JPH0727816A - Circuit device for evaluating characteristic of semiconductor transistor and semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Circuit device for evaluating characteristic of semiconductor transistor and semiconductor integrated circuit device

Info

Publication number
JPH0727816A
JPH0727816A JP5170249A JP17024993A JPH0727816A JP H0727816 A JPH0727816 A JP H0727816A JP 5170249 A JP5170249 A JP 5170249A JP 17024993 A JP17024993 A JP 17024993A JP H0727816 A JPH0727816 A JP H0727816A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
field effect
effect transistor
channel field
logic circuit
channel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5170249A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuyuki Shindo
泰之 進藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Research Institute of General Electronics Co Ltd
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Research Institute of General Electronics Co Ltd
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Research Institute of General Electronics Co Ltd, Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Research Institute of General Electronics Co Ltd
Priority to JP5170249A priority Critical patent/JPH0727816A/en
Publication of JPH0727816A publication Critical patent/JPH0727816A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a circuit device for evaluating characteristics of semiconductor transistors which uses a self-oscillating circuit and can evaluate the characteristics of semiconductor transistors in conformity with the actual condition of the self-oscillating circuit. CONSTITUTION:The output terminal of a NAND logic circuit 110-l in a certain stage is connected to the gates of a p-MOSFET 103 and n-MOSFET 101 which are the input terminals of a NAND logic circuit 110-2 in the next stage and the gates of an n-MOSFET 102 and p-MOSFET 104 constituting the circuit 110-2 are connected to the high-potential side of a power supply voltage. Then, the output terminal of the NAND logic circuit 110-n in the final stage is connected to a pad 106 for measurement and, at the same time, to the input terminal of the initial stage.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体トランジスタで
構成された回路の特性を評価するための装置であって、
自己発振回路を構成した半導体トランジスタ特性の評価
回路装置及び該半導体トランジスタ特性評価回路装置を
備えた半導体集積回路装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for evaluating characteristics of a circuit composed of semiconductor transistors,
The present invention relates to a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device that constitutes a self-oscillation circuit, and a semiconductor integrated circuit device including the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体トランジスタの特性を回路的に評
価する方法の一つとして以下のものがある。図6に示す
ように、nチャネルMOS型電界効果トランジスタ(以
下、n−MOSFETと記す)10とpチャネルMOS
型電界効果トランジスタ(以下、p−MOSFETと記
す)20とを用いてCMOSインバータ回路30を構成
し、初段のインバータ回路30の出力端子を次段のイン
バータ回路31の入力端子に接続し、このような構成が
合計で奇数個の段数となるように接続し、そして最終段
のインバータ回路の出力端子を初段のインバータ回路3
0の入力端子に接続することで自己発振回路40を構成
し、該自己発振回路の発振周波数を評価することで半導
体トランジスタ特性を評価する方法である。又、この評
価方法は、半導体トランジスタの耐久性を評価すること
にも用いることができ、ある一定時間自己発振させた後
の発振周波数が初期の発振周波数からどの程度変化した
かを測定することで半導体トランジスタの特性劣化の評
価が行える。
2. Description of the Related Art The following is one of the methods for evaluating the characteristics of semiconductor transistors in a circuit manner. As shown in FIG. 6, an n-channel MOS field effect transistor (hereinafter referred to as n-MOSFET) 10 and a p-channel MOS
Type field effect transistor (hereinafter referred to as p-MOSFET) 20 is used to configure a CMOS inverter circuit 30, and the output terminal of the first-stage inverter circuit 30 is connected to the input terminal of the second-stage inverter circuit 31. Are connected so that the total number of stages is an odd number, and the output terminal of the final stage inverter circuit is connected to the first stage inverter circuit 3
In this method, the self-oscillation circuit 40 is configured by connecting to the 0 input terminal, and the semiconductor transistor characteristic is evaluated by evaluating the oscillation frequency of the self-oscillation circuit. This evaluation method can also be used to evaluate the durability of a semiconductor transistor, and by measuring how much the oscillation frequency after self-oscillation for a certain period of time has changed from the initial oscillation frequency. The characteristic deterioration of the semiconductor transistor can be evaluated.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上述したような自己発
振回路40を構成し、所定時間これを発振させて半導体
トランジスタの耐久性を評価する場合、図6からわかる
ように、インバータ回路を構成しているn−MOSFE
T10のソース電極はグラウンドレベルにあるパッド1
07に接地され、p−MOSFET20のソース電極は
電源電位(Vcc)であるパッド105に接続され、そ
れぞれの電位は一定のまま変化しない。しかし、実際の
回路では、例えば一般に多用されているNAND論理回
路又はNOR論理回路において、それぞれn−MOSF
ETのソース電位又はp−MOSFETのソース電位は
信号伝達時にグラウンドからVccの電源電位までの範
囲で変化する場合がある。その際、それぞれのMOSF
ETの基板電位又はウエル電位は、n−MOSFETで
はグラウンドに、p−MOSFETではVccに接続固
定されているので、各MOSFETのソース電位が変化
することで各MOSFETには基板バイアス効果が生
じ、各MOSFETのしきい電圧が変化することにな
る。このように従来の自己発振回路を用いる半導体トラ
ンジスタの評価回路では、基板バイアス効果を加味して
半導体トランジスタの特性評価が行えない、即ち、実際
の回路に即した特性評価が行えないという問題点があ
る。本発明はこのような問題点を解決するためになされ
てもので、自己発振回路を用いる評価回路であって実際
の回路に即して半導体トランジスタの特性評価が行える
半導体トランジスタ特性評価回路装置を提供し、さらに
該半導体トランジスタ特性評価回路装置を備えた半導体
集積回路装置を提供することを目的とする。
When the self-oscillation circuit 40 as described above is constructed and is oscillated for a predetermined time to evaluate the durability of the semiconductor transistor, as shown in FIG. 6, the inverter circuit is constructed. N-MOSFE
Source electrode of T10 is pad 1 at ground level
07, the source electrode of the p-MOSFET 20 is connected to the pad 105 having the power supply potential (Vcc), and each potential remains constant. However, in an actual circuit, for example, in a commonly used NAND logic circuit or NOR logic circuit, the n-MOSF
The source potential of the ET or the source potential of the p-MOSFET may change in the range from the ground to the power source potential of Vcc during signal transmission. At that time, each MOSF
Since the substrate potential or well potential of ET is fixedly connected to the ground in the n-MOSFET and to Vcc in the p-MOSFET, a change in the source potential of each MOSFET causes a substrate bias effect in each MOSFET. The threshold voltage of the MOSFET will change. As described above, in the conventional evaluation circuit of the semiconductor transistor using the self-oscillation circuit, the characteristic evaluation of the semiconductor transistor cannot be performed in consideration of the substrate bias effect, that is, the characteristic evaluation according to the actual circuit cannot be performed. is there. The present invention has been made in order to solve such a problem, and therefore provides a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device which is an evaluation circuit using a self-oscillation circuit and which can evaluate the characteristics of a semiconductor transistor according to an actual circuit. It is another object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit device including the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、第1pチャネ
ル型電界効果トランジスタと、上記第1pチャネル型電
界効果トランジスタにおけるソース電極が接続される共
通ソース電極にソース電極が接続され、上記第1pチャ
ネル型電界効果トランジスタにおけるドレイン電極が接
続される共通ドレイン電極にドレイン電極が接続され、
上記第1pチャネル型電界効果トランジスタに対して並
列接続される少なくとも一つの第2pチャネル型電界効
果トランジスタと、上記第1及び第2pチャネル型電界
効果トランジスタの各ドレイン電極が接続された共通ド
レイン電極側に接続され動作特性評価される第1nチャ
ネル型電界効果トランジスタと、上記第1nチャネル型
電界効果トランジスタのソース電極側に一方の接続端子
として直列接続されて、上記第1nチャネル型電界効果
トランジスタのソース電極における電位を電源電圧の低
電位よりも高い電位とする少なくとも一つの第2nチャ
ネル型電界効果トランジスタを有する基板バイアス効果
発生手段と、上記第1pチャネル型電界効果トランジス
タのゲートと上記第1nチャネル型電界効果トランジス
タのゲートとを接続した第1入力端子と、上記第2pチ
ャネル型電界効果トランジスタのゲートと上記基板バイ
アス効果発生手段を構成する第2nチャネル型電界効果
トランジスタのゲートとを接続した第2入力端子と、上
記共通ドレイン電極に接続される出力端子と、を有する
一個のNAND論理回路を奇数段有し、初段から(最終
−1)段までに配列される上記NAND論理回路にあっ
ては上記出力端子を次段に配列される上記NAND論理
回路に備わる上記第1入力端子に接続し、最終段に配列
される上記NAND論理回路に備わる上記出力端子にあ
っては初段に配列される上記NAND論理回路に備わる
上記第1入力端子に接続してなる半導体トランジスタ特
性評価回路装置において、それぞれの上記NAND論理
回路に備わる上記第1及び第2pチャネル型電界効果ト
ランジスタにおける上記共通ソース電極及び上記第2入
力端子が接続され、電源電圧の高電位が供給される高電
位パッドと、最終段に配列される上記NAND論理回路
に備わる上記出力端子に接続され、該半導体トランジス
タ特性評価回路装置の発振波形を計測する計測器を接続
する計測用パッドと、それぞれの上記NAND論理回路
に備わる上記基板バイアス効果発生手段における他方の
接続端子となる上記基板バイアス効果発生手段内第2n
チャネル型電界効果トランジスタソース電極が接続さ
れ、電源電圧の低電位が供給される低電位パッドと、を
備えたことを特徴とする。
According to the present invention, a source electrode is connected to a common source electrode to which a source electrode of the first p-channel field effect transistor and the source electrode of the first p-channel field effect transistor is connected. The drain electrode is connected to the common drain electrode which is connected to the drain electrode in the channel field effect transistor,
At least one second p-channel field effect transistor connected in parallel to the first p-channel field effect transistor, and a common drain electrode side to which the drain electrodes of the first and second p-channel field effect transistors are connected Connected to the first n-channel field-effect transistor and the source of the first n-channel field-effect transistor connected in series as one connection terminal on the source electrode side of the first n-channel field-effect transistor. Substrate bias effect generating means having at least one second n-channel type field effect transistor for making the potential at the electrode higher than the low potential of the power supply voltage, the gate of the first p-channel type field effect transistor and the first n-channel type Connect to the gate of field effect transistor A second input terminal connecting the first input terminal, the gate of the second p-channel field effect transistor and the gate of the second n-channel field effect transistor forming the substrate bias effect generating means, and the common drain electrode. In the NAND logic circuit having an odd number of NAND logic circuits each having an output terminal connected to, and arranged from the first stage to the (final-1) stage, the output terminals are arranged in the next stage. Connected to the first input terminal of the NAND logic circuit, and the output terminal of the NAND logic circuit arranged in the final stage has the first input terminal of the NAND logic circuit arranged in the first stage In a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device connected to an input terminal, each of the first and second p-channels provided in each of the NAND logic circuits. A high potential pad to which the common source electrode and the second input terminal of the field effect transistor are connected and which is supplied with a high potential of a power supply voltage, and an output terminal provided in the NAND logic circuit arranged in the final stage. A measurement pad connected to a measuring instrument for measuring an oscillation waveform of the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device, and the substrate bias serving as the other connection terminal in the substrate bias effect generating means provided in each NAND logic circuit. 2n in effect generation means
A low potential pad to which a source electrode of a channel field effect transistor is connected and which is supplied with a low potential of a power supply voltage.

