかるが、
膜厚が０．４μｍを切った辺りから塗布速度によらず、
配向性が向上する様子がわかる。同様に、図４に示すよ
うに、今度は配向磁石を用いずに塗布した結果を示す。
配向磁石を用いていないにも関わらず、やはり０．４μ
ｍ以下の厚みにおいて垂直方向に配向されることが見て
とれる。
のものを使用した。そして、速度を変えて配向状態を観
察したデータを図３に示す。速度条件によって配向の程
度が変わり、厚み〜速度の最適値があるのがわかるが、
膜厚が０．４μｍを切った辺りから塗布速度によらず、
配向性が向上する様子がわかる。同様に、図４に示すよ
うに、今度は配向磁石を用いずに塗布した結果を示す。
配向磁石を用いていないにも関わらず、やはり０．４μ
ｍ以下の厚みにおいて垂直方向に配向されることが見て
とれる。
【００２５】（実施例−２）本実施例においては液を変
え、配向を行なわずに塗布を行なった結果を以下に示
す。図３及び図４において、膜厚と垂直配向性は０．４
μｍ付近を境に向上するものの、一定の液を用いた実施
例−１に比較して、関連が薄くなったように見てとれ
る。しかし、膜厚を乾燥時の膜厚でなく、湿潤時の膜厚
として整理したところ、磁性体の種類に因ってある法則
が明らかになった。（図５及び図６） すなわち、実施例−２の結果は磁性体粒子の直径の１０
倍以内の湿潤膜厚（液膜厚）において塗布すると、驚く
べきことに磁場配向しなくても配向性が向上する法則が
あることを示すものであった。以上のことから、本発明
は塗布液における固形成分と塗布液全体量との重量比を
１対３〜１対１０の範囲にすることで良好な結果を得
た。板状磁性体の粒子直径が０．０３〜２．０μｍの範
囲において特に良い結果を得ることができた。また、塗
布液を前記ドクターブレードにより掻き落とした後に、
磁性層に対して、該層の厚み方向に沿った磁界をかけて
配向した場合には、さらに良い結果を得ることができた
ことが判る。
え、配向を行なわずに塗布を行なった結果を以下に示
す。図３及び図４において、膜厚と垂直配向性は０．４
μｍ付近を境に向上するものの、一定の液を用いた実施
例−１に比較して、関連が薄くなったように見てとれ
る。しかし、膜厚を乾燥時の膜厚でなく、湿潤時の膜厚
として整理したところ、磁性体の種類に因ってある法則
が明らかになった。（図５及び図６） すなわち、実施例−２の結果は磁性体粒子の直径の１０
倍以内の湿潤膜厚（液膜厚）において塗布すると、驚く
べきことに磁場配向しなくても配向性が向上する法則が
あることを示すものであった。以上のことから、本発明
は塗布液における固形成分と塗布液全体量との重量比を
１対３〜１対１０の範囲にすることで良好な結果を得
た。板状磁性体の粒子直径が０．０３〜２．０μｍの範
囲において特に良い結果を得ることができた。また、塗
布液を前記ドクターブレードにより掻き落とした後に、
磁性層に対して、該層の厚み方向に沿った磁界をかけて
配向した場合には、さらに良い結果を得ることができた
ことが判る。
【００２６】
【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法を実施した塗
布装置の概略図である。
布装置の概略図である。
【図２】図１に示した装置におけるブレード部分の拡大
図である。
図である。
【図３】塗布速度を変えた時の配向状態をみるグラフで
あって、磁場配向したときのＨｃ率と乾燥磁性層厚みの
関係を示すグラフである。
あって、磁場配向したときのＨｃ率と乾燥磁性層厚みの
関係を示すグラフである。
【図４】塗布速度を変えた時の配向状態をみるグラフで
あって、磁場配向しなかったときのＨｃ率と乾燥磁性層
厚みの関係を示すグラフである。
あって、磁場配向しなかったときのＨｃ率と乾燥磁性層
厚みの関係を示すグラフである。
【図５】塗布速度を変えた時の配向状態をみるグラフで
あって、磁場配向しなかったときのＨｃ率と乾燥磁性層
厚みの関係を示すグラフである。
あって、磁場配向しなかったときのＨｃ率と乾燥磁性層
厚みの関係を示すグラフである。
【図６】塗布速度を変えた時の配向状態をみるグラフで
あって、磁場配向しなかったときのＨｃ率と未乾燥状態
における磁性層厚みの関係を示すグラフである。
あって、磁場配向しなかったときのＨｃ率と未乾燥状態
における磁性層厚みの関係を示すグラフである。
【図７】板状磁性体の斜視図である。
１ 支持体（ウエブ） ４ ドクターブレード ５、６、９ 支持ローラ １０ 送液ポンプ １１ 先端面 ２０ 磁場配向部 ３０ 乾燥室
Claims (4)
- 【請求項１】 連続的に走行する支持体上に少なくとも
板状磁性体を分散させた塗布液を塗布した後にドクター
ブレードにより掻き落として磁性層を形成するときに、
前記塗布液を湿潤状態で前記磁性体の平均直径の１０倍
以下の厚みで塗布し、さらに前記磁性層の乾燥膜厚を
０．４μｍ以下とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 前記塗布液における固形成分と塗布液全
体との重量比率を１対３〜１対１０の範囲とする請求項
１の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 前記板状磁性体の粒子直径を０．０３μ
ｍ〜０．２μｍの範囲とする請求項１の磁気記録媒体の
製造方法。 - 【請求項４】 前記塗布液を前記ドクターブレードによ
り掻き落とした後に、前記磁性層に対して、該層の厚み
方向に沿った磁界をかけて配向することを特徴とする請
