JPH072844A - 新規飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体 - Google Patents
新規飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体Info
- Publication number
- JPH072844A JPH072844A JP20572093A JP20572093A JPH072844A JP H072844 A JPH072844 A JP H072844A JP 20572093 A JP20572093 A JP 20572093A JP 20572093 A JP20572093 A JP 20572093A JP H072844 A JPH072844 A JP H072844A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- pyridyl
- compound
- thiazolidine
- ethyl acetate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 一般式（Ｉ）で示される飽和ヘテロ環カルボ
ン酸アミド誘導体又はその塩。 （式中の記号は以下の意味を有する。 Ｒ1 ：ピリジル基又はキノリル基、 Ｒ2 ：水素原子、 Ｘ1 ：酸素原子又は硫黄原子、 Ｙ1 ：酸素原子又は＞Ｎ−Ｒ4 で示される基、 Ｒ4 ：水素原子、低級アルコキシカルボニル基又はアシ
ル基、 Ａ1 ：メチレン基、 Ｒ3 ：基−ＮＲ5 Ｒ6 （但しＲ5 ，Ｒ6 の一方は水素原
子又は低級アルキル基であり、他方は低級アルキル基、
低級アルコキシ基、アリールオキシ基、モノ（又はジ）
低級アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基、
ピリジル基、インドリル基、ベンズイミダゾル基等で置
換されていてもよいアルキル基等）。 【効果】 ＰＡＦ拮抗作用を有し、ＰＡＦによって惹起
される種々の疾病の治療、予防に有用であり、殊に抗喘
息剤、抗炎症剤、抗潰瘍剤、ショック症状の緩和剤、虚
血性心・脳疾患、肝疾患、血栓症及び腎炎の治療剤、臓
器移植時の拒絶抑制剤等として利用できる。
ン酸アミド誘導体又はその塩。 （式中の記号は以下の意味を有する。 Ｒ1 ：ピリジル基又はキノリル基、 Ｒ2 ：水素原子、 Ｘ1 ：酸素原子又は硫黄原子、 Ｙ1 ：酸素原子又は＞Ｎ−Ｒ4 で示される基、 Ｒ4 ：水素原子、低級アルコキシカルボニル基又はアシ
ル基、 Ａ1 ：メチレン基、 Ｒ3 ：基−ＮＲ5 Ｒ6 （但しＲ5 ，Ｒ6 の一方は水素原
子又は低級アルキル基であり、他方は低級アルキル基、
低級アルコキシ基、アリールオキシ基、モノ（又はジ）
低級アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基、
ピリジル基、インドリル基、ベンズイミダゾル基等で置
換されていてもよいアルキル基等）。 【効果】 ＰＡＦ拮抗作用を有し、ＰＡＦによって惹起
される種々の疾病の治療、予防に有用であり、殊に抗喘
息剤、抗炎症剤、抗潰瘍剤、ショック症状の緩和剤、虚
血性心・脳疾患、肝疾患、血栓症及び腎炎の治療剤、臓
器移植時の拒絶抑制剤等として利用できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、血小板活性化因子（Ｐ
ＡＦ）拮抗作用を有する新規な飽和ヘテロ環カルボン酸
アミド誘導体及びその塩に関する。
ＡＦ）拮抗作用を有する新規な飽和ヘテロ環カルボン酸
アミド誘導体及びその塩に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＰＡＦは、ヒトおよび動物の細胞より放
出される化学物質であり、下記式（化３）で示されるホ
スホリルコリンのアセチルグリセリルエーテルである。
出される化学物質であり、下記式（化３）で示されるホ
スホリルコリンのアセチルグリセリルエーテルである。
【０００３】
【化３】
【０００４】（式中ｌは１５または１７を意味する。） ＰＡＦは、気道平滑筋の収縮、血管透過性の亢進、血小
板の凝集、血圧降下等の生理活性を有し、喘息、炎症、
血栓症、ショック等の諸症状を惹き起こす因子と考えら
れている。それ故、ＰＡＦの生理活性に拮抗する物質の
研究が進められており、幾つかの抗ＰＡＦ薬が報告され
ている（たとえば、特開昭６１−９３１９１号、特開昭
６０−１１６６７９号、特開昭６０−１４２９３２号、
特開昭５９−１３４７９８号、特開昭６１−８７６８４
号、特開昭６１−３７７２６号）。本発明者等は、従来
の抗ＰＡＦ薬と化学構造を異にする新規な飽和ヘテロ環
カルボン酸アミド誘導体にすぐれた抗ＰＡＦ活性を認
め、本発明を完成した。
板の凝集、血圧降下等の生理活性を有し、喘息、炎症、
血栓症、ショック等の諸症状を惹き起こす因子と考えら
れている。それ故、ＰＡＦの生理活性に拮抗する物質の
研究が進められており、幾つかの抗ＰＡＦ薬が報告され
ている（たとえば、特開昭６１−９３１９１号、特開昭
６０−１１６６７９号、特開昭６０−１４２９３２号、
特開昭５９−１３４７９８号、特開昭６１−８７６８４
号、特開昭６１−３７７２６号）。本発明者等は、従来
の抗ＰＡＦ薬と化学構造を異にする新規な飽和ヘテロ環
カルボン酸アミド誘導体にすぐれた抗ＰＡＦ活性を認
め、本発明を完成した。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の飽和ヘテロ環カ
ルボン酸アミド誘導体は、つぎの一般式（Ｉ）で示され
る。
ルボン酸アミド誘導体は、つぎの一般式（Ｉ）で示され
る。
【０００６】
【化４】 （式中の記号は以下の意味を有する。 Ｒ1 ：ピリジル基又はキノリル基、 Ｒ2 ：水素原子、 Ｘ1 ：酸素原子又は硫黄原子、 Ｙ1 ：酸素原子又は＞Ｎ−Ｒ4 で示される基、 Ｒ4 ：水素原子、低級アルコキシカルボニル基又はアシ
ル基、 Ａ1 ：メチレン基、 Ｒ3 ：式
ル基、 Ａ1 ：メチレン基、 Ｒ3 ：式
【０００７】
【化５】
【０００８】で示される基、Ｒ5 及びＲ6 ：一方が水素
原子又は低級アルキル基、他方が低級アルキル基、水酸
基、アルコキシ基、低級アルキルチオ基、シクロアルキ
ル低級アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオ
キシ低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノカ
ルボニル基、アミノ基、モノ若しくはジ低級アルキルア
ミノ基、モノ若しくはジアラルキルアミノ基、Ｎ−アラ
ルキル−Ｎ−低級アルキルアミノ基、ピリジル基、イン
ドリル基、ベンズイミダゾリル基、モルホリノ基及びチ
エニル基からなる群より選択された一又は二以上の置換
基で置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基及び非芳香族縮合多環
式炭化水素基からなる群より選択された一つの炭化水素
基；又はアラルキル基、アラルキルオキシ基及びアラル
キルチオ基からなる群より選択された一又は二以上の置
換基で置換されていてもよい、ピリジル基、ピペリジニ
ル基及びチアジアゾリル基からなる群より選択された一
つの５乃至６員ヘテロ環基）
原子又は低級アルキル基、他方が低級アルキル基、水酸
基、アルコキシ基、低級アルキルチオ基、シクロアルキ
ル低級アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオ
キシ低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルアミノカ
ルボニル基、アミノ基、モノ若しくはジ低級アルキルア
ミノ基、モノ若しくはジアラルキルアミノ基、Ｎ−アラ
ルキル−Ｎ−低級アルキルアミノ基、ピリジル基、イン
ドリル基、ベンズイミダゾリル基、モルホリノ基及びチ
エニル基からなる群より選択された一又は二以上の置換
基で置換されていてもよい、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基及び非芳香族縮合多環
式炭化水素基からなる群より選択された一つの炭化水素
基；又はアラルキル基、アラルキルオキシ基及びアラル
キルチオ基からなる群より選択された一又は二以上の置
換基で置換されていてもよい、ピリジル基、ピペリジニ
ル基及びチアジアゾリル基からなる群より選択された一
つの５乃至６員ヘテロ環基）
【０００９】本発明化合物の化学構造上の特徴は、特定
の飽和ヘテロ環の特定の位置が特定のヘテロ環並びに特
定のカルボキサミドで必ず置換された飽和ヘテロ環カル
ボン酸アミド誘導体である点にある。即ち、本発明化合
物（Ｉ）は、
の飽和ヘテロ環の特定の位置が特定のヘテロ環並びに特
定のカルボキサミドで必ず置換された飽和ヘテロ環カル
ボン酸アミド誘導体である点にある。即ち、本発明化合
物（Ｉ）は、
【００１０】
【化６】
【００１１】で示される飽和ヘテロ環、即ち５又は６員
の飽和ヘテロ環の特定の位置が特定のヘテロ環、即ちＲ
1 で示されるピリジル基又はキノリル基並びに−ＣＯＲ
3 で示される特定のＮ−置換カルボキサミドで必ず置換
されている点に化学構造上の特徴を有しているのであ
る。従来、本発明化合物（Ｉ）の如き飽和ヘテロ環カル
ボン酸アミド誘導体としては種々の化合物が知られてい
る。例えば、西ドイツ特許２７２９４１４には
の飽和ヘテロ環の特定の位置が特定のヘテロ環、即ちＲ
1 で示されるピリジル基又はキノリル基並びに−ＣＯＲ
3 で示される特定のＮ−置換カルボキサミドで必ず置換
されている点に化学構造上の特徴を有しているのであ
る。従来、本発明化合物（Ｉ）の如き飽和ヘテロ環カル
ボン酸アミド誘導体としては種々の化合物が知られてい
る。例えば、西ドイツ特許２７２９４１４には
【００１２】式
【化７】
【００１３】Ｒ1 ：炭素数２〜１７のアルカノイル基 Ｒ2 ：カルボキシル基又はそのエステル、アミド で示される化合物が結石除去作用を有することが、アメ
リカ特許３５９２９０５には
リカ特許３５９２９０５には
【００１４】
【化８】
【００１５】（Ｒ：ＯＨ、アルコキシ、アミノ）で示さ
れる化合物が抗炎症作用を有することが、各々開示され
ているが、前記の如き化学構造上の特徴を有する化合物
は具体的には知られていなかったのである。
れる化合物が抗炎症作用を有することが、各々開示され
ているが、前記の如き化学構造上の特徴を有する化合物
は具体的には知られていなかったのである。
【００１６】本発明化合物を更に詳細に説明すると以下
の通りである。本明細書の一般式の定義において、特に
断わらない限り、『低級』なる用語は炭素数が１乃至６
個の直鎖又は分岐状の炭素鎖を意味する。従って、『低
級アルキル基』としては、具体的には例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、イソピロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、
ペンチル（アミル）基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−
メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メ
チルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１−ジメ
チルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、２，２−ジ
メチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−
ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１−エ
チルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリ
メチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル
基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−
２−メチルプロピル基等が挙げられる。
の通りである。本明細書の一般式の定義において、特に
断わらない限り、『低級』なる用語は炭素数が１乃至６
個の直鎖又は分岐状の炭素鎖を意味する。従って、『低
級アルキル基』としては、具体的には例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、イソピロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、
ペンチル（アミル）基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−
メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メ
チルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１−ジメ
チルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、２，２−ジ
メチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−
ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１−エ
チルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリ
メチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル
基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−
２−メチルプロピル基等が挙げられる。
【００１７】また、『モノ若しくはジ低級アルキルアミ
ノカルボニル基』は、カルバモイル基のアミノ基に前記
『低級アルキル基』がモノ又はジ置換した基を意味す
る。従って、具体的には例えば、メチルアミノカルボニ
ル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカル
ボニル基、イソプロピルアミノカルボニル基、ブチルア
ミノカルボニル基、イソブチルアミノカルボニル基、ペ
ンチルアミノカルボニル基、イソペンチルアミノカルボ
ニル基、ヘキシルアミノカルボニル基、イソヘキシルア
ミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエ
チルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボニル
基、ジイソプロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミ
ノカルボニル基、ジペンチルアミノカルボニル基、ジヘ
キシルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボ
ニル基、メチルプロピルアミノカルボニル基、エチルプ
ロピルアミノカルボニル基、エチルイソプロピルアミノ
カルボニル基、ブチルメチルアミノカルボニル基、ブチ
ルプロピルアミノカルボニル基等が挙げられる。
ノカルボニル基』は、カルバモイル基のアミノ基に前記
『低級アルキル基』がモノ又はジ置換した基を意味す
る。従って、具体的には例えば、メチルアミノカルボニ
ル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカル
ボニル基、イソプロピルアミノカルボニル基、ブチルア
ミノカルボニル基、イソブチルアミノカルボニル基、ペ
ンチルアミノカルボニル基、イソペンチルアミノカルボ
ニル基、ヘキシルアミノカルボニル基、イソヘキシルア
ミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエ
チルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボニル
基、ジイソプロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミ
ノカルボニル基、ジペンチルアミノカルボニル基、ジヘ
キシルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボ
ニル基、メチルプロピルアミノカルボニル基、エチルプ
ロピルアミノカルボニル基、エチルイソプロピルアミノ
カルボニル基、ブチルメチルアミノカルボニル基、ブチ
ルプロピルアミノカルボニル基等が挙げられる。
【００１８】本発明において、『炭化水素基』は、非環
式炭化水素の飽和炭化水素１価基であるアルキル基、環
式炭化水素基の単環式飽和炭化水素１価基であるシクロ
アルキル基、芳香族単環及び多環式炭化水素１価基であ
るアリール基、非芳香族縮合多環式炭化水素基、及び側
鎖のある芳香族単環及び多環式炭化水素の側鎖部分にお
ける１価基であるアラルキル基からなる群より選択され
た炭化水素基を意味する。
式炭化水素の飽和炭化水素１価基であるアルキル基、環
式炭化水素基の単環式飽和炭化水素１価基であるシクロ
アルキル基、芳香族単環及び多環式炭化水素１価基であ
るアリール基、非芳香族縮合多環式炭化水素基、及び側
鎖のある芳香族単環及び多環式炭化水素の側鎖部分にお
ける１価基であるアラルキル基からなる群より選択され
た炭化水素基を意味する。
【００１９】ここに、『アルキル基』は、炭素数が１〜
２０個の直鎖又は分岐状のものが好適であり、具体的に
は上記『低級アルキル基』の具体例に加えて、さらにヘ
プチル基、５−メチルヘキシル基、オクチル基、６−メ
チルヘプチル基、ノニル基、７−メチルオクチル基、デ
シル基、８−メチルノニル基、ウンデシル基、９−メチ
ルデシル基、ドデシル基、１０−メチルウンデシル基、
トリデシル基、１１−メチルドデシル基、テトラデシル
基、１２−メチルトリデシル基、ペンタデシル基、１３
−メチルテトラデシル基、ヘキサデシル基、１４−メチ
ルペンタデシル基、ヘプタデシル基、１５−メチルヘキ
サデシル基、オクタデシル基、１６−メチルヘプタデシ
ル基、ノナデシル基、１７−メチルオクタデシル基、ア
イコシル基、１８−メチルノナデシル基等が挙げられ
る。
２０個の直鎖又は分岐状のものが好適であり、具体的に
は上記『低級アルキル基』の具体例に加えて、さらにヘ
プチル基、５−メチルヘキシル基、オクチル基、６−メ
チルヘプチル基、ノニル基、７−メチルオクチル基、デ
シル基、８−メチルノニル基、ウンデシル基、９−メチ
ルデシル基、ドデシル基、１０−メチルウンデシル基、
トリデシル基、１１−メチルドデシル基、テトラデシル
基、１２−メチルトリデシル基、ペンタデシル基、１３
−メチルテトラデシル基、ヘキサデシル基、１４−メチ
ルペンタデシル基、ヘプタデシル基、１５−メチルヘキ
サデシル基、オクタデシル基、１６−メチルヘプタデシ
ル基、ノナデシル基、１７−メチルオクタデシル基、ア
イコシル基、１８−メチルノナデシル基等が挙げられ
る。
【００２０】『シクロアルキル基』は、炭素数が３〜７
個のものが好適であり、具体的にはシクロプロピル基、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基等である。『アリール基』として
は、具体的にはフェニル基やナフチル基などが好適なも
のとして例示できる。
個のものが好適であり、具体的にはシクロプロピル基、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基等である。『アリール基』として
は、具体的にはフェニル基やナフチル基などが好適なも
のとして例示できる。
【００２１】『アラルキル基』としては、前記『低級ア
ルキル基』の任意の水素原子が前記『アリール基』で置
換された基が好ましく、具体的にはベンジル基、フェネ
チル基、１−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル
基、２−フェニルプロピル基、１−フェニルプロピル
基、１−メチル−２−フェニルエチル基、４−フェニル
ブチル基、３−フェニルブチル基、２−フェニルブチル
基、１−フェニルブチル基、２−メチル−３−フェニル
プロピル基、２−メチル−２−フェニルプロピル基、２
−メチル−１−フェニルプロピル基、１−メチル−３−
フェニルプロピル基、１−メチル−２−フェニルプロピ
ル基、１−メチル−１−フェニルプロピル基、１−エチ
ル−２−フェニルエチル基、１，１−ジメチル−２−フ
ェニルエチル基、５−フェニルペンチル基、４−フェニ
ルペンチル基、３−フェニルペンチル基、２−フェニル
ペンチル基、１−フェニルペンチル基、３−メチル−４
−フェニルブチル基、３−メチル−３−フェニルブチル
基、３−メチル−２−フェニルブチル基、３−メチル−
１−フェニルブチル基、６−フェニルヘキシル基、５−
フェニルヘキシル基、４−フェニルヘキシル基、３−フ
ェニルヘキシル基、２−フェニルヘキシル基、１−フェ
ニルヘキシル基、４−メチル−５−フェニルペンチル
基、４−メチル−４−フェニルペンチル基、４−メチル
−３−フェニルペンチル基、４−メチル−２−フェニル
ペンチル基、４−メチル−１−フェニルペンチル基、１
−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、２−（１
−ナフチル）エチル基、２−（２−ナフチル）エチル
基、１−（１−ナフチル）エチル基、１−（２−ナフチ
ル）エチル基、３−（１−ナフチル）プロピル基、３−
（２−ナフチル）プロピル基、２−（１−ナフチル）プ
ロピル基、２−（２−ナフチル）プロピル基、１−（１
−ナフチル）プロピル基、１−（２−ナフチル）プロピ
ル基、１−メチル−２−（１−ナフチル）エチル基、１
−メチル−２−（２−ナフチル）エチル基、４−（１−
ナフチル）ブチル基、４−（２−ナフチル）ブチル基、
３−（１−ナフチル）ブチル基、３−（２−ナフチル）
ブチル基、２−（１−ナフチル）ブチル基、２−（２−
ナフチル）ブチル基、１−（１−ナフチル）ブチル基、
１−（２−ナフチル）ブチル基、２−メチル−３−（１
−ナフチル）プロピル基、２−メチル−３−（２−ナフ
チル）プロピル基、２−メチル−２−（１−ナフチル）
プロピル基、２−メチル−２−（２−ナフチル）プロピ
ル基、２−メチル−１−（１−ナフチル）プロピル基、
２−メチル−１−（２−ナフチル）プロピル基、５−
（１−ナフチル）ペンチル基、５−（２−ナフチル）ペ
ンチル基、４−（１−ナフチル）ペンチル基、４−（２
−ナフチル）ペンチル基、３−メチル−４−（１−ナフ
チル）ブチル基、３−メチル−４−（２−ナフチル）ブ
チル基、６−（１−ナフチル）ヘキシル基、６−（２−
ナフチル）ヘキシル基、５−（１−ナフチル）ヘキシル
基、５−（２−ナフチル）ヘキシル基、４−メチル−５
−（１−ナフチル）ペンチル基、４−メチル−５−（２
−ナフチル）ペンチル基、ジフェニルメチル基（ベンズ
ヒドリル基）、トリチル基等が挙げられる。
ルキル基』の任意の水素原子が前記『アリール基』で置
換された基が好ましく、具体的にはベンジル基、フェネ
チル基、１−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル
基、２−フェニルプロピル基、１−フェニルプロピル
基、１−メチル−２−フェニルエチル基、４−フェニル
ブチル基、３−フェニルブチル基、２−フェニルブチル
基、１−フェニルブチル基、２−メチル−３−フェニル
プロピル基、２−メチル−２−フェニルプロピル基、２
−メチル−１−フェニルプロピル基、１−メチル−３−
フェニルプロピル基、１−メチル−２−フェニルプロピ
ル基、１−メチル−１−フェニルプロピル基、１−エチ
ル−２−フェニルエチル基、１，１−ジメチル−２−フ
ェニルエチル基、５−フェニルペンチル基、４−フェニ
ルペンチル基、３−フェニルペンチル基、２−フェニル
ペンチル基、１−フェニルペンチル基、３−メチル−４
−フェニルブチル基、３−メチル−３−フェニルブチル
基、３−メチル−２−フェニルブチル基、３−メチル−
１−フェニルブチル基、６−フェニルヘキシル基、５−
フェニルヘキシル基、４−フェニルヘキシル基、３−フ
ェニルヘキシル基、２−フェニルヘキシル基、１−フェ
ニルヘキシル基、４−メチル−５−フェニルペンチル
基、４−メチル−４−フェニルペンチル基、４−メチル
−３−フェニルペンチル基、４−メチル−２−フェニル
ペンチル基、４−メチル−１−フェニルペンチル基、１
−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、２−（１
−ナフチル）エチル基、２−（２−ナフチル）エチル
基、１−（１−ナフチル）エチル基、１−（２−ナフチ
ル）エチル基、３−（１−ナフチル）プロピル基、３−
（２−ナフチル）プロピル基、２−（１−ナフチル）プ
ロピル基、２−（２−ナフチル）プロピル基、１−（１
−ナフチル）プロピル基、１−（２−ナフチル）プロピ
ル基、１−メチル−２−（１−ナフチル）エチル基、１
−メチル−２−（２−ナフチル）エチル基、４−（１−
ナフチル）ブチル基、４−（２−ナフチル）ブチル基、
３−（１−ナフチル）ブチル基、３−（２−ナフチル）
ブチル基、２−（１−ナフチル）ブチル基、２−（２−
ナフチル）ブチル基、１−（１−ナフチル）ブチル基、
１−（２−ナフチル）ブチル基、２−メチル−３−（１
−ナフチル）プロピル基、２−メチル−３−（２−ナフ
チル）プロピル基、２−メチル−２−（１−ナフチル）
プロピル基、２−メチル−２−（２−ナフチル）プロピ
ル基、２−メチル−１−（１−ナフチル）プロピル基、
２−メチル−１−（２−ナフチル）プロピル基、５−
（１−ナフチル）ペンチル基、５−（２−ナフチル）ペ
ンチル基、４−（１−ナフチル）ペンチル基、４−（２
−ナフチル）ペンチル基、３−メチル−４−（１−ナフ
チル）ブチル基、３−メチル−４−（２−ナフチル）ブ
チル基、６−（１−ナフチル）ヘキシル基、６−（２−
ナフチル）ヘキシル基、５−（１−ナフチル）ヘキシル
基、５−（２−ナフチル）ヘキシル基、４−メチル−５
−（１−ナフチル）ペンチル基、４−メチル−５−（２
−ナフチル）ペンチル基、ジフェニルメチル基（ベンズ
ヒドリル基）、トリチル基等が挙げられる。
【００２２】『非芳香族縮合多環式炭化水素基』として
は具体的にインダニル基（但し結合手はベンゼン環、飽
和環のいずれに有するものであってもよい。以下同
じ。）インデニル基、テトラヒドロナフチル基、ジヒド
ロナフチル基、１，２−ベンゾ−１−シクロヘプテニル
基、フルオレニル基、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ベンズ
〔ｆ〕インデニル基、１Ｈ−ベンズ〔ｆ〕インデニル基
等芳香族炭化水素基に含まれない縮合多環式炭化水素基
が挙げられる。
は具体的にインダニル基（但し結合手はベンゼン環、飽
和環のいずれに有するものであってもよい。以下同
じ。）インデニル基、テトラヒドロナフチル基、ジヒド
ロナフチル基、１，２−ベンゾ−１−シクロヘプテニル
基、フルオレニル基、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ベンズ
〔ｆ〕インデニル基、１Ｈ−ベンズ〔ｆ〕インデニル基
等芳香族炭化水素基に含まれない縮合多環式炭化水素基
が挙げられる。
【００２３】本発明化合物において、Ｒ5 及びＲ6 の一
方が示す『５乃至６員のヘテロ環基』は、ピリジル基、
ピペリジニル基、チアジアゾリル基からなる群より選択
される。これらのヘテロ環基はその結合手が環炭素原子
又は環窒素原子のいずれに有するものであってもよい。
また、『アシル基』は、ホルミル基、アセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル
基、イソバレリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基等
の低級アルカノイル基等が挙げられる。
方が示す『５乃至６員のヘテロ環基』は、ピリジル基、
ピペリジニル基、チアジアゾリル基からなる群より選択
される。これらのヘテロ環基はその結合手が環炭素原子
又は環窒素原子のいずれに有するものであってもよい。
また、『アシル基』は、ホルミル基、アセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル
基、イソバレリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基等
の低級アルカノイル基等が挙げられる。
【００２４】前記『炭化水素基』は、更に置換基を有し
ていてもよく、これらの置換基は、低級アルキル基、水
酸基、アルコキシ基、低級アルキルチオ基、シクロアル
キル低級アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリール
オキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルアミ
ノカルボニル基、アミノ基、モノ若しくはジ低級アルキ
ルアミノ基、モノ若しくはジアラルキルアミノ基、Ｎ−
アラルキル−Ｎ−低級アルキルアミノ基、ピリジル基、
インドリル基、ベンズイミダゾリル基、モルホリノ基及
びチエニル基からなる群より一又は二以上選択される。
また、５乃至６員ヘテロ環基も更に置換基を有していて
もよく、アラルキル基、アラルキルオキシ基及びアラル
キルチオ基からなる群より一又は二以上選択される。
ていてもよく、これらの置換基は、低級アルキル基、水
酸基、アルコキシ基、低級アルキルチオ基、シクロアル
キル低級アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリール
オキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、モノ若しくはジ低級アルキルアミ
ノカルボニル基、アミノ基、モノ若しくはジ低級アルキ
ルアミノ基、モノ若しくはジアラルキルアミノ基、Ｎ−
アラルキル−Ｎ−低級アルキルアミノ基、ピリジル基、
インドリル基、ベンズイミダゾリル基、モルホリノ基及
びチエニル基からなる群より一又は二以上選択される。
また、５乃至６員ヘテロ環基も更に置換基を有していて
もよく、アラルキル基、アラルキルオキシ基及びアラル
キルチオ基からなる群より一又は二以上選択される。
【００２５】ここに、『アルコキシ基』は、炭素数が１
〜１０個の直鎖又は分岐状のものが好適であり、具体的
にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブト
キシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ（アミ
ルオキシ）基、イソペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペン
チルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、２−メチルブト
キシ基、１，２−ジメチルプロポキシ基、１−エチルプ
ロポキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、５
−メチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、６−メ
チルヘプチルオキシ基、ノニルオキシ基、７−メチルオ
クチルオキシ基、デシルオキシ基、８−メチルノニルオ
キシ基等が挙げられる。なお、『低級アルコキシ基』
は、上記『アルコキシ基』のうち、炭素数が１乃至６個
のものが挙げられる。
〜１０個の直鎖又は分岐状のものが好適であり、具体的
にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブト
キシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ（アミ
ルオキシ）基、イソペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペン
チルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、２−メチルブト
キシ基、１，２−ジメチルプロポキシ基、１−エチルプ
ロポキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、５
−メチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、６−メ
チルヘプチルオキシ基、ノニルオキシ基、７−メチルオ
クチルオキシ基、デシルオキシ基、８−メチルノニルオ
キシ基等が挙げられる。なお、『低級アルコキシ基』
は、上記『アルコキシ基』のうち、炭素数が１乃至６個
のものが挙げられる。
【００２６】『低級アルキルチオ基』としては、上記
『低級アルコキシ基』の酸素原子が、硫黄原子となった
もので、具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、プ
ロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、ｓ
ｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチ
ルチオ基、ネオペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ
基、１，２−ジメチルプロピルチオ基、１−エチルプロ
ピルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。『シクロ
アルキル低級アルコキシ基』としては、前記『低級アル
コキシ基』の任意の水素原子が前記『シクロアルキル
基』で置換された基を意味し、具体的には例えばシクロ
プロピルメトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、
１−シクロプロピルエトキシ基、３−シクロプロピルプ
ロポキシ基、２−シクロプロピルプロポキシ基、１−シ
クロプロピルプロポキシ基、２−シクロプロピル−１−
メチルエトキシ基、４−シクロプロピルブトキシ基、５
−シクロプロピルペンチルオキシ基、６−シクロプロピ
ルヘキシルオキシ基、シクロブチルメトキシ基、２−シ
クロブチルエトキシ基、１−シクロブチルエトキシ基、
３−シクロブチルプロポキシ基、２−シクロブチルプロ
ポキシ基、１−シクロブチル−１−メチルエトキシ基、
４−シクロブチルブトキシ基、５−シクロブチルペンチ
ルオキシ基、６−シクロブチルヘキシルオキシ基、シク
ロペンチルメトキシ基、２−シクロペンチルエトキシ
基、１−シクロペンチルエトキシ基、３−シクロペンチ
ルプロポキシ基、２−シクロペンチルプロポキシ基、１
−シクロペンチルプロポキシ基、２−シクロペンチル−
１−メチルエトキシ基、４−シクロペンチルブトキシ
基、５−シクロペンチルペンチルオキシ基、６−シクロ
ペンチルヘキシルオキシ基、シクロヘキシルメトキシ
基、２−シクロヘキシルエトキシ基、１−シクロヘキシ
ルエトキシ基、３−シクロヘキシルプロポキシ基、２−
シクロヘキシルプロポキシ基、１−シクロヘキシルプロ
ポキシ基、２−シクロヘキシル−１−メチルエトキシ
基、４−シクロヘキシルブトキシ基、５−シクロヘキシ
ルペンチルオキシ基、６−シクロヘキシルヘキシルオキ
シ基、シクロヘプチルメトキシ基、２−シクロヘプチル
エトキシ基、１−シクロヘプチルエトキシ基、３−シク
ロヘプチルプロポキシ基、２−シクロヘブチルプロポキ
シ基、１−シクロヘプチルプロポキシ基、２−シクロヘ
プチル−１−メチルエトキシ基、４−シクロヘプチルブ
トキシ基、５−シクロヘプチルペンチルオキシ基、６−
シクロヘプチルヘキシルオキシ基等が挙げられる。
『低級アルコキシ基』の酸素原子が、硫黄原子となった
もので、具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、プ
ロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、ｓ
ｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチ
ルチオ基、ネオペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ
基、１，２−ジメチルプロピルチオ基、１−エチルプロ
ピルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。『シクロ
アルキル低級アルコキシ基』としては、前記『低級アル
コキシ基』の任意の水素原子が前記『シクロアルキル
基』で置換された基を意味し、具体的には例えばシクロ
プロピルメトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、
１−シクロプロピルエトキシ基、３−シクロプロピルプ
ロポキシ基、２−シクロプロピルプロポキシ基、１−シ
クロプロピルプロポキシ基、２−シクロプロピル−１−
メチルエトキシ基、４−シクロプロピルブトキシ基、５
−シクロプロピルペンチルオキシ基、６−シクロプロピ
ルヘキシルオキシ基、シクロブチルメトキシ基、２−シ
クロブチルエトキシ基、１−シクロブチルエトキシ基、
３−シクロブチルプロポキシ基、２−シクロブチルプロ
ポキシ基、１−シクロブチル−１−メチルエトキシ基、
４−シクロブチルブトキシ基、５−シクロブチルペンチ
ルオキシ基、６−シクロブチルヘキシルオキシ基、シク
ロペンチルメトキシ基、２−シクロペンチルエトキシ
基、１−シクロペンチルエトキシ基、３−シクロペンチ
ルプロポキシ基、２−シクロペンチルプロポキシ基、１
−シクロペンチルプロポキシ基、２−シクロペンチル−
１−メチルエトキシ基、４−シクロペンチルブトキシ
基、５−シクロペンチルペンチルオキシ基、６−シクロ
ペンチルヘキシルオキシ基、シクロヘキシルメトキシ
基、２−シクロヘキシルエトキシ基、１−シクロヘキシ
ルエトキシ基、３−シクロヘキシルプロポキシ基、２−
シクロヘキシルプロポキシ基、１−シクロヘキシルプロ
ポキシ基、２−シクロヘキシル−１−メチルエトキシ
基、４−シクロヘキシルブトキシ基、５−シクロヘキシ
ルペンチルオキシ基、６−シクロヘキシルヘキシルオキ
シ基、シクロヘプチルメトキシ基、２−シクロヘプチル
エトキシ基、１−シクロヘプチルエトキシ基、３−シク
ロヘプチルプロポキシ基、２−シクロヘブチルプロポキ
シ基、１−シクロヘプチルプロポキシ基、２−シクロヘ
プチル−１−メチルエトキシ基、４−シクロヘプチルブ
トキシ基、５−シクロヘプチルペンチルオキシ基、６−
シクロヘプチルヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【００２７】『アラルキルオキシ基』や『アラルキルチ
オ基』は、前記『低級アルコキシ基』や『低級アルキル
チオ基』の任意の水素原子が、前記『アリール基』で置
換された基を意味し、具体的には『アリール基』として
フェニル基のみで例示すれば、例えばベンジル−オキシ
（又はチオ）基、フェネチル−オキシ（又はチオ）基、
１−フェニル−エトキシ（又はエチルチオ）基、３−フ
ェニル−プロポキシ（又はプロピルチオ）基、２−フェ
ニル−プロポキシ（又はプロピルチオ）基、１−フェニ
ル−プロポキシ（又はプロピルチオ）基、２−フェニル
−１−メチル−エトキシ（又はエチルチオ）基、４−フ
ェニル−ブトキシ（又はブチルチオ）基、５−フェニル
ペンチル−オキシ（又はチオ）基、６−フェニルへキシ
ル−オキシ（又はチオ）基等である。
オ基』は、前記『低級アルコキシ基』や『低級アルキル
チオ基』の任意の水素原子が、前記『アリール基』で置
換された基を意味し、具体的には『アリール基』として
フェニル基のみで例示すれば、例えばベンジル−オキシ
（又はチオ）基、フェネチル−オキシ（又はチオ）基、
１−フェニル−エトキシ（又はエチルチオ）基、３−フ
ェニル−プロポキシ（又はプロピルチオ）基、２−フェ
ニル−プロポキシ（又はプロピルチオ）基、１−フェニ
ル−プロポキシ（又はプロピルチオ）基、２−フェニル
−１−メチル−エトキシ（又はエチルチオ）基、４−フ
ェニル−ブトキシ（又はブチルチオ）基、５−フェニル
ペンチル−オキシ（又はチオ）基、６−フェニルへキシ
ル−オキシ（又はチオ）基等である。
【００２８】『アリールオキシ低級アルコキシ基』は、
前記『低級アルコキシ基』の任意の水素原子に前記『ア
リールオキシ基』が置換した基を意味し、アリールオキ
シ基としてフェノキシ基のみで例示すれば、フェノキシ
メトキシ基、２−フェノキシエトキシ基、１−フェノキ
シエトキシ基、３−フェノキシプロポキシ基、２−フェ
ノキシプロポキシ基、１−フェノキシプロポキシ基、２
−フェノキシ−１−メチルエトキシ基、４−フェノキシ
ブトキシ基、５−フェノキシペンチルオキシ基、６−フ
ェノキシヘキシルオキシ基等である。
前記『低級アルコキシ基』の任意の水素原子に前記『ア
リールオキシ基』が置換した基を意味し、アリールオキ
シ基としてフェノキシ基のみで例示すれば、フェノキシ
メトキシ基、２−フェノキシエトキシ基、１−フェノキ
シエトキシ基、３−フェノキシプロポキシ基、２−フェ
ノキシプロポキシ基、１−フェノキシプロポキシ基、２
−フェノキシ−１−メチルエトキシ基、４−フェノキシ
ブトキシ基、５−フェノキシペンチルオキシ基、６−フ
ェノキシヘキシルオキシ基等である。
【００２９】『モノ若しくはジ低級アルキルアミノカル
ボニル基』は、前記と同様の基が具体的置換基として挙
げられる。『モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基』
は、アミノ基の一つ又は二つの水素原子が前記『低級ア
ルキル基』で置換された基を意味する。具体的にはメチ
ルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソ
プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ
基、ペンチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ヘキシ
ルアミノ基、イソヘキシルアミノ基等炭素数が１乃至６
個の直鎖又は分岐状のアルキル基で置換されたモノアル
キルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、
ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチ
ルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基
等炭素数が１乃至６個の直鎖又は分岐状のアルキル基で
ジ置換された対称型のジアルキルアミノ基、エチルメチ
ルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、エチルプロピル
アミノ基、ブチルメチルアミノ基、ブチルエチルアミノ
基、ブチルプロピルアミノ基等炭素数が１乃至６個の直
鎖又は分岐状のアルキル基のうち相異なるアルキル基で
ジ置換された非対称型のジアルキルアミノ基が挙げられ
る。
ボニル基』は、前記と同様の基が具体的置換基として挙
げられる。『モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基』
は、アミノ基の一つ又は二つの水素原子が前記『低級ア
ルキル基』で置換された基を意味する。具体的にはメチ
ルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソ
プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ
基、ペンチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ヘキシ
ルアミノ基、イソヘキシルアミノ基等炭素数が１乃至６
個の直鎖又は分岐状のアルキル基で置換されたモノアル
キルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、
ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチ
ルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基
等炭素数が１乃至６個の直鎖又は分岐状のアルキル基で
ジ置換された対称型のジアルキルアミノ基、エチルメチ
ルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、エチルプロピル
アミノ基、ブチルメチルアミノ基、ブチルエチルアミノ
基、ブチルプロピルアミノ基等炭素数が１乃至６個の直
鎖又は分岐状のアルキル基のうち相異なるアルキル基で
ジ置換された非対称型のジアルキルアミノ基が挙げられ
る。
【００３０】『モノ若しくはジアラルキルアミノ基』と
しては、ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基、３−
フェニルプロピルアミノ基、４−フェニルブチルアミノ
基、５−フェニルペンチルアミノ基、６−フェニルヘキ
シルアミノ基、１−ナフチルメチルアミノ基、２−ナフ
チルメチルアミノ基、１−ナフチルエチルアミノ基、２
−ナフチルエチルアミノ基、１−ナフチルプロピルアミ
ノ基、２−ナフチルプロピルアミノ基、１−ナフチルブ
チルアミノ基、２−ナフチルブチルアミノ基、ジフェニ
ルメチルアミノ基、２，２−ジフェニルエチルアミノ
基、３，３−ジフェニルプロピルアミノ基、４，４−ジ
フェニルブチルアミノ基、トリフェニルメチルアミノ基
等のモノアラルキルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジ
フェネチルアミノ基、ビス（３−フェニルプロピル）ア
ミノ基、ビス（４−フェニルブチル）アミノ基、ビス
（５−フェニルペンチル）アミノ基、ビス（６−フェニ
ルヘキシル）アミノ基などの対称型ジアラルキルアミノ
基、Ｎ−ベンジルフェネチルアミノ基、Ｎ−ベンジル−
３−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ−ベンジル−４−フ
ェニルブチルアミノ基、Ｎ−ベンジル−５−フェニルペ
ンチルアミノ基、Ｎ−ベンジル−６−フェニルヘキシル
アミノ基、Ｎ−フェネチル−３−フェニルプロピルアミ
ノ基、Ｎ−フェネチル−４−フェニルブチルアミノ基、
Ｎ−フェネチル−５−フェニルペンチルアミノ基、Ｎ−
フェネチル−６−フェニルヘキシルアミノ基、Ｎ−（３
−フェニルプロピル）−４−フェニルブチルアミノ基、
Ｎ−（３−フェニルプロピル）−５−フェニルペンチル
アミノ基、Ｎ−（３−フェニルプロピル）−６−フェニ
ルヘキシルアミノ基、Ｎ−（４−フェニルブチル）−５
−フェニルペンチルアミノ基、Ｎ−（４−フェニルブチ
ル）−６−フェニルヘキシルアミノ基、Ｎ−（５−フェ
ニルペンチル）−６−フェニルヘキシルアミノ基などの
非対称型ジアラルキルアミノ基が挙げられる。
しては、ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基、３−
フェニルプロピルアミノ基、４−フェニルブチルアミノ
基、５−フェニルペンチルアミノ基、６−フェニルヘキ
シルアミノ基、１−ナフチルメチルアミノ基、２−ナフ
チルメチルアミノ基、１−ナフチルエチルアミノ基、２
−ナフチルエチルアミノ基、１−ナフチルプロピルアミ
ノ基、２−ナフチルプロピルアミノ基、１−ナフチルブ
チルアミノ基、２−ナフチルブチルアミノ基、ジフェニ
ルメチルアミノ基、２，２−ジフェニルエチルアミノ
基、３，３−ジフェニルプロピルアミノ基、４，４−ジ
フェニルブチルアミノ基、トリフェニルメチルアミノ基
等のモノアラルキルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジ
フェネチルアミノ基、ビス（３−フェニルプロピル）ア
ミノ基、ビス（４−フェニルブチル）アミノ基、ビス
（５−フェニルペンチル）アミノ基、ビス（６−フェニ
ルヘキシル）アミノ基などの対称型ジアラルキルアミノ
基、Ｎ−ベンジルフェネチルアミノ基、Ｎ−ベンジル−
３−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ−ベンジル−４−フ
ェニルブチルアミノ基、Ｎ−ベンジル−５−フェニルペ
ンチルアミノ基、Ｎ−ベンジル−６−フェニルヘキシル
アミノ基、Ｎ−フェネチル−３−フェニルプロピルアミ
ノ基、Ｎ−フェネチル−４−フェニルブチルアミノ基、
Ｎ−フェネチル−５−フェニルペンチルアミノ基、Ｎ−
フェネチル−６−フェニルヘキシルアミノ基、Ｎ−（３
−フェニルプロピル）−４−フェニルブチルアミノ基、
Ｎ−（３−フェニルプロピル）−５−フェニルペンチル
アミノ基、Ｎ−（３−フェニルプロピル）−６−フェニ
ルヘキシルアミノ基、Ｎ−（４−フェニルブチル）−５
−フェニルペンチルアミノ基、Ｎ−（４−フェニルブチ
ル）−６−フェニルヘキシルアミノ基、Ｎ−（５−フェ
ニルペンチル）−６−フェニルヘキシルアミノ基などの
非対称型ジアラルキルアミノ基が挙げられる。
【００３１】『Ｎ−アラルキル−Ｎ−低級アルキル基』
は、前記『モノアラルキルアミノ基』のアミノ基に前記
『低級アルキル基』が置換して三級化したアミノ基を意
味し、Ｎ−メチルベンジルアミノ基、Ｎ−エチルベンジ
ルアミノ基、Ｎ−プロピルベンジルアミノ基、Ｎ−ブチ
ルベンジルアミノ基、Ｎ−ペンチルベンジルアミノ基、
Ｎ−ヘキシルベンジルアミノ基、Ｎ−メチルフェネチル
アミノ基、Ｎ−エチルフェネチルアミノ基、Ｎ−プロピ
ルフェネチルアミノ基、Ｎ−ブチルフェネチルアミノ
基、Ｎ−ペンチルフェネチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルフ
ェネチルアミノ基、Ｎ−メチル−３−フェニルプロピル
アミノ基、Ｎ−エチル−３−フェニルプロピルアミノ
基、Ｎ−プロピル−３−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ
−ブチル−３−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ−ペンチ
ル−３−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ−ヘキシル−３
−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ−メチル−４−フェニ
ルブチルアミノ基、Ｎ−エチル−４−フェニルブチルア
ミノ基、Ｎ−プロピル−４−フェニルブチルアミノ基、
Ｎ−ブチル−４−フェニルブチルアミノ基、Ｎ−ペンチ
ル−４−フェニルブチルアミノ基、Ｎ−ヘキシル−４−
フェニルブチルアミノ基などが代表的な具体的基として
挙げられる。
は、前記『モノアラルキルアミノ基』のアミノ基に前記
『低級アルキル基』が置換して三級化したアミノ基を意
味し、Ｎ−メチルベンジルアミノ基、Ｎ−エチルベンジ
ルアミノ基、Ｎ−プロピルベンジルアミノ基、Ｎ−ブチ
ルベンジルアミノ基、Ｎ−ペンチルベンジルアミノ基、
Ｎ−ヘキシルベンジルアミノ基、Ｎ−メチルフェネチル
アミノ基、Ｎ−エチルフェネチルアミノ基、Ｎ−プロピ
ルフェネチルアミノ基、Ｎ−ブチルフェネチルアミノ
基、Ｎ−ペンチルフェネチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルフ
ェネチルアミノ基、Ｎ−メチル−３−フェニルプロピル
アミノ基、Ｎ−エチル−３−フェニルプロピルアミノ
基、Ｎ−プロピル−３−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ
−ブチル−３−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ−ペンチ
ル−３−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ−ヘキシル−３
−フェニルプロピルアミノ基、Ｎ−メチル−４−フェニ
ルブチルアミノ基、Ｎ−エチル−４−フェニルブチルア
ミノ基、Ｎ−プロピル−４−フェニルブチルアミノ基、
Ｎ−ブチル−４−フェニルブチルアミノ基、Ｎ−ペンチ
ル−４−フェニルブチルアミノ基、Ｎ−ヘキシル−４−
フェニルブチルアミノ基などが代表的な具体的基として
挙げられる。
【００３２】本発明化合物（Ｉ）は塩を形成する。本発
明には化合物（Ｉ）の塩が包含される。このような塩と
しては具体的には、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、臭化水
素酸、ヨウ化水素酸等の鉱酸や、酢酸、シュウ酸、コハ
ク酸、クエン酸、マレイン酸、リンゴ酸、フマール酸、
酒石酸、ピクリン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸等の有機酸との酸付加塩、グルタミン酸、アスパラ
ギン酸等の酸性アミノ酸との塩、塩化メチル、臭化メチ
ル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキルとの結合によ
る第４級アンモニウム塩等が挙げられる。また、本発明
によって提供される化合物（Ｉ）には少なくとも２個以
上の不整炭素原子を有しており、その存在に基づく異性
体が存在する。本発明には、これらの分離された各異性
体及びこれらの混合物が含まれる。
明には化合物（Ｉ）の塩が包含される。このような塩と
しては具体的には、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、臭化水
素酸、ヨウ化水素酸等の鉱酸や、酢酸、シュウ酸、コハ
ク酸、クエン酸、マレイン酸、リンゴ酸、フマール酸、
酒石酸、ピクリン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホ
ン酸等の有機酸との酸付加塩、グルタミン酸、アスパラ
ギン酸等の酸性アミノ酸との塩、塩化メチル、臭化メチ
ル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキルとの結合によ
る第４級アンモニウム塩等が挙げられる。また、本発明
によって提供される化合物（Ｉ）には少なくとも２個以
上の不整炭素原子を有しており、その存在に基づく異性
体が存在する。本発明には、これらの分離された各異性
体及びこれらの混合物が含まれる。
【００３３】（製造法）本発明化合物（Ｉ）は、基本骨
格及び種々の置換基の特徴を利用して種々の合成法を適
用することによって製造することができる。以下にその
代表的製法を例示する。
格及び種々の置換基の特徴を利用して種々の合成法を適
用することによって製造することができる。以下にその
代表的製法を例示する。
【００３４】
【化９】
【００３５】
【化１０】
【００３６】
【化１１】
【００３７】
【化１２】
【００３８】
【化１３】
【００３９】（反応式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ
5 ，Ｘ1 ，Ａ1 及びＹ1 は前記の意味を有し、他の記号
は以下の意味を示す。 Ｙ2 ：保護基を有していてもよいＹ1 と同一の基、 Ｒ14：保護基を有していてもよいＲ3 と同一の基、 Ｒ15：保護基を有していてもよいＲ5 と同一の基、 Ａ4 ：炭化水素２価基、 Ｒ16及びＲ17：同一又は異って、水素原子又は低級アル
キル基、 Ｒ18：アシル基よりカルボニル基を除去した残基、 Ｙ3 ：保護基を有していてもよいＹ1 と同一の基、 Ｒ22：保護基を有していてもよいＲ5 と同一の基、 Ａ5 ：Ａ4 と同一の基又は式−Ａ4 −Ｘ2 −Ａ6 −で示
される２価基、 Ｘ2 ：酸素原子又は硫黄原子、 Ａ6 ：低級アルキレン基、 Ｄ1 及びＤ2 ：一方が水酸基、メルカプト基、又はこれ
らのアルカリ金属置換体、他方がハロゲン原子又は有機
スルホン酸残基、 Ｒ23：炭素数が１乃至１０個のアルキル基、シクロアル
キル低級アルキル基、アラルキル基、又はアリールオキ
シ低級アルキル基、 Ｘ3 ：酸素原子又は硫黄原子 Ｒ24：保護基を有していてもよいＲ3 と同一の基、 Ｘ4 ：酸素原子又は硫黄原子、 Ｙ4 ：酸素原子又はイミノ基（−ＮＨ−）、 Ｄ3 ：ハロゲン原子又は有機スルホン酸残基、 Ｒ25：低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、
又はアシル基、 Ｄ4 及びＤ5 ：一方が保護基を有していてもよいアミノ
基、他方がハロゲン原子又は有機スルホン酸残基、 Ｒ26：Ｄ5 が保護基を有していてもよいアミノ基である
ときは水素原子、低級アルキル基、又はアラルキル基、
Ｄ5 がハロゲン原子又は有機スルホン酸残基であるとき
は低級アルキル基又はアラルキル基、又はＤ5 −Ｒ26一
体でフタル酸イミドカリウム（但し、Ｄ4 はハロゲン原
子又は有機スルホン酸残基）、 Ｒ27：Ｒ26と同一又は相異なる低級アルキル基又はアラ
ルキル基、 Ｒ28：水素原子、Ｒ26と同一の基又はＲ27と同一の基、 Ｘ5 ：酸素原子、又は硫黄原子、 …：いずれかの結合が２重結合。）
5 ，Ｘ1 ，Ａ1 及びＹ1 は前記の意味を有し、他の記号
は以下の意味を示す。 Ｙ2 ：保護基を有していてもよいＹ1 と同一の基、 Ｒ14：保護基を有していてもよいＲ3 と同一の基、 Ｒ15：保護基を有していてもよいＲ5 と同一の基、 Ａ4 ：炭化水素２価基、 Ｒ16及びＲ17：同一又は異って、水素原子又は低級アル
キル基、 Ｒ18：アシル基よりカルボニル基を除去した残基、 Ｙ3 ：保護基を有していてもよいＹ1 と同一の基、 Ｒ22：保護基を有していてもよいＲ5 と同一の基、 Ａ5 ：Ａ4 と同一の基又は式−Ａ4 −Ｘ2 −Ａ6 −で示
される２価基、 Ｘ2 ：酸素原子又は硫黄原子、 Ａ6 ：低級アルキレン基、 Ｄ1 及びＤ2 ：一方が水酸基、メルカプト基、又はこれ
らのアルカリ金属置換体、他方がハロゲン原子又は有機
スルホン酸残基、 Ｒ23：炭素数が１乃至１０個のアルキル基、シクロアル
キル低級アルキル基、アラルキル基、又はアリールオキ
シ低級アルキル基、 Ｘ3 ：酸素原子又は硫黄原子 Ｒ24：保護基を有していてもよいＲ3 と同一の基、 Ｘ4 ：酸素原子又は硫黄原子、 Ｙ4 ：酸素原子又はイミノ基（−ＮＨ−）、 Ｄ3 ：ハロゲン原子又は有機スルホン酸残基、 Ｒ25：低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、
又はアシル基、 Ｄ4 及びＤ5 ：一方が保護基を有していてもよいアミノ
基、他方がハロゲン原子又は有機スルホン酸残基、 Ｒ26：Ｄ5 が保護基を有していてもよいアミノ基である
ときは水素原子、低級アルキル基、又はアラルキル基、
Ｄ5 がハロゲン原子又は有機スルホン酸残基であるとき
は低級アルキル基又はアラルキル基、又はＤ5 −Ｒ26一
体でフタル酸イミドカリウム（但し、Ｄ4 はハロゲン原
子又は有機スルホン酸残基）、 Ｒ27：Ｒ26と同一又は相異なる低級アルキル基又はアラ
ルキル基、 Ｒ28：水素原子、Ｒ26と同一の基又はＲ27と同一の基、 Ｘ5 ：酸素原子、又は硫黄原子、 …：いずれかの結合が２重結合。）
【００４０】ここで、保護基としては、アミノ基の保護
基、水酸基の保護基が挙げられ、アミノ基の保護基とし
てはベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル基、ｐ−メチルベンジルオキシカル
ボニル基、ｐ−クロロベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ−フェニルア
ゾベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシフェニル
アゾベンジルオキシカルボニル基、３，５−ジメトキシ
ベンジルオキシカルボニル基、３，４，５−トリメトキ
シベンジルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル基、ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボニル基、ｐ
−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニル基、ジイソ
プロピルメチルオキシカルボニル基などのウレタン型の
保護基、ホルミル基、アセチル基、トリフルオロアセチ
ル基、フタリル基、トシル基、ｏ−ニトロフェニルスル
フェニル基、ｐ−メトキシ−ｏ−ニトロフェニルスルフ
ェニル基、ベンゾイル基、クロロアセチル基などのアシ
ル型の保護基、トリチル基、ベンジル基、２−ベンゾイ
ル−１−メチルビニル基、トリメチルシリル基などのア
ルキル型の保護基、ベンジリデン基、２−ヒドロキシア
リリデン基などのアリリデン型の保護基が挙げられる。
水酸基の保護基としてはベンジル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンジルオ
キシカルボニル基などが挙げられる。
基、水酸基の保護基が挙げられ、アミノ基の保護基とし
てはベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル基、ｐ−メチルベンジルオキシカル
ボニル基、ｐ−クロロベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ−フェニルア
ゾベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシフェニル
アゾベンジルオキシカルボニル基、３，５−ジメトキシ
ベンジルオキシカルボニル基、３，４，５−トリメトキ
シベンジルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル基、ｔｅｒｔ−アミルオキシカルボニル基、ｐ
−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニル基、ジイソ
プロピルメチルオキシカルボニル基などのウレタン型の
保護基、ホルミル基、アセチル基、トリフルオロアセチ
ル基、フタリル基、トシル基、ｏ−ニトロフェニルスル
フェニル基、ｐ−メトキシ−ｏ−ニトロフェニルスルフ
ェニル基、ベンゾイル基、クロロアセチル基などのアシ
ル型の保護基、トリチル基、ベンジル基、２−ベンゾイ
ル−１−メチルビニル基、トリメチルシリル基などのア
ルキル型の保護基、ベンジリデン基、２−ヒドロキシア
リリデン基などのアリリデン型の保護基が挙げられる。
水酸基の保護基としてはベンジル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンジルオ
キシカルボニル基などが挙げられる。
【００４１】『炭化水素２価基』は、Ｒ5 ，Ｒ6 におい
て置換された炭化水素基に対応するものであり、アルキ
レン基、シクロアルカンジイル基、アラルキレン基、ア
リーレン基や非芳香族縮合多環式炭化水素２価基であ
る。『アルキレン基』は炭素数が１〜２０個の直鎖又は
分岐状の基が好適であり、具体的にはメチレン基、メチ
ルメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレ
ン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、
２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン
基、ペンタメチレン基、１−メチルテトラメチレン基、
４−メチルテトラメチレン基、ヘキサメチレン基、５−
メチルペンタメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメ
チレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカ
メチレン基、ドデカメチレン基、トリデカメチレン基、
テトラデカメチレン基、ペンタデカメチレン基、ヘキサ
デカメチレン基、ヘプタデカメチレン基、オクタデカメ
チレン基、ノナデカメチレン基、アイコサメチレン基等
が挙げられる。
て置換された炭化水素基に対応するものであり、アルキ
レン基、シクロアルカンジイル基、アラルキレン基、ア
リーレン基や非芳香族縮合多環式炭化水素２価基であ
る。『アルキレン基』は炭素数が１〜２０個の直鎖又は
分岐状の基が好適であり、具体的にはメチレン基、メチ
ルメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレ
ン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、
２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン
基、ペンタメチレン基、１−メチルテトラメチレン基、
４−メチルテトラメチレン基、ヘキサメチレン基、５−
メチルペンタメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメ
チレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカ
メチレン基、ドデカメチレン基、トリデカメチレン基、
テトラデカメチレン基、ペンタデカメチレン基、ヘキサ
デカメチレン基、ヘプタデカメチレン基、オクタデカメ
チレン基、ノナデカメチレン基、アイコサメチレン基等
が挙げられる。
【００４２】『シクロアルカンジイル基』としては、各
種シクロプロパンジイル基、各種シクロブタンジイル
基、各種シクロペンタンジイル基、各種シクロヘキサン
ジイル基や各種シクロヘプタンジイル基が、『非芳香族
縮合多環式炭化水素２価基』としては具体的には各種イ
ンダンジイル基、各種インデンジイル基、各種テトラヒ
ドロナフタレンジイル基、各種ジヒドロナフタレンジイ
ル基、各種１，２−ベンゾ−１−シクロヘプテンジイル
基、各種フルオレンジイル基、各種２，３−ジヒドロ−
１Ｈ−ベンズ〔ｆ〕インデンジイル基、各種１Ｈ−ベン
ズ〔ｆ〕インデンジイル基が好適なものとして例示され
る。また、『アリーレン基』としてはフェニレン基
（ｏ，ｐ，ｍ）、各種ナフタレンジイル基等が挙げられ
る。『アラルキレン基』は、炭素数が１乃至６個の低級
アルキレン基と、上記『アリール基』とが結合したアリ
ールアルカンの２価基を意味し、アリーレン基としてフ
ェニレン基、低級アルキレン基としてメチレン基で式示
すれば
種シクロプロパンジイル基、各種シクロブタンジイル
基、各種シクロペンタンジイル基、各種シクロヘキサン
ジイル基や各種シクロヘプタンジイル基が、『非芳香族
縮合多環式炭化水素２価基』としては具体的には各種イ
ンダンジイル基、各種インデンジイル基、各種テトラヒ
ドロナフタレンジイル基、各種ジヒドロナフタレンジイ
ル基、各種１，２−ベンゾ−１−シクロヘプテンジイル
基、各種フルオレンジイル基、各種２，３−ジヒドロ−
１Ｈ−ベンズ〔ｆ〕インデンジイル基、各種１Ｈ−ベン
ズ〔ｆ〕インデンジイル基が好適なものとして例示され
る。また、『アリーレン基』としてはフェニレン基
（ｏ，ｐ，ｍ）、各種ナフタレンジイル基等が挙げられ
る。『アラルキレン基』は、炭素数が１乃至６個の低級
アルキレン基と、上記『アリール基』とが結合したアリ
ールアルカンの２価基を意味し、アリーレン基としてフ
ェニレン基、低級アルキレン基としてメチレン基で式示
すれば
【００４３】
【化１４】
【００４４】となる。また、アルコラート（フェノラー
ト）やチオラート（チオフェノラート）を形成するアル
カリ金属原子としてはカリウムやナトリウム等が挙げら
れる。『アシル基よりカルボニル基を除去した残基』と
しては、特に低級アルキル基が好適であり、これらの具
体例としては前記と同一の基が挙げられる。
ト）やチオラート（チオフェノラート）を形成するアル
カリ金属原子としてはカリウムやナトリウム等が挙げら
れる。『アシル基よりカルボニル基を除去した残基』と
しては、特に低級アルキル基が好適であり、これらの具
体例としては前記と同一の基が挙げられる。
【００４５】Ｄ1 ，Ｄ2 ，Ｄ3 ，Ｄ4 及びＤ5 が示す
『ハロゲン原子』としてはヨウ素原子、臭素原子、塩素
原子等が、有機スルホン酸残基としてはメタンスルホニ
ルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基等のアルキルス
ルホニルオキシ基や、ベンゼンスルホニルオキシ基やト
ルエン（特にｐ−トルエン）スルホニルオキシ基などの
アリールスルホニルオキシ基が挙げられる。Ｒ25が示す
『シクロアルキル低級アルキル基』は、前記『低級アル
キル基』の任意の水素原子が前記『シクロアルキル基』
で置換された基を示し、低級アルキル基としてメチル
基、シクロアルキル基としてシクロヘキシル基で例示す
ればシクロヘキシルメチル基となる。同様に『アリール
オキシ低級アルキル基』は、前記『低級アルキル基』の
任意の水素原子が前記『アリールオキシ基』で置換され
た基を意味し、低級アルキル基としてプロピル基、アリ
ールオキシ基としてフェノキシ基で例示すれば、フェノ
キシプロピル基となる。その他の基は前記と同様であ
る。
『ハロゲン原子』としてはヨウ素原子、臭素原子、塩素
原子等が、有機スルホン酸残基としてはメタンスルホニ
ルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基等のアルキルス
ルホニルオキシ基や、ベンゼンスルホニルオキシ基やト
ルエン（特にｐ−トルエン）スルホニルオキシ基などの
アリールスルホニルオキシ基が挙げられる。Ｒ25が示す
『シクロアルキル低級アルキル基』は、前記『低級アル
キル基』の任意の水素原子が前記『シクロアルキル基』
で置換された基を示し、低級アルキル基としてメチル
基、シクロアルキル基としてシクロヘキシル基で例示す
ればシクロヘキシルメチル基となる。同様に『アリール
オキシ低級アルキル基』は、前記『低級アルキル基』の
任意の水素原子が前記『アリールオキシ基』で置換され
た基を意味し、低級アルキル基としてプロピル基、アリ
ールオキシ基としてフェノキシ基で例示すれば、フェノ
キシプロピル基となる。その他の基は前記と同様であ
る。
【００４６】以下各製法につき詳述する。 第１製法 本発明化合物（Ｉ）は、一般式（II）で示される保護基
を有していてもよいヘテロ環カルボン酸又はその反応性
誘導体と、一般式（III)で示される保護基を有していて
もよいアミンとを反応させ、次いで必要により保護基を
除去することにより製造することができる。化合物（I
I）の反応性誘導体としては、酸クロライド、酸ブロマ
イドの如き酸ハライド；酸アジド；Ｎ−ヒドロキシベン
ゾトリアゾールやＮ−ヒドロキシスクシンイミド等との
活性エステル；対称型酸無水物；アルキル炭酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸等との混合酸無水物等が挙げられる。
化合物（II）を遊離のカルボン酸で反応させるときは、
ジシクロヘキシルカルボジイミドや１，１′−カルボニ
ルジイミダゾール等の縮合剤の存在下に実施するのが有
利である。反応条件は原料化合物、殊に化合物（II）の
反応性誘導体の種類によって若干異なるが、ピリジン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、メチレンクロリド、ジクロルエタン、クロロホル
ム、酢酸エチル、アセトニトリル等反応に不活性な有機
溶媒中、原料化合物（II）、（III)を等モル乃至は一方
を過剰モルを用いて反応させるのが有利である。反応性
誘導体の種類によって、あるいは原料化合物（III)の塩
を用いる場合など、反応に際し、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、ジメ
チルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン等の有機塩基、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基などの塩
