JPH0727823B2 - Magnetic material for magneto-optical element - Google Patents

Magnetic material for magneto-optical element

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JPH0727823B2
JPH0727823B2 JP60279638A JP27963885A JPH0727823B2 JP H0727823 B2 JPH0727823 B2 JP H0727823B2 JP 60279638 A JP60279638 A JP 60279638A JP 27963885 A JP27963885 A JP 27963885A JP H0727823 B2 JPH0727823 B2 JP H0727823B2
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garnet
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気光学素子用磁性ガーネット材料に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a magnetic garnet material for a magneto-optical element.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

光ファイバー通信は、従来の電気通信と比べ大容量のデ
ータを高速に、かつ低負失で伝送できる利点があり、現
在実用化が急速に進んでいる。しかしファイバー内を伝
搬するレーザー光の一部が光ファイバー接続点やコネク
タ、スイッチ等の光デバイスにおいて反射され光源の半
導体レーザーに戻ると、レーザー発振を不安定にさせ、
伝送品質を低下させてしまう。このため信頼性の高い通
信や計測を行なう上で、出射光を通過させるが反射光の
通過を阻止する光学素子として光アイソレータが知られ
ている。
The optical fiber communication has an advantage that a large amount of data can be transmitted at high speed and with low loss as compared with the conventional telecommunication, and its practical application is rapidly progressing at present. However, when part of the laser light propagating in the fiber is reflected by optical devices such as optical fiber connection points, connectors, and switches and returns to the semiconductor laser of the light source, laser oscillation becomes unstable,
It will reduce the transmission quality. Therefore, in performing highly reliable communication and measurement, an optical isolator is known as an optical element that allows emitted light to pass but blocks reflected light from passing.

光アイソレータは、一般に、偏光子、ファラデー回転子
および検光子からなり、順方向に進む光は偏光により偏
光成分が選択され、ファラデー回転子に入射するとファ
ラデー効果により偏光面が45度回転させられる。検光子
の偏光面は偏光子の偏光面に対して45度傾けて設定され
ているので順方向の光は低損失で通過する。一方、逆方
向からの入射光は、偏光子に対して45度傾いた偏光面の
光が検光子により選択され、ファラデー回転子によりさ
らに45度回転させられる結果、偏光子の偏光面に対して
90度ずれた偏光成分のみが偏光子に入射することになる
ので、通過が阻止されるというものである。
The optical isolator is generally composed of a polarizer, a Faraday rotator and an analyzer. The light traveling in the forward direction has its polarization component selected by polarization, and when it enters the Faraday rotator, the plane of polarization is rotated by 45 degrees due to the Faraday effect. Since the polarization plane of the analyzer is set to be inclined by 45 degrees with respect to the polarization plane of the polarizer, light in the forward direction passes with low loss. On the other hand, with respect to the incident light from the opposite direction, the light of the polarization plane inclined by 45 degrees with respect to the polarizer is selected by the analyzer and further rotated by 45 degrees by the Faraday rotator.
Only the polarized components that are 90 degrees apart will enter the polarizer, and therefore the passage will be blocked.

従来、ファラデー回転子の材料として、フラックス法で
育成したイットリウム・鉄・ガーネットY3Fe5O12(YI
G)のバルク単結晶が用いられて来たが、YIGはファラデ
ー回転係数が小さいため、所要のファラデー効果を得る
ためには厚さを2〜3mmと大きくしなければならない。
しかし、YIGは高価であるので、このように厚くするこ
とは素子製造のコスト上問題がある。
Conventionally, as a material for Faraday rotator, yttrium-iron-garnet Y 3 Fe 5 O 12 (YI
The bulk single crystal of G) has been used, but YIG has a small Faraday rotation coefficient, so the thickness must be increased to 2-3 mm to obtain the required Faraday effect.
However, since YIG is expensive, such thickening poses a problem in terms of device manufacturing cost.