求項１乃至４のいずれか記載の磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10440194A JP3306839B2 (ja) | 1994-04-20 | 1994-04-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10440194A JP3306839B2 (ja) | 1994-04-20 | 1994-04-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07287843A true JPH07287843A (ja) | 1995-10-31 |
| JP3306839B2 JP3306839B2 (ja) | 2002-07-24 |
Family
ID=14379705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10440194A Expired - Fee Related JP3306839B2 (ja) | 1994-04-20 | 1994-04-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3306839B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001020602A1 (fr) * | 1999-09-10 | 2001-03-22 | Tdk Corporation | Procede de production d'un support d'enregistrement magnetique |
| US6207223B1 (en) | 1998-07-22 | 2001-03-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing magnetic recording medium |
| EP1336435A2 (en) | 2002-02-19 | 2003-08-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method |
| EP1346776A2 (en) | 2002-02-19 | 2003-09-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating apparatus |
| US6833157B2 (en) | 2001-09-28 | 2004-12-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method and apparatus |
-
1994
- 1994-04-20 JP JP10440194A patent/JP3306839B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6207223B1 (en) | 1998-07-22 | 2001-03-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for producing magnetic recording medium |
| WO2001020602A1 (fr) * | 1999-09-10 | 2001-03-22 | Tdk Corporation | Procede de production d'un support d'enregistrement magnetique |
| US6740353B1 (en) | 1999-09-10 | 2004-05-25 | Tdk Corporation | Process for producing magnetic recording medium |
| US6833157B2 (en) | 2001-09-28 | 2004-12-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method and apparatus |
| US7112348B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-09-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method and apparatus |
| EP1336435A2 (en) | 2002-02-19 | 2003-08-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method |
| EP1346776A2 (en) | 2002-02-19 | 2003-09-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating apparatus |
| US6759091B2 (en) | 2002-02-19 | 2004-07-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method |
| US7018474B2 (en) | 2002-02-19 | 2006-03-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating apparatus |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3306839B2 (ja) | 2002-07-24 |
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