【0005】[0005]

【作用】このように構成することで、それぞれのNAN
D論理回路に備わる出力端子を次段に配列される第1入
力端子に接続することは、当該半導体トランジスタ特性
評価回路装置の自己発振により、上記第1入力端子に接
続され特性評価したい第1nチャネル型電界効果トラン
ジスタをオン、オフ動作させる。又、第2nチャネル型
電界効果トランジスタのゲートを高電位パッドに接続す
ることは、第2nチャネル型電界効果トランジスタを常
にオン状態に維持する。よって、第1nチャネル型電界
効果トランジスタがオン、オフ動作することで、該第1
nチャネル型電界効果トランジスタのドレイン側からソ
ース側への電流の導通、遮断が行われる。一つのNAN
D論理回路にて一段を構成しこのようなNAND論理回
路を奇数の段数にて接続する場合、上述したように第1
入力端子に特性評価したい第1nチャネル型電界効果ト
ランジスタを接続し、第2nチャネル型電界効果トラン
ジスタのゲートを高電位パッドに接続することは、以下
に示す作用をする。即ち、第1nチャネル型電界効果ト
ランジスタがオン状態となりそのソース側が第2nチャ
ネル型電界効果トランジスタを介して低電位パッドに接
続された後、自己発振により上記出力端子の電位がハイ
(H)レベルからロー(L)レベルに変化するときに
は、基板バイアス効果発生手段を構成する第2nチャネ
ル型電界効果トランジスタの抵抗に起因する電位降下に
より、第1nチャネル型電界効果トランジスタのソース
側電位は、接地されている基板電位よりも高い電位とな
る。したがって、第1nチャネル型電界効果トランジス
タには基板バイアス効果を生じさせ、実際の回路に使用
される状態に近い状態にてnチャネル型電界効果トラン
ジスタの動作特性を測定することが可能となる。又、上
述したNAND論理回路をNOR論理回路にて置き換え
ることで、上述した動作と同様の動作にてpチャネル型
電界効果トランジスタの動作特性を測定することが可能
となる。
[Operation] By configuring in this way, each NAN
Connecting the output terminal of the D logic circuit to the first input terminal arranged in the next stage is performed by the self-oscillation of the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device, and is connected to the first input terminal for the first n-th channel whose characteristics are to be evaluated. Type field effect transistor is turned on and off. Also, connecting the gate of the second n-channel field effect transistor to the high potential pad keeps the second n-channel field effect transistor always on. Therefore, when the first n-channel field effect transistor is turned on and off,
Conduction and interruption of current from the drain side to the source side of the n-channel field effect transistor are performed. One NAN
When one stage is composed of D logic circuits and such NAND logic circuits are connected in an odd number of stages, as described above, the first
Connecting the first n-channel field effect transistor whose characteristics are to be evaluated to the input terminal and connecting the gate of the second n-channel field effect transistor to the high potential pad has the following effects. That is, after the first n-channel field effect transistor is turned on and its source side is connected to the low potential pad through the second n-channel field effect transistor, the potential of the output terminal is changed from the high (H) level by self-oscillation. When changing to the low (L) level, the source side potential of the first n-channel type field effect transistor is grounded due to the potential drop due to the resistance of the second n-channel type field effect transistor which constitutes the substrate bias effect generating means. The potential is higher than the existing substrate potential. Therefore, the substrate bias effect is generated in the first n-channel field effect transistor, and the operating characteristics of the n-channel field effect transistor can be measured in a state close to that used in an actual circuit. Also, by replacing the NAND logic circuit described above with a NOR logic circuit, it becomes possible to measure the operating characteristics of the p-channel field effect transistor in the same operation as described above.

