JPH0727707A - Inspecting apparatus for foreign matter - Google Patents

Inspecting apparatus for foreign matter

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JPH0727707A
JPH0727707A JP5192970A JP19297093A JPH0727707A JP H0727707 A JPH0727707 A JP H0727707A JP 5192970 A JP5192970 A JP 5192970A JP 19297093 A JP19297093 A JP 19297093A JP H0727707 A JPH0727707 A JP H0727707A
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JP
Japan
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light
foreign matter
light receiving
photomultiplier
laser
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JP5192970A
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Japanese (ja)
Inventor
Kinya Kato
欣也 加藤
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Publication of JPH0727707A publication Critical patent/JPH0727707A/en
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Abstract

PURPOSE:To detect abnormality of a foreign matter inspecting apparatus itself simultaneously with the time when the abnormal point of the apparatus is specified, by branching a part of a light beam from a radiation means and directly guiding it to a photodetecting means without passing the beams through a to-be-inspected surface. CONSTITUTION:Laser beam 1A radiated from a laser light source 1 is measured by a laser power monitor 13. A shutter 14 is opened to start a self-analysis. A split light of the laser beam 1A from a beam splitter 12 is made incident on one end of a light guide 15. Accordingly, split light of the laser beam 1A is made incident on each photomultiplier 10 from the light guides 15A, 15B. At this time, if an output obtained from the photomultiplier 10 is not at a predetermined output level, the photomultiplier 10 is detected to be abnormal. Moreover, when a predetermined output is detected as a result of the self- analysis of the photomultiplier 10, the inspection is carried out by use of a scattering reference material in place of a reticle 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造用の
レチクル(マスク)の表面等の被検査面を光ビームで走
査することにより被検査面上の異物を光学的に検出する
ための異物検査装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a foreign substance for optically detecting a foreign substance on the surface to be inspected by scanning the surface to be inspected such as the surface of a reticle (mask) for semiconductor manufacturing with a light beam. The present invention relates to an inspection device.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的に、異物検査装置の構成部分は、
被検査面に光ビームを照射する照射系と、前記光ビーム
の照射に基づいて前記被検査面から生じる散乱光を受光
して光電変換する受光系と、該受光系の出力信号に基づ
いて前記被検査面上の異物を検出する検出系とに大別さ
れている。
2. Description of the Related Art Generally, the components of a foreign matter inspection device are
An irradiation system for irradiating a surface to be inspected with a light beam, a light receiving system for receiving and photoelectrically converting scattered light generated from the surface to be inspected on the basis of the irradiation of the light beam, and based on an output signal of the light receiving system, It is roughly divided into a detection system that detects foreign matter on the surface to be inspected.

【0003】図3は、従来の一般的な異物検査装置の概
略構成を示す説明図である。図3に示すように、従来の
異物検査装置は、照射系を構成するレーザ光源1、ビー
ムエクスパンダー2,3、振動ミラー4、走査レンズ5
と、レチクル6、受光系を構成する受光ミラー7、受光
レンズ8、スリット9、フォトマル(光電変換器)10
より主に構成されている。尚、図3には検出系は図示さ
れていない。
FIG. 3 is an explanatory view showing a schematic structure of a conventional general foreign matter inspection apparatus. As shown in FIG. 3, the conventional foreign matter inspection apparatus includes a laser light source 1, beam expanders 2 and 3, an oscillating mirror 4, and a scanning lens 5 which constitute an irradiation system.
And a reticle 6, a light receiving mirror 7 that constitutes a light receiving system, a light receiving lens 8, a slit 9, and a photomultiplier (photoelectric converter) 10.
More mainly composed. The detection system is not shown in FIG.

【0004】レーザ光源1は、レーザービーム1Aを射
出する。また、ビームエクスパンダー2,3は、射出さ
れたレーザビーム1Aを所望のビーム径にする。
The laser light source 1 emits a laser beam 1A. Further, the beam expanders 2 and 3 make the emitted laser beam 1A have a desired beam diameter.

