JPH072753A - ハーフブロックジイソシアネート化合物の製造方法 - Google Patents
ハーフブロックジイソシアネート化合物の製造方法Info
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- JPH072753A JPH072753A JP5146268A JP14626893A JPH072753A JP H072753 A JPH072753 A JP H072753A JP 5146268 A JP5146268 A JP 5146268A JP 14626893 A JP14626893 A JP 14626893A JP H072753 A JPH072753 A JP H072753A
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- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10G—CRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
- C10G67/00—Treatment of hydrocarbon oils by at least one hydrotreatment process and at least one process for refining in the absence of hydrogen only
- C10G67/02—Treatment of hydrocarbon oils by at least one hydrotreatment process and at least one process for refining in the absence of hydrogen only plural serial stages only
- C10G67/04—Treatment of hydrocarbon oils by at least one hydrotreatment process and at least one process for refining in the absence of hydrogen only plural serial stages only including solvent extraction as the refining step in the absence of hydrogen
- C10G67/0409—Extraction of unsaturated hydrocarbons
- C10G67/0418—The hydrotreatment being a hydrorefining
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
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Abstract
(57)【要約】
【目的】実質的に未反応有機ジイソシアネート化合物を
含まず、かつ、ジブロックジイソシアネート化合物含有
量の少ない、ハーフブロックジイソシアネート組成物の
提供。 【構成】単官能性活性水素化合物と当量比で過剰の有機
ジイソシアネート化合物とを反応させた後、未反応有機
ジイソシアネート化合物を除去することを特徴とするハ
ーフブロックジイソシアネート組成物の製造方法。
含まず、かつ、ジブロックジイソシアネート化合物含有
量の少ない、ハーフブロックジイソシアネート組成物の
提供。 【構成】単官能性活性水素化合物と当量比で過剰の有機
ジイソシアネート化合物とを反応させた後、未反応有機
ジイソシアネート化合物を除去することを特徴とするハ
ーフブロックジイソシアネート組成物の製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、焼付硬化型ウレタン塗
料の架橋成分であるハーフブロックジイソシアネート組
成物およびその製造方法に関する。
料の架橋成分であるハーフブロックジイソシアネート組
成物およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】焼付硬化型ウレタン塗料は、自動車の電
着塗装,中上塗り塗装,プレコートメタル,金属塗装等
に広く用いられている。かかる塗料の硬化成分として
は、比較的低分子量のポリイソシアネート、例えば、有
機ジイソシアネート化合物と各種ポリオール化合物との
アダクト体,イソシアヌレート変性体,ビウレット変性
体等の末端イソシアネート基を、単官能性活性水素化合
物、例えば、アルコール類,フェノール類,オキシム
類,ラクタム類でブロックしたブロックポリイソシアネ
ート化合物が用いられる。しかし、従来の公知のブロッ
クポリイソシアネート化合物は、主剤との相溶性に問題
があり、また、焼付温度を下げるために、多量の重金属
触媒を使用しなければならず、環境衛生上問題となって
いる。さらに、耐腐食性プライマー用の電着塗装におい
ては、本来の防錆機能に加え、耐候性等の機能も要求さ
れており、芳香族系有機ジイソシアネート化合物から反
応性の低い脂肪族系有機ジイソシアネート化合物への転