基の存在下に実施するのが有利な場合がある。なお、原
料化合物（III)を過剰モルとして反応を促進させること
もできる。また、ピリジンは溶媒を兼ねることもでき
る。反応温度は反応性誘導体の種類によって異なり、適
宜設定される。本反応においては、他に反応性のアミノ
基、ヒドロキシ基が存在しない方が好ましいが、保護基
を導入して反応させた後保護基を除去することによって
目的物とすることができる。保護基の脱離は、保護基の
種類によって異なる。例えばアミノ基の保護基が置換又
は未置換のベンジルオキシカルボニル基などである場合
には接触還元が好適であり、場合によっては臭化水素酸
／酢酸、臭化水素酸／トリフルオロ酢酸、フッ化水素酸
などによる酸処理が用いられる。ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル基などの他のウレタン型保護基は臭化水素酸／
酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、塩酸／酢酸、塩酸／ジ
オキサンなどによる酸処理が有利である。水酸基の保護
基は、大方、ナトリウム／液体アンモニウム処理やフッ
化水素酸処理により除去できる他、保護基の種類によっ
ては（例えばＯ−ベンジル、Ｏ−ベンジルオキシカルボ
ニル）接触還元を適用して、また、アシル系の保護基で
あるときは酸又はアルカリの存在下加水分解することに
より除去することができる。これらの処理は、常法によ
って行うことが可能である。
を有していてもよいヘテロ環カルボン酸又はその反応性
誘導体と、一般式（III)で示される保護基を有していて
もよいアミンとを反応させ、次いで必要により保護基を
除去することにより製造することができる。化合物（I
I）の反応性誘導体としては、酸クロライド、酸ブロマ
イドの如き酸ハライド；酸アジド；Ｎ−ヒドロキシベン
ゾトリアゾールやＮ−ヒドロキシスクシンイミド等との
活性エステル；対称型酸無水物；アルキル炭酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸等との混合酸無水物等が挙げられる。
化合物（II）を遊離のカルボン酸で反応させるときは、
ジシクロヘキシルカルボジイミドや１，１′−カルボニ
ルジイミダゾール等の縮合剤の存在下に実施するのが有
利である。反応条件は原料化合物、殊に化合物（II）の
反応性誘導体の種類によって若干異なるが、ピリジン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、メチレンクロリド、ジクロルエタン、クロロホル
ム、酢酸エチル、アセトニトリル等反応に不活性な有機
溶媒中、原料化合物（II）、（III)を等モル乃至は一方
を過剰モルを用いて反応させるのが有利である。反応性
誘導体の種類によって、あるいは原料化合物（III)の塩
を用いる場合など、反応に際し、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、ジメ
チルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン等の有機塩基、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基などの塩
基の存在下に実施するのが有利な場合がある。なお、原
料化合物（III)を過剰モルとして反応を促進させること
もできる。また、ピリジンは溶媒を兼ねることもでき
る。反応温度は反応性誘導体の種類によって異なり、適
宜設定される。本反応においては、他に反応性のアミノ
基、ヒドロキシ基が存在しない方が好ましいが、保護基
を導入して反応させた後保護基を除去することによって
目的物とすることができる。保護基の脱離は、保護基の
種類によって異なる。例えばアミノ基の保護基が置換又
は未置換のベンジルオキシカルボニル基などである場合
には接触還元が好適であり、場合によっては臭化水素酸
／酢酸、臭化水素酸／トリフルオロ酢酸、フッ化水素酸
などによる酸処理が用いられる。ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル基などの他のウレタン型保護基は臭化水素酸／
酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、塩酸／酢酸、塩酸／ジ
オキサンなどによる酸処理が有利である。水酸基の保護
基は、大方、ナトリウム／液体アンモニウム処理やフッ
化水素酸処理により除去できる他、保護基の種類によっ
ては（例えばＯ−ベンジル、Ｏ−ベンジルオキシカルボ
ニル）接触還元を適用して、また、アシル系の保護基で
あるときは酸又はアルカリの存在下加水分解することに
より除去することができる。これらの処理は、常法によ
って行うことが可能である。
【００４７】第２製法 一般式（Ｉａ）で示されるＹ1 がイミノ基である化合物
は、一般式（IV）で示されるオキサゾリジンジオン環縮
合ヘテロ環化合物と、化合物（III)との反応によって製
造することもできる。化合物（IV）は、化合物（II）の
Ｃ端を活性化すると共にアミノ基を同時に保護した化合
物であって、この方法はアミド化法の範疇に含まれる。
反応法、保護基とその除去は第１製法とほぼ同様であ
る。 第３製法 本発明化合物にはＲ3 としてカルバモイル基あるいはモ
ノ若しくはジ低級アルキルアミノカルボニル基を有する
炭化水素基置換アミノ基であるアミド化合物も含まれて
おり、一般式（Ｉｂ）で示されるかかる化合物は、一般
式（Ｖ）で示される側鎖カルボン酸又はその反応性誘導
体と一般式（VI）で示されるアミン類とを反応させ、必
要により保護基を除去することにより製造できる。反応
条件等は第１製法と同様である。
は、一般式（IV）で示されるオキサゾリジンジオン環縮
合ヘテロ環化合物と、化合物（III)との反応によって製
造することもできる。化合物（IV）は、化合物（II）の
Ｃ端を活性化すると共にアミノ基を同時に保護した化合
物であって、この方法はアミド化法の範疇に含まれる。
反応法、保護基とその除去は第１製法とほぼ同様であ
る。 第３製法 本発明化合物にはＲ3 としてカルバモイル基あるいはモ
ノ若しくはジ低級アルキルアミノカルボニル基を有する
炭化水素基置換アミノ基であるアミド化合物も含まれて
おり、一般式（Ｉｂ）で示されるかかる化合物は、一般
式（Ｖ）で示される側鎖カルボン酸又はその反応性誘導
体と一般式（VI）で示されるアミン類とを反応させ、必
要により保護基を除去することにより製造できる。反応
条件等は第１製法と同様である。
【００４８】第４製法 一般式（Ｉｄ）で示される本発明化合物は、対応するヘ
テロ環２級アミン（IX）と、一般式（Ｘ）のカルボン酸
又はその反応性誘導体と反応させ次いで必要により保護
基を除去することによって製造することが可能である。
反応条件等は第１製法とほぼ同様である。 第５製法 本発明化合物中にはエーテルあるいはチオエーテル化合
物が含まれており、そのような化合物にあっては常法の
エーテル化法やチオエーテル化法を適用して製造可能で
ある。常法中、最も一般的な方法であるアルコール又は
メルカプタン又はそのアルカリ金属置換体とハロゲン化
物又はスルホネートとを反応させる方法が最も有利に用
いられる。一般式（Ｉｆ）で示されるエーテル又はチオ
エーテル化合物は、一般式（XIV)で示されるヒドロキシ
若しくはメルカプト化合物若しくはこれらのアルカリ金
属置換体、又はハライド若しくはスルホネート化合物
と、一般式（XV）で示されるハライド若しくはスルホネ
ート化合物、又はヒドロキシ若しくはメルカプト化合物
若しくはこれらのアルカリ金属置換体とを反応させるこ
とにより製造される。反応は、化合物（XIV)と化合物
（XV）とをほぼ等モル、あるいは一方をやや過剰モルと
して、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、アセトン、メチルエチルケトン（２−ブタノ
ン）、メタノール、エタノール、エチレンクロリド、ク
ロロホルム、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどの有機溶媒又は水、あるいは水と有機溶媒との混
合溶媒中で行われる。原料化合物（XIV)又は（XV）とし
て、アルカリ金属置換体を使用しないときは、塩基の存
在下に行われ、そのような塩基としては、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、トリトンＢなどの塩基が好適に用
いられる。反応温度は特に限定されないが、通常室温下
ないしは加温下に設定される。原料化合物（XIV)中に遊
離のメルカプト基又はそのアルカリ金属置換体が他に存
在するときは、通常その部分においても同時にチオエー
テル化される。また、置換基の種類によっては副反応を
抑制するために保護基を導入して反応させるのが好適で
あり、反応後の保護基の脱離は第１製法中の記載と同様
にして処理することにより行なわれる。
テロ環２級アミン（IX）と、一般式（Ｘ）のカルボン酸
又はその反応性誘導体と反応させ次いで必要により保護
基を除去することによって製造することが可能である。
反応条件等は第１製法とほぼ同様である。 第５製法 本発明化合物中にはエーテルあるいはチオエーテル化合
物が含まれており、そのような化合物にあっては常法の
エーテル化法やチオエーテル化法を適用して製造可能で
ある。常法中、最も一般的な方法であるアルコール又は
メルカプタン又はそのアルカリ金属置換体とハロゲン化
物又はスルホネートとを反応させる方法が最も有利に用
いられる。一般式（Ｉｆ）で示されるエーテル又はチオ
エーテル化合物は、一般式（XIV)で示されるヒドロキシ
若しくはメルカプト化合物若しくはこれらのアルカリ金
属置換体、又はハライド若しくはスルホネート化合物
と、一般式（XV）で示されるハライド若しくはスルホネ
ート化合物、又はヒドロキシ若しくはメルカプト化合物
若しくはこれらのアルカリ金属置換体とを反応させるこ
とにより製造される。反応は、化合物（XIV)と化合物
（XV）とをほぼ等モル、あるいは一方をやや過剰モルと
して、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、アセトン、メチルエチルケトン（２−ブタノ
ン）、メタノール、エタノール、エチレンクロリド、ク
ロロホルム、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどの有機溶媒又は水、あるいは水と有機溶媒との混
合溶媒中で行われる。原料化合物（XIV)又は（XV）とし
て、アルカリ金属置換体を使用しないときは、塩基の存
在下に行われ、そのような塩基としては、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、トリトンＢなどの塩基が好適に用
いられる。反応温度は特に限定されないが、通常室温下
ないしは加温下に設定される。原料化合物（XIV)中に遊
離のメルカプト基又はそのアルカリ金属置換体が他に存
在するときは、通常その部分においても同時にチオエー
テル化される。また、置換基の種類によっては副反応を
抑制するために保護基を導入して反応させるのが好適で
あり、反応後の保護基の脱離は第１製法中の記載と同様
にして処理することにより行なわれる。
【００４９】第６製法 本発明化合物中、Ｘ1 が酸素原子又は硫黄原子である化
合物（Ｉｉ）は、一般式（XX）で示されるケトン（又は
アルデヒド）と、一般式（XXI)で示されるジオール、ジ
チオール、ヒドロキシメルカプタン又はアミノアルコー
ル、アミノメルカプタン化合物とを原料化合物とする環
化反応を適用して製造することができる。反応は、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール
類や含水アルコールなどの溶媒中化合物（XX）と化合物
（XXI)とをほぼ等モルあるいは一方の原料化合物をやや
過剰量用いて、通常室温下に行なわれる。更に、ベンゼ
ン、トルエンなどの共沸脱水溶媒を用い、ディーンース
ターク装置などの脱水手段を施しながら実施することも
できる。なお、本反応においては、アミノ基などが存在
しない原料が有利であるが、これらの基を保護して実施
することができる。これらの保護基の脱離は第１製法と
同様である。
合物（Ｉｉ）は、一般式（XX）で示されるケトン（又は
アルデヒド）と、一般式（XXI)で示されるジオール、ジ
チオール、ヒドロキシメルカプタン又はアミノアルコー
ル、アミノメルカプタン化合物とを原料化合物とする環
化反応を適用して製造することができる。反応は、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール
類や含水アルコールなどの溶媒中化合物（XX）と化合物
（XXI)とをほぼ等モルあるいは一方の原料化合物をやや
過剰量用いて、通常室温下に行なわれる。更に、ベンゼ
ン、トルエンなどの共沸脱水溶媒を用い、ディーンース
ターク装置などの脱水手段を施しながら実施することも
できる。なお、本反応においては、アミノ基などが存在
しない原料が有利であるが、これらの基を保護して実施
することができる。これらの保護基の脱離は第１製法と
同様である。
【００５０】第７製法 一般式（Ｉｊ）で示されるＮ−置換化合物は、一般式
（XXII）で示される対応する環式第２アミンと一般式
（XXIII)で示されるハライド又はスルホネート化合物と
を反応させ、次いで必要により保護基を除去することに
より製造される。原料化合物（XXIII)としてハライド化
合物を用いる反応は、第５製法と同様の溶媒中、化合物
（XXII）に対して化合物（XXIII)とをほぼ等モルあるい
は一方をやや過剰モル用いて、室温乃至加温下、あるい
は加熱還流して実施するのが有利である。この反応に際
し、ピリジン、ピコリン、Ｎ，Ｎ−ジメメルアニリン、
Ｎ−メチルモルホリン、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、ジメチルアミン等の二，三級塩基や炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等の無機塩基を添加することが
反応を円滑に進行させる上に有利な場合がある。原料化
合物（XXIII)として有機スルホン酸残基で置換された化
合物を使用する反応は、化合物（XXII）と化合物（XXII
I)とほぼ等モルあるいは一方をやや過剰モルとして第５
製法と同様の溶媒中、冷却下あるいは室温下に行うのが
有利である。反応時間は種々の反応条件を考慮して適宜
設定される。本反応においても他に水酸基などが存在し
ない方が好ましいが、保護基を導入して反応させて目的
物とすることもできる。また、他に反応性のアミノ基が
存在するときは、反応条件によってはそのアミノ基も同
時にＮ−アルキル化を受ける場合があり、容易に脱離す
る保護基を導入して反応させ保護基を除去して目的物と
することもできる。保護基の脱離等については第１製法
に記載のとおりである。
（XXII）で示される対応する環式第２アミンと一般式
（XXIII)で示されるハライド又はスルホネート化合物と
を反応させ、次いで必要により保護基を除去することに
より製造される。原料化合物（XXIII)としてハライド化
合物を用いる反応は、第５製法と同様の溶媒中、化合物
（XXII）に対して化合物（XXIII)とをほぼ等モルあるい
は一方をやや過剰モル用いて、室温乃至加温下、あるい
は加熱還流して実施するのが有利である。この反応に際
し、ピリジン、ピコリン、Ｎ，Ｎ−ジメメルアニリン、
Ｎ−メチルモルホリン、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、ジメチルアミン等の二，三級塩基や炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等の無機塩基を添加することが
反応を円滑に進行させる上に有利な場合がある。原料化
合物（XXIII)として有機スルホン酸残基で置換された化
合物を使用する反応は、化合物（XXII）と化合物（XXII
I)とほぼ等モルあるいは一方をやや過剰モルとして第５
製法と同様の溶媒中、冷却下あるいは室温下に行うのが
有利である。反応時間は種々の反応条件を考慮して適宜
設定される。本反応においても他に水酸基などが存在し
ない方が好ましいが、保護基を導入して反応させて目的
物とすることもできる。また、他に反応性のアミノ基が
存在するときは、反応条件によってはそのアミノ基も同
時にＮ−アルキル化を受ける場合があり、容易に脱離す
る保護基を導入して反応させ保護基を除去して目的物と
することもできる。保護基の脱離等については第１製法
に記載のとおりである。
【００５１】第８製法 本発明の化合物中Ｒ3 がジアミンタイプの置換基である
化合物は、一般式（XXIV）で示されるアミン又はハライ
ド若しくはスルホネートと、一般式（XXV)で示されるハ
ライド若しくはスルホネート又はアミンとを反応させる
方法を適用して製造できる。反応条件中溶媒、温度条
件、塩基の添加や保護基の脱離等については第７製法と
ほぼ同様であるが、原料化合物の使用量は目的物として
対称型ジ置換アミノ化合物を製造するときは化合物（XX
IV）あるいは化合物（XXV)の一方が他方に対しほぼ２倍
モル、好ましくは化合物（XXIV）としてアミンを用い化
合物（XXV)としてハライド等を用いそのハライド等の化
合物（XXV)をアミン化合物（XXIV）に対してほぼ２倍モ
ル用いる。また、目的物としてモノ置換アミン又はモノ
置換アミンを原料としてジ置換アミンを製造するとき
は、それぞれの原料化合物はほぼ等モルが適当である。
なお、目的物としてモノ置換アミンを製造する際は、三
級アミノ化を抑制して目的物を収率よく製造するために
Ｄ4 又はＤ5 のアミノ基に三級化抑制用の保護基、例え
ばトルエンスルホニルオキシ基、アセチル基、フェナシ
ルスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ビ
スベンゼンスルホニル基等を導入して二級アミノ化する
のが好ましい。また、Ｄ4 がハロゲン又は有機スルホン
酸残基を示すハライド又はスルホネート化合物（XXIV）
を原料として一級アミンを製造するときは、化合物（XX
V)としてアンモニア類を用いることもできるが、フタル
酸イミドカリウムを用いて反応させた後、保護基を除去
する方法を適用するのが有利である。
化合物は、一般式（XXIV）で示されるアミン又はハライ
ド若しくはスルホネートと、一般式（XXV)で示されるハ
ライド若しくはスルホネート又はアミンとを反応させる
方法を適用して製造できる。反応条件中溶媒、温度条
件、塩基の添加や保護基の脱離等については第７製法と
ほぼ同様であるが、原料化合物の使用量は目的物として
対称型ジ置換アミノ化合物を製造するときは化合物（XX
IV）あるいは化合物（XXV)の一方が他方に対しほぼ２倍
モル、好ましくは化合物（XXIV）としてアミンを用い化
合物（XXV)としてハライド等を用いそのハライド等の化
合物（XXV)をアミン化合物（XXIV）に対してほぼ２倍モ
ル用いる。また、目的物としてモノ置換アミン又はモノ
置換アミンを原料としてジ置換アミンを製造するとき
は、それぞれの原料化合物はほぼ等モルが適当である。
なお、目的物としてモノ置換アミンを製造する際は、三
級アミノ化を抑制して目的物を収率よく製造するために
Ｄ4 又はＤ5 のアミノ基に三級化抑制用の保護基、例え
ばトルエンスルホニルオキシ基、アセチル基、フェナシ
ルスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ビ
スベンゼンスルホニル基等を導入して二級アミノ化する
のが好ましい。また、Ｄ4 がハロゲン又は有機スルホン
酸残基を示すハライド又はスルホネート化合物（XXIV）
を原料として一級アミンを製造するときは、化合物（XX
V)としてアンモニア類を用いることもできるが、フタル
酸イミドカリウムを用いて反応させた後、保護基を除去
する方法を適用するのが有利である。
【００５２】第９製法 本発明化合物中には、還元手段の適用により取得できる
化合物が種々含まれている。式示した方法は、特に基本
骨格である飽和ヘテロ環化合物を、対応する不完全水素
化ヘテロ環の還元により製造する方法である。還元は、
白金黒、酸化白金、パラジウム炭素、ラネ−ニッケル等
の還元触媒の存在下に接触還元する方法が有利である。 （その他の製造法）以上は、アミド化法、エーテル又は
チオエーテル化法、環化反応やＮ−アルキル化反応等に
つき詳述したが、本発明化合物は種々の官能基を含んで
おり、その基の特徴から種々の方法を適用して製造する
ことが可能である。例えば、本発明化合物（Ｉ）中、置
換基としてエステル形成された低級アルコキシカルボニ
ル基である化合物は対応するカルボン酸又はその反応性
誘導体と低級アルコール又は低級アルキルハライドなど
アルコール成分の反応性誘導体とを反応させ、常法のエ
ステル形成反応を施すことにより製造することができ
る。
化合物が種々含まれている。式示した方法は、特に基本
骨格である飽和ヘテロ環化合物を、対応する不完全水素
化ヘテロ環の還元により製造する方法である。還元は、
白金黒、酸化白金、パラジウム炭素、ラネ−ニッケル等
の還元触媒の存在下に接触還元する方法が有利である。 （その他の製造法）以上は、アミド化法、エーテル又は
チオエーテル化法、環化反応やＮ−アルキル化反応等に
つき詳述したが、本発明化合物は種々の官能基を含んで
おり、その基の特徴から種々の方法を適用して製造する
ことが可能である。例えば、本発明化合物（Ｉ）中、置
換基としてエステル形成された低級アルコキシカルボニ
ル基である化合物は対応するカルボン酸又はその反応性
誘導体と低級アルコール又は低級アルキルハライドなど
アルコール成分の反応性誘導体とを反応させ、常法のエ
ステル形成反応を施すことにより製造することができ
る。
【００５３】このようにして製造された本発明化合物
（Ｉ）は、遊離のままあるいはその塩として単離され、
精製される。塩は通常用いられる造塩反応に付すことに
より製造することができる。単離精製は、抽出、濃縮、
結晶化、濾過、再結晶、各種クロマトグラフィー等通常
の化学操作を適用して行なわれる。なお、本発明化合物
には前記の如く、ラセミ体、光学活性体、ジアステレオ
マー等の光学異性体等が単独であるいは混合物として存
在する。ラセミ化合物は適当な原料化合物を用いること
により、あるいは一般的なラセミ分割法により「たとえ
ば、一般的な光学活性酸（酒石酸等）とのジアステレオ
マー塩に導き、光学分割する方法等」立体化学的に純粋
な異性体に導くことができる。また、ジアステレオマー
の混合物は常法、例えば分別結晶化またはクロマトグラ
フィー等により分離できる。
（Ｉ）は、遊離のままあるいはその塩として単離され、
精製される。塩は通常用いられる造塩反応に付すことに
より製造することができる。単離精製は、抽出、濃縮、
結晶化、濾過、再結晶、各種クロマトグラフィー等通常
の化学操作を適用して行なわれる。なお、本発明化合物
には前記の如く、ラセミ体、光学活性体、ジアステレオ
マー等の光学異性体等が単独であるいは混合物として存
在する。ラセミ化合物は適当な原料化合物を用いること
により、あるいは一般的なラセミ分割法により「たとえ
ば、一般的な光学活性酸（酒石酸等）とのジアステレオ
マー塩に導き、光学分割する方法等」立体化学的に純粋
な異性体に導くことができる。また、ジアステレオマー
の混合物は常法、例えば分別結晶化またはクロマトグラ
フィー等により分離できる。
【００５４】
【発明の効果】本発明化合物（Ｉ）及びその塩は、ＰＡ
Ｆ拮抗作用を有し、ＰＡＦによって惹起される種々の疾
病の治療、予防に有用である。殊に抗喘息剤、抗炎症
剤、抗潰瘍剤、ショック症状の緩和剤、虚血性心・脳疾
患、肝疾患、血栓症および腎炎の治療薬、臓器移植時の
拒絶抑制剤等として利用できる。また、本発明化合物中
には、血管拡張作用をも有する化合物が含まれており、
そのような化合物にあっては、血管拡張剤としても有用
である。本発明の化合物の抗ＰＡＦ作用はつぎの方法に
よって確認されたものである。 ＰＡＦによる血小板凝集に対する作用 方法：体重約３ｋｇの雄性日本白色家兎の耳動脈より
３．８％クエン酸ナトリウム水溶液を１容入れたプラス
チックシリンジに血液を９容採取した。血液を２７０×
ｇで１０分間、室温で遠心しその上清を富血小板血漿
（以下、ＰＲＰ）とし、残りをさらに１１００×ｇで１
５分間遠心して乏血小板血漿（以下、ＰＰＰ）を得た。
ＰＲＰをＰＰＰで稀釈して血小板数を５０万個／μｌに
調整した後、ＰＡＦによる血小板凝集をボーンとクロス
（ジャーナル オブ フイジオロジー，１６８巻，１７
８−１９５頁（１９６３年））〔G. V. R. Born and
M. J. Cross , Journal of Physiology ,１６８，１７
８−１９５，（１９６３）〕の方法により測定した。す
なちわ、ＮＢＳヘマトレーサー（二光バイオサイエン
ス）を用い、ＰＡＦ（１０-8Ｍ）によるＰＲＰの光透過
度の変化を測定した。なお、化合物はＰＡＦ添加の２分
前に加え、対照におけるＰＡＦによる最大光透過度に対
する抑制率からＩＣ50値（５０％抑制濃度）を求めた。 結果：表１に示したように、本発明化合物の多数がウサ
ギ血小板において抗ＰＡＦ作用（ＩＣ50値１０-6Ｍ以
上）を示し、特に、実施例２４，４０，４１，４２，４
３，４５では強く、そのＩＣ50値は１．２×１０-7〜
２．５×１０-7Ｍであった。これらの化合物はＡＤＰ
（３μＭ）、アラキドン酸（１００μＭ）およびコラー
ゲン（１０μｇ／ｍｌ）による血小板凝集に対しては抑
制作用を示さないことから（データは示さず）、ＰＡＦ
に特異的な拮抗薬と思われる。
Ｆ拮抗作用を有し、ＰＡＦによって惹起される種々の疾
病の治療、予防に有用である。殊に抗喘息剤、抗炎症
剤、抗潰瘍剤、ショック症状の緩和剤、虚血性心・脳疾
患、肝疾患、血栓症および腎炎の治療薬、臓器移植時の
拒絶抑制剤等として利用できる。また、本発明化合物中
には、血管拡張作用をも有する化合物が含まれており、
そのような化合物にあっては、血管拡張剤としても有用
である。本発明の化合物の抗ＰＡＦ作用はつぎの方法に
よって確認されたものである。 ＰＡＦによる血小板凝集に対する作用 方法：体重約３ｋｇの雄性日本白色家兎の耳動脈より
３．８％クエン酸ナトリウム水溶液を１容入れたプラス
チックシリンジに血液を９容採取した。血液を２７０×
ｇで１０分間、室温で遠心しその上清を富血小板血漿
（以下、ＰＲＰ）とし、残りをさらに１１００×ｇで１
５分間遠心して乏血小板血漿（以下、ＰＰＰ）を得た。
ＰＲＰをＰＰＰで稀釈して血小板数を５０万個／μｌに
調整した後、ＰＡＦによる血小板凝集をボーンとクロス
（ジャーナル オブ フイジオロジー，１６８巻，１７
８−１９５頁（１９６３年））〔G. V. R. Born and
M. J. Cross , Journal of Physiology ,１６８，１７
８−１９５，（１９６３）〕の方法により測定した。す
なちわ、ＮＢＳヘマトレーサー（二光バイオサイエン
ス）を用い、ＰＡＦ（１０-8Ｍ）によるＰＲＰの光透過
度の変化を測定した。なお、化合物はＰＡＦ添加の２分
前に加え、対照におけるＰＡＦによる最大光透過度に対
する抑制率からＩＣ50値（５０％抑制濃度）を求めた。 結果：表１に示したように、本発明化合物の多数がウサ
ギ血小板において抗ＰＡＦ作用（ＩＣ50値１０-6Ｍ以
上）を示し、特に、実施例２４，４０，４１，４２，４
３，４５では強く、そのＩＣ50値は１．２×１０-7〜
２．５×１０-7Ｍであった。これらの化合物はＡＤＰ
（３μＭ）、アラキドン酸（１００μＭ）およびコラー
ゲン（１０μｇ／ｍｌ）による血小板凝集に対しては抑
制作用を示さないことから（データは示さず）、ＰＡＦ
に特異的な拮抗薬と思われる。
【００５５】
【表１】
【００５６】
【実施例】以下に実施例を掲記し、本発明を更に詳細に
説明する。なお、前記原料化合物中には、新規化合物が
含まれておりその製法を参考例に示す。なお、文中ＮＭ
ＲはＴＭＳを内部標準とする核磁気共鳴スペクトルを、
ＭＳはマススペクトルを表わす。
説明する。なお、前記原料化合物中には、新規化合物が
含まれておりその製法を参考例に示す。なお、文中ＮＭ
ＲはＴＭＳを内部標準とする核磁気共鳴スペクトルを、
ＭＳはマススペクトルを表わす。
【００５７】参考例１ Ｌ−システインとピリジン−３−アルデヒドとから製造
された２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
ン酸２．１ｇ、水２０ｍｌ、ジオキサン４０ｍｌの混液
にジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−カルボネート２．４ｇ、
及び１規定水酸化ナトリウム水溶液１０ｍｌを４℃以下
で加え、室温で３０分間撹拌する。反応液を減圧濃縮
し、水３０ｍｌを加え、０．５Ｍのクエン酸水溶液を加
えｐＨ２〜３としたのち酢酸エチルで抽出する。抽出液
を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し残
留物を酢酸エチルより再結晶してＮ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボン酸１ｇを得た。融点 １６７〜１６９℃。
された２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
ン酸２．１ｇ、水２０ｍｌ、ジオキサン４０ｍｌの混液
にジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジ−カルボネート２．４ｇ、
及び１規定水酸化ナトリウム水溶液１０ｍｌを４℃以下
で加え、室温で３０分間撹拌する。反応液を減圧濃縮
し、水３０ｍｌを加え、０．５Ｍのクエン酸水溶液を加
えｐＨ２〜３としたのち酢酸エチルで抽出する。抽出液
を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し残
留物を酢酸エチルより再結晶してＮ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボン酸１ｇを得た。融点 １６７〜１６９℃。
【００５８】参考例２ ピリジン−４−アルデヒド１．０７ｇとＬ−システイン
１．２１ｇを６０％エタノール中還流温度に４時間加熱
した。活性炭１００ｍｇを温時に加え濾過した。冷時析
出した結晶を濾取しエタノールで洗い、２−（４−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸１．２ｇを得た。
融点 １７１〜１７３℃。
１．２１ｇを６０％エタノール中還流温度に４時間加熱
した。活性炭１００ｍｇを温時に加え濾過した。冷時析
出した結晶を濾取しエタノールで洗い、２−（４−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボン酸１．２ｇを得た。
融点 １７１〜１７３℃。
【００５９】参考例３ キノリン−３−アルデヒド１．５７ｇ及びＬ−システイ
ン１．２１ｇを５０％エタノール５０ｍｌに溶解し、室
温で１時間撹拌した。析出した結晶を吸引捕集し、５０
％エタノールで洗い、乾燥して２−（３−キノリル）チ
アゾリジン−４−カルボン酸１．９５ｇを得た。 融点
１７３〜１７５℃（分解）。
ン１．２１ｇを５０％エタノール５０ｍｌに溶解し、室
温で１時間撹拌した。析出した結晶を吸引捕集し、５０
％エタノールで洗い、乾燥して２−（３−キノリル）チ
アゾリジン−４−カルボン酸１．９５ｇを得た。 融点
１７３〜１７５℃（分解）。
【００６０】参考例４ （１）ｐ−クロロメチル−（４−フェニルブトキシ）ベ
ンゼン１．２０ｇ及びフタルイミドカリ１．１５ｇの
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ中溶液を１００
℃で３時間撹拌した。反応混合液を酢酸エチルで希釈し
水３回、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧で留去して得られた固体を酢
酸エチルから再結晶してＮ−〔ｐ−（４−フェニルブト
キシ）ベンジル〕フタルイミド１．８５ｇを得た。 融
点 １０６〜１０７．５℃。 （２）（１）で得られたＮ−〔ｐ−（４−フェニルブト
キシ）ベンジル〕フタルイミド９２０ｍｇとヒドラジン
水和物２００ｍｇのエタノール１０ｍｌ中溶液を３時間
加熱還流した。冷後、分離した固体を濾過し去り、濾液
を濃縮した。残留物にクロロホルムを加え、不溶物を濾
別した。この濾液を濃縮してｐ−（４−フェニルブトキ
シ）ベンジルアミン１９０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜１．９（４Ｈ），２．５〜２．８（２
Ｈ），３．７５（２Ｈ，ｂｒ），３．８〜４．０（２
Ｈ），６．７〜６．９（２Ｈ），７．１〜７．３（７
Ｈ）
ンゼン１．２０ｇ及びフタルイミドカリ１．１５ｇの
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ中溶液を１００
℃で３時間撹拌した。反応混合液を酢酸エチルで希釈し
水３回、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧で留去して得られた固体を酢
酸エチルから再結晶してＮ−〔ｐ−（４−フェニルブト
キシ）ベンジル〕フタルイミド１．８５ｇを得た。 融
点 １０６〜１０７．５℃。 （２）（１）で得られたＮ−〔ｐ−（４−フェニルブト
キシ）ベンジル〕フタルイミド９２０ｍｇとヒドラジン
水和物２００ｍｇのエタノール１０ｍｌ中溶液を３時間
加熱還流した。冷後、分離した固体を濾過し去り、濾液
を濃縮した。残留物にクロロホルムを加え、不溶物を濾
別した。この濾液を濃縮してｐ−（４−フェニルブトキ
シ）ベンジルアミン１９０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜１．９（４Ｈ），２．５〜２．８（２
Ｈ），３．７５（２Ｈ，ｂｒ），３．８〜４．０（２
Ｈ），６．７〜６．９（２Ｈ），７．１〜７．３（７
Ｈ）
【００６１】参考例５ ｐ−クロロメチル（ヘプチルオキシ）ベンゼン９００ｍ
ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２５ｍｌ中溶液にナ
トリウムアジド１．２５ｇの水２．５ｍｌ中溶液を加
え、１００℃で６時間撹拌した。冷後、反応混合物を水
で希釈し、エーテルで生成物を抽出した。エーテル層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上
で乾燥、減圧濃縮した。得られた残留油状物のテトラヒ
ドロフラン１０ｍｌ中溶液を、水素化リチウムアルミニ
ウム２００ｍｇのテトラヒドロフラン１５ｍｌ中懸濁液
へ、０℃で５分間かけて滴下した。同温度で１時間、室
温で１時間撹拌したのち、硫酸ナトリウム１０水和物を
加え、過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解した。
不溶物を濾過し去り、濾液を減圧濃縮してｐ−ヘプチル
オキシベンジルアミン８６０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．８〜１．０（３Ｈ），１．２〜１．５（１０
Ｈ），１．６〜１．９（２Ｈ），３．８０（２Ｈ，
ｓ），３．９４（２Ｈ，ｔ），６．８７（２Ｈ，ｄ），
７．２２（２Ｈ，ｄ）
ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２５ｍｌ中溶液にナ
トリウムアジド１．２５ｇの水２．５ｍｌ中溶液を加
え、１００℃で６時間撹拌した。冷後、反応混合物を水
で希釈し、エーテルで生成物を抽出した。エーテル層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上
で乾燥、減圧濃縮した。得られた残留油状物のテトラヒ
ドロフラン１０ｍｌ中溶液を、水素化リチウムアルミニ