【0005】振動ミラー4は、図示していない支持装置
によってX軸方向に回動可能となっており、ビームエク
スパンダー2,3を通過したレーザビーム1Aを走査レ
ンズ5を介してレチクル6上面に斜めに集光照射し、X
軸方向に走査する。また、レチクル6は、図示しない支
持装置によってY軸方向に移動可能となっている。従っ
て、レーザービーム1Aは、レチクル6全面をラスター
状に走査することができる。
The vibrating mirror 4 is rotatable in the X-axis direction by a support device (not shown), and the laser beam 1A passing through the beam expanders 2 and 3 is passed through the scanning lens 5 to the upper surface of the reticle 6. Focus and irradiate diagonally, X
Scan in the axial direction. The reticle 6 can be moved in the Y-axis direction by a support device (not shown). Therefore, the laser beam 1A can scan the entire surface of the reticle 6 in a raster shape.

【0006】受光ミラー7は、レチクル6上面に異物が
ある場合に、その異物から生じるレーザービーム1Aの
散乱光(反射光)を反射して、受光レンズ8に入射させ
る。受光レンズ8は、受光ミラー7により反射された散
乱光をスリット9上に集光する。スリット9は、受光レ
ンズ8によって集光された散乱光のみを通過させる。フ
ォトマル10は、スリット9を通過した散乱光を光電変
換し、図示していない検出系にその電気信号を伝達す
る。
When a foreign substance is present on the upper surface of the reticle 6, the light receiving mirror 7 reflects scattered light (reflected light) of the laser beam 1A generated from the foreign substance and makes it enter the light receiving lens 8. The light receiving lens 8 collects the scattered light reflected by the light receiving mirror 7 on the slit 9. The slit 9 allows only the scattered light collected by the light receiving lens 8 to pass. The photomultiplier 10 photoelectrically converts the scattered light passing through the slit 9 and transmits the electric signal to a detection system (not shown).

【0007】尚、スリット9は、レチクル6上における
レーザービーム1Aの走査線と共役な位置関係にあり、
レチクル6上面の異物から生じる散乱光以外の光がフォ
トマル10に入射されないようになっている。
Incidentally, the slit 9 has a conjugate positional relationship with the scanning line of the laser beam 1A on the reticle 6,
Light other than the scattered light generated from the foreign matter on the upper surface of the reticle 6 is prevented from entering the photomultiplier 10.

【0008】従来の異物検査装置は、上述したようにレ
ーザー光を照射して、レチクル6上面の異物を検査して
いる。
The conventional foreign matter inspection apparatus inspects the foreign matter on the upper surface of the reticle 6 by irradiating the laser beam as described above.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の異物検査装置においては、何らかの原因によって、
例えばスリット9の位置がずれたり、フォトマル10に
故障が生じた場合には、レチクル6上面の異物から生じ
る散乱光を検出することができず、レチクル6上面に異
物が存在しないのか、あるいは異物検査装置自身に異常
があるのか、更には、この異常が照射系と受光系のどこ
に基づいているのかを区別することができないという問
題点があった。
However, in the above-mentioned conventional foreign matter inspection apparatus, due to some cause,
For example, when the position of the slit 9 is displaced or the photo-mal 10 has a failure, the scattered light generated from the foreign matter on the upper surface of the reticle 6 cannot be detected. There is a problem that it is not possible to distinguish whether the inspection apparatus itself has an abnormality or not, and where the abnormality is based on the irradiation system and the light receiving system.

【0010】また、このようにレチクル上面に異物が存
在しないのか、あるいは異物検査装置自身に異常がある
のか区別することができない場合に、これらの異常を検
出するもの(いわゆる自己診断装置)を備えた異物検査
装置が種々あるが、いずれも前記異常を検出する診断装
置の構成が複雑になり、異物検査装置自身が大型なもの
になるという問題点があった。
In addition, when it is impossible to distinguish whether there is a foreign substance on the upper surface of the reticle or whether there is an abnormality in the foreign substance inspection device itself, a device for detecting these abnormalities (so-called self-diagnosis device) is provided. There are various foreign matter inspection devices, but all of them have a problem that the configuration of the diagnostic device for detecting the abnormality becomes complicated and the foreign matter inspection device itself becomes large.