【0006】[0006]

【実施例】 第1実施例 本発明の半導体トランジスタ特性評価回路装置の一実施
例について図を参照し以下に説明する。図1には、2入
力のNAND論理回路にて一段を構成し、これを奇数段
に接続したタイプの半導体トランジスタ特性評価回路装
置を示している。一段を構成するNAND論理回路の構
成自体は一般的に知られた構成である。即ち、第1nチ
ャネル型電界効果トランジスタに対応し、動作特性を評
価したいトランジスタであるnチャネル型電界効果トラ
ンジスタ101と、基板バイアス効果発生手段を構成す
る第2nチャネル型電界効果トランジスタに対応するn
チャネル型電界効果トランジスタ102とが直列接続さ
れる。又、第1pチャネル型電界効果トランジスタに対
応するpチャネル型電界効果トランジスタ103と、第
2pチャネル型電界効果トランジスタに対応するpチャ
ネル型電界効果トランジスタ104とが並列接続され
る。そして、pチャネル型電界効果トランジスタ10
3,104におけるドレイン電極が接続される共通ドレ
イン電極側と上記nチャネル型電界効果トランジスタ1
01のドレイン電極側とを接続し、一つのNAND論理
回路を構成する。このように構成されるNAND論理回
路は以下に説明する接続を行いその合計が奇数個の段数
となるように接続され、本実施例における半導体トラン
ジスタ特性評価回路装置が構成される。尚、各段におけ
るNAND論理回路について、それぞれ対応するトラン
ジスタは図示するように同じ符号を付している。
First Embodiment One embodiment of the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device of a type in which one stage is composed of a 2-input NAND logic circuit and is connected to odd stages. The configuration itself of the NAND logic circuit forming one stage is a generally known configuration. That is, the n-channel field-effect transistor 101, which corresponds to the first n-channel field-effect transistor and whose operating characteristics are desired to be evaluated, and the n-channel field-effect transistor which constitutes the substrate bias effect generating means.
The channel field effect transistor 102 is connected in series. A p-channel field effect transistor 103 corresponding to the first p-channel field effect transistor and a p-channel field effect transistor 104 corresponding to the second p-channel field effect transistor are connected in parallel. Then, the p-channel field effect transistor 10
The common drain electrode side to which the drain electrodes in 3, 104 are connected and the n-channel field effect transistor 1
The drain electrode side of 01 is connected to form one NAND logic circuit. The NAND logic circuit configured as described above is connected as described below and connected so that the total number is an odd number of stages, and the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device in this embodiment is configured. In the NAND logic circuits in each stage, the corresponding transistors have the same reference numerals as shown in the figure.

【0007】上記pチャネル型電界効果トランジスタ1
03,104と上記nチャネル型電界効果トランジスタ
101との共通のドレイン電極側が、一つのNAND論
理回路の出力端子として次段に配列されるNAND論理
回路に備わるnチャネル型電界効果トランジスタ101
及びpチャネル型電界効果トランジスタ103のゲート
を接続した第1入力端子に接続される。以下同様に前段
における上記出力端子が次段における上記第1入力端子
に接続され、最終段のNAND論理回路110−nにお
ける出力端子は初段のNAND論理回路110における
第1入力端子に接続される。このようにリング状に構成
することで、また、接続するNAND論理回路の数が奇
数であることから、後述するように所定電位を該回路へ
供給することで該回路は自己発振を行い、ある段におけ
る上記出力端子から次段の上記第1入力端子にはHレベ
ルの信号とLレベルの信号とが交互に供給されることに
なる。
The above p-channel field effect transistor 1
03 and 104 and the n-channel field-effect transistor 101 common to the n-channel field-effect transistor 101 are provided in a NAND logic circuit arranged in the next stage as an output terminal of one NAND logic circuit.
And a first input terminal to which the gate of the p-channel field effect transistor 103 is connected. Similarly, the output terminal of the previous stage is connected to the first input terminal of the next stage, and the output terminal of the NAND logic circuit 110-n of the final stage is connected to the first input terminal of the NAND logic circuit 110 of the first stage. With this ring configuration, and because the number of NAND logic circuits connected is odd, the circuit performs self-oscillation by supplying a predetermined potential to the circuit, as described below. An H level signal and an L level signal are alternately supplied from the output terminal of each stage to the first input terminal of the next stage.

【0008】又、それぞれのNAND論理回路における
nチャネル型電界効果トランジスタ102及びpチャネ
ル型電界効果トランジスタ104のゲートを接続した第
2入力端子及びpチャネル型電界効果トランジスタ10
3,104の各ソース電極側は、上述したようにリング
状に接続した回路を発振させるときの電源電圧の高電位
(Vcc)を供給するための高電位パッド105に接続
される。さらに、それぞれのNAND論理回路に備わる
nチャネル型電界効果トランジスタ102のソース側は
電源電圧の低電位が供給される低電位パッド107に接
続される。又、最終段のNAND論理回路の出力端子
は、また、該回路の発振波形を観察し発振周波数を求め
る際のオシロスコープを接続するための計測用パッド1
06に接続される。
Further, the second input terminal connecting the gates of the n-channel field effect transistor 102 and the p-channel field effect transistor 104 in each NAND logic circuit and the p-channel field effect transistor 10 are connected.
Each source electrode side of 3, 104 is connected to the high potential pad 105 for supplying the high potential (Vcc) of the power supply voltage when oscillating the circuit connected in the ring shape as described above. Further, the source side of the n-channel field effect transistor 102 provided in each NAND logic circuit is connected to the low potential pad 107 to which the low potential of the power supply voltage is supplied. The output terminal of the NAND logic circuit at the final stage is also a measurement pad 1 for connecting an oscilloscope when observing the oscillation waveform of the circuit and obtaining the oscillation frequency.
06 is connected.

【0009】このように構成される半導体トランジスタ
特性評価回路装置の動作を以下に説明する。NAND論
理回路部分に注目すると、nチャネル型電界効果トラン
ジスタ102及びpチャネル型電界効果トランジスタ1
04のゲートは、高電位パッド105に接続されている
ので、nチャネル型電界効果トランジスタ102は常時
オン状態となり、pチャネル型電界効果トランジスタ1
04は常時オフ状態となる。又、例えばNAND論理回
路110−2を例にとると、上述したように自己発振に
よりNAND論理回路110−1の出力端子120にお
ける信号レベルはH,Lに変化するが、出力端子120
の信号レベルがHレベルのときには、nチャネル型電界
効果トランジスタ101はオン状態、pチャネル型電界
効果トランジスタ103はオフ状態、上述したようにn
チャネル型電界効果トランジスタ102は常時オン状
態、pチャネル型電界効果トランジスタ104は常時オ
フ状態であることから、NAND論理回路110−2に
おける出力端子130はnチャネル型電界効果トランジ
スタ101,102を介して低電位パッド107に接続
されることになり出力端子130の信号レベルはLレベ
ルとなる。
The operation of the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device thus configured will be described below. Focusing on the NAND logic circuit portion, the n-channel field effect transistor 102 and the p-channel field effect transistor 1
Since the gate of 04 is connected to the high potential pad 105, the n-channel field effect transistor 102 is always in the ON state, and the p-channel field effect transistor 1
04 is always off. Also, taking the NAND logic circuit 110-2 as an example, the signal level at the output terminal 120 of the NAND logic circuit 110-1 changes to H and L due to self-oscillation as described above, but the output terminal 120
, The n-channel field-effect transistor 101 is in the on state, the p-channel field-effect transistor 103 is in the off state, as described above.
Since the channel type field effect transistor 102 is always on and the p channel type field effect transistor 104 is always off, the output terminal 130 in the NAND logic circuit 110-2 is via the n channel type field effect transistors 101 and 102. Since it is connected to the low potential pad 107, the signal level of the output terminal 130 becomes L level.

【0010】一方、出力端子120の信号レベルがLレ
ベルのときには、nチャネル型電界効果トランジスタ1
01はオフ状態、pチャネル型電界効果トランジスタ1
03はオン状態、上述したようにnチャネル型電界効果
トランジスタ102は常時オン状態、pチャネル型電界
効果トランジスタ104は常時オフ状態であることか
ら、NAND論理回路110−2における出力端子13
0はpチャネル型電界効果トランジスタ103を介して
高電位パッド105に接続されることになり出力端子1
30の信号レベルはHレベルとなる。このようにNAN
D論理回路は、入力電位と反転した電位を出力するとい
う通常のインバータ動作を行う。このようなNAND論
理回路が奇数段接続されているので、高電位パッド10
5に電源電圧の高電位を印加することで該半導体トラン
ジスタ特性評価回路装置は自己発振を起こす。このよう
な発振時に実質的なインバータ動作を行う部分は、nチ
ャネル型電界効果トランジスタ101とpチャネル型電
界効果トランジスタ103で構成された回路部分であ
る。
On the other hand, when the signal level of the output terminal 120 is L level, the n-channel field effect transistor 1
01 is an off state, p-channel field effect transistor 1
03 is an on state, the n-channel field effect transistor 102 is always on, and the p-channel field effect transistor 104 is always off, as described above. Therefore, the output terminal 13 of the NAND logic circuit 110-2 is
0 is connected to the high potential pad 105 via the p-channel field effect transistor 103, and the output terminal 1
The signal level of 30 becomes H level. NAN like this
The D logic circuit performs a normal inverter operation of outputting a potential that is the inverse of the input potential. Since such NAND logic circuits are connected in odd stages, the high potential pad 10
By applying a high potential of the power supply voltage to 5, the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device causes self-oscillation. The portion that substantially performs the inverter operation during such oscillation is a circuit portion including the n-channel field effect transistor 101 and the p-channel field effect transistor 103.