ウム２００ｍｇのテトラヒドロフラン１５ｍｌ中懸濁液
へ、０℃で５分間かけて滴下した。同温度で１時間、室
温で１時間撹拌したのち、硫酸ナトリウム１０水和物を
加え、過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解した。
不溶物を濾過し去り、濾液を減圧濃縮してｐ−ヘプチル
オキシベンジルアミン８６０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．８〜１．０（３Ｈ），１．２〜１．５（１０
Ｈ），１．６〜１．９（２Ｈ），３．８０（２Ｈ，
ｓ），３．９４（２Ｈ，ｔ），６．８７（２Ｈ，ｄ），
７．２２（２Ｈ，ｄ）
【００６２】参考例６ （１）ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド３８０ｍｇ、１
−ブロモ−４−フェニルブタン６００ｍｇ及び炭酸カリ
ウム５８０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌ
中混液を室温で一夜撹拌した。反応混合物を酢酸エチル
で希釈し、水、１規定水酸化ナトリウム、水、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。
酢酸エチル層を減圧濃縮してｍ−（４−フェニルブトキ
シ）ベンズアルデヒド６６０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜１．９（４Ｈ），２．６〜２．８（２
Ｈ），４．０６（２Ｈ，ｔ），７．２〜７．４（９
Ｈ），９．９６（１Ｈ，ｓ） （２）ｍ−（４−フェニルブトキシ）ベンズアルデヒド
６６０ｍｇのメタノール１０ｍｌ中溶液に水素化ホウ素
ナトリウム２００ｍｇを加え、室温で２時間撹拌した。
反応混合物を減圧濃縮して得た残留物に、５％塩酸を加
え、酢酸エチルで生成物を抽出した。酢酸エチル層を水
洗し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮して
ｍ−（４−フェニルブトキシ）ベンジルアルコール５１
０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜１．９（４Ｈ），２．６〜２．８（２
Ｈ），３．９〜４．１（２Ｈ），４．６０（２Ｈ，
ｓ），７．２〜７．５（９Ｈ） （３）ｍ−（４−フェニルブトキシ）ベンジルアルコー
ル５１０ｍｇをベンゼン５ｍｌに溶解し、塩化チオニル
１．４ｇを加え室温で４時間撹拌した。反応混合物を減
圧下濃縮してｍ−クロロメチル（４−フェニルブトキ
シ）ベンゼン５２０ｍｇを得た。この化合物を引き続き
参考例４の方法で処理して、ｍ−（４−フェニルブトキ
シ）ベンジルアミン４７０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜１．９（４Ｈ），２．６〜２．８（２
Ｈ），３．６〜３．９（２Ｈ），３．９〜４．１（２
Ｈ），６．７〜６．９（３Ｈ），７．２〜７．４（６
Ｈ）
−ブロモ−４−フェニルブタン６００ｍｇ及び炭酸カリ
ウム５８０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌ
中混液を室温で一夜撹拌した。反応混合物を酢酸エチル
で希釈し、水、１規定水酸化ナトリウム、水、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。
酢酸エチル層を減圧濃縮してｍ−（４−フェニルブトキ
シ）ベンズアルデヒド６６０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜１．９（４Ｈ），２．６〜２．８（２
Ｈ），４．０６（２Ｈ，ｔ），７．２〜７．４（９
Ｈ），９．９６（１Ｈ，ｓ） （２）ｍ−（４−フェニルブトキシ）ベンズアルデヒド
６６０ｍｇのメタノール１０ｍｌ中溶液に水素化ホウ素
ナトリウム２００ｍｇを加え、室温で２時間撹拌した。
反応混合物を減圧濃縮して得た残留物に、５％塩酸を加
え、酢酸エチルで生成物を抽出した。酢酸エチル層を水
洗し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮して
ｍ−（４−フェニルブトキシ）ベンジルアルコール５１
０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜１．９（４Ｈ），２．６〜２．８（２
Ｈ），３．９〜４．１（２Ｈ），４．６０（２Ｈ，
ｓ），７．２〜７．５（９Ｈ） （３）ｍ−（４−フェニルブトキシ）ベンジルアルコー
ル５１０ｍｇをベンゼン５ｍｌに溶解し、塩化チオニル
１．４ｇを加え室温で４時間撹拌した。反応混合物を減
圧下濃縮してｍ−クロロメチル（４−フェニルブトキ
シ）ベンゼン５２０ｍｇを得た。この化合物を引き続き
参考例４の方法で処理して、ｍ−（４−フェニルブトキ
シ）ベンジルアミン４７０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜１．９（４Ｈ），２．６〜２．８（２
Ｈ），３．６〜３．９（２Ｈ），３．９〜４．１（２
Ｈ），６．７〜６．９（３Ｈ），７．２〜７．４（６
Ｈ）
【００６３】参考例７ ２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾ
ール３２０ｍｇ、１−ブロモ−４−フェニルブタン４３
０ｍｇ及び炭酸カリウム３５０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド５ｍｌ中混合物を室温で一夜撹拌した。反
応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、１規定水酸化ナト
リウム、水、飽和食塩水で順次洗浄した。酢酸エチル層
を無水硫酸ナトリウム上で乾燥、減圧濃縮した。得られ
た残渣を酢酸エチルから再結晶して２−アミノ−５−
〔（４−フェニルブチル）チオ〕−１，３，４−チアジ
アゾール３００ｍｇを得た。 融点 １１１℃。
ール３２０ｍｇ、１−ブロモ−４−フェニルブタン４３
０ｍｇ及び炭酸カリウム３５０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド５ｍｌ中混合物を室温で一夜撹拌した。反
応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、１規定水酸化ナト
リウム、水、飽和食塩水で順次洗浄した。酢酸エチル層
を無水硫酸ナトリウム上で乾燥、減圧濃縮した。得られ
た残渣を酢酸エチルから再結晶して２−アミノ−５−
〔（４−フェニルブチル）チオ〕−１，３，４−チアジ
アゾール３００ｍｇを得た。 融点 １１１℃。
【００６４】参考例８ ｐ−アミノフェノール３．０６ｇと１０％水酸化ナトリ
ウム水溶液の３０ｍｌの混液に室温でジ−ｔｅｒｔ−ブ
チル−ジ−カルボネート６．４３ｇとテトラヒドロフラ
ン５ｍｌの溶液を加えた。８０℃で１２時間撹拌後冷却
し、反応液を酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、ｐ−（ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアミノ）フェノール４．３５ｇを得
た。得られた化合物３００ｍｇと炭酸カリウム２１０ｍ
ｇ、２−ブタノン１０ｍｌの混液を室温下３０分間撹拌
した後、室温で１−ブロム−４−フェニルブタン３１０
ｍｇと２−ブタノン５ｍｌの溶液を加え、８０℃で１２
時間撹拌した。冷却後反応液に水を加え、有機物を酢酸
エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、１
−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−４−（４
−フェニルブトキシ）ベンゼン０．２ｇを得た。得られ
た化合物に氷冷下トリフルオロ酢酸５ｍｌを加え、氷冷
下３０分間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥した。減圧濃縮してｐ−（４−フ
ェニルブトキシ）アニリン０．１３ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６６〜１．９０（４Ｈ，ｍ），２．６７（２
Ｈ，ｔ），３．９０（２Ｈ，ｔ），６．５６〜６．８２
（４Ｈ，ｍ），７．１３〜７．３３（５Ｈ，ｍ）
ウム水溶液の３０ｍｌの混液に室温でジ−ｔｅｒｔ−ブ
チル−ジ−カルボネート６．４３ｇとテトラヒドロフラ
ン５ｍｌの溶液を加えた。８０℃で１２時間撹拌後冷却
し、反応液を酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、ｐ−（ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアミノ）フェノール４．３５ｇを得
た。得られた化合物３００ｍｇと炭酸カリウム２１０ｍ
ｇ、２−ブタノン１０ｍｌの混液を室温下３０分間撹拌
した後、室温で１−ブロム−４−フェニルブタン３１０
ｍｇと２−ブタノン５ｍｌの溶液を加え、８０℃で１２
時間撹拌した。冷却後反応液に水を加え、有機物を酢酸
エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧濃縮して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製し、１
−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−４−（４
−フェニルブトキシ）ベンゼン０．２ｇを得た。得られ
た化合物に氷冷下トリフルオロ酢酸５ｍｌを加え、氷冷
下３０分間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥した。減圧濃縮してｐ−（４−フ
ェニルブトキシ）アニリン０．１３ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６６〜１．９０（４Ｈ，ｍ），２．６７（２
Ｈ，ｔ），３．９０（２Ｈ，ｔ），６．５６〜６．８２
（４Ｈ，ｍ），７．１３〜７．３３（５Ｈ，ｍ）
【００６５】参考例９ ５−フェニルペンタン−１−オール２０ｇ、４７％臭化
水素酸３０ｍｌの混液を６時間加熱還流する。反応液を
冷却しｎ−ヘキサンで抽出する。抽出液を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１００：１）で精製し、１−ブロモ−
５−フェニルペンタン１６．８７ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２８〜２．０３（６Ｈ，ｍ），２．６３（２
Ｈ，ｔ），３．４２（２Ｈ，ｔ），７．０８〜７．４０
（５Ｈ，ｍ）
水素酸３０ｍｌの混液を６時間加熱還流する。反応液を
冷却しｎ−ヘキサンで抽出する。抽出液を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１００：１）で精製し、１−ブロモ−
５−フェニルペンタン１６．８７ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２８〜２．０３（６Ｈ，ｍ），２．６３（２
Ｈ，ｔ），３．４２（２Ｈ，ｔ），７．０８〜７．４０
（５Ｈ，ｍ）
【００６６】参考例１０ （１）シクロペンタンメタノール１．１１ｇ、トリエチ
ルアミン１．５０ｇのジクロロメタン３０ｍｌ中の溶液
に、氷浴上で冷却しながら、メタンスルホニルクロリド
１．５２ｇを５分間で滴下した。反応混合物を室温で３
０分間撹拌し、水３回、飽和食塩水１回で順次洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下
濃縮してシクロペンタンメチルメタンスルホネート２．
０６ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．１〜１．９（８Ｈ），２．１〜２．５（１Ｈ，
ｍ），２．０２（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ） （２）（１）で得られたシクロペンタンメチルメタンス
ルホネート０．８０ｇ、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド０．６０ｇ及び無水炭酸カリウム０．９３ｇのＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド６ｍｌ中混合物を７０℃で一夜
撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水で洗っ
た。有機層を、１規定水酸化ナトリウム、水、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減
圧下濃縮してｐ−シクロペンタンメトキシベンズアルデ
ヒド４６０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２〜２．０（８Ｈ），２．４０（１Ｈ，ｑｕｉ
ｎｔｅｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７
Ｈｚ），６．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ），７．８
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ），９．８８（１Ｈ，ｓ）
ルアミン１．５０ｇのジクロロメタン３０ｍｌ中の溶液
に、氷浴上で冷却しながら、メタンスルホニルクロリド
１．５２ｇを５分間で滴下した。反応混合物を室温で３
０分間撹拌し、水３回、飽和食塩水１回で順次洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下
濃縮してシクロペンタンメチルメタンスルホネート２．
０６ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．１〜１．９（８Ｈ），２．１〜２．５（１Ｈ，
ｍ），２．０２（３Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ） （２）（１）で得られたシクロペンタンメチルメタンス
ルホネート０．８０ｇ、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド０．６０ｇ及び無水炭酸カリウム０．９３ｇのＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド６ｍｌ中混合物を７０℃で一夜
撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水で洗っ
た。有機層を、１規定水酸化ナトリウム、水、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減
圧下濃縮してｐ−シクロペンタンメトキシベンズアルデ
ヒド４６０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２〜２．０（８Ｈ），２．４０（１Ｈ，ｑｕｉ
ｎｔｅｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７
Ｈｚ），６．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ），７．８
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ），９．８８（１Ｈ，ｓ）
【００６７】参考例１１ ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド１．００ｇ、ヨウ化イ
ソアミル１．４６ｇ及び炭酸カリウム１．８０ｇのＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド１５ｍｌ中混合物を２日間室
温で撹拌した。反応混合物に水を加え、生成物を酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層を１規定水酸化ナトリウ
ム、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、減圧下濃縮してｐ−（３−メチルブト
キシ）ベンズアルデヒド１．３４ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．９７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．６〜１．
９（３Ｈ），４．０８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．
９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．８７（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８Ｈｚ），９．９０（１Ｈ，ｓ）
ソアミル１．４６ｇ及び炭酸カリウム１．８０ｇのＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド１５ｍｌ中混合物を２日間室
温で撹拌した。反応混合物に水を加え、生成物を酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層を１規定水酸化ナトリウ
ム、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、減圧下濃縮してｐ−（３−メチルブト
キシ）ベンズアルデヒド１．３４ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．９７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．６〜１．
９（３Ｈ），４．０８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．
９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．８７（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８Ｈｚ），９．９０（１Ｈ，ｓ）
【００６８】参考例１２〜１４ 参考例１１と同様にして以下の化合物を得た。 参考例１２ ｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベンズアルデヒド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：２．１８（２Ｈ，ｍ），２．８３（２Ｈ，ｂｒ
ｔ），４．０３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．８７
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２２（５Ｈ，ｂｒ），
７．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），９．８８（１Ｈ，
ｓ）
ｔ），４．０３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．８７
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２２（５Ｈ，ｂｒ），
７．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），９．８８（１Ｈ，
ｓ）
【００６９】参考例１３ ｐ−（３−フェノキシプロポキシ）ベンズアルデヒド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：２．３０（２Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），
４．１９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．３９（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．７〜７．３（７Ｈ），７．８７
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），９．９３（１Ｈ，ｓ）
４．１９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），４．３９（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．７〜７．３（７Ｈ），７．８７
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），９．９３（１Ｈ，ｓ）
【００７０】参考例１４ ３−メトキシ−４−（４−フェニルブトキシ）ベンズア
ルデヒド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜２．０（４Ｈ），２．６〜２．８（２
Ｈ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｂｒ，
ｔ），６．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．１〜
７．５（７Ｈ），９．８５（１Ｈ，ｓ）
ルデヒド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６〜２．０（４Ｈ），２．６〜２．８（２
Ｈ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｂｒ，
ｔ），６．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．１〜
７．５（７Ｈ），９．８５（１Ｈ，ｓ）
【００７１】参考例１５ ｐ−イソプロポキシベンズアルデヒド７７０ｍｇ、酢酸
アンモニウム４．０ｇのメタノール２０ｍｌ中溶液にナ
トリウムシアノボロハイドライド３３０ｍｇを加えた混
合物を室温で４０時間撹拌した。反応混合物に濃塩酸を
加え、ｐＨを２以下にした。濃縮したのち、残留物を水
に溶解し、酢酸エチルで洗浄した。水層に固体の水酸化
カリウムを加え、ｐＨを１１以上とした。酢酸エチルで
生成物を抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下濃縮
してｐ−イソプロポキシベンジルアミン１１０ｍｇを得
た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），１．５０（２
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），３．７１（２Ｈ，ｓ），４．４６
（１Ｈ，ｈｅｐ．，Ｊ＝６Ｈｚ），６．７５（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
アンモニウム４．０ｇのメタノール２０ｍｌ中溶液にナ
トリウムシアノボロハイドライド３３０ｍｇを加えた混
合物を室温で４０時間撹拌した。反応混合物に濃塩酸を
加え、ｐＨを２以下にした。濃縮したのち、残留物を水
に溶解し、酢酸エチルで洗浄した。水層に固体の水酸化
カリウムを加え、ｐＨを１１以上とした。酢酸エチルで
生成物を抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下濃縮
してｐ−イソプロポキシベンジルアミン１１０ｍｇを得
た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），１．５０（２
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），３．７１（２Ｈ，ｓ），４．４６
（１Ｈ，ｈｅｐ．，Ｊ＝６Ｈｚ），６．７５（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００７２】参考例１６〜１８ 参考例１５と同様にして以下の化合物を得た。 参考例１６ ｐ−（２−メチルプロポキシ）ベンジルアミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．０２（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５（２
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），２．０６（１Ｈ），３．７０（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．７７（２Ｈ，ｓ），６．８
４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９Ｈｚ）
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），２．０６（１Ｈ），３．７０（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．７７（２Ｈ，ｓ），６．８
４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９Ｈｚ）
【００７３】参考例１７ ｐ−（４−メチルペンチルオキシ）ベンジルアミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 中） δ：０．９７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），１．５（２
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），１．３〜２．１（５Ｈ），３．７
８（２Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），
６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），１．３〜２．１（５Ｈ），３．７
８（２Ｈ，ｓ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），
６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
【００７４】参考例１８ ｐ−シクロペンチルメトキシベンジルアミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２〜１．９（１０Ｈ），１．３８（１Ｈ，
ｍ），３．８０（２Ｈ，ｓ），３．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），６．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．
２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
ｍ），３．８０（２Ｈ，ｓ），３．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），６．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．
２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
【００７５】参考例１９ ｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベンズアルデヒド７５
０ｍｇ及びヒドロキシルアミン塩酸塩２．３ｇのメタノ
ール２０ｍｌ中溶液に、氷冷下、１０％水酸化ナトリウ
ムを加えｐＨを８に調整した。反応混合物を１時間撹拌
したのち、メタノールを蒸発させて得た残留物に水を加
え、生成物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を
水、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
し、濃縮して、ｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベンズ
オキシム７５０ｍｇを得た。この化合物のテトラヒドロ
フラン１０ｍｌ中溶液を水素化リチウムアルミニウム３
００ｍｇのテトラヒドロフラン６ｍｌ中懸濁液に−３０
℃で滴下した。−３０℃で２０分間撹拌したのち、室温
として２時間撹拌した。硫酸ナトリウム１０水和物で過
剰の水素化リチウムアルミニウムを分解したのち、反応
混合物を濾過した。濾液を酢酸エチルで希釈し、１０％
塩酸で洗った。塩酸層を固体水酸化カリウムでアルカリ
性とし、酢酸エチルで生成物を抽出した。酢酸エチル層
を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上
で乾燥し、減圧下濃縮してｐ−（３−フェニルプロポキ
シ）ベンジルアミン２６０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６（２Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），２．００〜２．３
５（２Ｈ，ｍ），２．７０〜３．００（２Ｈ，ｍ），
３．８１（２Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），６．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２４
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２５（５Ｈ，ｓ）
０ｍｇ及びヒドロキシルアミン塩酸塩２．３ｇのメタノ
ール２０ｍｌ中溶液に、氷冷下、１０％水酸化ナトリウ
ムを加えｐＨを８に調整した。反応混合物を１時間撹拌
したのち、メタノールを蒸発させて得た残留物に水を加
え、生成物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を
水、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
し、濃縮して、ｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベンズ
オキシム７５０ｍｇを得た。この化合物のテトラヒドロ
フラン１０ｍｌ中溶液を水素化リチウムアルミニウム３
００ｍｇのテトラヒドロフラン６ｍｌ中懸濁液に−３０
℃で滴下した。−３０℃で２０分間撹拌したのち、室温
として２時間撹拌した。硫酸ナトリウム１０水和物で過
剰の水素化リチウムアルミニウムを分解したのち、反応
混合物を濾過した。濾液を酢酸エチルで希釈し、１０％
塩酸で洗った。塩酸層を固体水酸化カリウムでアルカリ
性とし、酢酸エチルで生成物を抽出した。酢酸エチル層
を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上
で乾燥し、減圧下濃縮してｐ−（３−フェニルプロポキ
シ）ベンジルアミン２６０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．６（２Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），２．００〜２．３
５（２Ｈ，ｍ），２．７０〜３．００（２Ｈ，ｍ），
３．８１（２Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ），６．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２４
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２５（５Ｈ，ｓ）
【００７６】参考例２０〜２４ 参考例１９と同様にして以下の化合物を得た。 参考例２０ ｐ−（３−フェノキシプロポキシ）ベンジルアミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．７５（２Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），２．２３（２
Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．７６（２Ｈ，
ｓ），４．１４（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．８〜
７．４（９Ｈ）
Ｈ，ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），３．７６（２Ｈ，
ｓ），４．１４（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．８〜
７．４（９Ｈ）
【００７７】参考例２１ ｐ−ブチルベンジルアミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．２〜１．
７（４Ｈ），１．６（２Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），２．６０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．８２（２Ｈ，ｓ），
７．１〜７．３（４Ｈ）
７（４Ｈ），１．６（２Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），２．６０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．８２（２Ｈ，ｓ），
７．１〜７．３（４Ｈ）
【００７８】参考例２２ ｐ−イソプロピルベンジルアミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．６０（２
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），２．９０（１Ｈ，ｈｅｐｔｅｔ，
Ｊ＝７Ｈｚ），３．８３（２Ｈ，ｓ），７．２３（４
Ｈ，ｂｒ ｓ）
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），２．９０（１Ｈ，ｈｅｐｔｅｔ，
Ｊ＝７Ｈｚ），３．８３（２Ｈ，ｓ），７．２３（４
Ｈ，ｂｒ ｓ）
【００７９】参考例２３ Ｎ−メチル−Ｎ−〔ｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベ
ンジル〕アミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：２．０〜２．３（２Ｈ），２．２（１Ｈ，Ｄ2 Ｏで
消失），２．４３（３Ｈ，ｓ），２．７〜２．９（２
Ｈ），３．６９（２Ｈ，ｓ），３．９６（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．
２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２４（５Ｈ）
ンジル〕アミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：２．０〜２．３（２Ｈ），２．２（１Ｈ，Ｄ2 Ｏで
消失），２．４３（３Ｈ，ｓ），２．７〜２．９（２
Ｈ），３．６９（２Ｈ，ｓ），３．９６（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．
２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２４（５Ｈ）
【００８０】参考例２４ 〔３−メトキシ−４−（４−フェニルブトキシ）〕ベン
ジルアミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．５〜１．９（６Ｈ），２．７（２Ｈ，ｍ），