【0011】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、異物検査装置自身が大型化することがなく、
異物検査装置自身の異常をその発生箇所の特定と共に検
出することができる自己診断機能を備えた異物検査装置
を得ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and does not increase the size of the foreign matter inspection apparatus itself.
An object of the present invention is to provide a foreign matter inspection device having a self-diagnosis function that can detect an abnormality of the foreign matter inspection device itself as well as the location of the occurrence.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係る異物検査装
置は、上記目的を達成するために、被検査面に光ビーム
を照射する照射手段と、前記光ビームの照射に基づいて
前記被検査面から生じる散乱光を受光して光電変換する
受光手段と、該受光手段の出力信号に基づいて前記被検
査面上の異物を検出する検出手段を有する異物検査装置
において、前記照射手段から照射される光ビームの一部
を分岐させて前記被検査面を経由せずに前記受光手段に
直接導く伝送光学系を備えたことを特徴とするものであ
る。
In order to achieve the above-mentioned object, an apparatus for inspecting foreign matter according to the present invention irradiates a surface to be inspected with a light beam, and the object to be inspected based on the irradiation of the light beam. In a foreign matter inspection device having a light receiving means for receiving and photoelectrically converting scattered light generated from a surface, and a detecting means for detecting a foreign matter on the surface to be inspected based on an output signal of the light receiving means, the foreign matter is irradiated from the irradiation means. A transmission optical system is provided, which branches a part of the light beam to directly guide it to the light receiving means without passing through the surface to be inspected.

【0013】請求項2に記載の異物検査装置では、請求
項1に記載の異物検査装置において、前記伝送光学系
は、終端が前記受光手段の受光面に導かれた光伝送路と
しての光ファイバーと、前記照射手段から照射される光
ビームの一部を前記光ファイバーに導く光学的分岐手段
と、前記光ファイバーを通じて伝送される光ビームを選
択的に遮断する遮断手段とを含むことを特徴とするもの
である。
According to a second aspect of the present invention, in the foreign matter inspection apparatus according to the first aspect, the transmission optical system includes an optical fiber serving as an optical transmission line whose end is guided to the light receiving surface of the light receiving means. And an optical branching unit for guiding a part of the light beam emitted from the irradiation unit to the optical fiber, and a blocking unit for selectively blocking the light beam transmitted through the optical fiber. is there.

【0014】[0014]

【作用】請求項1に記載の発明による異物検査装置は、
照射手段と、受光手段と、検出手段と、伝送光学系とに
よって構成される。照射手段は、被検査面に光ビームを
照射する。そして、受光手段は、前記光ビームの照射に
基づいて前記被検査面から生じる散乱光を受光して光電
変換する。また、検出手段は、前記受光手段の出力信号
に基づいて前記被検査面上の異物を検出する。ここで、
伝送光学系は、前記照射手段から照射される光ビームの
一部を分岐させて前記被検査面を経由せずに前記受光手
段に直接導くことにより、該受光手段が正常に作動して
いるか否かの判断が可能となる。
The foreign matter inspection apparatus according to the invention of claim 1 is
It is composed of an irradiation unit, a light receiving unit, a detection unit, and a transmission optical system. The irradiation means irradiates the surface to be inspected with a light beam. Then, the light receiving means receives and photoelectrically converts scattered light generated from the surface to be inspected based on the irradiation of the light beam. Further, the detection means detects foreign matter on the surface to be inspected based on the output signal of the light receiving means. here,
The transmission optical system branches a part of the light beam emitted from the irradiation means and directly guides the light beam to the light receiving means without passing through the surface to be inspected, thereby determining whether or not the light receiving means is operating normally. It becomes possible to judge whether.