【0011】このように自己発振を起こしているとき、
例えば出力端子130における信号レベルがHレベルか
らLレベルに変化するときに、即ち、nチャネル型電界
効果トランジスタ101がオン状態からオフ状態へ変化
するとき、nチャネル型電界効果トランジスタ101の
ソース側101aの電位は、nチャネル型電界効果トラ
ンジスタ102の電位降下により、完全に低電位パッド
107の電位、即ちグラウンド電位、即ち、接地されて
いる基板電位にはならず、上記基板電位よりも幾分高い
電位になる。したがって、nチャネル型電界効果トラン
ジスタ101のソース側101aと該nチャネル型電界
効果トランジスタ101が形成されている基板との間に
逆バイアス電圧が印加されることになり、nチャネル型
電界効果トランジスタ101には基板バイアス効果が作
用することになる。
When self-oscillation occurs in this way,
For example, when the signal level at the output terminal 130 changes from the H level to the L level, that is, when the n-channel field effect transistor 101 changes from the ON state to the OFF state, the source side 101a of the n-channel field effect transistor 101. Due to the potential drop of the n-channel field effect transistor 102, the potential does not completely reach the potential of the low potential pad 107, that is, the ground potential, that is, the grounded substrate potential, and is somewhat higher than the substrate potential. It becomes a potential. Therefore, a reverse bias voltage is applied between the source side 101a of the n-channel field effect transistor 101 and the substrate on which the n-channel field effect transistor 101 is formed, and the n-channel field effect transistor 101 is formed. The substrate bias effect will act on.

【0012】よって本実施例の半導体トランジスタ特性
評価回路装置では、計測用パッド106に動作特性測定
用の計測器を接続し、当該半導体トランジスタ特性評価
回路装置を発振させることで、回路の実状態に近い状況
でnチャネル型電界効果トランジスタの耐久評価等を行
うことができる。
Therefore, in the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device of the present embodiment, a measuring instrument for measuring the operation characteristic is connected to the measurement pad 106 and the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device is oscillated to make the actual state of the circuit. It is possible to evaluate durability of the n-channel field effect transistor in a similar situation.

【0013】尚、上述した実施例ではNAND論理回路
は2入力であるが、これに限るものではなく、図2に示
すように3以上の入力端子を設けた半導体トランジスタ
特性評価回路装置を構成してもよい。尚、図2には4入
力端子を設けた場合について初段、2段目、最終段のN
AND論理回路のみを示している。又、図2に示す構成
部分と同じ構成部分については同じ符号を付しその説明
を省略する。NAND論理回路の構成としては、入力端
子が一つ増える毎に、pチャネル型電界効果トランジス
タ103,104のソース電極が接続される共通ソース
電極、pチャネル型電界効果トランジスタ103,10
4のドレイン電極が接続される共通ドレイン電極にそれ
ぞれソース電極、ドレイン電極が接続されるpチャネル
型電界効果トランジスタが一つずつ増え、4入力端子の
場合、pチャネル型電界効果トランジスタ303,30
4がさらに接続される。又、入力端子が一つ増える毎
に、nチャネル型電界効果トランジスタ101に直列接
続される基板バイアス効果発生手段を構成する第2nチ
ャネル型電界効果トランジスタの数が一つずつ増え、4
入力端子の場合、2入力の場合に直列接続されていたn
チャネル型電界効果トランジスタ102に加え、nチャ
ネル型電界効果トランジスタ301,302が直列接続
される。そして上述した場合と同様にpチャネル型電界
効果トランジスタ103とnチャネル型電界効果トラン
ジスタ101とのゲートを接続して第1入力端子を構成
し、pチャネル型電界効果トランジスタ104,30
3,304とnチャネル型電界効果トランジスタ10
2,301,302とのゲートを接続して第2入力端子
を構成し、pチャネル型電界効果トランジスタの10
3,104,303,304とnチャネル型電界効果ト
ランジスタ101との共通ドレイン電極を出力端子とす
る。その他の構成は基本的に図1に示す2入力端子のN
AND論理回路の場合と変わりないので説明を省略す
る。
Although the NAND logic circuit has two inputs in the above-described embodiment, the present invention is not limited to this, and a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device provided with three or more input terminals is constructed as shown in FIG. May be. In addition, in FIG. 2, when four input terminals are provided, N of the first stage, the second stage, and the last stage
Only the AND logic circuit is shown. Further, the same components as those shown in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. As the configuration of the NAND logic circuit, the common source electrode to which the source electrodes of the p-channel field effect transistors 103 and 104 are connected and the p-channel field effect transistors 103 and 10 are added every time the number of input terminals increases.
The number of p-channel field effect transistors to which the source electrode and the drain electrode are respectively connected is increased by one to the common drain electrode to which the four drain electrodes are connected, and in the case of four input terminals, p-channel field effect transistors 303 and 30
4 is further connected. In addition, each time the number of input terminals increases, the number of second n-channel type field effect transistors constituting the substrate bias effect generating means connected in series to the n-channel type field effect transistor 101 increases by one.
In the case of an input terminal, n connected in series in the case of 2 inputs
In addition to the channel type field effect transistor 102, n channel type field effect transistors 301 and 302 are connected in series. Then, similarly to the case described above, the gates of the p-channel field effect transistor 103 and the n-channel field effect transistor 101 are connected to form a first input terminal, and the p-channel field effect transistors 104 and 30 are formed.
3,304 and n-channel field effect transistor 10
2, 301, 302 are connected to the gates to form a second input terminal.
A common drain electrode of 3, 104, 303, 304 and the n-channel field effect transistor 101 is used as an output terminal. Other configurations are basically two input terminal N shown in FIG.
The explanation is omitted because it is the same as the case of the AND logic circuit.

【0014】このように構成される4入力端子のNAN
D論理回路から構成される半導体トランジスタ特性評価
回路装置も上述した2入力端子のNAND論理回路から
構成される半導体トランジスタ特性評価回路装置の場合
と同様に動作し、nチャネル型電界効果トランジスタ1
01の動作特性評価を行うことができる。さらに3以上
の入力端子を設けた場合、2入力端子の場合に比べ、n
チャネル型電界効果トランジスタ101のソース側には
より多くのnチャネル型電界効果トランジスタが直列接
続されることになるので、これらのトランジスタの電位
降下に起因し、nチャネル型電界効果トランジスタ10
1のソース側電位と基板電位との差は大きくなり、nチ
ャネル型電界効果トランジスタ101に、より大きな基
板バイアス効果を作用させることができる。
NAN having four input terminals configured as described above
The semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device composed of the D logic circuit also operates in the same manner as the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device composed of the NAND logic circuit of the two-input terminal described above, and the n-channel field effect transistor
01 operation characteristic evaluation can be performed. In addition, when three or more input terminals are provided, compared to the case of two input terminals, n
Since more n-channel type field effect transistors are connected in series on the source side of the channel type field effect transistor 101, the n channel type field effect transistor 10 is caused by the potential drop of these transistors.
The difference between the source-side potential of 1 and the substrate potential becomes large, and a larger substrate bias effect can be exerted on the n-channel field effect transistor 101.