３．４９（２Ｈ，ｂｒｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），
４．０（２Ｈ，ｍ），６．８〜７．０（３Ｈ），７．２
〜７．３（５Ｈ）
ジルアミン ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．５〜１．９（６Ｈ），２．７（２Ｈ，ｍ），
３．４９（２Ｈ，ｂｒｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），
４．０（２Ｈ，ｍ），６．８〜７．０（３Ｈ），７．２
〜７．３（５Ｈ）
【００８１】参考例２５ ｐ−（３−メチルブトキシ）ベンズアルデヒド１．３５
ｇのテトラヒドロフラン５０ｍｌ中溶液に、−１０℃で
水素化リチウムアルミニウム３５０ｍｇを徐々に加え
た。室温で１時間撹拌したのち、過剰の水素化リチウム
アルミニウムを硫酸ナトリウム・１０水和物で分解し
た。この混合物から不溶物を濾別して得た濾液を濃縮し
てｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジルアルコール１．
３３ｇを得た。この化合物のベンゼン２５ｍｌ中溶液に
塩化チオニル３ｇを加え、室温で２時間撹拌した。反応
混合物を減圧下濃縮し、ｐ−（３−メチルブトキシ）ベ
ンジルクロリド１．４５ｇを得た。この化合物のＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ中溶液にナトリウムア
ジド３．３ｇの水１４ｍｌ中溶液を氷冷下加えた。反応
混合物を一夜室温で撹拌したのち、水で希釈し、生成物
を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩
水で洗い、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃
縮してｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジル アジド
１．４８ｇを得た。この化合物のテトラヒドロフラン３
０ｍｌ中溶液に水素化リチウムアルミニウム５００ｍｇ
を氷冷下加えた。反応混合物を徐々に室温として２時間
撹拌した。過剰の水素化リチウムアルミニウムを硫酸ナ
トリウム・１０水和物で分解した。不溶物を濾別した溶
液を減圧下濃縮してｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジ
ルアミン１．１３ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．９５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５（２
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），１．６〜１．９（３Ｈ），３．８
０（２Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），
６．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
ｇのテトラヒドロフラン５０ｍｌ中溶液に、−１０℃で
水素化リチウムアルミニウム３５０ｍｇを徐々に加え
た。室温で１時間撹拌したのち、過剰の水素化リチウム
アルミニウムを硫酸ナトリウム・１０水和物で分解し
た。この混合物から不溶物を濾別して得た濾液を濃縮し
てｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジルアルコール１．
３３ｇを得た。この化合物のベンゼン２５ｍｌ中溶液に
塩化チオニル３ｇを加え、室温で２時間撹拌した。反応
混合物を減圧下濃縮し、ｐ−（３−メチルブトキシ）ベ
ンジルクロリド１．４５ｇを得た。この化合物のＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ中溶液にナトリウムア
ジド３．３ｇの水１４ｍｌ中溶液を氷冷下加えた。反応
混合物を一夜室温で撹拌したのち、水で希釈し、生成物
を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩
水で洗い、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃
縮してｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジル アジド
１．４８ｇを得た。この化合物のテトラヒドロフラン３
０ｍｌ中溶液に水素化リチウムアルミニウム５００ｍｇ
を氷冷下加えた。反応混合物を徐々に室温として２時間
撹拌した。過剰の水素化リチウムアルミニウムを硫酸ナ
トリウム・１０水和物で分解した。不溶物を濾別した溶
液を減圧下濃縮してｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジ
ルアミン１．１３ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．９５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５（２
Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失），１．６〜１．９（３Ｈ），３．８
０（２Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），
６．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
【００８２】参考例２６ Ｎ−メチル−Ｌ−システイン塩酸塩１．７２ｇ、ニコチ
ンアルデヒド１．０７ｇ、水２ｍｌの混液を、室温で２
４時間撹拌する。反応液にピリジン０．８ｍｌ、エタノ
ール１ｍｌを加え析出する結晶を濾取、エタノールで洗
浄後乾燥して、３−メチル−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボン酸０．７４ｇを得た。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：２．２４，２．３２（（３Ｈ／２）×２，ｓ，Ｎ−
ＣＨ3 ），３．００〜３．６４（５／２Ｈ，ｍ），４．
１６〜４．３２（Ｈ／２，ｍ），４．９２，５．３６
（（Ｈ／２）×２，ｓ），７．１０〜７．３２（１Ｈ，
ｍ），７．８０〜８．００（１Ｈ，ｍ），８．４４〜
８．７２（２Ｈ，ｍ）
ンアルデヒド１．０７ｇ、水２ｍｌの混液を、室温で２
４時間撹拌する。反応液にピリジン０．８ｍｌ、エタノ
ール１ｍｌを加え析出する結晶を濾取、エタノールで洗
浄後乾燥して、３−メチル−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボン酸０．７４ｇを得た。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：２．２４，２．３２（（３Ｈ／２）×２，ｓ，Ｎ−
ＣＨ3 ），３．００〜３．６４（５／２Ｈ，ｍ），４．
１６〜４．３２（Ｈ／２，ｍ），４．９２，５．３６
（（Ｈ／２）×２，ｓ），７．１０〜７．３２（１Ｈ，
ｍ），７．８０〜８．００（１Ｈ，ｍ），８．４４〜
８．７２（２Ｈ，ｍ）
【００８３】参考例２７ ３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸３．１０ｇのジクロ
ロメタン３０ｍｌ中溶液に−７８℃でオキザリルクロリ
ド１．３１ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０
ｍｇを加えた。反応混合物を徐々に室温に温め、１２時
間撹拌した。生じた沈殿を濾取し乾燥して１，３−ジオ
キソ−５−（３−ピリジル）チアゾリジノ〔３，４−
ｃ〕オキサゾリジン塩酸塩１．９０ｇを得た。 融点
１７０℃（分解）
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸３．１０ｇのジクロ
ロメタン３０ｍｌ中溶液に−７８℃でオキザリルクロリ
ド１．３１ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０
ｍｇを加えた。反応混合物を徐々に室温に温め、１２時
間撹拌した。生じた沈殿を濾取し乾燥して１，３−ジオ
キソ−５−（３−ピリジル）チアゾリジノ〔３，４−
ｃ〕オキサゾリジン塩酸塩１．９０ｇを得た。 融点
１７０℃（分解）
【００８４】参考例２８ カルボエトキシエチレンジアミン０．８８ｇ、３−フェ
ニルプロピルブロマイド１．３３ｇと無水炭酸カリウム
１．０ｇのテトラヒドロフラン１０ｍｌの混合溶液を一
夜加熱還流した。不溶物を濾去後、濾液を減圧下濃縮し
て残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー（２５ｇ）
に付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１）で溶出して
Ｎ−カルボエトキシ−Ｎ′，Ｎ′−ビス（３−フェニル
プロピル）エチレンジアミン０．５４ｇとＮ−カルボ
エトキシ−Ｎ′−（３−フェニルプロピル）エチレンジ
アミン０．６０ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５６〜
２．０２（４Ｈ，ｍ），２．２０〜２．８７（１０Ｈ，
ｍ），３．００〜３．４５（２Ｈ，ｍ），４．１２（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．１３（１Ｈ，ｂｒ），７．
２１（１０Ｈ，ｓ） ＮＨＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２１（１Ｈ，ｓ），１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ），１．６１〜２．１０（２Ｈ，ｍ），２．４５
〜２．９３（６Ｈ，ｍ），３．２９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６
Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．１５
（１Ｈ，ｂｒ），７．２１（５Ｈ，ｓ）
ニルプロピルブロマイド１．３３ｇと無水炭酸カリウム
１．０ｇのテトラヒドロフラン１０ｍｌの混合溶液を一
夜加熱還流した。不溶物を濾去後、濾液を減圧下濃縮し
て残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー（２５ｇ）
に付した。ヘキサン−酢酸エチル（３：１）で溶出して
Ｎ−カルボエトキシ−Ｎ′，Ｎ′−ビス（３−フェニル
プロピル）エチレンジアミン０．５４ｇとＮ−カルボ
エトキシ−Ｎ′−（３−フェニルプロピル）エチレンジ
アミン０．６０ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．５６〜
２．０２（４Ｈ，ｍ），２．２０〜２．８７（１０Ｈ，
ｍ），３．００〜３．４５（２Ｈ，ｍ），４．１２（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．１３（１Ｈ，ｂｒ），７．
２１（１０Ｈ，ｓ） ＮＨＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．２１（１Ｈ，ｓ），１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ），１．６１〜２．１０（２Ｈ，ｍ），２．４５
〜２．９３（６Ｈ，ｍ），３．２９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６
Ｈｚ），４．１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），５．１５
（１Ｈ，ｂｒ），７．２１（５Ｈ，ｓ）
【００８５】参考例２９ Ｎ−カルボエトキシ−Ｎ′−（３−フェニルプロピル）
エチレンジアミン５８０ｍｇの濃塩酸１０ｍｌ溶液を封
管中１２０℃で一夜加熱した。溶媒を減圧下濃縮後、ト
ルエンを加え再び濃縮し、この操作を２回繰り返しＮ−
３−フェニルプロピルエチレンジアミン２塩酸塩６３０
ｍｇを得て精製せず次の反応に用いた。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：１．７６〜２．２０（２Ｈ，ｍ），２．４８〜３．
１０（４Ｈ，ｍ），３．２２（４Ｈ，ｓ），７．２８
（５Ｈ，ｓ），８．０〜１０．０（５Ｈ，ｂｒ）
エチレンジアミン５８０ｍｇの濃塩酸１０ｍｌ溶液を封
管中１２０℃で一夜加熱した。溶媒を減圧下濃縮後、ト
ルエンを加え再び濃縮し、この操作を２回繰り返しＮ−
３−フェニルプロピルエチレンジアミン２塩酸塩６３０
ｍｇを得て精製せず次の反応に用いた。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：１．７６〜２．２０（２Ｈ，ｍ），２．４８〜３．
１０（４Ｈ，ｍ），３．２２（４Ｈ，ｓ），７．２８
（５Ｈ，ｓ），８．０〜１０．０（５Ｈ，ｂｒ）
【００８６】参考例２９と同様にして以下の化合物を得
た。 参考例３０ Ｎ，Ｎ−ジ（３−フェニルプロピル）エチレンジアミン
・２塩酸塩 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：１．７６〜２．２４（４Ｈ，ｍ），２．４５〜２．
８１（４Ｈ，ｍ），２．９２〜３．６０（４Ｈ，ｍ），
３．３８（４Ｈ，ｓ），７．２６（１０Ｈ，ｓ）
た。 参考例３０ Ｎ，Ｎ−ジ（３−フェニルプロピル）エチレンジアミン
・２塩酸塩 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：１．７６〜２．２４（４Ｈ，ｍ），２．４５〜２．
８１（４Ｈ，ｍ），２．９２〜３．６０（４Ｈ，ｍ），
３．３８（４Ｈ，ｓ），７．２６（１０Ｈ，ｓ）
【００８７】参考例３１ ｐ−ヘプチルオキシベンジルアミン２００ｍｇ、グリセ
ロール酸（６５％水溶液）１５０ｍｇ及び１−ヒドロキ
シベンズトリアゾール１１０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド２ｍｌ中溶液にジシクロヘキシルカルボジイ
ミド１６０ｍｇを加えた。反応混合物を室温で１６時間
撹拌し、酢酸エチルで希釈したのち、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリ
カゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製してＮ−（ｐ
−ヘプチルオキシベンジル）−グリセルアミド８０ｍｇ
を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．９０（３Ｈ，ｂｒ ｔ），１．２〜１．５（８
Ｈ），１．７〜１．９（２Ｈ），３．０（１Ｈ，Ｄ2 Ｏ
で消失），３．８〜４．０（２Ｈ），３．９（１Ｈ，Ｄ
2 Ｏで消失），４．１〜４．３（１Ｈ），４．３８（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜
７．３（１Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失）
ロール酸（６５％水溶液）１５０ｍｇ及び１−ヒドロキ
シベンズトリアゾール１１０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド２ｍｌ中溶液にジシクロヘキシルカルボジイ
ミド１６０ｍｇを加えた。反応混合物を室温で１６時間
撹拌し、酢酸エチルで希釈したのち、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリ
カゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製してＮ−（ｐ
−ヘプチルオキシベンジル）−グリセルアミド８０ｍｇ
を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．９０（３Ｈ，ｂｒ ｔ），１．２〜１．５（８
Ｈ），１．７〜１．９（２Ｈ），３．０（１Ｈ，Ｄ2 Ｏ
で消失），３．８〜４．０（２Ｈ），３．９（１Ｈ，Ｄ
2 Ｏで消失），４．１〜４．３（１Ｈ），４．３８（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．０〜
７．３（１Ｈ，Ｄ2 Ｏで消失）
【００８８】実施例１ ３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸６００ｍｇ、テトラ
ヒドロフラン１０ｍｌの溶液に、４℃以下で、Ｌ−メチ
オニン メチルエステル・塩酸塩３９０ｍｇ、１−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール３９０ｍｇ、Ｎ−メチルモル
ホリン１９０ｍｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド４
４０ｍｇを順次加え、４℃以下で１時間、室温で１時間
撹拌する。生じた沈殿を濾去し、濾液を減圧濃縮、酢酸
エチル５０ｍｌを加え、不溶物を濾去し、濾液を０．５
Ｍのクエン酸水溶液、水、５％炭酸水素ナトリウム水溶
液、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
濃縮して、油状の〔Ｎ−〔３−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル−２−（３−ピリジルチアゾリジン）−４−カル
ボニル〕−Ｌ−メチオニン メチルエステル４４０ｍｇ
を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．３６（９Ｈ，ｓ），１．８〜２．２（３Ｈ，
ｍ），２．２〜２．６（２Ｈ，ｍ），３．２６（１Ｈ，
ｄｄ），３．６（１Ｈ，ｄｄ），３．７８（３Ｈ，
ｓ），４．６〜４．８（１Ｈ，ｍ），４．８６（１Ｈ，
ｄｄ），６．０２（１Ｈ，ｓ），７．３（１Ｈ，ｄ
ｄ），７．８〜８．０（１Ｈ，ｍ），８．５２（１Ｈ，
ｄｄ），８．６５（１Ｈ，ｄｄ）
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸６００ｍｇ、テトラ
ヒドロフラン１０ｍｌの溶液に、４℃以下で、Ｌ−メチ
オニン メチルエステル・塩酸塩３９０ｍｇ、１−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール３９０ｍｇ、Ｎ−メチルモル
ホリン１９０ｍｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド４
４０ｍｇを順次加え、４℃以下で１時間、室温で１時間
撹拌する。生じた沈殿を濾去し、濾液を減圧濃縮、酢酸
エチル５０ｍｌを加え、不溶物を濾去し、濾液を０．５
Ｍのクエン酸水溶液、水、５％炭酸水素ナトリウム水溶
液、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
濃縮して、油状の〔Ｎ−〔３−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル−２−（３−ピリジルチアゾリジン）−４−カル
ボニル〕−Ｌ−メチオニン メチルエステル４４０ｍｇ
を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．３６（９Ｈ，ｓ），１．８〜２．２（３Ｈ，
ｍ），２．２〜２．６（２Ｈ，ｍ），３．２６（１Ｈ，
ｄｄ），３．６（１Ｈ，ｄｄ），３．７８（３Ｈ，
ｓ），４．６〜４．８（１Ｈ，ｍ），４．８６（１Ｈ，
ｄｄ），６．０２（１Ｈ，ｓ），７．３（１Ｈ，ｄ
ｄ），７．８〜８．０（１Ｈ，ｍ），８．５２（１Ｈ，
ｄｄ），８．６５（１Ｈ，ｄｄ）
【００８９】実施例２ Ｎ−ホルミル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボン酸１．３ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌの混液に、４℃
以下でＬ−メチオニン メチルエステル・塩酸塩１．１
６ｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．１７ｇ、
Ｎ−メチルモルホリン５６０ｍｇ、ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド１．３２ｇを順次加え、４℃以下で１時
間、室温で１時間撹拌する。以下実施例１と同様に処理
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶出液；ク
ロロホルム−メタノール（９：１）混液〕で精製して、
油状のＮ−〔３−ホルミル−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−イルカルボニル〕−Ｌ−メチオニン メ
チルエステル８２０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：２．０８（３Ｈ，ｓ），１．８〜２．６（４Ｈ，
ｍ），３．２〜３．５（１Ｈ，ｍ），３．８（３Ｈ，
ｓ），３．５〜３．８（１Ｈ，ｍ），４．５〜４．８
（１Ｈ，ｍ），４．８〜５．１（１Ｈ，ｍ），６．１，
６．４１（合わせて１Ｈ，各ｓ），７．２〜７．５（１
Ｈ，ｍ），７．８〜８．０（１Ｈ，ｍ），８．３４（１
Ｈ，ｓ），８．４〜８．９（２Ｈ，ｍ）
−カルボン酸１．３ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌの混液に、４℃
以下でＬ−メチオニン メチルエステル・塩酸塩１．１
６ｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．１７ｇ、
Ｎ−メチルモルホリン５６０ｍｇ、ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド１．３２ｇを順次加え、４℃以下で１時
間、室温で１時間撹拌する。以下実施例１と同様に処理
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶出液；ク
ロロホルム−メタノール（９：１）混液〕で精製して、
油状のＮ−〔３−ホルミル−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−イルカルボニル〕−Ｌ−メチオニン メ
チルエステル８２０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：２．０８（３Ｈ，ｓ），１．８〜２．６（４Ｈ，
ｍ），３．２〜３．５（１Ｈ，ｍ），３．８（３Ｈ，
ｓ），３．５〜３．８（１Ｈ，ｍ），４．５〜４．８
（１Ｈ，ｍ），４．８〜５．１（１Ｈ，ｍ），６．１，
６．４１（合わせて１Ｈ，各ｓ），７．２〜７．５（１
Ｈ，ｍ），７．８〜８．０（１Ｈ，ｍ），８．３４（１
Ｈ，ｓ），８．４〜８．９（２Ｈ，ｍ）
【００９０】実施例３ Ｎ−〔３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−
ピリジル）チアゾリジン−４−イルカルボニル〕−Ｌ−
メチオニン メチルエステル４３０ｍｇに氷冷下トリフ
ルオロ酢酸５ｍｌを加え、室温で２時間撹拌し、反応液
を減圧濃縮する。残留物に酢酸エチルを加え再度減圧濃
縮する。残留物を酢酸エチル５ｍｌに溶解し、氷冷下、
４規定−塩化水素−ジオキサン溶液１ｍｌを加える。析
出した結晶を濾取し、結晶を酢酸エチルで洗い、乾燥し
て、Ｎ−〔２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボニル〕−Ｌ−メチオニン メチルエステル・２塩酸
塩３００ｍｇを得た。 融点 １１０℃ 元素分析値（Ｃ15Ｈ25Ｎ3 Ｏ4 Ｓ2 Ｃｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 理論値 ４０．３６ ５．６４ ９．４１ 実験値 ４０．００ ５．３５ ９．２４
ピリジル）チアゾリジン−４−イルカルボニル〕−Ｌ−
メチオニン メチルエステル４３０ｍｇに氷冷下トリフ
ルオロ酢酸５ｍｌを加え、室温で２時間撹拌し、反応液
を減圧濃縮する。残留物に酢酸エチルを加え再度減圧濃
縮する。残留物を酢酸エチル５ｍｌに溶解し、氷冷下、
４規定−塩化水素−ジオキサン溶液１ｍｌを加える。析
出した結晶を濾取し、結晶を酢酸エチルで洗い、乾燥し
て、Ｎ−〔２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボニル〕−Ｌ−メチオニン メチルエステル・２塩酸
塩３００ｍｇを得た。 融点 １１０℃ 元素分析値（Ｃ15Ｈ25Ｎ3 Ｏ4 Ｓ2 Ｃｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 理論値 ４０．３６ ５．６４ ９．４１ 実験値 ４０．００ ５．３５ ９．２４
【００９１】実施例４ ３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸６００ｍｇ、テトラ
ヒドロフラン５ｍｌの溶液に、４℃以下で、Ｌ−ロイシ
ン メチルエステル・塩酸塩３５０ｍｇ、１−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール３９０ｍｇ、Ｎ−メチルモルホリ
ン１９０ｍｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド４４０
ｍｇを順次加え、氷室内で一夜撹拌する。生じた沈殿を
濾去し、濾液を減圧濃縮し、酢酸エチル５０ｍｌを加
え、不溶物を濾去し、濾液を０．５Ｍクエン酸水溶液、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、油状のＮ−
〔３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−イルカルボニル〕−Ｌ−ロイ
シン メチルエステル８３０ｍｇを得た。得られた化合
物８００ｍｇに氷冷下トリフルオロ酢酸３ｍｌを加え室
温で３時間撹拌する。反応液を減圧濃縮し酢酸エチル１
０ｍｌを加え、再度減圧濃縮する。残留物を酢酸エチル
１０ｍｌに溶解し、氷冷下、２．２規定−塩化水素−ジ
オキサン溶液３ｍｌを加え、氷室で一夜静置する。結晶
を濾取し、酢酸エチルで洗い、乾燥してＮ−〔２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−イルカルボニル〕−Ｌ
−ロイシン メチルエステル・２塩酸塩５１０ｍｇを得
た。 融点 ９７〜１００℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ23Ｎ3 Ｏ3 Ｓ・２ＨＣｌ・４／５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４５．２４ ６．３１ ９．８９ ７．５５ 実験値 ４５．２１ ５．９８ ９．８５ ７．５５
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸６００ｍｇ、テトラ
ヒドロフラン５ｍｌの溶液に、４℃以下で、Ｌ−ロイシ
ン メチルエステル・塩酸塩３５０ｍｇ、１−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール３９０ｍｇ、Ｎ−メチルモルホリ
ン１９０ｍｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド４４０
ｍｇを順次加え、氷室内で一夜撹拌する。生じた沈殿を
濾去し、濾液を減圧濃縮し、酢酸エチル５０ｍｌを加
え、不溶物を濾去し、濾液を０．５Ｍクエン酸水溶液、
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して、油状のＮ−
〔３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−イルカルボニル〕−Ｌ−ロイ
シン メチルエステル８３０ｍｇを得た。得られた化合
物８００ｍｇに氷冷下トリフルオロ酢酸３ｍｌを加え室
温で３時間撹拌する。反応液を減圧濃縮し酢酸エチル１
０ｍｌを加え、再度減圧濃縮する。残留物を酢酸エチル
１０ｍｌに溶解し、氷冷下、２．２規定−塩化水素−ジ
オキサン溶液３ｍｌを加え、氷室で一夜静置する。結晶
を濾取し、酢酸エチルで洗い、乾燥してＮ−〔２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−イルカルボニル〕−Ｌ
−ロイシン メチルエステル・２塩酸塩５１０ｍｇを得
た。 融点 ９７〜１００℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ23Ｎ3 Ｏ3 Ｓ・２ＨＣｌ・４／５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４５．２４ ６．３１ ９．８９ ７．５５ 実験値 ４５．２１ ５．９８ ９．８５ ７．５５
【００９２】実施例４と同様にして実施例６〜８の化合
物を得た。 実施例５ ２−〔〔２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−イル
カルボニル〕アミノ〕酪酸 メチルエステル・２塩酸塩 融点 ９８〜１００℃ 元素分析値（Ｃ14Ｈ19Ｎ3 Ｏ3 Ｓ・２ＨＣｌ・Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） 理論値 ４２．００ 実験値 ４２．０８
物を得た。 実施例５ ２−〔〔２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−イル
カルボニル〕アミノ〕酪酸 メチルエステル・２塩酸塩 融点 ９８〜１００℃ 元素分析値（Ｃ14Ｈ19Ｎ3 Ｏ3 Ｓ・２ＨＣｌ・Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） 理論値 ４２．００ 実験値 ４２．０８
【００９３】実施例６ Ｎ−〔２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−イルカ
ルボニル〕−Ｄ−メチオニン エチルエステル・２塩酸
塩 融点 ９４〜９６℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ23Ｎ3 Ｏ3 Ｓ2 ・２ＨＣｌ・４／５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ４２．０７ ５．８７ ９．２０ １４．０４ １５．５２ 実験値 ４２．１７ ５．８９ ８．８９ １３．７７ １５．６８
ルボニル〕−Ｄ−メチオニン エチルエステル・２塩酸
塩 融点 ９４〜９６℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ23Ｎ3 Ｏ3 Ｓ2 ・２ＨＣｌ・４／５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ４２．０７ ５．８７ ９．２０ １４．０４ １５．５２ 実験値 ４２．１７ ５．８９ ８．８９ １３．７７ １５．６８
【００９４】実施例７ Ｎ−〔２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−イルカ
ルボニル〕−Ｌ−メチオニンアミド・２塩酸塩 融点 １３１℃ ＭＳ：ｍ／ｚ ３４０（Ｍ+ −２ＨＣｌ）
ルボニル〕−Ｌ−メチオニンアミド・２塩酸塩 融点 １３１℃ ＭＳ：ｍ／ｚ ３４０（Ｍ+ −２ＨＣｌ）
【００９５】実施例８ Ｎ−〔２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−イルカ
ルボニル〕グリシンメチルエステル・２塩酸塩 融点 １１６〜１１８℃ 元素分析値（Ｃ12Ｈ15Ｎ3 Ｏ3 Ｓ・２ＨＣｌ・Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 理論値 ３８．７２ ５．１４ １１．２９ 実験値 ３８．９９ ４．６２ １０．９９
ルボニル〕グリシンメチルエステル・２塩酸塩 融点 １１６〜１１８℃ 元素分析値（Ｃ12Ｈ15Ｎ3 Ｏ3 Ｓ・２ＨＣｌ・Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 理論値 ３８．７２ ５．１４ １１．２９ 実験値 ３８．９９ ４．６２ １０．９９
【００９６】実施例９ ３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸６００ｍｇ、テトラ
ヒドロフラン１０ｍｌの溶液に、４℃以下で３−メチル
チオプロピルアミン２００ｍｇ、１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール３９０ｍｇ、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド４４０ｍｇを順次加え、室温で３時間撹拌する。生
じた沈殿を濾去し、濾液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エ
チル５０ｍｌに溶解する。酢酸エチル溶液を０．５Ｍの
クエン酸水溶液、水、飽和炭酸ナトリウム水溶液、水で
順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して
Ｎ−（３−メチルチオプロピル）−３−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−
４−カルボキサミド２５０ｍｇを得た。得られた化合物
２５０ｍｇに氷冷下トリフルオロ酢酸２ｍｌを加え、実
施例４と同様に処理して油状のＮ−（３−メチルチオプ
ロピル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド・２塩酸塩１３０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：１．６〜１．９（２Ｈ），２．０８（３Ｈ），２．
４〜２．６（２Ｈ），３．０〜３．７（４Ｈ），４．０
５〜４．５０（１Ｈ），５．９〜６．１（１Ｈ），７．
４〜９．２（４Ｈ）
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸６００ｍｇ、テトラ
ヒドロフラン１０ｍｌの溶液に、４℃以下で３−メチル
チオプロピルアミン２００ｍｇ、１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール３９０ｍｇ、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド４４０ｍｇを順次加え、室温で３時間撹拌する。生
じた沈殿を濾去し、濾液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エ
チル５０ｍｌに溶解する。酢酸エチル溶液を０．５Ｍの
クエン酸水溶液、水、飽和炭酸ナトリウム水溶液、水で
順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して
Ｎ−（３−メチルチオプロピル）−３−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−
４−カルボキサミド２５０ｍｇを得た。得られた化合物
２５０ｍｇに氷冷下トリフルオロ酢酸２ｍｌを加え、実
施例４と同様に処理して油状のＮ−（３−メチルチオプ
ロピル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド・２塩酸塩１３０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：１．６〜１．９（２Ｈ），２．０８（３Ｈ），２．