【0015】請求項2に記載の発明の異物検査装置で
は、請求項1に記載の異物検査装置において、前記伝送
光学系は、光ファイバーと、光学的分岐手段と、遮断手
段とによって構成される。ここで、光学的分岐手段は、
前記照射手段から照射される光ビームの一部を光ファイ
バーに導く。また、光ファイバーは、光伝送路に利用さ
れ、終端が前記受光手段の受光面に導かれる。遮断手段
は、前記光ファイバーを通じて伝送される光ビームを選
択的に遮断し、異物検査時に、前記光ファイバーから前
記受光手段の受光面に照射される光ビームの射出を阻止
する。
According to a second aspect of the foreign matter inspection apparatus of the present invention, in the foreign matter inspection apparatus of the first aspect, the transmission optical system is composed of an optical fiber, an optical branching means, and a blocking means. Here, the optical branching means is
A part of the light beam emitted from the irradiation means is guided to the optical fiber. Further, the optical fiber is used for an optical transmission line, and its end is guided to the light receiving surface of the light receiving means. The blocking unit selectively blocks the light beam transmitted through the optical fiber, and blocks the emission of the light beam emitted from the optical fiber to the light receiving surface of the light receiving unit during the foreign matter inspection.

【0016】本発明においては、例えば照射手段に異常
が生じて光ビームが消滅した場合には、受光手段には被
検査面からの光も伝送光学系からの光も入射されないの
で、受光手段からの全ての出力信号が消去する。また、
照射系から受光系までの光学系に異常があれば、受光手
段からは伝送光学系を介して送られてくる分岐光のみに
よる出力信号が現れる。更に、例えば複数の受光手段で
異物を立体的に検出する場合等では、各受光手段からの
出力信号中の散乱光による成分と伝送光学系からの分岐
光による成分との存否を確認することにより受光手段の
光電変換素子の良否を含めて照射系から受光系までの各
部の異常発生を特定することができる。
In the present invention, for example, when an abnormality occurs in the irradiation means and the light beam disappears, neither the light from the surface to be inspected nor the light from the transmission optical system is incident on the light receiving means. All output signals of are deleted. Also,
If there is an abnormality in the optical system from the irradiation system to the light receiving system, an output signal from only the branched light sent through the transmission optical system appears from the light receiving means. Further, for example, when three-dimensionally detecting a foreign substance by a plurality of light receiving means, etc., by checking the presence or absence of a component due to scattered light in the output signal from each light receiving means and a component due to branched light from the transmission optical system. It is possible to identify the occurrence of an abnormality in each part from the irradiation system to the light receiving system, including the quality of the photoelectric conversion element of the light receiving means.

【0017】[0017]

【実施例】図1は、本発明の一実施例に係る異物検査装
置の概略構成を示す説明図である。図1に示すように本
実施例に係る異物検査装置は、照射系を構成するレーザ
光源1、ビームエクスパンダー2,3、振動ミラー4、
走査レンズ5と、レチクル6(被検査面)、受光系を構
成する受光ミラー7、受光レンズ8、スリット9、フォ
トマル(光電変換器)10、及び伝送光学系を構成する
ビームスプリッタ(光学的分岐手段)11、別のビーム
スプリッタ12、レーザパワーモニタ13、シャッター
(遮断手段)14、ライトガイド(光ファイバー)15
より主に構成されており、従来例との違う点は、分岐光
学系を含む自己診断系が備えられている点にある。従っ
て、従来例と同一部分については同一符号を付し、説明
を省略する。また、図1においても、従来例と同様に検
出系は省略している。更に、本実施例においては、図1
に示すように受光系は2系統配設されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory view showing the schematic structure of a foreign matter inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the foreign matter inspection apparatus according to the present embodiment includes a laser light source 1, beam expanders 2 and 3, an oscillating mirror 4, which constitute an irradiation system.
The scanning lens 5, the reticle 6 (surface to be inspected), the light receiving mirror 7 forming the light receiving system, the light receiving lens 8, the slit 9, the photomultiplier (photoelectric converter) 10, and the beam splitter (optical) forming the transmission optical system. (Branching means) 11, another beam splitter 12, laser power monitor 13, shutter (blocking means) 14, light guide (optical fiber) 15
It is mainly configured, and the difference from the conventional example is that a self-diagnosis system including a branch optical system is provided. Therefore, the same parts as those of the conventional example are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. Also in FIG. 1, the detection system is omitted as in the conventional example. Furthermore, in this embodiment, as shown in FIG.
As shown in FIG. 2, two light receiving systems are arranged.