【0015】第2実施例 次に、図3には、2入力のNOR論理回路にて一段を構
成し、これを奇数段に接続したタイプの半導体トランジ
スタ特性評価回路装置を示している。一段を構成するN
OR論理回路の構成自体は一般的に知られた構成であ
る。即ち、第1pチャネル型電界効果トランジスタに対
応し、動作特性を評価したいトランジスタであるpチャ
ネル型電界効果トランジスタ203と、基板バイアス効
果発生手段を構成する第2pチャネル型電界効果トラン
ジスタに対応するpチャネル型電界効果トランジスタ2
04とが直列接続される。又、第1nチャネル型電界効
果トランジスタに対応するnチャネル型電界効果トラン
ジスタ201と、第2nチャネル型電界効果トランジス
タに対応するnチャネル型電界効果トランジスタ202
とが並列接続される。そして、nチャネル型電界効果ト
ランジスタ201,202におけるドレイン電極が接続
される共通ドレイン電極側と上記pチャネル型電界効果
トランジスタ203のドレイン電極側とを接続し、一つ
のNOR論理回路を構成する。このように構成されるN
OR論理回路は以下に説明する接続を行いその合計が奇
数個の段数となるように接続され、第2実施例における
半導体トランジスタ特性評価回路装置が構成される。
尚、各段におけるNOR論理回路について、それぞれ対
応するトランジスタは図示するように同じ符号を付して
いる。
Second Embodiment Next, FIG. 3 shows a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device of a type in which one stage is composed of a 2-input NOR logic circuit and is connected to odd stages. N that constitutes one step
The configuration itself of the OR logic circuit is a generally known configuration. That is, a p-channel type field-effect transistor 203 corresponding to the first p-channel type field-effect transistor, whose operation characteristics are desired to be evaluated, and a p-channel type field-effect transistor constituting the substrate bias effect generating means. Type field effect transistor 2
04 and 04 are connected in series. Further, an n-channel field effect transistor 201 corresponding to the first n-channel field effect transistor and an n-channel field effect transistor 202 corresponding to the second n-channel field effect transistor 202.
And are connected in parallel. Then, the common drain electrode side to which the drain electrodes of the n-channel field effect transistors 201 and 202 are connected and the drain electrode side of the p-channel field effect transistor 203 are connected to form one NOR logic circuit. N configured in this way
The OR logic circuits are connected as described below and connected so that the total number thereof is an odd number of stages, and the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device in the second embodiment is configured.
In the NOR logic circuit in each stage, the corresponding transistors are designated by the same reference numerals as shown in the figure.

【0016】上記nチャネル型電界効果トランジスタ2
01,202と上記pチャネル型電界効果トランジスタ
203とにおける共通のドレイン電極側が、一段のNO
R論理回路の出力端子として次段に配列されるNOR論
理回路に備わるpチャネル型電界効果トランジスタ20
3及びnチャネル型電界効果トランジスタ201のゲー
トを接続した第1入力端子に接続される。以下同様に前
段における上記出力端子が次段における上記第1入力端
子に接続され、最終段のNOR論理回路210−nにお
ける出力端子は初段のNOR論理回路210−1におけ
る第1入力端子に接続される。このようにリング状に構
成することで、また、接続するNOR論理回路の段数が
奇数であることから、上述したNAND論理回路にて構
成した場合と同様に該回路は自己発振を行い、ある段に
おける上記出力端子から次段の上記第1入力端子にはH
レベルの信号とLレベルの信号とが交互に供給されるこ
とになる。
The above n-channel field effect transistor 2
01, 202 and the common drain electrode side of the p-channel type field effect transistor 203 have one-stage NO
A p-channel field effect transistor 20 provided in a NOR logic circuit arranged in the next stage as an output terminal of the R logic circuit
It is connected to the first input terminal which connects the gates of the 3 and n-channel field effect transistors 201. Similarly, the output terminal of the previous stage is connected to the first input terminal of the next stage, and the output terminal of the NOR logic circuit 210-n of the final stage is connected to the first input terminal of the NOR logic circuit 210-1 of the first stage. It With this ring configuration, and since the number of NOR logic circuits connected is odd, the circuits perform self-oscillation as in the case of the NAND logic circuit described above, and H from the output terminal in the above to the first input terminal in the next stage
The level signal and the L level signal are supplied alternately.

【0017】又、それぞれのNOR論理回路におけるp
チャネル型電界効果トランジスタ204及びnチャネル
型電界効果トランジスタ202のゲートを接続した第2
入力端子及びnチャネル型電界効果トランジスタ20
1,202の各ソース電極側は、低電位パッド107に
接続される。さらに、それぞれのNOR論理回路に備わ
るpチャネル型電界効果トランジスタ204のソース側
は、高電位パッド105に接続される。又、最終段のN
OR論理回路210−nの出力端子は、上記第1実施例
の場合と同様に計測用パッド106に接続される。
Further, p in each NOR logic circuit
A second connection of the gates of the channel field effect transistor 204 and the n channel field effect transistor 202
Input terminal and n-channel field effect transistor 20
Each source electrode side of 1, 202 is connected to the low potential pad 107. Further, the source side of the p-channel field effect transistor 204 provided in each NOR logic circuit is connected to the high potential pad 105. Also, the last N
The output terminal of the OR logic circuit 210-n is connected to the measurement pad 106 as in the case of the first embodiment.

【0018】このように構成される半導体トランジスタ
特性評価回路装置の動作を以下に説明する。NOR論理
回路部分に注目すると、pチャネル型電界効果トランジ
スタ204及びnチャネル型電界効果トランジスタ20
2のゲートは、低電位パッド107に接続されているの
で、pチャネル型電界効果トランジスタ202は常時オ
ン状態となり、nチャネル型電界効果トランジスタ20
4は常時オフ状態となる。又、例えばNOR論理回路2
10−2を例にとると、上述したように自己発振により
NOR論理回路210−1の出力端子220における信
号レベルはH,Lに変化するが、出力端子220の信号
レベルがHレベルのときには、pチャネル型電界効果ト
ランジスタ203はオフ状態、nチャネル型電界効果ト
ランジスタ201はオン状態、上述したようにpチャネ
ル型電界効果トランジスタ204は常時オン状態、nチ
ャネル型電界効果トランジスタ202は常時オフ状態で
あることから、NOR論理回路210−2における出力
端子230はnチャネル型電界効果トランジスタ201
を介して低電位パッド107に接続されることになり出
力端子230の信号レベルはLレベルとなる。
The operation of the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device thus constructed will be described below. Focusing on the NOR logic circuit portion, the p-channel field effect transistor 204 and the n-channel field effect transistor 20 are shown.
Since the gate of 2 is connected to the low potential pad 107, the p-channel field-effect transistor 202 is always in the ON state, and the n-channel field-effect transistor 20.
4 is always off. Also, for example, NOR logic circuit 2
Taking 10-2 as an example, the signal level at the output terminal 220 of the NOR logic circuit 210-1 changes to H and L due to self-oscillation as described above, but when the signal level at the output terminal 220 is at the H level, The p-channel field effect transistor 203 is off, the n-channel field effect transistor 201 is on, the p-channel field effect transistor 204 is always on, and the n-channel field effect transistor 202 is always off, as described above. Therefore, the output terminal 230 in the NOR logic circuit 210-2 is the n-channel field effect transistor 201.
Therefore, the signal level of the output terminal 230 becomes L level.