４〜２．６（２Ｈ），３．０〜３．７（４Ｈ），４．０
５〜４．５０（１Ｈ），５．９〜６．１（１Ｈ），７．
４〜９．２（４Ｈ）
【００９７】実施例９と同様にして実施例１０〜１２の
化合物を得た。 実施例１０ Ｎ−ｎ−ヘプチル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン
−４−カルボキサミド・２塩酸塩 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：０．６〜１．１（３Ｈ），１．１〜１．８（１０
Ｈ），２．９〜３．９（４Ｈ），４．４〜４．７（１
Ｈ），６．２０（１Ｈ），８．０〜８．３（１Ｈ），
８．６〜９．３（３Ｈ）
化合物を得た。 実施例１０ Ｎ−ｎ−ヘプチル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン
−４−カルボキサミド・２塩酸塩 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：０．６〜１．１（３Ｈ），１．１〜１．８（１０
Ｈ），２．９〜３．９（４Ｈ），４．４〜４．７（１
Ｈ），６．２０（１Ｈ），８．０〜８．３（１Ｈ），
８．６〜９．３（３Ｈ）
【００９８】実施例１１ Ｎ−（２−ピリジル）−２−（３−ピリジル）チアゾリ
ジン−４−カルボキサミド・３塩酸塩 融点 １４５℃ 元素分析値（Ｃ14Ｈ17Ｎ4 ＯＳＣｌ3 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｓ（％） 理論値 ４２．４９ ４．３３ ８．１０ 実験値 ４２．８３ ４．５８ ８．０３
ジン−４−カルボキサミド・３塩酸塩 融点 １４５℃ 元素分析値（Ｃ14Ｈ17Ｎ4 ＯＳＣｌ3 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｓ（％） 理論値 ４２．４９ ４．３３ ８．１０ 実験値 ４２．８３ ４．５８ ８．０３
【００９９】実施例１２ Ｎ−（２−メトキシフェニル）−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２９℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ19Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 理論値 ４９．４９ ４．９３ １０．８２ 実験値 ４９．２９ ５．１８ １０．３８
チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２９℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ19Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 理論値 ４９．４９ ４．９３ １０．８２ 実験値 ４９．２９ ５．１８ １０．３８
【０１００】実施例１３ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸６
３０ｍｇ、ｍ−アニシジン３５０ｍｇ、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド６５０ｍｇ及び１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール４３０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド８ｍｌ中混合物を一夜室温で撹拌した。酢酸エチル５
０ｍｌで反応混合物を希釈し、不溶物を濾去した。濾液
を水２回、炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水
で順次洗浄し無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧濃
縮して得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィーにて
精製してＮ−（３−メトキシフェニル）−２−（３−ピ
リジル）チアゾリジン−４−カルボキシミド２３０ｍｇ
を得た。この化合物を酢酸エチルに溶解し２規定塩化水
素−ジオキサン溶液を１ｍｌ加えた。生じた固体を濾取
し、酢酸エチルで洗い乾燥してＮ−（３−メトキシフェ
ニル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カル
ボキサミド・２塩酸塩２５０ｍｇを得た。 融点 １２９℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ19Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４９．４９ ４．９３ １０．８２ ８．２６ 実験値 ４９．４９ ５．０８ １０．５６ ８．２４
３０ｍｇ、ｍ−アニシジン３５０ｍｇ、ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド６５０ｍｇ及び１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール４３０ｍｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド８ｍｌ中混合物を一夜室温で撹拌した。酢酸エチル５
０ｍｌで反応混合物を希釈し、不溶物を濾去した。濾液
を水２回、炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水
で順次洗浄し無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。減圧濃
縮して得られた残渣を分取薄層クロマトグラフィーにて
精製してＮ−（３−メトキシフェニル）−２−（３−ピ
リジル）チアゾリジン−４−カルボキシミド２３０ｍｇ
を得た。この化合物を酢酸エチルに溶解し２規定塩化水
素−ジオキサン溶液を１ｍｌ加えた。生じた固体を濾取
し、酢酸エチルで洗い乾燥してＮ−（３−メトキシフェ
ニル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カル
ボキサミド・２塩酸塩２５０ｍｇを得た。 融点 １２９℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ19Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４９．４９ ４．９３ １０．８２ ８．２６ 実験値 ４９．４９ ５．０８ １０．５６ ８．２４
【０１０１】実施例１３と同様にして実施例１４〜１５
の化合物を得た。 実施例１４ Ｎ−（２−フェニルエチル）−２−（３−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １１５℃ 元素分析値（Ｃ17Ｈ21Ｎ3 ＯＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５２．８５ ５．４８ １０．８８ ８．３０ 実験値 ５２．２５ ５．７４ １０．７７ ８．１６
の化合物を得た。 実施例１４ Ｎ−（２−フェニルエチル）−２−（３−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １１５℃ 元素分析値（Ｃ17Ｈ21Ｎ3 ＯＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５２．８５ ５．４８ １０．８８ ８．３０ 実験値 ５２．２５ ５．７４ １０．７７ ８．１６
【０１０２】実施例１５ Ｎ−（３−メチルチオプロピル）−２−（４−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 ７０℃ 元素分析値（Ｃ13Ｈ21Ｎ3 ＯＳ2 Ｃｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 理論値 ４２．１６ ５．７２ １１．３５ 実験値 ４１．６５ ５．８３ １０．８７
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 ７０℃ 元素分析値（Ｃ13Ｈ21Ｎ3 ＯＳ2 Ｃｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 理論値 ４２．１６ ５．７２ １１．３５ 実験値 ４１．６５ ５．８３ １０．８７
【０１０３】実施例１６ ピリジン−２−アルデヒド１．５０ｇとＬ−システイン
１．７０ｇの５０％エタノール中溶液を室温で４時間撹
拌した。不溶物を濾別した反応混合物を減圧下濃縮し、
シロップ状物質を得た。これをテトラヒドロフラン３５
ｍｌに溶解し、ジシクロヘキシルカルボジイミド２．８
９ｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．８９ｇ及
び３−メチルチオプロピルアミン１．６２ｇを加え室温
で一夜撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、不
溶物を濾過して除いた。濾液を水２回、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、水２回、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し減圧濃縮した。得られた残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチ
ル＝１：１）で精製して、Ｎ−（３−メチルチオプロピ
ル）−２−（２−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
キサミド１．５０ｇを得た。この化合物８００ｍｇを酢
酸エチルに溶解し、２規定塩化水素−ジオキサン溶液を
加えた。溶媒を留去して得られる残渣を乾燥して、Ｎ−
（３−メチルチオプロピル）−２−（２−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド・塩酸塩８３０ｍｇを
得た。 融点 ６５℃ 元素分析値（Ｃ13Ｈ22Ｎ3 Ｏ2 Ｓ2 Ｃｌとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４４．３７ ６．３０ １１．９４ １８．２２ 実験値 ４４．５９ ６．０９ １１．７９ １８．３８
１．７０ｇの５０％エタノール中溶液を室温で４時間撹
拌した。不溶物を濾別した反応混合物を減圧下濃縮し、
シロップ状物質を得た。これをテトラヒドロフラン３５
ｍｌに溶解し、ジシクロヘキシルカルボジイミド２．８
９ｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．８９ｇ及
び３−メチルチオプロピルアミン１．６２ｇを加え室温
で一夜撹拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、不
溶物を濾過して除いた。濾液を水２回、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、水２回、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し減圧濃縮した。得られた残渣をカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液；トルエン：酢酸エチ
ル＝１：１）で精製して、Ｎ−（３−メチルチオプロピ
ル）−２−（２−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
キサミド１．５０ｇを得た。この化合物８００ｍｇを酢
酸エチルに溶解し、２規定塩化水素−ジオキサン溶液を
加えた。溶媒を留去して得られる残渣を乾燥して、Ｎ−
（３−メチルチオプロピル）−２−（２−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド・塩酸塩８３０ｍｇを
得た。 融点 ６５℃ 元素分析値（Ｃ13Ｈ22Ｎ3 Ｏ2 Ｓ2 Ｃｌとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４４．３７ ６．３０ １１．９４ １８．２２ 実験値 ４４．５９ ６．０９ １１．７９ １８．３８
【０１０４】実施例１７ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸６
３０ｍｇ、３，４，５−トリメトキシアニリン５２０ｍ
ｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド６５０ｍｇ及び１
−ヒドロキシベンゾトリアゾール４３０ｍｇのＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド８ｍｌ混合物を室温で一夜撹拌し
た。酢酸エチルで反応混合物を希釈し、不溶物を濾去し
た。濾液を炭酸水素ナトリウム水、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、減圧下濃縮
した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出液；酢酸エチル）で精製して、Ｎ−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボキサミド３７０ｍｇを得た。この
化合物を酢酸エチル１０ｍｌに溶解し、２Ｎ塩化水素−
ジオキサン溶液２ｍｌを加えた。生じた固体を濾取し、
酢酸エチルで洗い、乾燥してＮ−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン
−４−カルボキサミド・２塩酸塩２００ｍｇを得た。
融点 １３０〜１３２℃ 元素分析値（Ｃ18Ｈ23Ｎ3 Ｏ4 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４８．２２ ５．１７ ９．３７ ７．１５ 実験値 ４８．２３ ５．３５ ９．０２ ７．１２
３０ｍｇ、３，４，５−トリメトキシアニリン５２０ｍ
ｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド６５０ｍｇ及び１
−ヒドロキシベンゾトリアゾール４３０ｍｇのＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド８ｍｌ混合物を室温で一夜撹拌し
た。酢酸エチルで反応混合物を希釈し、不溶物を濾去し
た。濾液を炭酸水素ナトリウム水、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、減圧下濃縮
した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出液；酢酸エチル）で精製して、Ｎ−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボキサミド３７０ｍｇを得た。この
化合物を酢酸エチル１０ｍｌに溶解し、２Ｎ塩化水素−
ジオキサン溶液２ｍｌを加えた。生じた固体を濾取し、
酢酸エチルで洗い、乾燥してＮ−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン
−４−カルボキサミド・２塩酸塩２００ｍｇを得た。
融点 １３０〜１３２℃ 元素分析値（Ｃ18Ｈ23Ｎ3 Ｏ4 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４８．２２ ５．１７ ９．３７ ７．１５ 実験値 ４８．２３ ５．３５ ９．０２ ７．１２
【０１０５】実施例１７と同様にして実施例１８〜３２
の化合物を得た。 実施例１８ Ｎ−フェニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １４５〜１４８℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：３．４〜４．２（２Ｈ），４．９６（１Ｈ，ｔ），
６．３１，６．３５（合せて１Ｈ），７．０〜７．４
（３Ｈ），７．６〜７．８（２Ｈ），８．１０（１Ｈ，
ｄｄ），８．９〜９．０（２Ｈ），９．３（１Ｈ）
の化合物を得た。 実施例１８ Ｎ−フェニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １４５〜１４８℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：３．４〜４．２（２Ｈ），４．９６（１Ｈ，ｔ），
６．３１，６．３５（合せて１Ｈ），７．０〜７．４
（３Ｈ），７．６〜７．８（２Ｈ），８．１０（１Ｈ，
ｄｄ），８．９〜９．０（２Ｈ），９．３（１Ｈ）
【０１０６】実施例１９ Ｎ−ベンジル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２６〜１３０℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：３．２〜３．７（２Ｈ），４．３〜４．６（３
Ｈ），６．０８，６．１４（合せて１Ｈ），７．３（５
Ｈ），８．０６（１Ｈ，ｄｄ），８．７〜９．０（２
Ｈ），９．１〜９．２（１Ｈ）
−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２６〜１３０℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：３．２〜３．７（２Ｈ），４．３〜４．６（３
Ｈ），６．０８，６．１４（合せて１Ｈ），７．３（５
Ｈ），８．０６（１Ｈ，ｄｄ），８．７〜９．０（２
Ｈ），９．１〜９．２（１Ｈ）
【０１０７】実施例２０ Ｎ−（ｐ−メチルベンジル）−２−（３−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １３０〜１３６℃ 元素分析値（Ｃ17Ｈ21Ｎ3 ＯＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５２．８５ ５．４８ １０．８８ ８．３０ 実験値 ５２．６４ ５．５６ １０．８１ ８．３８
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １３０〜１３６℃ 元素分析値（Ｃ17Ｈ21Ｎ3 ＯＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５２．８５ ５．４８ １０．８８ ８．３０ 実験値 ５２．６４ ５．５６ １０．８１ ８．３８
【０１０８】実施例２１ Ｎ−（４−フェニルブチル）−２−（３−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １００〜１０４℃ 元素分析値（Ｃ19Ｈ25Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・０．２Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５４．３６ ６．１５ １０．０１ ７．６４ １６．８４ 実験値 ５４．４４ ６．１６ １０．０８ ７．６８ １６．５９
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １００〜１０４℃ 元素分析値（Ｃ19Ｈ25Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・０．２Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５４．３６ ６．１５ １０．０１ ７．６４ １６．８４ 実験値 ５４．４４ ６．１６ １０．０８ ７．６８ １６．５９
【０１０９】実施例２２ Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチル−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １０５〜１１０℃ 元素分析値（Ｃ17Ｈ21Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５０．５０ ５．７３ １０．３９ ７．９３ １７．５４ 実験値 ５０．６３ ５．６０ １０．４３ ７．９８ １７．２６
ゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １０５〜１１０℃ 元素分析値（Ｃ17Ｈ21Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５０．５０ ５．７３ １０．３９ ７．９３ １７．５４ 実験値 ５０．６３ ５．６０ １０．４３ ７．９８ １７．２６
【０１１０】実施例２３ Ｎ−〔ｐ−（４−フェニルブトキシ）ベンジル〕−２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 １３３〜１３５℃ 元素分析値（Ｃ26Ｈ31Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．２Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５９．５８ ６．０４ ８．０２ ６．１２ １３．５３ 実験値 ５９．５８ ６．０２ ７．９６ ６．２３ １３．５８
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 １３３〜１３５℃ 元素分析値（Ｃ26Ｈ31Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．２Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５９．５８ ６．０４ ８．０２ ６．１２ １３．５３ 実験値 ５９．５８ ６．０２ ７．９６ ６．２３ １３．５８
【０１１１】実施例２４ Ｎ−（ｐ−ヘプチルオキシベンジル）−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １５５〜１６０℃ 元素分析値（Ｃ23Ｈ33Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．３Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５６．１６ ６．８８ ８．５４ ６．５２ １４．４１ 実験値 ５６．１１ ６．８４ ８．４７ ６．５３ １４．５０
ジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １５５〜１６０℃ 元素分析値（Ｃ23Ｈ33Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．３Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５６．１６ ６．８８ ８．５４ ６．５２ １４．４１ 実験値 ５６．１１ ６．８４ ８．４７ ６．５３ １４．５０
【０１１２】実施例２５ Ｎ−〔ｍ−（４−フェニルブトキシ）ベンジル〕−２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 ８８〜９３℃ 元素分析値（Ｃ26Ｈ31Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５８．９７ ６．０９ ７．９４ ６．０６ １３．３９ 実験値 ５８．９６ ６．０７ ７．９６ ６．１１ １３．３６
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 ８８〜９３℃ 元素分析値（Ｃ26Ｈ31Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５８．９７ ６．０９ ７．９４ ６．０６ １３．３９ 実験値 ５８．９６ ６．０７ ７．９６ ６．１１ １３．３６
【０１１３】実施例２６ Ｎ−（ｍ−ヘプチルオキシベンジル）−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １３５〜１４０℃ 元素分析値（Ｃ23Ｈ33Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５６．７６ ６．８４ ８．６４ ６．５９ 実験値 ５６．６８ ６．８５ ８．６９ ６．６２
ジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １３５〜１４０℃ 元素分析値（Ｃ23Ｈ33Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５６．７６ ６．８４ ８．６４ ６．５９ 実験値 ５６．６８ ６．８５ ８．６９ ６．６２
【０１１４】実施例２７ Ｎ−〔５−〔（４−フェニルブチル）チオ〕−１，３，
４−チアジアゾール−２−イル〕−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 ９９〜１０５℃ 元素分析値（Ｃ21Ｈ25ＯＳ3 Ｃｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４７．５４ ４．７５ １３．２０ １８．１３ 実験値 ４７．５８ ４．８４ １３．０９ １８．２８
４−チアジアゾール−２−イル〕−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 ９９〜１０５℃ 元素分析値（Ｃ21Ｈ25ＯＳ3 Ｃｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４７．５４ ４．７５ １３．２０ １８．１３ 実験値 ４７．５８ ４．８４ １３．０９ １８．２８
【０１１５】実施例２８ Ｎ−（３−メチルチオプロピル）−２−（３−キノリ
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２２〜１２６℃ 元素分析値（Ｃ17Ｈ23Ｎ3 ＯＳ2 Ｃｌ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ４７．５５ ５．６３ ９．７８ １４．９３ １６．５１ 実験値 ４７．５７ ５．７２ ９．７５ １５．０２ １６．４７
ル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２２〜１２６℃ 元素分析値（Ｃ17Ｈ23Ｎ3 ＯＳ2 Ｃｌ2 ・０．５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ４７．５５ ５．６３ ９．７８ １４．９３ １６．５１ 実験値 ４７．５７ ５．７２ ９．７５ １５．０２ １６．４７
【０１１６】実施例２９ Ｎ−（４−フェニルブチル）−２−（３−キノリル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １１６〜１２２℃ 元素分析値（Ｃ23Ｈ27Ｎ3 ＯＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５９．４８ ５．８６ ９．０５ ６．９０ 実験値 ５９．１３ ５．８４ ８．９９ ７．１４
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １１６〜１２２℃ 元素分析値（Ｃ23Ｈ27Ｎ3 ＯＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５９．４８ ５．８６ ９．０５ ６．９０ 実験値 ５９．１３ ５．８４ ８．９９ ７．１４
【０１１７】実施例３０ Ｎ−シクロヘキシル−２−（３−ピリジル）チアゾリジ
ン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １３９℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：０．９０〜１．９５（１１Ｈ，ｍ），３．０６〜
３．６９（３Ｈ，ｍ），４．３９（１Ｈ，ｄｄ），６．
０７，６．１４（合せて１Ｈ，各ｓ），８．０３（１
Ｈ，ｄｄ），８．４６〜９．１３（３Ｈ，ｍ）
ン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １３９℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：０．９０〜１．９５（１１Ｈ，ｍ），３．０６〜
３．６９（３Ｈ，ｍ），４．３９（１Ｈ，ｄｄ），６．
０７，６．１４（合せて１Ｈ，各ｓ），８．０３（１
Ｈ，ｄｄ），８．４６〜９．１３（３Ｈ，ｍ）
【０１１８】実施例３１ Ｎ−（３−メチルブチル）−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １１５℃ 元素分析値（Ｃ14Ｈ22Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・０．３Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４７．１４ ６．３９ １１．７８ ８．９９ 実験値 ４７．２４ ６．５９ １１．５６ ９．１０
ゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １１５℃ 元素分析値（Ｃ14Ｈ22Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・０．３Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４７．１４ ６．３９ １１．７８ ８．９９ 実験値 ４７．２４ ６．５９ １１．５６ ９．１０
【０１１９】実施例３２ Ｎ−〔ｐ−（４−フェニルブトキシ）フェニル〕−２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 １１７℃ 元素分析値（Ｃ25Ｈ29Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５９．２８ ５．７７ ８．３０ ６．３３ 実験値 ５９．６５ ５．７６ ８．４０ ６．３９
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 １１７℃ 元素分析値（Ｃ25Ｈ29Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５９．２８ ５．７７ ８．３０ ６．３３ 実験値 ５９．６５ ５．７６ ８．４０ ６．３９
【０１２０】実施例３３ ２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン酸５
１０ｍｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール４９０ｍ
ｇ、ノナデシルアミン６８０ｍｇ、テトラヒドロフラン
１２ｍｌの混合物に、氷冷下ジシクロヘキシルカルボジ
イミド５００ｍｇとテトラヒドロフラン３ｍｌの溶液を
滴下し、氷冷下１時間撹拌後、室温で１２時間撹拌し
た。酢酸エチル３０ｍｌで反応混合物を希釈し、不溶物
を濾去した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精製し、
酢酸エチルから再結晶して、Ｎ−ノナデシル−２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド２５０
ｍｇを得た。 融点 １０８〜１１０℃ 元素分析値（Ｃ28Ｈ48Ｎ3 ＯＳ・１／５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ７０．３０ １０．２０ ８．７８ ６．７０ 実験値 ７０．３７ １０．３４ ８．８３ ６．８０
１０ｍｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール４９０ｍ
ｇ、ノナデシルアミン６８０ｍｇ、テトラヒドロフラン
１２ｍｌの混合物に、氷冷下ジシクロヘキシルカルボジ
イミド５００ｍｇとテトラヒドロフラン３ｍｌの溶液を
滴下し、氷冷下１時間撹拌後、室温で１２時間撹拌し
た。酢酸エチル３０ｍｌで反応混合物を希釈し、不溶物
を濾去した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精製し、
酢酸エチルから再結晶して、Ｎ−ノナデシル−２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド２５０
ｍｇを得た。 融点 １０８〜１１０℃ 元素分析値（Ｃ28Ｈ48Ｎ3 ＯＳ・１／５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ７０．３０ １０．２０ ８．７８ ６．７０ 実験値 ７０．３７ １０．３４ ８．８３ ６．８０
【０１２１】実施例３３と同様にして実施例３４〜３５
の化合物を得た。 実施例３４ Ｎ−デシル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−
カルボキサミド 融点 ８８℃ 元素分析値（Ｃ19Ｈ30Ｎ3 ＯＳとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ６５．４８ ８．６８ １２．０６ ９．２０ 実験値 ６５．１６ ８．８０ １１．９１ ９．０４
の化合物を得た。 実施例３４ Ｎ−デシル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−
カルボキサミド 融点 ８８℃ 元素分析値（Ｃ19Ｈ30Ｎ3 ＯＳとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ６５．４８ ８．６８ １２．０６ ９．２０ 実験値 ６５．１６ ８．８０ １１．９１ ９．０４
【０１２２】実施例３５ Ｎ−〔２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル〕−３−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミド 融点 ７６℃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．３４（９Ｈ，ｓ），２．７２（２Ｈ，ｔ），
３．２２（１Ｈ，ｄｄ），３．４３〜３．７０（３Ｈ，
ｍ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ），５．９９（１Ｈ，
ｓ），６．７０〜７．０３（４Ｈ，ｍ），７．１９〜
７．３２（１Ｈ，ｍ），７．７５〜７．８４（１Ｈ，
ｍ），８．５１（１Ｈ，ｄｄ），８．６３（１Ｈ，ｄ）
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミド 融点 ７６℃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．３４（９Ｈ，ｓ），２．７２（２Ｈ，ｔ），
３．２２（１Ｈ，ｄｄ），３．４３〜３．７０（３Ｈ，
ｍ），４．８０（１Ｈ，ｄｄ），５．９９（１Ｈ，
ｓ），６．７０〜７．０３（４Ｈ，ｍ），７．１９〜
７．３２（１Ｈ，ｍ），７．７５〜７．８４（１Ｈ，
ｍ），８．５１（１Ｈ，ｄｄ），８．６３（１Ｈ，ｄ）
【０１２３】実施例３６ ３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸７９０ｍｇ、Ｎ，Ｎ
−ジメチルエチレンジアミン２２０ｍｇ、１−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール５２０ｍｇ、テトラヒドロフラン
１０ｍｌの混合物を氷冷下、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド５２０ｍｇとテトラヒドロフラン５ｍｌの溶液を