そこで、近年、ファラデー回転子の材料として、非磁性
ガーネット基板上に比較的薄い磁性ガーネット膜をエピ
タキシャル成長させたものが提案されている。このよう
な材料の場合には、磁性ガーネット膜には、膜厚が小さ
くても所要のファラデー効果が得られるようにファラデ
ー回転係数が大きいことと、基板となる非磁性ガーネッ
トと格子定数が一致することが求められる。磁性ガーネ
ットの希土類成分を一部ビスマス(Bi)で置換するとフ
ァラデー回転係数が著しく増加することが知られてお
り、これを利用した上記のような磁性材料として、ガド
リニウム・ガリウム・ガーネットGd3Ga5O12(GGG)基板
上に、例えば、(GdBi)(FeAlGa)5O12で表わされる
磁性ガーネット膜を育成した材料が知られている。
Therefore, in recent years, as a material for the Faraday rotator, a material in which a relatively thin magnetic garnet film is epitaxially grown on a non-magnetic garnet substrate has been proposed. In the case of such a material, the magnetic garnet film has a large Faraday rotation coefficient so that the desired Faraday effect can be obtained even if the film thickness is small, and the lattice constant matches that of the nonmagnetic garnet to be the substrate. Is required. It is known that the Faraday rotation coefficient is remarkably increased when a part of the rare earth component of the magnetic garnet is replaced with bismuth (Bi), and gadolinium gallium garnet Gd 3 Ga 5 is used as the above magnetic material utilizing this. A material in which a magnetic garnet film represented by (GdBi) 3 (FeAlGa) 5 O 12 is grown on an O 12 (GGG) substrate is known.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

ところで、光アイソレータ等の素子が使用される環境、
状況において安定した動作特性を有するためには、ファ
ラデー回転子として用いられる磁性材料のファラデー回
転係数が、なるべく広い温度範囲において小さな温度係
数を有することが求められる。
By the way, the environment where elements such as optical isolators are used,
In order to have stable operation characteristics in a situation, the Faraday rotation coefficient of the magnetic material used as the Faraday rotator is required to have a small temperature coefficient in a temperature range as wide as possible.

しかし、前記の(GdBi)(FeAlGa)5O12の組成を有す
る膜では、Biが格子定数を増す作用も有しているので、
基板であるGGGと格子定数を一致(マッチング)させる
ためにFeの一部をAl、Gaのようなより小さなイオン半径
を有する元素でかなり置換する必要があるのであるが、
これらAl、Gaは得られる材料のファラデー回転係数の温
度係数を大きくする作用を有するため、前記の材料は温
度特性が劣化するという問題点を有している。
However, in the film having the composition of (GdBi) 3 (FeAlGa) 5 O 12 described above, Bi also has an action of increasing the lattice constant,
In order to match the lattice constant with the substrate GGG, it is necessary to replace a part of Fe with an element having a smaller ionic radius such as Al or Ga.
Since these Al and Ga have the effect of increasing the temperature coefficient of the Faraday rotation coefficient of the obtained material, the above materials have a problem that the temperature characteristics are deteriorated.

そこで、本発明の目的は上記問題点を解決し、薄くかつ
大きなファラデー回転能を有するもので、しかも広い温
度範囲でファラデー回転係数の温度係数が小さい磁気光
学素子用磁性ガーネット材料を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above problems, and to provide a magnetic garnet material for a magneto-optical element that is thin and has a large Faraday rotation ability, and has a small Faraday rotation coefficient temperature coefficient in a wide temperature range. is there.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、前記の問題点を解決するものとして、 式:(GdCa)(GaMgZr)5O12 で表わされる組成を有するガーネット単結晶基板と、該
基板上にエピタキシャル成長させた一般式(I) R3−xBiFe5−yO12 …(I) 〔式中、RはYb,Tm,Er,HoおよびDyから選ばれた少なく
とも1種の希土類元素であり、Mは、AlおよびGaから選
ばれた少なくとも1種の元素であり、xは0<x<2の
数で、yは0≦y<0.5の数である〕 で表わされる組成を有する磁性単結晶膜とからなる磁気
光学素子用磁性ガーネット材料を提供するものである。
MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This invention solves the above-mentioned problems, and a garnet single crystal substrate having a composition represented by the formula: (GdCa) 3 (GaMgZr) 5 O 12 , and a general formula (I) epitaxially grown on the substrate. during R 3-x Bi x Fe 5 -y M y O 12 ... (I) [wherein, R is at least one rare earth element selected Yb, Tm, Er, Ho, and Dy, M is, Al And at least one element selected from Ga, x is a number of 0 <x <2, and y is a number of 0 ≦ y <0.5]. A magnetic garnet material for a magneto-optical element is provided.