【0019】一方、出力端子220の信号レベルがLレ
ベルのときには、pチャネル型電界効果トランジスタ2
03はオン状態、nチャネル型電界効果トランジスタ2
01はオフ状態、上述したようにpチャネル型電界効果
トランジスタ204は常時オン状態、nチャネル型電界
効果トランジスタ202は常時オフ状態であることか
ら、NOR論理回路210−2における出力端子230
はpチャネル型電界効果トランジスタ203,204を
介して高電位パッド105に接続されることになり出力
端子130の信号レベルはHレベルとなる。このように
NOR論理回路は、入力電位と反転した電位を出力する
という通常のインバータ動作を行う。このようなNOR
論理回路が奇数段接続されているので、高電位パッド1
05に電源電圧の高電位を印加することで該半導体トラ
ンジスタ特性評価回路装置は自己発振を起こす。このよ
うな発振時に実質的なインバータ動作を行う部分は、p
チャネル型電界効果トランジスタ203とnチャネル型
電界効果トランジスタ201で構成された回路部分であ
る。
On the other hand, when the signal level of the output terminal 220 is L level, the p-channel field effect transistor 2 is used.
03 is an ON state, n-channel field effect transistor 2
01 is an off state, the p-channel field effect transistor 204 is always on, and the n-channel field effect transistor 202 is always off as described above. Therefore, the output terminal 230 of the NOR logic circuit 210-2 is
Is connected to the high potential pad 105 through the p-channel field effect transistors 203 and 204, and the signal level of the output terminal 130 becomes H level. In this way, the NOR logic circuit performs a normal inverter operation of outputting a potential that is the inverse of the input potential. NOR like this
Since the logic circuits are connected in odd stages, high potential pad 1
When a high potential of the power supply voltage is applied to 05, the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device causes self-oscillation. The portion that performs a substantial inverter operation during such oscillation is p
It is a circuit portion composed of a channel type field effect transistor 203 and an n channel type field effect transistor 201.

【0020】このように自己発振を起こしているとき、
例えば出力端子230における信号レベルがLレベルか
らHレベルに変化するときに、即ち、pチャネル型電界
効果トランジスタ203がオン状態からオフ状態へ変化
するとき、pチャネル型電界効果トランジスタ203の
ソース側203aの電位は、基板バイアス効果発生手段
を構成するpチャネル型電界効果トランジスタ204の
電位降下により、完全に、高電位パッド105の電位、
即ち電源電圧の高電位、即ち、上記高電位に接続されて
いる基板電位と一致せず、上記基板電位よりも幾分低い
電位になる。したがって、pチャネル型電界効果トラン
ジスタ203のソース側203aと該pチャネル型電界
効果トランジスタ203が形成されている半導体基板と
の間に逆バイアス電圧が印加されることになり、pチャ
ネル型電界効果トランジスタ203には基板バイアス効
果が作用することになる。
When self-oscillation occurs in this way,
For example, when the signal level at the output terminal 230 changes from the L level to the H level, that is, when the p-channel field effect transistor 203 changes from the ON state to the OFF state, the source side 203a of the p-channel field effect transistor 203. Is completely reduced by the potential drop of the p-channel type field effect transistor 204 which constitutes the substrate bias effect generating means.
That is, it does not match the high potential of the power supply voltage, that is, the substrate potential connected to the high potential, and becomes a potential slightly lower than the substrate potential. Therefore, a reverse bias voltage is applied between the source side 203a of the p-channel field effect transistor 203 and the semiconductor substrate on which the p-channel field effect transistor 203 is formed, and the p-channel field effect transistor is formed. The substrate bias effect acts on 203.

【0021】よって本第2実施例の半導体トランジスタ
特性評価回路装置では、計測用パッド106に動作特性
測定用の計測器を接続し、当該半導体トランジスタ特性
評価回路装置を発振させることで、回路の実状態に近い
状況でpチャネル型電界効果トランジスタの耐久評価等
を行うことができる。
Therefore, in the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device of the second embodiment, by connecting a measuring instrument for measuring the operation characteristic to the measurement pad 106 and causing the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device to oscillate, the circuit is actually measured. The durability of the p-channel field effect transistor can be evaluated in a state close to the state.

【0022】尚、上記第2実施例では、NOR論理回路
は2入力であるが、これに限るものではなく、図4に示
す構成をとることで、3以上の入力端子を設けた半導体
トランジスタ特性評価回路装置を構成することもでき
る。尚、図4には4つの入力端子を設けた場合を示して
いる。
In the second embodiment, the NOR logic circuit has two inputs. However, the NOR logic circuit is not limited to this, and the configuration shown in FIG. 4 allows the semiconductor transistor characteristic having three or more input terminals to be provided. An evaluation circuit device can also be constructed. Incidentally, FIG. 4 shows a case where four input terminals are provided.

【0023】又、第1実施例又は第2実施例にて示した
構成にてなる半導体トランジスタ特性評価回路装置を、
ある機能を有する半導体集積回路が形成されている半導
体チップ内の一部に搭載してもよい。即ち、図5に示す
ように、上記半導体集積回路402が形成されている半
導体チップ401の一部分に例えば第1実施例にて説明
した半導体トランジスタ特性評価回路装置403を形成
し、半導体トランジスタ特性評価回路装置に備わる、上
述した高電位パッド105、計測用パッド106、低電
位パッド107を半導体チップ401上に形成する。
尚、図5ではこれらのパッド105から107は、半導
体集積回路402に接続されるパッドと別個に設けてい
るが、半導体集積回路402を駆動するための電源を供
給するパッドと共有するようにしてもよい。
Further, a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device having the configuration shown in the first or second embodiment is
It may be mounted on a part of a semiconductor chip in which a semiconductor integrated circuit having a certain function is formed. That is, as shown in FIG. 5, the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device 403 described in the first embodiment is formed in a part of the semiconductor chip 401 in which the semiconductor integrated circuit 402 is formed, and the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit is formed. The high-potential pad 105, the measurement pad 106, and the low-potential pad 107, which are provided in the device, are formed on the semiconductor chip 401.
Although these pads 105 to 107 are provided separately from the pads connected to the semiconductor integrated circuit 402 in FIG. 5, they should be shared with the pads that supply power for driving the semiconductor integrated circuit 402. Good.

【0024】このように構成することで、半導体集積回
路402を駆動するときに、半導体トランジスタ特性評
価回路装置403も同時に駆動し、半導体トランジスタ
特性評価回路装置403におけるトランジスタの特性評
価を計測用パッド106を介してモニタすることで、半
導体集積回路402を構成しているトランジスタの特性
評価を随時、容易に行うことができる。
With such a configuration, when the semiconductor integrated circuit 402 is driven, the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device 403 is also driven at the same time, and the transistor characteristic evaluation in the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device 403 is performed by the measurement pad 106. The characteristics of the transistors included in the semiconductor integrated circuit 402 can be easily evaluated at any time by monitoring via the.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、第
1入力端子に特性評価したい第1nチャネル型電界効果
トランジスタを接続し、第2nチャネル型電界効果トラ
ンジスタのゲートを高電位パッドに接続したことより以
下の効果を奏する。即ち、第1nチャネル型電界効果ト
ランジスタがオン状態となりそのソース側が第2nチャ
ネル型電界効果トランジスタを介して低電位パッドに接
続された後、自己発振により上記出力端子の電位がHレ
ベルからLレベルに変化するときには、基板バイアス効
果発生手段を構成する第2nチャネル型電界効果トラン
ジスタの抵抗に起因する電位降下により、第1nチャネ
ル型電界効果トランジスタのソース側電位は、接地され
ている基板電位よりも高い電位となる。したがって、第
1nチャネル型電界効果トランジスタには基板バイアス
効果を生じさせ、実際の回路に使用される状態に近い状
態にてnチャネル型電界効果トランジスタの動作特性を
測定することができる。又、上述したNAND論理回路
をNOR論理回路にて置き換えることで、上述した動作
と同様の動作にてpチャネル型電界効果トランジスタの
動作特性を測定することが可能となる。
As described above in detail, according to the present invention, the first n-channel field effect transistor whose characteristic is to be evaluated is connected to the first input terminal, and the gate of the second n-channel field effect transistor is connected to the high potential pad. The following effects are brought about by the connection. That is, after the first n-channel field effect transistor is turned on and its source side is connected to the low potential pad through the second n-channel field effect transistor, the potential of the output terminal is changed from H level to L level by self-oscillation. When changing, the source side potential of the first n-channel type field effect transistor is higher than the grounded substrate potential due to the potential drop due to the resistance of the second n-channel type field effect transistor which constitutes the substrate bias effect generating means. It becomes an electric potential. Therefore, the substrate bias effect is generated in the first n-channel field effect transistor, and the operating characteristics of the n-channel field effect transistor can be measured in a state close to that used in an actual circuit. Also, by replacing the NAND logic circuit described above with a NOR logic circuit, it becomes possible to measure the operating characteristics of the p-channel field effect transistor in the same operation as described above.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の半導体トランジスタ特性評価回路装
置の第1実施例における構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration in a first embodiment of a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device of the present invention.