【0018】ビームスプリッタ11は、レーザー光源1
よりビームエクスパンダ2へ向って照射されるレーザー
ビーム1Aの一部を分岐して別のビームスプリッタ12
に入射させる。このビームスプリッタ12を通過したレ
ーザービーム1Aは、レーザーパワーモニタ13に入射
され、レーザー光源1より照射されるレーザービーム1
Aの出力が所定の出力であるか否かが測定される。この
ようにして、レーザービーム1Aの出力を測定すること
により、レーザー光源1が正常であるか否かが監視でき
る。
The beam splitter 11 is a laser light source 1.
A part of the laser beam 1A radiated toward the beam expander 2 is branched to separate another beam splitter 12
Incident on. The laser beam 1A that has passed through the beam splitter 12 is incident on the laser power monitor 13 and is emitted from the laser light source 1.
It is measured whether the output of A is a predetermined output. In this way, by measuring the output of the laser beam 1A, it is possible to monitor whether or not the laser light source 1 is normal.

【0019】別のビームスプリッタ12で反射された光
ビームは、シャッター14を介してライトガイド15に
入射される。シャッター14は、異物検査時と自己診断
時とで後述するライトガイド15へのレーザービーム1
Aの入射の遮断を選択的に行うため、ビームスプリッタ
12とライトガイド15との間に設けられている。即
ち、このシャッター14は、異物検査時にはライトガイ
ド15へのレーザービーム1Aの入射を阻止し、自己診
断時には、ビームスプリッタ12を介して照射されるレ
ーザービーム1Aをライトガイド15へ入射させる。
The light beam reflected by another beam splitter 12 is incident on the light guide 15 via the shutter 14. The shutter 14 is used for the laser beam 1 to the light guide 15 which will be described later during the foreign matter inspection and the self-diagnosis.
It is provided between the beam splitter 12 and the light guide 15 in order to selectively block the incidence of A. That is, the shutter 14 blocks the laser beam 1A from entering the light guide 15 at the time of foreign matter inspection, and makes the laser beam 1A emitted through the beam splitter 12 enter the light guide 15 at the time of self-diagnosis.

【0020】ライトガイド15は、一端にビームスプリ
ッタ11で分岐されたレーザービーム1Aが入射される
と、これを二分して他端へと伝送する。ライトガイド1
5の各他端はスリット9の近傍(好ましくはスリット9
の延長上)に接続されており、ライトガイド15に導か
れたレーザービーム1Aはレチクル6の表面に対する光
学系を経由せずに直接フォトマル10によって受光され
るようになっている。尚、本実施例では、受光系は2系
統配設されているため、ライトガイド15は途中より2
本(15A,15B)に分岐している。
When the laser beam 1A split by the beam splitter 11 is incident on one end of the light guide 15, it is divided into two and transmitted to the other end. Light guide 1
The other end of each slit 5 is near the slit 9 (preferably the slit 9
The laser beam 1A guided to the light guide 15 is directly received by the photomultiplier 10 without passing through the optical system for the surface of the reticle 6. In this embodiment, two light receiving systems are provided, so that the light guide 15 is not connected to the light guide 15 from the middle.
It branches into books (15A, 15B).