本発明に基板として用いられる式 (GdCa)(GaMgZr)5O12の組成を有するガーネット単
結晶基板(以下、「高格子定数GGG基板」という)は、G
GGのGdおよびGaの一部をそれぞれCaおよびMg、Zrで置換
したもので、格子定数がGGGより大きい12.498Åである
ものとして知られている。該基板の厚さは400〜500μm
でよい。
The garnet single crystal substrate (hereinafter referred to as “high lattice constant GGG substrate”) having a composition of the formula (GdCa) 3 (GaMgZr) 5 O 12 used as a substrate in the present invention is G
It is known that Gd and Ga of GG are partially substituted with Ca, Mg, and Zr, respectively, and that the lattice constant is 12.498Å, which is larger than that of GGG. The thickness of the substrate is 400-500 μm
Good.

また、本発明に磁性単結晶膜として用いられる一般式
(I)のガーネットにおいては、希土類元素Rは、Yb,T
m,Er,HoおよびDyから選ばれる。これらは、Gd等に比し
イオン半径が小さいものであるため、格子定数の増大を
抑制しつつBi置換量を増してファラデー回転係数を大き
くすることができる。
Further, in the garnet of the general formula (I) used as the magnetic single crystal film in the present invention, the rare earth element R is Yb, T
It is selected from m, Er, Ho and Dy. Since these have a smaller ionic radius than Gd and the like, the Faraday rotation coefficient can be increased by increasing the Bi substitution amount while suppressing the increase of the lattice constant.

すなわち、Biは前記のようにファラデー回転係数を大き
くするが、格子定数をも大きくするように作用する。し
かし、本発明では、Rとして前記のようなイオン半径の
小さな希土類元素を選択しているので、格子定数はGd等
の場合ほどには増大せず、その増大を抑制しつつRサイ
トのBi置換量(x)を増すことができ、ファラデー回転
係数をより大きくすることができる。しかも、基板は前
述のようにGGGに比し大きい格子定数をもつものである
ので、得られる単結晶膜の格子定数を基板の格子定数と
許容範囲(±0.001Å)内で一致(マッチング)させる
ことが容易である。その結果、FeサイトをAlやGaで置換
する必要性は極めて小さく、yは0≦y<0.5でよく、
y=0とすることもできる。
That is, Bi increases the Faraday rotation coefficient as described above, but also acts to increase the lattice constant. However, in the present invention, since a rare earth element having a small ionic radius as described above is selected as R, the lattice constant does not increase as much as in the case of Gd or the like, and Bi substitution of the R site is suppressed while suppressing the increase. The quantity (x) can be increased and the Faraday rotation coefficient can be increased. Moreover, since the substrate has a larger lattice constant than GGG as described above, the lattice constant of the obtained single crystal film matches (matches) the lattice constant of the substrate within the allowable range (± 0.001Å). It is easy to do. As a result, the need to replace the Fe site with Al or Ga is extremely small, and y may be 0 ≦ y <0.5,
It is also possible to set y = 0.

希土類元素Rのイオン半径は、Yb,Tm,Er,Ho,Dyの順に大
きくなり、したがって格子定数の一致に必要なxの値は
この元素列の順に小さくなる。例えば、y=0の場合、
xの値は、Ybで1.888、Tmで1.759、Erで1.649、Hoで1.4
75、Dyで1.274である。
The ionic radius of the rare earth element R increases in the order of Yb, Tm, Er, Ho, Dy, and therefore the value of x necessary for matching the lattice constants decreases in the order of this element sequence. For example, if y = 0,
The value of x is 1.888 for Yb, 1.759 for Tm, 1.649 for Er and 1.4 for Ho.
It is 75 and Dy is 1.274.

本発明において、一般式(I)におけるX(Bi置換量)
は、0<X<2の数であることが必要である。
In the present invention, X in the general formula (I) (substitution amount of Bi)
Must be a number 0 <X <2.