滴下し、氷冷下１時間撹拌後、室温で１２時間撹拌し
た。酢酸エチル３０ｍｌで反応混合物を希釈し、不溶物
を濾去した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。減圧濃縮して、Ｎ−〔２−（Ｎ′，Ｎ′−ジメチル
アミノ）エチル〕−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
キサミドを得た。得られた化合物にトリフルオロ酢酸５
ｍｌを加え、室温で１時間撹拌した。反応液を減圧濃縮
し、残留物を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホル
ム：メタノール：濃アンモニア水＝１０：１：０．１）
にて精製して、Ｎ−〔２−（Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミ
ノ）エチル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボキサミドを得た。この化合物を酢酸エチルに溶
解し、２規定塩化水素−ジオキサン溶液を３ｍｌ加え
た。生じた固体を濾取し、酢酸エチルで洗い、乾燥し
て、Ｎ−〔２−（Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノ）エチ
ル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
キサミド・３塩酸塩１９０ｍｇを得た。 融点 １５０
℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：２．６３〜３．８０（１２Ｈ，ｍ），４．２６〜
４．５０（１Ｈ，ｍ），６．０１，６．０８（合せて１
Ｈ，各ｓ），８．０６（１Ｈ，ｄｄ），８．７０〜９．
１８（３Ｈ，ｍ）
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸７９０ｍｇ、Ｎ，Ｎ
−ジメチルエチレンジアミン２２０ｍｇ、１−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール５２０ｍｇ、テトラヒドロフラン
１０ｍｌの混合物を氷冷下、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド５２０ｍｇとテトラヒドロフラン５ｍｌの溶液を
滴下し、氷冷下１時間撹拌後、室温で１２時間撹拌し
た。酢酸エチル３０ｍｌで反応混合物を希釈し、不溶物
を濾去した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。減圧濃縮して、Ｎ−〔２−（Ｎ′，Ｎ′−ジメチル
アミノ）エチル〕−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル）−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
キサミドを得た。得られた化合物にトリフルオロ酢酸５
ｍｌを加え、室温で１時間撹拌した。反応液を減圧濃縮
し、残留物を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。減圧濃縮して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；クロロホル
ム：メタノール：濃アンモニア水＝１０：１：０．１）
にて精製して、Ｎ−〔２−（Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミ
ノ）エチル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボキサミドを得た。この化合物を酢酸エチルに溶
解し、２規定塩化水素−ジオキサン溶液を３ｍｌ加え
た。生じた固体を濾取し、酢酸エチルで洗い、乾燥し
て、Ｎ−〔２−（Ｎ′，Ｎ′−ジメチルアミノ）エチ
ル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボ
キサミド・３塩酸塩１９０ｍｇを得た。 融点 １５０
℃ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：２．６３〜３．８０（１２Ｈ，ｍ），４．２６〜
４．５０（１Ｈ，ｍ），６．０１，６．０８（合せて１
Ｈ，各ｓ），８．０６（１Ｈ，ｄｄ），８．７０〜９．
１８（３Ｈ，ｍ）
【０１２４】実施例３７ Ｎ−〔２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル〕−３−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミド５４０ｍｇ、炭酸カ
リウム１８０ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０
ｍｌの混液に室温下１−ブロモ−４−フェニルブタン２
８０ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの５ｍｌ溶液
を加えた。８０℃で３日間撹拌し、冷却後反応液に２０
ｍｌを加え、有機物を酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝１：
３）で精製して、Ｎ−〔２−〔ｐ−（４−フェニルブト
キシ）フェニル〕エチル〕−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド３６０ｍｇを得た。得られた化合物にトリ
フルオロ酢酸５ｍｌを加え、室温で１．５時間撹拌し
た。反応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶解
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮して
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出液；酢酸エチル）にて精製して、Ｎ−〔２−〔ｐ
−（４−フェニルブトキシ）フェニル〕エチル〕−２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド２
３０ｍｇを得た。この化合物を酢酸エチルに溶解し、２
規定塩化水素−ジオキサン溶液を１ｍｌ加えた。生じた
固体を濾取し、酢酸エチルで洗い、乾燥してＮ−〔２−
〔ｐ−（４−フェニルブトキシ）フェニル〕エチル〕−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ド・２塩酸塩１３０ｍｇを得た。 融点 １０２℃ 元素分析値（Ｃ27Ｈ33Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ６０．６７ ６．２２ ７．８６ ６．００ 実験値 ６０．５１ ６．１５ ７．９４ ５．９７
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミド５４０ｍｇ、炭酸カ
リウム１８０ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０
ｍｌの混液に室温下１−ブロモ−４−フェニルブタン２
８０ｍｇとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの５ｍｌ溶液
を加えた。８０℃で３日間撹拌し、冷却後反応液に２０
ｍｌを加え、有機物を酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝１：
３）で精製して、Ｎ−〔２−〔ｐ−（４−フェニルブト
キシ）フェニル〕エチル〕−３−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド３６０ｍｇを得た。得られた化合物にトリ
フルオロ酢酸５ｍｌを加え、室温で１．５時間撹拌し
た。反応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶解
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮して
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出液；酢酸エチル）にて精製して、Ｎ−〔２−〔ｐ
−（４−フェニルブトキシ）フェニル〕エチル〕−２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド２
３０ｍｇを得た。この化合物を酢酸エチルに溶解し、２
規定塩化水素−ジオキサン溶液を１ｍｌ加えた。生じた
固体を濾取し、酢酸エチルで洗い、乾燥してＮ−〔２−
〔ｐ−（４−フェニルブトキシ）フェニル〕エチル〕−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ド・２塩酸塩１３０ｍｇを得た。 融点 １０２℃ 元素分析値（Ｃ27Ｈ33Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ６０．６７ ６．２２ ７．８６ ６．００ 実験値 ６０．５１ ６．１５ ７．９４ ５．９７
【０１２５】実施例３７と同様にして実施例３８〜３９
の化合物を得た。 実施例３８ Ｎ−〔２−〔ｐ−（３−フェニルプロポキシ）フェニ
ル〕エチル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 ９８℃ 元素分析値（Ｃ26Ｈ31Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．３Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５９．３８ ６．０６ ７．９９ ６．１０ １３．４８ 実験値 ５９．３７ ６．０５ ８．０１ ６．０９ １３．３１
の化合物を得た。 実施例３８ Ｎ−〔２−〔ｐ−（３−フェニルプロポキシ）フェニ
ル〕エチル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４
−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 ９８℃ 元素分析値（Ｃ26Ｈ31Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．３Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５９．３８ ６．０６ ７．９９ ６．１０ １３．４８ 実験値 ５９．３７ ６．０５ ８．０１ ６．０９ １３．３１
【０１２６】実施例３９ Ｎ−〔２−〔ｐ−（２−フェニルエトキシ）フェニル〕
エチル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド・２塩酸塩 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：２．５８〜３．６４（８Ｈ，ｍ），４．１１〜４．
４０（３Ｈ，ｍ），６．０３（１Ｈ，ｓ），６．８３〜
７．３５（５Ｈ，ｍ），８．０２（１Ｈ，ｄｄ），８．
６６〜８．８５（１Ｈ，ｍ），８．８８〜９．０１（１
Ｈ，ｍ），９．０７（１Ｈ，ｄｄ） ＭＳ：ｍ／ｚ ４３３（Ｍ+ −２×ＨＣｌ）
エチル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド・２塩酸塩 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ） δ：２．５８〜３．６４（８Ｈ，ｍ），４．１１〜４．
４０（３Ｈ，ｍ），６．０３（１Ｈ，ｓ），６．８３〜
７．３５（５Ｈ，ｍ），８．０２（１Ｈ，ｄｄ），８．
６６〜８．８５（１Ｈ，ｍ），８．８８〜９．０１（１
Ｈ，ｍ），９．０７（１Ｈ，ｄｄ） ＭＳ：ｍ／ｚ ４３３（Ｍ+ −２×ＨＣｌ）
【０１２７】実施例４０ ｐ−（３−メチルブトキシ）ベンジルアミン１．１３
ｇ、２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン
酸１．２９ｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド１．２
５ｇ、及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール０．８２
ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ中混合物を
室温で一夜撹拌した。酢酸エチル１００ｍｌで反応混合
物を希釈し、不溶物を濾別した。濾液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：
酢酸エチル）で精製し、Ｎ−〔ｐ−（３−メチルブトキ
シ）ベンジル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−
４−カルボキサミド２．２０ｇを得た。この化合物の酢
酸エチル６０ｍｌ中溶液に４規定塩化水素−ジオキサン
溶液４ｍｌを加えた。分離した固体を濾取し、酢酸エチ
ルで洗い、減圧下乾燥してＮ−〔ｐ−（３−メチルブト
キシ）ベンジル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン
−４−カルボキサミド・２塩酸塩２．３０ｇを得た。
融点 １２０〜１２８℃ 元素分析値（Ｃ21Ｈ29Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．４Ｈ2 Ｏ として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５４．１７ ６．４５ ９．０２ ６．８９ １５．２３ 実験値 ５４．２３ ６．３７ ８．９６ ７．００ １５．１６
ｇ、２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボン
酸１．２９ｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド１．２
５ｇ、及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール０．８２
ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ中混合物を
室温で一夜撹拌した。酢酸エチル１００ｍｌで反応混合
物を希釈し、不溶物を濾別した。濾液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下濃縮した。得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：
酢酸エチル）で精製し、Ｎ−〔ｐ−（３−メチルブトキ
シ）ベンジル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−
４−カルボキサミド２．２０ｇを得た。この化合物の酢
酸エチル６０ｍｌ中溶液に４規定塩化水素−ジオキサン
溶液４ｍｌを加えた。分離した固体を濾取し、酢酸エチ
ルで洗い、減圧下乾燥してＮ−〔ｐ−（３−メチルブト
キシ）ベンジル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン
−４−カルボキサミド・２塩酸塩２．３０ｇを得た。
融点 １２０〜１２８℃ 元素分析値（Ｃ21Ｈ29Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 ・０．４Ｈ2 Ｏ として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５４．１７ ６．４５ ９．０２ ６．８９ １５．２３ 実験値 ５４．２３ ６．３７ ８．９６ ７．００ １５．１６
【０１２８】実施例４１〜４８ 実施例４０と同様にして以下の化合物を得た。 実施例４１ Ｎ−〔ｐ−（２−メチルプロポキシ）ベンジル〕−２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 １２５〜１３３℃ 元素分析値（Ｃ20Ｈ27Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５４．０５ ６．１２ ９．４５ ７．２２ 実験値 ５３．６９ ６．１９ ９．３２ ６．９７
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 １２５〜１３３℃ 元素分析値（Ｃ20Ｈ27Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５４．０５ ６．１２ ９．４５ ７．２２ 実験値 ５３．６９ ６．１９ ９．３２ ６．９７
【０１２９】実施例４２ Ｎ−〔ｐ−（４−メチルペンチルオキシ）ベンジル〕−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ド・２塩酸塩 融点 １２４〜１２８℃ 元素分析値（Ｃ22Ｈ31Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５４．８８ ６．７０ ８．７３ ６．６６ １４．７３ 実験値 ５４．７９ ６．６９ ８．７０ ６．４８ １４．８０
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ド・２塩酸塩 融点 １２４〜１２８℃ 元素分析値（Ｃ22Ｈ31Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５４．８８ ６．７０ ８．７３ ６．６６ １４．７３ 実験値 ５４．７９ ６．６９ ８．７０ ６．４８ １４．８０
【０１３０】実施例４３ Ｎ−（ｐ−シクロペンチルメトキシベンジル）−２−
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 ５５〜６０℃ 元素分析値（Ｃ22Ｈ29Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５６．１７ ６．２１ ８．９３ ６．８２ 実験値 ５５．８３ ６．１１ ８．６５ ６．８４
（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・
２塩酸塩 融点 ５５〜６０℃ 元素分析値（Ｃ22Ｈ29Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５６．１７ ６．２１ ８．９３ ６．８２ 実験値 ５５．８３ ６．１１ ８．６５ ６．８４
【０１３１】実施例４４ Ｎ−〔ｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベンジル〕−２
−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド
・２塩酸塩 融点 １１０〜１１６℃ 元素分析値（Ｃ25Ｈ29Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５９．２８ ５．７７ ８．３０ ６．３３ １４．００ 実験値 ５８．９５ ５．７４ ８．２１ ６．３６ １３．９３
−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド
・２塩酸塩 融点 １１０〜１１６℃ 元素分析値（Ｃ25Ｈ29Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５９．２８ ５．７７ ８．３０ ６．３３ １４．００ 実験値 ５８．９５ ５．７４ ８．２１ ６．３６ １３．９３
【０１３２】実施例４５ Ｎ−〔３−メトキシ−４−（４−フェニルブトキシ）ベ
ンジル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド・２塩酸塩 融点 ８８〜９５℃ 元素分析値（Ｃ27Ｈ33Ｎ3 Ｏ3 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５８．９０ ６．０４ ７．６３ ５．８２ １２．８８ 実験値 ５８．５２ ６．０２ ７．５９ ５．８２ １２．４８
ンジル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド・２塩酸塩 融点 ８８〜９５℃ 元素分析値（Ｃ27Ｈ33Ｎ3 Ｏ3 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５８．９０ ６．０４ ７．６３ ５．８２ １２．８８ 実験値 ５８．５２ ６．０２ ７．５９ ５．８２ １２．４８
【０１３３】実施例４６ Ｎ−〔ｐ−（３−フェノキシプロポキシ）ベンジル〕−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ド・２塩酸塩 融点 １０１〜１１０℃ 元素分析値（Ｃ25Ｈ29Ｎ3 Ｏ3 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５７．４７ ５．５９ ８．０４ ６．１４ １３．５７ 実験値 ５７．４２ ５．７７ ７．９０ ５．９８ １３．３５
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ド・２塩酸塩 融点 １０１〜１１０℃ 元素分析値（Ｃ25Ｈ29Ｎ3 Ｏ3 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５７．４７ ５．５９ ８．０４ ６．１４ １３．５７ 実験値 ５７．４２ ５．７７ ７．９０ ５．９８ １３．３５
【０１３４】実施例４７ Ｎ−（ｐ−ブチルベンジル）−２−（３−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １１０〜１１５℃ 元素分析値（Ｃ20Ｈ27Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・０．４Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５５．１４ ６．４３ ９．６５ ７．３６ １６．２８ 実験値 ５５．２７ ６．５０ ９．６９ ７．２３ １６．０６
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １１０〜１１５℃ 元素分析値（Ｃ20Ｈ27Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・０．４Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５５．１４ ６．４３ ９．６５ ７．３６ １６．２８ 実験値 ５５．２７ ６．５０ ９．６９ ７．２３ １６．０６
【０１３５】実施例４８ Ｎ−〔ｐ−（１−メチルエチル）ベンジル〕−２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩
酸塩 融点 １３３〜１４２℃ 元素分析値（Ｃ19Ｈ25Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・０．６Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５３．６７ ６．２１ ９．８８ ７．５４ １６．６８ 実験値 ５３．７５ ６．１７ ９．８３ ７．５２ １６．３７
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩
酸塩 融点 １３３〜１４２℃ 元素分析値（Ｃ19Ｈ25Ｎ3 ＯＳＣｌ2 ・０．６Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ５３．６７ ６．２１ ９．８８ ７．５４ １６．６８ 実験値 ５３．７５ ６．１７ ９．８３ ７．５２ １６．３７
【０１３６】実施例４９ ３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２−（３−ピリジ
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸及びｐ−（１−メチ
ルエトキシ）ベンジルアミンを出発原料として実施例４
０と同様に処理した。塩酸塩になさずに、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精製
して、Ｎ−〔ｐ−（１−メチルエトキシ）ベンジル〕−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ドを得た。 ＭＳ：ｍ／ｚ ３５７（Ｍ+ ） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．３４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．５（１
Ｈ，ｂｒ，Ｄ2 Ｏで消失），３．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝１３，８Ｈｚ），３．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３，
５Ｈｚ），３．９８，４．４０（合せて１Ｈ，ｍ），
４．３〜４．６（３Ｈ），５．４０，５．６０（合せて
１Ｈ，各ｓ），６．８〜６．９（２Ｈ），７．１〜７．
４（３Ｈ），７．４（１Ｈ，ｂｒ，Ｄ2 Ｏで消失），
７．８０（１Ｈ，ｍ），８．５４（１Ｈ，ｍ），８．６
８（１Ｈ，ｍ）。
ル）チアゾリジン−４−カルボン酸及びｐ−（１−メチ
ルエトキシ）ベンジルアミンを出発原料として実施例４
０と同様に処理した。塩酸塩になさずに、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル）で精製
して、Ｎ−〔ｐ−（１−メチルエトキシ）ベンジル〕−
２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミ
ドを得た。 ＭＳ：ｍ／ｚ ３５７（Ｍ+ ） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．３４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．５（１
Ｈ，ｂｒ，Ｄ2 Ｏで消失），３．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝１３，８Ｈｚ），３．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３，
５Ｈｚ），３．９８，４．４０（合せて１Ｈ，ｍ），
４．３〜４．６（３Ｈ），５．４０，５．６０（合せて
１Ｈ，各ｓ），６．８〜６．９（２Ｈ），７．１〜７．
４（３Ｈ），７．４（１Ｈ，ｂｒ，Ｄ2 Ｏで消失），
７．８０（１Ｈ，ｍ），８．５４（１Ｈ，ｍ），８．６
８（１Ｈ，ｍ）。
【０１３７】実施例４９と同様にして以下の化合物を得
た。 実施例５０ Ｎ−メチル−Ｎ−〔ｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベ
ンジル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド ＭＳ：ｍ／ｚ ４４７（Ｍ+ ） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：２．０〜２．３（２Ｈ），２．６〜３．５（５
Ｈ），３．０１，３．０３（合せて３Ｈ，各ｓ），３．
９６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．９〜４．１（１
Ｈ），４．６（２Ｈ，ｂｒ ｓ），５．５８，５．９８
（合せて１Ｈ，各ｓ），６．８〜７．４（１０Ｈ），
７．７〜８．０（１Ｈ），８．４〜８．７（１Ｈ），
８．７５（１Ｈ，ｂｒ ｓ）。
た。 実施例５０ Ｎ−メチル−Ｎ−〔ｐ−（３−フェニルプロポキシ）ベ
ンジル〕−２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カ
ルボキサミド ＭＳ：ｍ／ｚ ４４７（Ｍ+ ） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：２．０〜２．３（２Ｈ），２．６〜３．５（５
Ｈ），３．０１，３．０３（合せて３Ｈ，各ｓ），３．
９６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．９〜４．１（１
Ｈ），４．６（２Ｈ，ｂｒ ｓ），５．５８，５．９８
（合せて１Ｈ，各ｓ），６．８〜７．４（１０Ｈ），
７．７〜８．０（１Ｈ），８．４〜８．７（１Ｈ），
８．７５（１Ｈ，ｂｒ ｓ）。
【０１３８】実施例５１ 実施例４０と同様にして実施例５１〜５４の化合物を得
た。 Ｎ−（３−ブトキシプロピル）−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２５〜１３０℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ27Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４８．４８ ６．８７ １０．６０ ８．０９ 実験値 ４８．１８ ６．８５ １０．２６ ８．１７
た。 Ｎ−（３−ブトキシプロピル）−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２５〜１３０℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ27Ｎ3 Ｏ2 ＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４８．４８ ６．８７ １０．６０ ８．０９ 実験値 ４８．１８ ６．８５ １０．２６ ８．１７
【０１３９】実施例５２ Ｎ−〔２−（２−ピリジル）エチル〕−２−（３−ピリ
ジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・３塩酸塩 融点 ６５〜７０℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ21Ｎ4 ＯＳＣｌ3 ・１．６Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ４２．４６ ５．３９ １２．３８ ７．０８ ２３．５０ 実験値 ４２．４１ ５．３３ １２．１３ ６．９１ ２３．４６
ジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド・３塩酸塩 融点 ６５〜７０℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ21Ｎ4 ＯＳＣｌ3 ・１．６Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ４２．４６ ５．３９ １２．３８ ７．０８ ２３．５０ 実験値 ４２．４１ ５．３３ １２．１３ ６．９１ ２３．４６
【０１４０】実施例５３ Ｎ−（２−チエニルメチル）−２−（３−ピリジル）チ
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １０９〜１１１℃ 元素分析値（Ｃ14Ｈ17Ｎ3 ＯＳ2 Ｃｌ2 ・０．９Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４２．６２ ４．８０ １０．６５ １６．２５ 実験値 ４２．８０ ４．７７ １０．７４ １６．００
アゾリジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １０９〜１１１℃ 元素分析値（Ｃ14Ｈ17Ｎ3 ＯＳ2 Ｃｌ2 ・０．９Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ４２．６２ ４．８０ １０．６５ １６．２５ 実験値 ４２．８０ ４．７７ １０．７４ １６．００
【０１４１】実施例５４ Ｎ−（２−インダニル）−２−（３−ピリジル）チアゾ
リジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２４〜１２７℃ 元素分析値（Ｃ18Ｈ21Ｎ3 ＯＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５４．２７ ５．３１ １０．５５ ８．０５ 実験値 ５４．１１ ５．３６ １０．３１ ７．９５
リジン−４−カルボキサミド・２塩酸塩 融点 １２４〜１２７℃ 元素分析値（Ｃ18Ｈ21Ｎ3 ＯＳＣｌ2 として） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ５４．２７ ５．３１ １０．５５ ８．０５ 実験値 ５４．１１ ５．３６ １０．３１ ７．９５
【０１４２】実施例４９と同様にして実施例５５〜６０
の化合物を得た。 実施例５５ Ｎ−（１−ベンジル−４−ピペリジニル）−２−（３−
ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド 融点 １３１〜１３４℃ 元素分析値（Ｃ21Ｈ26Ｎ4 ＯＳとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ６５．９４ ６．８５ １４．６５ ８．３８ 実験値 ６５．６９ ６．８３ １４．４６ ８．４３
の化合物を得た。 実施例５５ Ｎ−（１−ベンジル−４−ピペリジニル）−２−（３−
ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド 融点 １３１〜１３４℃ 元素分析値（Ｃ21Ｈ26Ｎ4 ＯＳとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ６５．９４ ６．８５ １４．６５ ８．３８ 実験値 ６５．６９ ６．８３ １４．４６ ８．４３
【０１４３】実施例５６ Ｎ−〔２−（３−インドリル）エチル〕−２−（３−ピ
リジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド 融点 １６９〜１７０℃ 元素分析値（Ｃ19Ｈ20Ｎ4 ＯＳとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ６４．７５ ５．７２ １５．９０ ９．１０ 実験値 ６４．５２ ５．６７ １５．７０ ９．０７
リジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド 融点 １６９〜１７０℃ 元素分析値（Ｃ19Ｈ20Ｎ4 ＯＳとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ６４．７５ ５．７２ １５．９０ ９．１０ 実験値 ６４．５２ ５．６７ １５．７０ ９．０７
【０１４４】実施例５７ Ｎ−（９−フルオレニル）−２−（３−ピリジル）チア
ゾリジン−４−カルボキサミド 融点 １９４〜１９６℃ 元素分析値（Ｃ22Ｈ19Ｎ3 ＯＳとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ７０．７５ ５．１３ １１．２５ ８．５９ 実験値 ７０．５１ ５．１６ １０．９９ ８．５１
ゾリジン−４−カルボキサミド 融点 １９４〜１９６℃ 元素分析値（Ｃ22Ｈ19Ｎ3 ＯＳとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） 理論値 ７０．７５ ５．１３ １１．２５ ８．５９ 実験値 ７０．５１ ５．１６ １０．９９ ８．５１
【０１４５】実施例５８ Ｎ−〔（２−ベンズイミダゾリル）メチル〕−２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド 融点 ９６〜９９℃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：３．２〜３．７（２Ｈ），４．３（１Ｈ，ｍ），