【0021】図2は、本実施例に係る異物検査装置の受
光系の要部の構成を拡大して示す模式図である。図2に
示すように、ライトガイド15の他端15A(15B)
は、スリット9の一端に配置されている。また、スリッ
ト9とフォトマル10との間にはフィールドレンズ16
が配置されている。このフィールドレンズ16は、スリ
ット9を通過する散乱光(レチクル6上面の異物から生
じるレーザービーム1Aの後方散乱光)をフォトマル1
0に照射するためのレンズであり、その視野内の一端部
にライトガイド15A(又は15B)の他端が位置して
いることになる。
FIG. 2 is an enlarged schematic view showing the structure of the main part of the light receiving system of the foreign matter inspection apparatus according to this embodiment. As shown in FIG. 2, the other end 15A (15B) of the light guide 15
Is arranged at one end of the slit 9. A field lens 16 is provided between the slit 9 and the photomultiplier 10.
Are arranged. The field lens 16 reflects the scattered light passing through the slit 9 (the back scattered light of the laser beam 1A generated from the foreign matter on the upper surface of the reticle 6) into the photomultiplier 1.
It is a lens for irradiating 0, and the other end of the light guide 15A (or 15B) is located at one end in the field of view.

【0022】尚、図1において、シャッター14は、ビ
ームスプリッタ12とライトガイド15の一端との間に
配置されているが、このような配置に限らず、ライトガ
イド15の途中またはライトガイド15A,15Bの先
端に介装配置してもよく、また、ビームスプリッタ11
の角度を可変調節することにより、シャッター14の代
用としてもよい。つまり、自己診断時にライトガイド1
5を経由するレーザービーム1Aがフォトマル10に入
射され、異物検査時には入射されないようにするもので
あれば、任意のものを使用してもよい。
In FIG. 1, the shutter 14 is arranged between the beam splitter 12 and one end of the light guide 15. However, the arrangement is not limited to such arrangement, and the shutter 14 may be located in the middle of the light guide 15 or the light guide 15A ,. The beam splitter 11 may be disposed at the tip of 15B.
The shutter 14 may be substituted by variably adjusting the angle. That is, the light guide 1 at the time of self-diagnosis
Any laser beam may be used as long as the laser beam 1A passing through 5 is incident on the photomultiplier 10 and is not incident during the foreign matter inspection.

【0023】上記のように構成された本実施例に係る異
物検査装置においては、先ず、レーザーパワーモニタ1
3により、レーザー光源1より照射されるレーザービー
ム1Aの出力を測定することにより、レーザービーム1
Aの出力が所定の出力レベルであれば、レーザー光源1
に異常はないという結果が得られる。
In the foreign matter inspection apparatus according to this embodiment constructed as described above, first, the laser power monitor 1
By measuring the output of the laser beam 1A emitted from the laser light source 1, the laser beam 1
If the output of A is a predetermined output level, the laser light source 1
The result is that there is no abnormality in.

【0024】次に、自己診断を開始するために、シャッ
ター14を開いてビームスプリッタ12からのレーザー
ビーム1Aの分岐光をライトガイド15の一端に入射さ
せる。これにより、ライトガイド15A,15Bからス
リット9の端部を介して各フォトマル10にレーザービ
ーム1Aの分岐光が入射される。このとき、フォトマル
10から得られる出力が所定の出力レベルでないなら
ば、フォトマル10に異常があることが分かる。尚、本
実施例のように受光系が2系統(複数)ある場合には、
それぞれの出力レベルを比較することにより異常が生じ
ている方のフォトマルを特定でき、また、複数のフォト
マルが全て同時に故障を起こす可能性は低いから、全て
のフォトマルが所定レベルの出力を生じるか否かによっ
てレーザー光源1のモニターを行うこともできる。
Next, in order to start self-diagnosis, the shutter 14 is opened and the branched light of the laser beam 1A from the beam splitter 12 is made incident on one end of the light guide 15. As a result, the branched light of the laser beam 1A is incident on each photomultiplier 10 from the light guides 15A and 15B through the ends of the slits 9. At this time, if the output obtained from the Photomul 10 is not a predetermined output level, it can be seen that the Photomul 10 has an abnormality. When there are two light receiving systems (a plurality of) as in this embodiment,
By comparing the output levels of each, it is possible to identify the photomal in which the abnormality has occurred, and since it is unlikely that multiple photomals will all fail at the same time, all the photomals will output at the specified level. It is also possible to monitor the laser light source 1 depending on whether it occurs.