即ち、Xとファラデー回転係数とは直線的関係にあり、
Xの増加と共にファラデー回転係数は増加する。ファラ
デー回転係数が大きいほど光アイソレータに使用する際
の膜厚を薄くすることができ、光アイソレータの小型化
を可能にする。また膜厚が薄いほど結晶成長に要する時
間も短くてすむ。このような見地から、Xは0より大き
いことが必要となる。
That is, there is a linear relationship between X and the Faraday rotation coefficient,
The Faraday rotation coefficient increases as X increases. The larger the Faraday rotation coefficient, the thinner the film can be used in the optical isolator, and the more compact the optical isolator can be. Also, the thinner the film, the shorter the time required for crystal growth. From this point of view, X needs to be larger than zero.

更に高格子定数基板上に結晶を育成する場合、該結晶の
格子定数は基板の格子定数の制約を受け、結晶と基板の
格子定数との差が0.005Å以上では良好な結晶は得られ
ない。即ち、該基板を利用して結晶を育成する場合は、
前記Rとして最もイオン半径の小さいYbを選択した場合
におけるXが最大となる。従って、後述する実施例3
(RとしてYbを選択)の結果から、格子定数の差の許容
幅を考慮して、Xを2よりも小さい範囲に設定した。
Further, when a crystal is grown on a substrate having a high lattice constant, the lattice constant of the crystal is restricted by the lattice constant of the substrate, and if the difference between the crystal and the lattice constant of the substrate is 0.005 Å or more, a good crystal cannot be obtained. That is, when growing a crystal using the substrate,
When Yb having the smallest ion radius is selected as R, X becomes maximum. Therefore, Example 3 described later
From the result of (selecting Yb as R), X was set to a range smaller than 2 in consideration of the allowable width of the difference in lattice constant.

本発明の磁性ガーネット材料は、高格子定数GGG基板上
に、液相エピタキシャル成長法によって前記一般式
(I)の磁性単結晶を育成することにより製造すること
ができる。
The magnetic garnet material of the present invention can be manufactured by growing the magnetic single crystal of the general formula (I) on a high lattice constant GGG substrate by a liquid phase epitaxial growth method.

すなわち、公知の方法にしたがって、原料成分およびフ
ラックス成分を適当な割合で仕込んで融解させ、融液の
温度を、例えば750〜950℃の範囲において、基板と単結
晶膜の格子定数が一致する温度(格子定数マッチング温
度)に選定し、該融液に研磨した基板の片面を接触させ
た状態で基板を回転させながら磁性単結晶膜を育成す
る。
That is, according to a known method, the raw material components and the flux components are charged and melted at an appropriate ratio, and the temperature of the melt is, for example, in the range of 750 to 950 ° C., the temperature at which the lattice constants of the substrate and the single crystal film are the same. (Lattice constant matching temperature) is selected, and a magnetic single crystal film is grown while rotating the substrate with one surface of the polished substrate in contact with the melt.

こうして得られた基板に磁性単結晶膜を成長させたもの
を、所要の厚さに研磨後、素子製造に用いる。
The substrate thus obtained, on which a magnetic single crystal film has been grown, is polished to a required thickness and then used for device production.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

実施例1 原料およびフラックス成分を次に示す融液仕込み組成
(モル比)で使用した。
Example 1 Raw materials and flux components were used in the following melt preparation composition (molar ratio).

Fe2O3/Dy2O3=15.0 PbO/(Bi2O3+B2O3)=1.30 (Dy2O3+Fe2O3)/(Dy2O3+Fe2O3+PbO+B2O3+Bi
2O3) =0.145 高格子定数GGG基板(直径50mm、厚さ0.450mm)の片面
に、液相エピタキシャル成長法により、高格子定数マッ
チング温度820℃で組成がDy1.726Bi1.274Fe5O12で表わ
される厚さ約500μmの単結晶ガーネット膜を育成し
た。
Fe 2 O 3 / Dy 2 O 3 = 15.0 PbO / (Bi 2 O 3 + B 2 O 3) = 1.30 (Dy 2 O 3 + Fe 2 O 3) / (Dy 2 O 3 + Fe 2 O 3 + PbO + B 2 O 3 + Bi
2 O 3 ) = 0.145 A high lattice constant GGG substrate (diameter 50 mm, thickness 0.450 mm) was formed by Dy 1.726 Bi 1.274 Fe 5 O 12 on one side of a high lattice constant matching temperature of 820 ° C. by liquid phase epitaxial growth method. A single crystal garnet film having a thickness of about 500 μm was grown.