換が進んでおり、低温での焼付をますます困難なものと
している。これらの問題を解決するために、主剤として
用いる樹脂にブロックイソシアネート基を導入する方法
が、特開平3−252476号公報,特開平3−221
568号公報,特開平3−51752号公報,特開平4
−226172号公報,特開平4−234465号公
報,特開平5−59326号公報に記載されている。こ
れらの方法は、まず、有機ジイソシアネート化合物と単
官能性活性水素化合物よりハーフブロックジイソシアネ
ート化合物をつくり、これを主剤として用いる樹脂と反
応させることにより得られるものである。
着塗装,中上塗り塗装,プレコートメタル,金属塗装等
に広く用いられている。かかる塗料の硬化成分として
は、比較的低分子量のポリイソシアネート、例えば、有
機ジイソシアネート化合物と各種ポリオール化合物との
アダクト体,イソシアヌレート変性体,ビウレット変性
体等の末端イソシアネート基を、単官能性活性水素化合
物、例えば、アルコール類,フェノール類,オキシム
類,ラクタム類でブロックしたブロックポリイソシアネ
ート化合物が用いられる。しかし、従来の公知のブロッ
クポリイソシアネート化合物は、主剤との相溶性に問題
があり、また、焼付温度を下げるために、多量の重金属
触媒を使用しなければならず、環境衛生上問題となって
いる。さらに、耐腐食性プライマー用の電着塗装におい
ては、本来の防錆機能に加え、耐候性等の機能も要求さ
れており、芳香族系有機ジイソシアネート化合物から反
応性の低い脂肪族系有機ジイソシアネート化合物への転
換が進んでおり、低温での焼付をますます困難なものと
している。これらの問題を解決するために、主剤として
用いる樹脂にブロックイソシアネート基を導入する方法
が、特開平3−252476号公報,特開平3−221
568号公報,特開平3−51752号公報,特開平4
−226172号公報,特開平4−234465号公
報,特開平5−59326号公報に記載されている。こ
れらの方法は、まず、有機ジイソシアネート化合物と単
官能性活性水素化合物よりハーフブロックジイソシアネ
ート化合物をつくり、これを主剤として用いる樹脂と反
応させることにより得られるものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、何れの場合も
使用されるハーフブロックジイソシアネート化合物は、
多量の遊離有機ジイソシアネート化合物及びジブロック
ジイソシアネート化合物を含有するため、主剤として用
いる樹脂との反応に際しては、架橋成分の濃度等を厳密
に制御しなければ、増粘、或は、ゲル化が起こり、塗料
の硬化性,塗膜物性,相溶性等の性質の低下を招くこと
になる。
使用されるハーフブロックジイソシアネート化合物は、
多量の遊離有機ジイソシアネート化合物及びジブロック
ジイソシアネート化合物を含有するため、主剤として用
いる樹脂との反応に際しては、架橋成分の濃度等を厳密
に制御しなければ、増粘、或は、ゲル化が起こり、塗料
の硬化性,塗膜物性,相溶性等の性質の低下を招くこと
になる。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、焼付硬化
型ウレタン塗料の主剤中にブロックイソシアネート基を
導入するに際し、好適なハーフブロックジイソシアネー
ト化合物を製造する方法に関し、鋭意検討した結果、単
官能性活性水素化合物に対し、当量比で過剰の有機ジイ
ソシアネート化合物を用いて反応させた後、遊離の有機
ジイソシアネート化合物を除去する方法が好適に用いら
れることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち本発明は、単官能性活性水素化合物と当量比で過剰の
有機ジイソシアネート化合物とを反応させた後、未反応
有機ジイソシアネート化合物を除去することを特徴とす
るハーフブロックジイソシアネート化合物の製造方法に
関し、主剤との反応において増粘、ゲル化を起こさず、
塗料の硬化性,塗膜物性,相溶性等の性質の低下を招く
ことのない、ハーフブロックジイソシアネート組成物を
提供するものである。
型ウレタン塗料の主剤中にブロックイソシアネート基を
導入するに際し、好適なハーフブロックジイソシアネー
ト化合物を製造する方法に関し、鋭意検討した結果、単
官能性活性水素化合物に対し、当量比で過剰の有機ジイ
ソシアネート化合物を用いて反応させた後、遊離の有機
ジイソシアネート化合物を除去する方法が好適に用いら
れることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち本発明は、単官能性活性水素化合物と当量比で過剰の
有機ジイソシアネート化合物とを反応させた後、未反応
有機ジイソシアネート化合物を除去することを特徴とす
るハーフブロックジイソシアネート化合物の製造方法に
関し、主剤との反応において増粘、ゲル化を起こさず、
塗料の硬化性,塗膜物性,相溶性等の性質の低下を招く
ことのない、ハーフブロックジイソシアネート組成物を
提供するものである。
【0005】本発明に使用される単官能性活性水素化合
物は、フェノール系,アルコール系,活性メチレン系,
メルカプタン系,酸アミド系,酸イミド系,イミダゾー