【0025】また、フォトマル10を自己診断した結
果、所定の出力が得られている場合、レチクル6の代わ
りの散乱基準資料(散乱基準パターン)を用いて検査を
行う。この散乱基準資料としては、所定の大きさの粒
(例えば0.5μm)を表面に付着させた基板や、所定
の表面粗さで荒ずりされた散乱板等を適用することがで
きる。この散乱基準資料を用いて検査を行った結果、フ
ォトマル10からの出力が所定の基準値よりも小さいと
きには、被検面(レチクル6、散乱基準資料)上で走査
されるレーザービームと受光系のスリット9とが共役関
係にないと推定される。この要因としては、ビームスプ
リッタ11〜走査レンズ5又は受光ミラー7〜スリット
9までの光学系に光軸ずれや共役ずれ等の異常が挙げら
れる。尚、上述の所定の基準値は、光学系の異常がない
もとで散乱基準資料を用いて検査したときの出力に基づ
いて規定される。
If a predetermined output is obtained as a result of self-diagnosis of the photomultiplier 10, an inspection is performed using a scattering reference material (scattering reference pattern) instead of the reticle 6. As the scattering reference material, a substrate having particles having a predetermined size (for example, 0.5 μm) attached to the surface thereof, a scattering plate roughened with a predetermined surface roughness, or the like can be applied. As a result of inspection using this scattering reference material, when the output from the Photomul 10 is smaller than a predetermined reference value, the laser beam scanned on the surface to be inspected (reticle 6, scattering reference material) and the light receiving system. It is presumed that the slit 9 is not conjugate with the slit 9. As a factor of this, there is an abnormality such as an optical axis shift or a conjugate shift in the optical system from the beam splitter 11 to the scanning lens 5 or the light receiving mirror 7 to the slit 9. The above-mentioned predetermined reference value is defined based on the output when an inspection is performed using the scattering reference material without any abnormality in the optical system.

【0026】また、本実施例においては、図1に示すよ
うに、フォトマル10にレーザ光を確実に入射させるた
め、ライトガイド15A,15Bをスリット9の近傍に
配置している。しかしながら、受光ミラー7と受光レン
ズ8及びスリット9はフォトマル10に対してずれるこ
とが少ないため、ライトガイド15A,15Bの射出端
の位置は、スリット9の近傍である必要はない。例え
ば、受光ミラー7を誘電体高反射鏡とし、この誘電体高
反射鏡の背面にライトガイド15A,15Bの射出端を
配置する構成をとってもよい。このとき、ライトガイド
15A,15Bからの射出されるレーザ光は、受光レン
ズ8及びスリット9を介してフォトマル10へ入射す
る。このように、ライトガイド15A,15Bの射出端
の位置は、レチクル6よりもフォトマル10側の受光系
にあればよい。
Further, in this embodiment, as shown in FIG. 1, the light guides 15A and 15B are arranged in the vicinity of the slit 9 so that the laser light is surely incident on the photomultiplier 10. However, since the light receiving mirror 7, the light receiving lens 8 and the slit 9 are less likely to shift with respect to the photomultiplier 10, the positions of the exit ends of the light guides 15A and 15B do not have to be near the slit 9. For example, the light receiving mirror 7 may be a dielectric high-reflecting mirror, and the exit ends of the light guides 15A and 15B may be arranged on the back surface of the dielectric high-reflecting mirror. At this time, the laser light emitted from the light guides 15A and 15B is incident on the photomultiplier 10 via the light receiving lens 8 and the slit 9. As described above, the positions of the exit ends of the light guides 15A and 15B may be located in the light receiving system on the side of the photomultiplier 10 with respect to the reticle 6.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明は以上説明したとおり、異物検査
装置自身の各部の異常を特定して検出する自己診断機能
を備えたため、信頼性のある異物検査装置にすることが
できるという効果がある。また、自己診断機能の構成に
光ファイバーを使用したことにより、自己診断装置のた
めの特別な設置場所を設けることがなくなり、異物検査
装置を大型にする必要がなくなるという効果もある。
As described above, the present invention has a self-diagnosis function for identifying and detecting an abnormality in each part of the foreign matter inspection apparatus itself, and thus has the effect of providing a reliable foreign matter inspection apparatus. . In addition, since the optical fiber is used for the configuration of the self-diagnosis function, there is no need to provide a special installation place for the self-diagnosis device, and there is an effect that it is not necessary to make the foreign matter inspection device large.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る異物検査装置の概略構
成を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of a foreign matter inspection device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す異物検査装置の受光系の要部の構成
を拡大して示す模式図である。
FIG. 2 is an enlarged schematic diagram showing a configuration of a main part of a light receiving system of the foreign matter inspection apparatus shown in FIG.