得られた磁性材料のファラデー回転係数(室温)は1500
度/cmと大きく、その温度係数(室温)は−0.06度/℃
であった。
The Faraday rotation coefficient (room temperature) of the obtained magnetic material is 1500.
The temperature coefficient (room temperature) is -0.06 degrees / ° C.
Met.

実施例2 実施例1と同様の方法で、高格子定数GGG基板上に、格
子定数マッチング温度770℃であり、組成が、Yb1.112Bi
1.888Fe5O12で表される厚さが約300μmの単結晶ガーネ
ット膜を育成した。
Example 2 In the same manner as in Example 1, the lattice constant matching temperature was 770 ° C. and the composition was Yb 1.112 Bi on the high lattice constant GGG substrate.
A single crystal garnet film having a thickness of about 300 μm represented by 1.888 Fe 5 O 12 was grown.

得られた磁性材料のファラデー回転係数(室温)は2900
度/cmと大きく、その温度係数(室温)は−0.04度/℃
であった。
The Faraday rotation coefficient (room temperature) of the obtained magnetic material is 2900.
The temperature coefficient (room temperature) is as high as -0.04 degrees / ° C.
Met.

実施例3 実施例1と同様の方法で、高格子定数GGG基板上に、格
子定数マッチング温度780℃であり、組成が、Tm1.241Bi
1.759Fe5O12で表される厚さが約300μmの単結晶ガーネ
ット膜を育成した。
Example 3 In the same manner as in Example 1, the lattice constant matching temperature was 780 ° C. and the composition was Tm 1.241 Bi on a high lattice constant GGG substrate.
A single crystal garnet film represented by 1.759 Fe 5 O 12 and having a thickness of about 300 μm was grown.

得られた磁性材料のファラデー回転係数(室温)は2700
度/cmと大きく、その温度係数(室温)は−0.045度/℃
であった。
The Faraday rotation coefficient (room temperature) of the obtained magnetic material is 2700.
The temperature coefficient (room temperature) is as large as -0.045 degrees / ° C.
Met.

実施例4 実施例1と同様の方法で、高格子定数GGG基板上に、格
子定数マッチング温度795℃であり、組成が、Er1.451Bi
1.549Fe5O12で表される厚さが約300μmの単結晶ガーネ
ット膜を育成した。
Example 4 In the same manner as in Example 1, the lattice constant matching temperature was 795 ° C. and the composition was Er 1.451 Bi on the high lattice constant GGG substrate.
A single crystal garnet film represented by 1.549 Fe 5 O 12 and having a thickness of about 300 μm was grown.

得られた磁性材料のファラデー回転係数(室温)は2300
度/cmと大きく、その温度係数(室温)は−0.05度/℃
であった。
The Faraday rotation coefficient (room temperature) of the obtained magnetic material is 2300.
The temperature coefficient (room temperature) is -0.05 degrees / ° C.
Met.

実施例5 実施例1と同様の方法で、高格子定数GGG基板上に、格
子定数マッチング温度805℃であり、組成が、Ho1.525Bi
1.475Fe5O12で表される厚さが約300μmの単結晶ガーネ
ット膜を育成した。
Example 5 In the same manner as in Example 1, the lattice constant matching temperature was 805 ° C. and the composition was Ho 1.525 Bi on a high lattice constant GGG substrate.
A single crystal garnet film represented by 1.475 Fe 5 O 12 and having a thickness of about 300 μm was grown.

得られた磁性材料のファラデー回転係数(室温)は2100
度/cmと大きく、その温度係数(室温)は−0.055度/℃
であった。
The Faraday rotation coefficient (room temperature) of the obtained magnetic material is 2100.
The temperature coefficient (room temperature) is as large as −0.055 degrees / ° C.
Met.

比較例 原料およびフラックス成分を次に示す融液仕込み組成
(モル比)で使用した。
Comparative Example Raw materials and flux components were used in the following melt preparation composition (molar ratio).