４．６〜４．８（２Ｈ），５．５〜５．６（１Ｈ），
７．２〜７．４（３Ｈ），７．５〜７．６（３Ｈ），
７．７〜７．９（１Ｈ），８．４〜８．６（２Ｈ），
８．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ） ＭＳ：ｍ／ｚ ３３９（Ｍ+ ）
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド 融点 ９６〜９９℃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：３．２〜３．７（２Ｈ），４．３（１Ｈ，ｍ），
４．６〜４．８（２Ｈ），５．５〜５．６（１Ｈ），
７．２〜７．４（３Ｈ），７．５〜７．６（３Ｈ），
７．７〜７．９（１Ｈ），８．４〜８．６（２Ｈ），
８．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ） ＭＳ：ｍ／ｚ ３３９（Ｍ+ ）
【０１４６】実施例５９ Ｎ−（３−フェニルプロピルアミノエチル）−２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．４５〜２．１６（４Ｈ，ｍ），２．４５〜３．
０５（６Ｈ，ｍ），３．１０〜３．７５（４Ｈ，ｍ），
４．０８〜４．４０（１Ｈ，ｂｒ），５．３６〜５．７
０（１Ｈ，ｂｒ ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ），６．９２〜７．
４１（６Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｂｒ ｓ），７．
６８〜７．９６（１Ｈ，ｍ），８．４０〜８．８２（２
Ｈ，ｍ） ＭＳ：ｍ／ｚ ３７１（Ｍ+ ＋１）
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．４５〜２．１６（４Ｈ，ｍ），２．４５〜３．
０５（６Ｈ，ｍ），３．１０〜３．７５（４Ｈ，ｍ），
４．０８〜４．４０（１Ｈ，ｂｒ），５．３６〜５．７
０（１Ｈ，ｂｒ ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ），６．９２〜７．
４１（６Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｂｒ ｓ），７．
６８〜７．９６（１Ｈ，ｍ），８．４０〜８．８２（２
Ｈ，ｍ） ＭＳ：ｍ／ｚ ３７１（Ｍ+ ＋１）
【０１４７】実施例６０ Ｎ−ジ（３−フェニルプロピル）アミノエチル−２−
（３−ピリジル）チアゾリジンカルボキサミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．５２〜２．１０（５Ｈ，ｍ），２．３２〜２．
７５（１０Ｈ，ｍ），３．１４〜３．７７（４Ｈ，
ｍ），４．１５〜４．４０（１Ｈ，ｍ），５．４３
（０．７Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．５５（０．３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．００〜７．４１（１１
Ｈ，ｍ），７．４１〜７．９３（２Ｈ，ｍ），８．４６
〜８．７４（２Ｈ，ｍ） ＭＳ：ｍ／ｚ ４８９（Ｍ+ ＋１）
（３−ピリジル）チアゾリジンカルボキサミド ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：１．５２〜２．１０（５Ｈ，ｍ），２．３２〜２．
７５（１０Ｈ，ｍ），３．１４〜３．７７（４Ｈ，
ｍ），４．１５〜４．４０（１Ｈ，ｍ），５．４３
（０．７Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），５．５５（０．３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．００〜７．４１（１１
Ｈ，ｍ），７．４１〜７．９３（２Ｈ，ｍ），８．４６
〜８．７４（２Ｈ，ｍ） ＭＳ：ｍ／ｚ ４８９（Ｍ+ ＋１）
【０１４８】実施例６１ ３−フェニルプロピルエチレンジアミン２００ｍｇとＮ
−メチルモルホリン８１ｍｇとのＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド５ｍｌ混合溶液に１−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール１２０ｍｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド１
８０ｍｇ及び２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−
カルボン酸１７０ｍｇを順次加え、室温で一夜撹拌し
た。反応混合液を酢酸エチルで希釈し、不溶物を濾去後
濾液を減圧下濃縮した。残渣に０．５Ｎ水酸化ナトリウ
ム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を１Ｎ塩
酸で抽出後、水層を炭酸カリウムでｐＨ１０として再び
酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、減圧下濃縮して残渣を
アルミナカラムクロマトグラフィー（２０ｇ）に付し、
メタノール−酢酸エチル（１：１０）の混液で溶出して
Ｎ−（３−フェニルプロピルアミノエチル）−２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド１６０
ｍｇを得た。本化合物のＮＭＲおよびＭＳデータは実施
例５９の化合物のそれと一致した。
−メチルモルホリン８１ｍｇとのＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド５ｍｌ混合溶液に１−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール１２０ｍｇ、ジシクロヘキシルカルボジイミド１
８０ｍｇ及び２−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−
カルボン酸１７０ｍｇを順次加え、室温で一夜撹拌し
た。反応混合液を酢酸エチルで希釈し、不溶物を濾去後
濾液を減圧下濃縮した。残渣に０．５Ｎ水酸化ナトリウ
ム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を１Ｎ塩
酸で抽出後、水層を炭酸カリウムでｐＨ１０として再び
酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、減圧下濃縮して残渣を
アルミナカラムクロマトグラフィー（２０ｇ）に付し、
メタノール−酢酸エチル（１：１０）の混液で溶出して
Ｎ−（３−フェニルプロピルアミノエチル）−２−（３
−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド１６０
ｍｇを得た。本化合物のＮＭＲおよびＭＳデータは実施
例５９の化合物のそれと一致した。
【０１４９】実施例６２ １，３−ジオキソ−５−（３−ピリジル）チアゾリジノ
〔３，４−ｃ〕オキサゾリジン塩酸塩２４０ｍｇのジメ
チルスルホキシド１．５ｍｌ中溶液に、室温で３−モル
ホリノプロピルアミン１３０ｍｇを加えた。反応混合物
を室温で２時間撹拌したのち、酢酸エチルで希釈し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下濃縮してＮ
−（３−モルホリノプロピル）−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミド７０ｍｇを得た。こ
の化合物の酢酸エチル１ｍｌ中溶液に４規定塩化水素−
ジオキサン溶液を０．１ｍｌ加えた。生じた固体を濾取
し減圧下乾燥してＮ−（３−モルホリノプロピル）−２
−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド
・３塩酸塩７０ｍｇを得た。 融点 ９２〜９６℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ27Ｎ4 Ｏ2 ＳＣｌ3 ・１．５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ４０．６４ ６．３９ １１．８５ ６．７８ ２２．４９ 実験値 ４０．７２ ６．１２ １１．５８ ６．９０ ２２．６２
〔３，４−ｃ〕オキサゾリジン塩酸塩２４０ｍｇのジメ
チルスルホキシド１．５ｍｌ中溶液に、室温で３−モル
ホリノプロピルアミン１３０ｍｇを加えた。反応混合物
を室温で２時間撹拌したのち、酢酸エチルで希釈し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下濃縮してＮ
−（３−モルホリノプロピル）−２−（３−ピリジル）
チアゾリジン−４−カルボキサミド７０ｍｇを得た。こ
の化合物の酢酸エチル１ｍｌ中溶液に４規定塩化水素−
ジオキサン溶液を０．１ｍｌ加えた。生じた固体を濾取
し減圧下乾燥してＮ−（３−モルホリノプロピル）−２
−（３−ピリジル）チアゾリジン−４−カルボキサミド
・３塩酸塩７０ｍｇを得た。 融点 ９２〜９６℃ 元素分析値（Ｃ16Ｈ27Ｎ4 Ｏ2 ＳＣｌ3 ・１．５Ｈ2 Ｏとして） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） Ｓ（％） Ｃｌ（％） 理論値 ４０．６４ ６．３９ １１．８５ ６．７８ ２２．４９ 実験値 ４０．７２ ６．１２ １１．５８ ６．９０ ２２．６２
【０１５０】実施例６３ Ｎ−（ｐ−ヘプチルオキシベンジル）−グリセルアミド
７０ｍｇ、ピリジン−３−アルデヒド５０ｍｇのベンゼ
ン１０ｍｌ、ピリジン２．５ｍｌ中溶液にｐ−トルエン
スルホン酸５ｍｇを加え、１２時間還流して共沸脱水し
た。冷後、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
で２回、水で３回、飽和食塩水で１回順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残
渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製して
Ｎ−（ｐ−ヘプチルオキシベンジル）−２−（３−ピリ
ジル）−１，３−ジオキソラン−４−カルボキサミド６
０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．９０（３Ｈ，ｂｒ ｔ），１．２〜１．５（８
Ｈ），１．６〜２．０（２Ｈ），３．９５（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７Ｈｚ），４．１〜４．８（５Ｈ），５．８９，
５．９９（合せて１Ｈ），６．６〜７．２（１Ｈ，Ｄ2
Ｏで消失），６．８〜７．４（５Ｈ），７．６〜７．８
（１Ｈ），８．６〜８．７（２Ｈ） ＭＳ：ｍ／ｚ ３９８（Ｍ+ ） 以下に実施例で得られた化合物の構造を示す。
７０ｍｇ、ピリジン−３−アルデヒド５０ｍｇのベンゼ
ン１０ｍｌ、ピリジン２．５ｍｌ中溶液にｐ−トルエン
スルホン酸５ｍｇを加え、１２時間還流して共沸脱水し
た。冷後、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
で２回、水で３回、飽和食塩水で１回順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残
渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製して
Ｎ−（ｐ−ヘプチルオキシベンジル）−２−（３−ピリ
ジル）−１，３−ジオキソラン−４−カルボキサミド６
０ｍｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ） δ：０．９０（３Ｈ，ｂｒ ｔ），１．２〜１．５（８
Ｈ），１．６〜２．０（２Ｈ），３．９５（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７Ｈｚ），４．１〜４．８（５Ｈ），５．８９，
５．９９（合せて１Ｈ），６．６〜７．２（１Ｈ，Ｄ2
Ｏで消失），６．８〜７．４（５Ｈ），７．６〜７．８
（１Ｈ），８．６〜８．７（２Ｈ） ＭＳ：ｍ／ｚ ３９８（Ｍ+ ） 以下に実施例で得られた化合物の構造を示す。
【０１５１】
【表２】
【０１５２】
【表３】
【０１５３】
【表４】
【０１５４】
【表５】
【０１５５】
【表６】
【０１５６】
【表７】
【０１５７】
【表８】
【０１５８】
【表９】
【０１５９】
【表１０】
【０１６０】本発明化合物は、そのままもしくは自体公
知の薬学的に許容されうる担体，賦形剤などと混合した
医薬組成物〔例、錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤、丸
剤、軟膏剤、シロップ剤、注射剤、吸収剤、坐剤〕とし
て経口的もしくは非経口的に安全に投与することができ
る。投与量は投与対象、投与ルート、症状などによって
も異なるが、通常成人１日当り０．１〜５００ｍｇ好ま
しくは１〜２００ｍｇであり、これを１日２〜３回に分
けて経口または非経口投与する。
知の薬学的に許容されうる担体，賦形剤などと混合した
医薬組成物〔例、錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤、丸
剤、軟膏剤、シロップ剤、注射剤、吸収剤、坐剤〕とし
て経口的もしくは非経口的に安全に投与することができ
る。投与量は投与対象、投与ルート、症状などによって
も異なるが、通常成人１日当り０．１〜５００ｍｇ好ま
しくは１〜２００ｍｇであり、これを１日２〜３回に分
けて経口または非経口投与する。
【０１６１】処方例１ 錠剤 本発明化合物 ２０ｍｇ 乳糖 ５７ｍｇ コーンスターチ ３８ｍｇ ヒドロキシプロピルセルロース ４ｍｇ マグネシウムステアレート １ｍｇ ────────────────────────────────── 総 量 １２０ｍｇ 本発明化合物２０ｇ、乳糖５７ｇ、コーンスターチ３８
ｇを均一に混合する。次に１０％ヒドロキシプロピルセ
ルロース溶液４０ｇに加えて湿式造粒する。篩過後、乾
燥する。得られた造粒物にマグネシウムステアレート１
ｇを加えて混合する。７ｍ／ｍ ５．６Ｒの臼杵を用い
て打錠し錠剤とする。
ｇを均一に混合する。次に１０％ヒドロキシプロピルセ
ルロース溶液４０ｇに加えて湿式造粒する。篩過後、乾
燥する。得られた造粒物にマグネシウムステアレート１
ｇを加えて混合する。７ｍ／ｍ ５．６Ｒの臼杵を用い
て打錠し錠剤とする。
【０１６２】処方例２ カプセル 本発明化合物 １５ｍｇ 結晶セルロース ４０ｍｇ 結晶乳糖 １４４ｍｇ マグネシウムステアレート １ｍｇ ────────────────────────────────── 総 量 ２００ｍｇ 本発明化合物１５ｇ、結晶セルロース４０ｇ、結晶乳糖
１４４ｇ、マグネシウムステアレート１ｇを均一に混合
し、カプセル充填機が３号カプセルに充填しカプセル剤
とする。
１４４ｇ、マグネシウムステアレート１ｇを均一に混合
し、カプセル充填機が３号カプセルに充填しカプセル剤
とする。
【０１６３】処方例３ 凍結乾燥製剤 １バイアル中 本発明化合物 １ｍｇ Ｄ−マンニトール ５０ｍｇ ────────────────────────────────── 総 量 ５１２ｇ 水８００ｍｌをとり、本発明化合物１ｇ及びＤ−マンニ
トール５０ｇを順次加えて溶かし、水を加えて１リット
ルとする。この液を無菌的に濾過した後、バイアル１ｍ
ｌずつ充填し、凍結乾燥し、用時溶解型の注射薬とす
る。
トール５０ｇを順次加えて溶かし、水を加えて１リット
ルとする。この液を無菌的に濾過した後、バイアル１ｍ
ｌずつ充填し、凍結乾燥し、用時溶解型の注射薬とす
る。
【手続補正書】
【提出日】平成５年１０月２６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２６】『低級アルキルチオ基』としては、上記
『低級アルコキシ基』の酸素原子が、硫黄原子となった
もので、具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、プ
ロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、ｓ
ｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチ
ルチオ基、ネオペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ
基、１，２−ジメチルプロピルチオ基、１−エチルプロ
ピルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。『シクロ
アルキル低級アルコキシ基』としては、前記『低級アル
コキシ基』の任意の水素原子が前記『シクロアルキル
基』で置換された基を意味し、具体的には例えばシクロ
プロピルメトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、
１−シクロプロピルエトキシ基、３−シクロプロピルプ
ロポキシ基、２−シクロプロピルプロポキシ基、１−シ
クロプロピルプロポキシ基、２−シクロプロピル−１−
メチルエトキシ基、４−シクロプロピルブトキシ基、５
−シクロプロピルペンチルオキシ基、６−シクロプロピ
ルヘキシルオキシ基、シクロブチルメトキシ基、２−シ
クロブチルエトキシ基、１−シクロブチルエトキシ基、
３−シクロブチルプロポキシ基、２−シクロブチルプロ
ポキシ基、１−シクロブチル−１−メチルエトキシ基、
４−シクロブチルブトキシ基、５−シクロブチルペンチ
ルオキシ基、６−シクロブチルヘキシルオキシ基、シク
ロペンチルメトキシ基、２−シクロペンチルエトキシ
基、１−シクロペンチルエトキシ基、３−シクロペンチ
ルプロポキシ基、２−シクロペンチルプロポキシ基、１
−シクロペンチルプロポキシ基、２−シクロペンチル−
１−メチルエトキシ基、４−シクロペンチルブトキシ
基、５−シクロペンチルペンチルオキシ基、６−シクロ
ペンチルヘキシルオキシ基、シクロヘキシルメトキシ
基、２−シクロヘキシルエトキシ基、１−シクロヘキシ
ルエトキシ基、３−シクロヘキシルプロポキシ基、２−
シクロヘキシルプロポキシ基、１−シクロヘキシルプロ
ポキシ基、２−シクロヘキシル−１−メチルエトキシ
基、４−シクロヘキシルブトキシ基、５−シクロヘキシ
ルペンチルオキシ基、６−シクロヘキシルヘキシルオキ
シ基、シクロヘプチルメトキシ基、２−シクロヘプチル
エトキシ基、１−シクロヘプチルエトキシ基、３−シク
ロヘプチルプロポキシ基、２−シクロヘプチルプロポキ
シ基、１−シクロヘプチルプロポキシ基、２−シクロヘ
プチル−１−メチルエトキシ基、４−シクロヘプチルブ
トキシ基、５−シクロヘプチルペンチルオキシ基、６−
シクロヘプチルヘキシルオキシ基等が挙げられる。
『低級アルコキシ基』の酸素原子が、硫黄原子となった
もので、具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、プ
ロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、ｓ
ｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチ
ルチオ基、ネオペンチルチオ基、２−メチルブチルチオ
基、１，２−ジメチルプロピルチオ基、１−エチルプロ
ピルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。『シクロ
アルキル低級アルコキシ基』としては、前記『低級アル
コキシ基』の任意の水素原子が前記『シクロアルキル
基』で置換された基を意味し、具体的には例えばシクロ
プロピルメトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、
１−シクロプロピルエトキシ基、３−シクロプロピルプ
ロポキシ基、２−シクロプロピルプロポキシ基、１−シ
クロプロピルプロポキシ基、２−シクロプロピル−１−
メチルエトキシ基、４−シクロプロピルブトキシ基、５
−シクロプロピルペンチルオキシ基、６−シクロプロピ
ルヘキシルオキシ基、シクロブチルメトキシ基、２−シ
クロブチルエトキシ基、１−シクロブチルエトキシ基、
３−シクロブチルプロポキシ基、２−シクロブチルプロ
ポキシ基、１−シクロブチル−１−メチルエトキシ基、
４−シクロブチルブトキシ基、５−シクロブチルペンチ
ルオキシ基、６−シクロブチルヘキシルオキシ基、シク
ロペンチルメトキシ基、２−シクロペンチルエトキシ
基、１−シクロペンチルエトキシ基、３−シクロペンチ
ルプロポキシ基、２−シクロペンチルプロポキシ基、１
−シクロペンチルプロポキシ基、２−シクロペンチル−
１−メチルエトキシ基、４−シクロペンチルブトキシ
基、５−シクロペンチルペンチルオキシ基、６−シクロ
ペンチルヘキシルオキシ基、シクロヘキシルメトキシ
基、２−シクロヘキシルエトキシ基、１−シクロヘキシ
ルエトキシ基、３−シクロヘキシルプロポキシ基、２−
シクロヘキシルプロポキシ基、１−シクロヘキシルプロ
ポキシ基、２−シクロヘキシル−１−メチルエトキシ
基、４−シクロヘキシルブトキシ基、５−シクロヘキシ
ルペンチルオキシ基、６−シクロヘキシルヘキシルオキ
シ基、シクロヘプチルメトキシ基、２−シクロヘプチル
エトキシ基、１−シクロヘプチルエトキシ基、３−シク
ロヘプチルプロポキシ基、２−シクロヘプチルプロポキ
シ基、１−シクロヘプチルプロポキシ基、２−シクロヘ
プチル−１−メチルエトキシ基、４−シクロヘプチルブ
トキシ基、５−シクロヘプチルペンチルオキシ基、６−
シクロヘプチルヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５０】第７製法 一般式（Ｉｊ）で示されるＮ−置換化合物は、一般式
（ＸＸＩＩ）で示される対応する環式第２アミンと一般
式（ＸＸＩＩＩ）で示されるハライド又はスルホネート
化合物とを反応させ、次いで必要により保護基を除去す
ることにより製造される。原料化合物（ＸＸＩＩＩ）と
してハライド化合物を用いる反応は、第５製法と同様の
溶媒中、化合物（ＸＸＩＩ）に対して化合物（ＸＸＩＩ
Ｉ）とをほぼ等モルあるいは一方をやや過剰モル用い
て、室温乃至加温下、あるいは加熱還流して実施するの
が有利である。この反応に際し、ピリジン、ピコリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、ト
リメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルアミン等
の二，三級塩基や炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
の無機塩基を添加することが反応を円滑に進行させる上
に有利な場合がある。原料化合物（ＸＸＩＩＩ）として
有機スルホン酸残基で置換された化合物を使用する反応
は、化合物（ＸＸＩＩ）と化合物（ＸＸＩＩＩ）とほぼ
等モルあるいは一方をやや過剰モルとして第５製法と同
様の溶媒中、冷却下あるいは室温下に行うのが有利であ
る。反応時間は種々の反応条件を考慮して適宜設定され
る。本反応においても他に水酸基などが存在しない方が
好ましいが、保護基を導入して反応させて目的物とする
こともできる。また、他に反応性のアミノ基が存在する
ときは、反応条件によってはそのアミノ基も同時にＮ−
アルキル化を受ける場合があり、容易に脱離する保護基
を導入して反応させ保護基を除去して目的物とすること
もできる。保護基の脱離等については第１製法に記載の
とおりである。
（ＸＸＩＩ）で示される対応する環式第２アミンと一般
式（ＸＸＩＩＩ）で示されるハライド又はスルホネート
化合物とを反応させ、次いで必要により保護基を除去す
ることにより製造される。原料化合物（ＸＸＩＩＩ）と
してハライド化合物を用いる反応は、第５製法と同様の
溶媒中、化合物（ＸＸＩＩ）に対して化合物（ＸＸＩＩ
Ｉ）とをほぼ等モルあるいは一方をやや過剰モル用い
て、室温乃至加温下、あるいは加熱還流して実施するの
が有利である。この反応に際し、ピリジン、ピコリン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、ト
リメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルアミン等
の二，三級塩基や炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
の無機塩基を添加することが反応を円滑に進行させる上
に有利な場合がある。原料化合物（ＸＸＩＩＩ）として
有機スルホン酸残基で置換された化合物を使用する反応
は、化合物（ＸＸＩＩ）と化合物（ＸＸＩＩＩ）とほぼ
等モルあるいは一方をやや過剰モルとして第５製法と同
様の溶媒中、冷却下あるいは室温下に行うのが有利であ
る。反応時間は種々の反応条件を考慮して適宜設定され
る。本反応においても他に水酸基などが存在しない方が
好ましいが、保護基を導入して反応させて目的物とする
こともできる。また、他に反応性のアミノ基が存在する
ときは、反応条件によってはそのアミノ基も同時にＮ−
アルキル化を受ける場合があり、容易に脱離する保護基
を導入して反応させ保護基を除去して目的物とすること
もできる。保護基の脱離等については第１製法に記載の
とおりである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/44 ＡＥＤ 31/47 ＡＣＤ Ｃ０７Ｄ 405/14 411/04 411/14 413/04 ２１３ ２１５ 413/14 417/04 ２１３ ２１５ ３３３ 417/14 ２０９ ２１１ ２１３ ２３５ (31)優先権主張番号 特願昭63−13928 (32)優先日 昭63(1988)１月25日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 鈴木 健師 東京都板橋区蓮根３−16−１ 山之内製薬 株式会社蓮根寮 (72)発明者 高橋 工 東京都板橋区蓮根３−16−１ 山之内製薬 株式会社蓮根寮 (72)発明者 富岡 健一 埼玉県桶川市坂田1214−76 (72)発明者 山田 利光 東京都板橋区前野町２−24−12−412
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中の記号は以下の意味を有する。 Ｒ1 ：ピリジル基又はキノリル基、 Ｒ2 ：水素原子、 Ｘ1 ：酸素原子又は硫黄原子、 Ｙ1 ：酸素原子又は＞Ｎ−Ｒ4 で示される基、 Ｒ4 ：水素原子、低級アルコキシカルボニル基又はアシ
ル基、 Ａ1 ：メチレン基、 Ｒ3 ：式 【化２】 で示される基、 Ｒ5 及びＲ6 ：一方が水素原子又は低級アルキル基、他
方が低級アルキル基、水酸基、アルコキシ基、低級アル
キルチオ基、シクロアルキル低級アルコキシ基、アラル
キルオキシ基、アリールオキシ低級アルコキシ基、低級
アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、モノ若しく
はジ低級アルキルアミノカルボニル基、アミノ基、モノ
若しくはジ低級アルキルアミノ基、モノ若しくはジアラ
ルキルアミノ基、Ｎ−アラルキル−Ｎ−低級アルキルア
ミノ基、ピリジル基、インドリル基、ベンズイミダゾリ
ル基、モルホリノ基及びチエニル基からなる群より選択
された一又は二以上の置換基で置換されていてもよい、
アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリー
ル基及び非芳香族縮合多環式炭化水素基からなる群より
選択された一つの炭化水素基；又はアラルキル基、アラ
ルキルオキシ基及びアラルキルチオ基からなる群より選
択された一又は二以上の置換基で置換されていてもよ
い、ピリジル基、ピペリジニル基及びチアジアゾリル基
からなる群より選択された一つの５乃至６員ヘテロ環
基）で示される飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体又
はその塩。 - 【請求項２】 Ｘ1 が硫黄原子で、Ｙ1 が式＞Ｎ−Ｒ4
で示される基である請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】 Ｒ1 がピリジル基である請求項１又は２
記載の化合物。 - 【請求項４】 Ｘ1 が硫黄原子でＹ1 が式＞ＮＨで示さ
れる基である請求項１乃至３のいずれかに記載の化合
物。 - 【請求項５】 Ｒ5 及びＲ6 が一方が水素原子又は低級
アルキル基で、他方が低級アルキル基、アルコキシ基、
シクロアルキル低級アルコキシ基、及びアラルキルオキ
シ基からなる群より選択された一又は二以上の置換基で
置換されていてもよいアラルキル基又はシクロアルキル
基である請求項１乃至４のいずれかに記載の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20572093A JPH072844A (ja) | 1987-02-20 | 1993-07-28 | 新規飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体 |
Applications Claiming Priority (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-36950 | 1987-02-20 | ||
| JP62036950 | 1987-02-20 | ||
| JP62-125259 | 1987-05-21 | ||
| JP12525987 | 1987-05-21 | ||
| JP24949987 | 1987-10-01 | ||
| JP62-249499 | 1987-10-01 | ||
| JP63-13928 | 1988-01-25 | ||
| JP1392888 | 1988-01-25 | ||
| JP20572093A JPH072844A (ja) | 1987-02-20 | 1993-07-28 | 新規飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63037224A Division JPH0631230B2 (ja) | 1987-02-20 | 1988-02-19 | 飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH072844A true JPH072844A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=27519570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20572093A Pending JPH072844A (ja) | 1987-02-20 | 1993-07-28 | 新規飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH072844A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0631230A (ja) * | 1992-07-22 | 1994-02-08 | Nippon Steel Corp | 塗料供給装置 |
-
1993
- 1993-07-28 JP JP20572093A patent/JPH072844A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0631230A (ja) * | 1992-07-22 | 1994-02-08 | Nippon Steel Corp | 塗料供給装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0279681A3 (en) | Saturated heterocyclic carboxamide derivatives | |
| US6376665B1 (en) | Amide derivatives as inhibitors of matrix metalloproteinases, TNF-α, and aggrecanase | |
| JP5118975B2 (ja) | Ｃｃｒ２ｂアンタゴニストとしてのヘテロ環式化合物 | |
| CZ296915B6 (cs) | Slouceniny inhibující proteázy retroviru | |
| US20080139559A1 (en) | Diarylamine-containing compounds and compositions, and their use as modulators of c-kit receptors | |
| SK11352001A3 (sk) | Metaloproteázový inhibítor kyselina sulfamátohydroxámová | |
| US20080039499A1 (en) | Chemical Compounds | |
| US6455522B1 (en) | Cyclic sulfonamide derivatives as metalloproteinase inhibitors | |
| US20230010299A1 (en) | Heterocyclic trpml1 agonists | |
| EP1824834A1 (de) | Metasubstituierte thiazolidinone, deren herstellung und verwendung als arzneimittel | |
| JPH04295464A (ja) | 複素環式ヒドロキシルアミン | |
| US10017507B2 (en) | Diaza-benzofluoranthrene compounds | |
| JP2008503556A (ja) | オキシトシンアンタゴニストとしての置換ジケトピペラジン | |
| WO2019034603A1 (en) | SUBSTITUTED BENZIMIDAZOLES USEFUL AS INHIBITORS OF THE POTASSIUM CHANNEL | |
| JPH0631230B2 (ja) | 飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体 | |
| JP2012509311A (ja) | 抗マラリア薬としての新規なビス−アミド | |
| US11274092B2 (en) | Potassium channel inhibitors | |
| JPH072844A (ja) | 新規飽和ヘテロ環カルボン酸アミド誘導体 | |
| JPH09208579A (ja) | アゼチジン類 | |
| JP3061631B2 (ja) | 新規なヘテロ環化合物およびその製造法 | |
| CA1276151C (en) | Amides and esters of 2-¬-n-(hydroxypiperidinoalkyl) and (hydroxypyrrolidinoalkyl)-aminosulfonyl|-6-nitrobenzoic acids useful as adjuncts to radiation therapy | |
| JPH0249726A (ja) | 血小板活性化因子拮抗剤 | |
| CA2324268A1 (en) | Aromaheterocyclic derivatives | |
| TWI259178B (en) | Retroviral protease inhibiting compounds | |
| JPH06321781A (ja) | 血小板活性化因子拮抗剤 |