【図3】一般的な従来の異物検査装置の概略構成を示す
説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of a general conventional foreign matter inspection apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:レーザ光源 2:ビームエクスパンダー 3:ビームエクスパンダー 4:振動ミラー 5:走査レンズ 6:レチクル 7:受光ミラー 8:受光レンズ 9:スリット 10:フォトマル(光電変換器) 11:ビームスプリッタ 12:ビームスプリッタ 13:レーザパワーモニタ 14:シャッター 15:ライトガイド(光ファイバー) 16:フィールドレンズ 1: Laser light source 2: Beam expander 3: Beam expander 4: Vibrating mirror 5: Scanning lens 6: Reticle 7: Light receiving mirror 8: Light receiving lens 9: Slit 10: Photomal (photoelectric converter) 11: Beam splitter 12 : Beam splitter 13: Laser power monitor 14: Shutter 15: Light guide (optical fiber) 16: Field lens

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検査面に光ビームを照射する照射手段
と、前記光ビームの照射に基づいて前記被検査面から生
じる散乱光を受光して光電変換する受光手段と、該受光
手段の出力信号に基づいて前記被検査面上の異物を検出
する検出手段を有する異物検査装置において、 前記照射手段から照射される光ビームの一部を分岐させ
て前記被検査面を経由せずに前記受光手段に直接導く伝
送光学系を備えたことを特徴とする異物検査装置。
1. An irradiation unit for irradiating a light beam onto a surface to be inspected, a light receiving unit for receiving and photoelectrically converting scattered light generated from the surface to be inspected based on the irradiation of the light beam, and an output of the light receiving unit. In a foreign matter inspection device having a detection means for detecting a foreign matter on the surface to be inspected based on a signal, a part of a light beam emitted from the irradiation means is branched so that the light is received without passing through the surface to be inspected. A foreign matter inspection device comprising a transmission optical system that directly leads to a means.
【請求項2】 前記伝送光学系は、終端が前記受光手段
の受光面に導かれた光伝送路としての光ファイバーと、
前記照射手段から照射される光ビームの一部を前記光フ
ァイバーに導く光学的分岐手段と、前記光ファイバーを
通じて伝送される光ビームを選択的に遮断する遮断手段
とを含むことを特徴とする請求項1に記載の異物検査装
置。
2. The transmission optical system, an optical fiber as an optical transmission line whose end is guided to the light receiving surface of the light receiving means,
3. An optical branching unit for guiding a part of the light beam emitted from the irradiation unit to the optical fiber, and a blocking unit for selectively blocking the light beam transmitted through the optical fiber. The foreign matter inspection device described in.
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