【図2】 第1実施例におけるNAND論理回路の入力
端子数を例えば4つとした場合における半導体トランジ
スタ特性評価回路装置の構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device in the case where the number of input terminals of the NAND logic circuit in the first embodiment is four, for example.

【図3】 本発明の半導体トランジスタ特性評価回路装
置の第2実施例における構成を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 第2実施例におけるNOR論理回路の入力端
子数を例えば4つとした場合における半導体トランジス
タ特性評価回路装置の構成を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device in the case where the number of input terminals of the NOR logic circuit in the second embodiment is four, for example.

【図5】 半導体集積回路を形成する半導体チップに本
発明の半導体トランジスタ特性評価回路装置を搭載した
場合を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a case where the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device of the present invention is mounted on a semiconductor chip forming a semiconductor integrated circuit.

【図6】 従来の半導体トランジスタ特性評価回路装置
の構成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101,102…nチャネル型電界効果トランジスタ、
103,104…pチャネル型電界効果トランジスタ、
110−1,110−2,110−3,110−n…N
AND論理回路、105…高電位パッド、106…計測
用パッド、107…低電位パッド、201,202…n
チャネル型電界効果トランジスタ、203,204…p
チャネル型電界効果トランジスタ、210−1,210
−2,210−3,210−n…NOR論理回路、40
1…半導体チップ、402…半導体集積回路、403…
半導体トランジスタ特性評価回路装置。
101, 102 ... N-channel field effect transistor,
103, 104 ... P-channel field effect transistor,
110-1, 110-2, 110-3, 110-n ... N
AND logic circuit, 105 ... High potential pad, 106 ... Measurement pad, 107 ... Low potential pad, 201, 202 ... N
Channel type field effect transistors 203, 204 ... P
Channel type field effect transistors, 210-1 and 210
-2, 210-3, 210-n ... NOR logic circuit, 40
1 ... Semiconductor chip, 402 ... Semiconductor integrated circuit, 403 ...
Semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1pチャネル型電界効果トランジスタ
と、 上記第1pチャネル型電界効果トランジスタにおけるソ
ース電極が接続される共通ソース電極にソース電極が接
続され、上記第1pチャネル型電界効果トランジスタに
おけるドレイン電極が接続される共通ドレイン電極にド
レイン電極が接続され、上記第1pチャネル型電界効果
トランジスタに対して並列接続される少なくとも一つの
第2pチャネル型電界効果トランジスタと、 上記第1及び第2pチャネル型電界効果トランジスタの
各ドレイン電極が接続された共通ドレイン電極側に接続
され動作特性評価される第1nチャネル型電界効果トラ
ンジスタと、 上記第1nチャネル型電界効果トランジスタのソース電
極側に一方の接続端子として直列接続されて、上記第1
nチャネル型電界効果トランジスタのソース電極におけ
る電位を電源電圧の低電位よりも高い電位とする少なく
とも一つの第2nチャネル型電界効果トランジスタを有
する基板バイアス効果発生手段と、 上記第1pチャネル型電界効果トランジスタのゲートと
上記第1nチャネル型電界効果トランジスタのゲートと
を接続した第1入力端子と、 上記第2pチャネル型電界効果トランジスタのゲートと
上記基板バイアス効果発生手段を構成する第2nチャネ
ル型電界効果トランジスタのゲートとを接続した第2入
力端子と、 上記共通ドレイン電極に接続される出力端子と、を有す
る一個のNAND論理回路を奇数段有し、初段から(最
終−1)段までに配列される上記NAND論理回路にあ
っては上記出力端子を次段に配列される上記NAND論
理回路に備わる上記第1入力端子に接続し、最終段に配
列される上記NAND論理回路に備わる上記出力端子に
あっては初段に配列される上記NAND論理回路に備わ
る上記第1入力端子に接続してなる半導体トランジスタ
特性評価回路装置において、 それぞれの上記NAND論理回路に備わる上記第1及び
第2pチャネル型電界効果トランジスタにおける上記共
通ソース電極及び上記第2入力端子が接続され、電源電
圧の高電位が供給される高電位パッドと、 最終段に配列される上記NAND論理回路に備わる上記
出力端子に接続され、該半導体トランジスタ特性評価回
路装置の発振波形を計測する計測器を接続する計測用パ
ッドと、 それぞれの上記NAND論理回路に備わる上記基板バイ
アス効果発生手段における他方の接続端子となる上記基
板バイアス効果発生手段内第2nチャネル型電界効果ト
ランジスタソース電極が接続され、電源電圧の低電位が
供給される低電位パッドと、を備えたことを特徴とする
半導体トランジスタ特性評価回路装置。
1. A source electrode is connected to a common source electrode connected to a first p-channel field effect transistor and a source electrode in the first p-channel field effect transistor, and a drain electrode in the first p-channel field effect transistor. A drain electrode is connected to a common drain electrode connected to the first p-channel field effect transistor, and at least one second p-channel field effect transistor connected in parallel to the first p-channel field effect transistor; and the first and second p-channel field effect transistors. A first n-channel type field effect transistor which is connected to a common drain electrode side to which each drain electrode of the effect transistor is connected and whose operation characteristics are evaluated, and a series connection as one connection terminal on the source electrode side of the first n-channel type field effect transistor. Connected to the first
Substrate bias effect generating means having at least one second n-channel type field effect transistor for making the potential at the source electrode of the n-channel type field effect transistor higher than the low potential of the power supply voltage, and the first p-channel type field effect transistor. A first input terminal connecting the gate of the first n-channel field effect transistor to the gate of the first n-channel field effect transistor, the gate of the second p-channel field effect transistor and the second n-channel field effect transistor forming the substrate bias effect generating means. One NAND logic circuit having a second input terminal connected to the gate of the above and an output terminal connected to the common drain electrode is arranged in odd stages and arranged from the first stage to the (final-1) stage. In the NAND logic circuit, the NAN in which the output terminal is arranged in the next stage Connected to the first input terminal provided in the logic circuit, and connected to the first input terminal provided in the NAND logic circuit arranged in the first stage in the output terminal provided in the NAND logic circuit arranged in the final stage In the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device according to the present invention, the common source electrode and the second input terminal in the first and second p-channel field effect transistors provided in each NAND logic circuit are connected, and a high potential of a power supply voltage And a measurement pad connected to the output terminal provided in the NAND logic circuit arranged in the final stage and connected to a measuring instrument for measuring the oscillation waveform of the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device. , The other connection terminal in the substrate bias effect generating means provided in each NAND logic circuit Comprising the substrate bias effect generating means in the 2n-channel field-effect transistor a source electrode connected, the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit unit, wherein the low-potential power supply voltage and a low potential pads to be supplied.
【請求項2】 上記低電位パッドは、上記nチャネル型
電界効果トランジスタを形成する基板又はウエルに接続
され、上記高電位パッドは、上記pチャネル型電界効果
トランジスタを形成する基板又はウエルに接続される、
請求項1記載の半導体トランジスタ特性評価回路装置。
2. The low potential pad is connected to a substrate or a well forming the n-channel field effect transistor, and the high potential pad is connected to a substrate or a well forming the p-channel field effect transistor. The
The semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device according to claim 1.
【請求項3】 第1nチャネル型電界効果トランジスタ
と、 上記第1nチャネル型電界効果トランジスタにおけるソ
ース電極が接続される共通ソース電極にソース電極が接
続され、上記第1nチャネル型電界効果トランジスタに
おけるドレイン電極が接続される共通ドレイン電極にド
レイン電極が接続され、上記第1nチャネル型電界効果
トランジスタに対して並列接続される少なくとも一つの
第2nチャネル型電界効果トランジスタと、 上記第1及び第2nチャネル型電界効果トランジスタの
各ドレイン電極が接続された共通ドレイン電極側に接続
され動作特性評価される第1pチャネル型電界効果トラ
ンジスタと、 上記第1pチャネル型電界効果トランジスタのソース電
極側に一方の接続端子として直列接続されて、上記第1
pチャネル型電界効果トランジスタのソース電極におけ
る電位を電源電圧の高電位よりも低い電位とする少なく
とも一つの第2pチャネル型電界効果トランジスタを有
する基板バイアス効果発生手段と、 上記第1nチャネル型電界効果トランジスタのゲートと
上記第1pチャネル型電界効果トランジスタのゲートと
を接続した第1入力端子と、 上記第2nチャネル型電界効果トランジスタのゲートと
上記基板バイアス効果発生手段を構成する第2pチャネ
ル型電界効果トランジスタのゲートとを接続した第2入
力端子と、 上記共通ドレイン電極に接続される出力端子と、を有す
る一個のNOR論理回路を奇数段有し、初段から(最終
−1)段までに配列される上記NOR論理回路にあって
は上記出力端子を次段に配列される上記NOR論理回路
に備わる上記第1入力端子に接続し、最終段に配列され
る上記NOR論理回路に備わる上記出力端子にあっては
初段に配列される上記NOR論理回路に備わる上記第1
入力端子に接続してなる半導体トランジスタ特性評価回
路装置において、 それぞれの上記NOR論理回路に備わる上記第1及び第
2nチャネル型電界効果トランジスタにおける上記共通
ソース電極及び上記第2入力端子が接続され、電源電圧
の低電位が供給される低電位パッドと、 最終段に配列される上記NOR論理回路に備わる上記出
力端子に接続され、該半導体トランジスタ特性評価回路
装置の発振波形を計測する計測器を接続する計測用パッ
ドと、 それぞれの上記NOR論理回路に備わる上記基板バイア
ス効果発生手段における他方の接続端子となる上記基板
バイアス効果発生手段内第2pチャネル型電界効果トラ
ンジスタソース電極が接続され、電源電圧の高電位が供
給される高電位パッドと、を備えたことを特徴とする半
導体トランジスタ特性評価回路装置。
3. A first n-channel field effect transistor, a source electrode connected to a common source electrode connected to a source electrode in the first n-channel field effect transistor, and a drain electrode in the first n-channel field effect transistor. A drain electrode is connected to a common drain electrode to which is connected, and at least one second n-channel field effect transistor connected in parallel to the first n-channel field effect transistor; and the first and second n-channel field effect transistors. A first p-channel type field effect transistor which is connected to a common drain electrode side to which each drain electrode of the effect transistor is connected and whose operation characteristics are evaluated, and a series connection as one connection terminal on the source electrode side of the first p-channel type field effect transistor Connected to the first
Substrate bias effect generating means having at least one second p-channel type field effect transistor for making the potential at the source electrode of the p-channel type field effect transistor lower than the high potential of the power supply voltage, and the first n-channel type field effect transistor. A second input terminal connecting the gate of the second p-channel field effect transistor to the gate of the first p-channel field effect transistor, the gate of the second n-channel field effect transistor and the second p-channel field effect transistor forming the substrate bias effect generating means. An odd number of NOR logic circuits each having a second input terminal connected to the gate and an output terminal connected to the common drain electrode and arranged from the first stage to the (final-1) stage. In the NOR logic circuit, the NOR logic in which the output terminals are arranged in the next stage Connected to the first input terminal provided in the road, in the above output terminal provided in the NOR logic circuit arranged in the final stage the first included in the NOR logic circuit arranged in a first stage
In a semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device connected to an input terminal, the common source electrode and the second input terminal in the first and second n-channel field effect transistors provided in each NOR logic circuit are connected, and a power supply is connected. A low potential pad to which a low potential of voltage is supplied is connected to a measuring instrument which is connected to the output terminal of the NOR logic circuit arranged in the final stage and which measures the oscillation waveform of the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device. The measurement pad is connected to the source electrode of the second p-channel field effect transistor in the substrate bias effect generating means, which serves as the other connecting terminal of the substrate bias effect generating means provided in each NOR logic circuit, and the power supply voltage is high. And a high potential pad to which a potential is supplied. Njisuta characterization circuit device.
【請求項4】 上記低電位パッドは、上記nチャネル型
電界効果トランジスタを形成する基板又はウエルに接続
され、上記高電位パッドは、上記pチャネル型電界効果
トランジスタを形成する基板又はウエルに接続される、
請求項3記載の半導体トランジスタ特性評価回路装置。
4. The low potential pad is connected to a substrate or a well forming the n-channel field effect transistor, and the high potential pad is connected to a substrate or a well forming the p-channel field effect transistor. The
The semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device according to claim 3.
【請求項5】 請求項1又は2記載の半導体トランジス
タ特性評価回路装置を備えた半導体集積回路装置。
5. A semiconductor integrated circuit device comprising the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device according to claim 1.
【請求項6】 請求項3又は4記載の半導体トランジス
タ特性評価回路装置を備えた半導体集積回路装置。
6. A semiconductor integrated circuit device comprising the semiconductor transistor characteristic evaluation circuit device according to claim 3.
JP5170249A 1993-07-09 1993-07-09 Circuit device for evaluating characteristic of semiconductor transistor and semiconductor integrated circuit device Pending JPH0727816A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5170249A JPH0727816A (en) 1993-07-09 1993-07-09 Circuit device for evaluating characteristic of semiconductor transistor and semiconductor integrated circuit device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5170249A JPH0727816A (en) 1993-07-09 1993-07-09 Circuit device for evaluating characteristic of semiconductor transistor and semiconductor integrated circuit device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0727816A true JPH0727816A (en) 1995-01-31