ル系,尿素系,カルバミン酸系,オキシム系,アミン
系,イミン系等の主として公知のイソシアネート用のブ
ロック剤が用いられる。該フェノール系ブロック剤とし
ては、フェノール,クレゾール,エチルフェノール,ブ
チルフェノール等が挙げられる。該アルコール系ブロッ
ク剤としてはメタノール,エタノール,2−エチルヘキ
サノール,エチレングリコール,ベンジルアルコール等
が挙げられる。該活性メチレン系ブロック剤としては、
マロン酸ジメチル,マロン酸ジエチル,アセト酢酸メチ
ル,アセト酢酸エチル等が挙げられる。該メルカプタン
系ブロック剤としては、ブチルメルカプタン,ドデシル
メルカプタン等が挙げられる。該酸アミド系ブロック剤
としては、アセトアニリド,酢酸アミド,ε−カプロラ
クタム,δ−バレロラクタム,γ−ブチロラクタム等が
挙げられる。該酸イミド系ブロック剤としては、コハク
酸イミド,マレイン酸イミド等が挙げられる。該イミダ
ゾール系ブロック剤としては、イミダゾール,2−メチ
ルイミダゾール等が挙げられる。該尿素系ブロック剤と
しては、尿素,チオ尿素,エチレン尿素等が挙げられ
る。該カルバミン酸系ブロック剤としては、N−フェニ
ルカルバミン酸フェニル等が挙げられる。該オキシム系
ブロック剤としては、ホルムアルドオキシム,アセトア
ルドオキシム,メチルエチルケトオキシム,シクロヘキ
サノンオキシム,アセトキシム,ジアセチルモノオキシ
ム,ベンゾフェノンオキシム等が挙げられる。該アミン
系ブロック剤としては、ジフェニルアミン,アニリン,
カルバゾール等が挙げられる。該イミン系ブロック剤と
しては、エチレンイミン,ポリエチレンイミン等が挙げ
られる。これらは単独または、混合して用いてもよい。
オキシム系ブロック剤、特にメチルエチルケトオキシム
が好適に用いられる。
物は、フェノール系,アルコール系,活性メチレン系,
メルカプタン系,酸アミド系,酸イミド系,イミダゾー
ル系,尿素系,カルバミン酸系,オキシム系,アミン
系,イミン系等の主として公知のイソシアネート用のブ
ロック剤が用いられる。該フェノール系ブロック剤とし
ては、フェノール,クレゾール,エチルフェノール,ブ
チルフェノール等が挙げられる。該アルコール系ブロッ
ク剤としてはメタノール,エタノール,2−エチルヘキ
サノール,エチレングリコール,ベンジルアルコール等
が挙げられる。該活性メチレン系ブロック剤としては、
マロン酸ジメチル,マロン酸ジエチル,アセト酢酸メチ
ル,アセト酢酸エチル等が挙げられる。該メルカプタン
系ブロック剤としては、ブチルメルカプタン,ドデシル
メルカプタン等が挙げられる。該酸アミド系ブロック剤
としては、アセトアニリド,酢酸アミド,ε−カプロラ
クタム,δ−バレロラクタム,γ−ブチロラクタム等が
挙げられる。該酸イミド系ブロック剤としては、コハク
酸イミド,マレイン酸イミド等が挙げられる。該イミダ
ゾール系ブロック剤としては、イミダゾール,2−メチ
ルイミダゾール等が挙げられる。該尿素系ブロック剤と
しては、尿素,チオ尿素,エチレン尿素等が挙げられ
る。該カルバミン酸系ブロック剤としては、N−フェニ
ルカルバミン酸フェニル等が挙げられる。該オキシム系
ブロック剤としては、ホルムアルドオキシム,アセトア
ルドオキシム,メチルエチルケトオキシム,シクロヘキ
サノンオキシム,アセトキシム,ジアセチルモノオキシ
ム,ベンゾフェノンオキシム等が挙げられる。該アミン
系ブロック剤としては、ジフェニルアミン,アニリン,
カルバゾール等が挙げられる。該イミン系ブロック剤と
しては、エチレンイミン,ポリエチレンイミン等が挙げ
られる。これらは単独または、混合して用いてもよい。
オキシム系ブロック剤、特にメチルエチルケトオキシム
が好適に用いられる。
【0006】本発明に用いられる有機ジイソシアネート
化合物としては、脂肪族系,脂環族系,芳香族系,芳香
脂肪族系等の有機ジイソシアネート化合物が用いられ
る。該脂肪族系有機ジイソシアネート化合物としては、
エチレンジイソシアネート,テトラメチレンジイソシア
ネート,ヘキサメチレンジイソシアネート,ウンデカメ
チレンジイソシアネート,2,2,4−又は2,4,4−ト
リメチル−1,6−ジイソシアナトヘキサン,トリメチ
ルヘキサン−1,6−ジイソシアネート,1,11−ジイ
ソシアナトウンデカン,1,12−ドデカンジイソシア
ネート,リシンジイソシアネート(C1〜 C8アルキル
エステル)等が挙げられる。該脂環族系有機ジイソシア
ネート化合物としては、イソシアナトメチル−3,5,5
−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート,1,3−
ジイソシアナトシクロブタン,1,4−ジイソシアナト
シクロヘキサン,4,4′−ジイソシアナトジシクロヘ
キシルメタン,1,2−ビス(イソシアナトメチル)シ
クロブタン,3−イソシアナトメチル−3,5,5−トリ
メチルシクロヘキシルイソシアネート,4,4′−シク
ロヘキサンジイソシアネート,イソプロピリデンビス
(4−シクロヘキシル)イソシアネート,1,3−ビス
(イソシアナトメチル)シクロブタン,ビス(イソシア
ナトメチル)ノルボルナン(異性体混合物),3(4),
8(9)−ジイソシアナトメチルトリシクロ(5.2.1.