(Fe2O3+Al2O3+Ga2O3)/Gd2O3=13.3 PbO/(Bi2O3+B2O3)=1.05 (Gd2O3+Fe2O3)/(Gd2O3+Fe2O3+PbO+B2O3 +Bi2O3)=0.132 実施例1と同様に、高格子定数GGG基板上に、格子定数
マッチング温度822℃で、組成がGd2.01Bi0.99Fe4.09(A
l,Ga)0.91O12で表わされる厚さ約500μmの単結晶ガー
ネット膜を育成した。
(Fe 2 O 3 + Al 2 O 3 + Ga 2 O 3 ) / Gd 2 O 3 = 13.3 PbO / (Bi 2 O 3 + B 2 O 3 ) = 1.05 (Gd 2 O 3 + Fe 2 O 3 ) / (Gd 2 O 3 + Fe 2 O 3 + PbO + B 2 O 3 + Bi 2 O 3) = 0.132 in the same manner as in example 1, the high lattice constant GGG substrate, with the lattice constant matching temperature 822 ° C., composition Gd 2.01 Bi 0.99 Fe 4.09 (a
l, Ga) 0.91 O 12 A single crystal garnet film having a thickness of about 500 μm was grown.

得られた磁性材料のファラデー回転係数(室温)は、15
00度/cmであったが、その温度係数(室温)は−0.11度
/℃であった。
The Faraday rotation coefficient (room temperature) of the obtained magnetic material is 15
It was 00 degrees / cm, but its temperature coefficient (room temperature) was -0.11 degrees / ° C.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の磁気光学素子用磁性ガーネット材料は、ファラ
デー回転係数が大きいため薄くても所期のファラデー効
果を得ることができる。しかも、ファラデー回転係数の
温度係数が小さいので、広い温度範囲において安定した
動作特性を有する光アイソレータ等の磁気光学素子を製
造することができる。
Since the magnetic garnet material for a magneto-optical element of the present invention has a large Faraday rotation coefficient, the desired Faraday effect can be obtained even if it is thin. Moreover, since the Faraday rotation coefficient has a small temperature coefficient, it is possible to manufacture a magneto-optical element such as an optical isolator having stable operation characteristics in a wide temperature range.

フロントページの続き (72)発明者 日野 研一 東京都青梅市末広町1丁目6番1号 住友 金属鉱山株式会社電子材料研究所内 (72)発明者 大住 修司 東京都青梅市末広町1丁目6番1号 住友 金属鉱山株式会社電子材料研究所内 (72)発明者 町田 克己 東京都青梅市末広町1丁目6番1号 住友 金属鉱山株式会社電子材料研究所内 (56)参考文献 特開 昭57−200295(JP,A) 特開 昭59−87805(JP,A) 1985年(昭和60年)春季第32回応用物理 学関係連合講演会講演予稿集第72ページ30 p−N−4 J.Appl.Phys.55(4)15 February 1984 P.1052−1061Front page continuation (72) Inventor Kenichi Hino 1-6-1, Suehirocho, Ome, Tokyo Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Electronic Materials Research Laboratory (72) Inventor Shuji Ozumi 1-6, Suehirocho, Ome-shi, Tokyo 1 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Electronic Materials Research Laboratory (72) Inventor Katsumi Machida 1-6-1, Suehirocho, Ome-shi, Tokyo Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Electronic Materials Research Laboratory (56) Reference JP-A-57-200295 (JP, A) JP 59-87805 (JP, A) Spring 1985 (Showa 60) Spring Proceedings of the 32nd Joint Lecture on Applied Physics Page 72 30 p-N-4 J. Appl. Phys. 55 (4) 15 February 1984 P. 1052-1061

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】式:(GdCa)(GaMgZr)5O12 で表される組成を有するガーネット単結晶基板と、該基
板上にエピタキシャル成長させた一般式: R3−xBiFe5−yO12 〔式中、RはYb,Tm,Er,HoおよびDyから選ばれた少なく
とも1種の元素であり、Mは、AlおよびGaから選ばれた
少なくとも1種の元素であり、Xは0<X<2の数で、
yは0≦y<0.5の数である〕 で表される組成を有する磁性単結晶膜とからなる磁気光
学素子用ガーネット材料。
1. A garnet single crystal substrate having a composition represented by the formula: (GdCa) 3 (GaMgZr) 5 O 12 , and a general formula: R 3-x Bi x Fe 5-y epitaxially grown on the substrate. M y O 12 [wherein, R is at least one element selected from Yb, Tm, Er, Ho and Dy, M is at least one element selected from Al and Ga, and X is Is a number 0 <X <2,
y is a number of 0 ≦ y <0.5], and a garnet material for a magneto-optical element comprising a magnetic single crystal film having a composition represented by
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