Family

ID=15901445

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5170249A Pending JPH0727816A (en) 1993-07-09 1993-07-09 Circuit device for evaluating characteristic of semiconductor transistor and semiconductor integrated circuit device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0727816A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106935570A (en) * 2017-03-31 2017-07-07 京东方科技集团股份有限公司 Test circuit, method of testing, array base palte and its manufacture method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106935570A (en) * 2017-03-31 2017-07-07 京东方科技集团股份有限公司 Test circuit, method of testing, array base palte and its manufacture method
CN106935570B (en) * 2017-03-31 2019-04-26 京东方科技集团股份有限公司 Test circuit, test method, array substrate and its manufacturing method
US10429412B2 (en) 2017-03-31 2019-10-01 Boe Technology Group Co., Ltd. Test circuit, test method, array substrate and manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3304355B2 (en) Test equipment
JPH0727816A (en) Circuit device for evaluating characteristic of semiconductor transistor and semiconductor integrated circuit device
JP2827062B2 (en) Integrated circuit
JP3241543B2 (en) Semiconductor circuit characteristic evaluation device and semiconductor circuit device provided with characteristic evaluation device
JP3430137B2 (en) Iddq test circuit
JPH10300829A (en) Input circuit for semiconductor integrated circuit
JP2978845B2 (en) Electromigration evaluation circuit
JP2665054B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JPH06313787A (en) Estimating circuit of semiconductor device
KR0147453B1 (en) Semiconductor integrated circuit
JPH06331707A (en) Evaluation method for logical integrated circuit
JP2001091599A (en) Semiconductor integrated circuit
JP3036962B2 (en) Integrated circuit test circuit
JP3508043B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH0254546A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0627186A (en) Method and device for evaluating semiconductor transistor characteristics
JP2003258110A (en) Semiconductor integrated circuit device and method for measuring input threshold
JPH07221629A (en) Cmos circuit and semiconductor integrated circuit
JPH04162559A (en) Semiconductor ic
JPH05340992A (en) Integrated circuit device
JPH05304418A (en) Cmos crystal oscillation circuit
JPS606520B2 (en) Integrated circuit device with liquid crystal display drive circuit
JPH02280069A (en) Output buffer circuit
JPH0618610A (en) Semiconductor device
JPH05297073A (en) Ic with built-in bias testing circuit