2.6)デカン,1,3−ジイソシアナトシクロヘキサ
ン,1,3−又は1,4−ジイソシアナトメチルシクロヘ
キサン,1−イソシアナト−3,3,5−トリメチル−5
−イソシアナトメチルシクロヘキサン(イソホロンジイ
ソシアネート)等が挙げられる。該芳香族系有機ジイソ
シアネート化合物としては、トリレン−2,4−ジイソ
シアネート,トリレン−2,6−ジイソシアネート,ジ
フェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート,3−メ
チルジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート,
m−もしくはp−フェニレンジイソシアネート等が挙げ
られる。該芳香脂肪族系有機ジイソシアネート化合物と
しては、m−又はp−キシリレンジイソシアネート,テ
トラメチルキシリレンジイソシアネート,4,4−ビス
(イソシアナトメチル)ジフェニルメタン等が挙げられ
る。これらは単独または混合して用いてもよく、100
℃での蒸気圧が0.1mmHg 以上好ましくは1.0mmHg
以上の有機ジイソシアネート化合物、例えばヘキサメチ
レンジイソシアネート,トリレンジイソシアネートが好
適に用いられる。
化合物としては、脂肪族系,脂環族系,芳香族系,芳香
脂肪族系等の有機ジイソシアネート化合物が用いられ
る。該脂肪族系有機ジイソシアネート化合物としては、
エチレンジイソシアネート,テトラメチレンジイソシア
ネート,ヘキサメチレンジイソシアネート,ウンデカメ
チレンジイソシアネート,2,2,4−又は2,4,4−ト
リメチル−1,6−ジイソシアナトヘキサン,トリメチ
ルヘキサン−1,6−ジイソシアネート,1,11−ジイ
ソシアナトウンデカン,1,12−ドデカンジイソシア
ネート,リシンジイソシアネート(C1〜 C8アルキル
エステル)等が挙げられる。該脂環族系有機ジイソシア
ネート化合物としては、イソシアナトメチル−3,5,5
−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート,1,3−
ジイソシアナトシクロブタン,1,4−ジイソシアナト
シクロヘキサン,4,4′−ジイソシアナトジシクロヘ
キシルメタン,1,2−ビス(イソシアナトメチル)シ
クロブタン,3−イソシアナトメチル−3,5,5−トリ
メチルシクロヘキシルイソシアネート,4,4′−シク
ロヘキサンジイソシアネート,イソプロピリデンビス
(4−シクロヘキシル)イソシアネート,1,3−ビス
(イソシアナトメチル)シクロブタン,ビス(イソシア
ナトメチル)ノルボルナン(異性体混合物),3(4),
8(9)−ジイソシアナトメチルトリシクロ(5.2.1.
2.6)デカン,1,3−ジイソシアナトシクロヘキサ
ン,1,3−又は1,4−ジイソシアナトメチルシクロヘ
キサン,1−イソシアナト−3,3,5−トリメチル−5
−イソシアナトメチルシクロヘキサン(イソホロンジイ
ソシアネート)等が挙げられる。該芳香族系有機ジイソ
シアネート化合物としては、トリレン−2,4−ジイソ
シアネート,トリレン−2,6−ジイソシアネート,ジ
フェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート,3−メ
チルジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート,
m−もしくはp−フェニレンジイソシアネート等が挙げ
られる。該芳香脂肪族系有機ジイソシアネート化合物と
しては、m−又はp−キシリレンジイソシアネート,テ
トラメチルキシリレンジイソシアネート,4,4−ビス
(イソシアナトメチル)ジフェニルメタン等が挙げられ
る。これらは単独または混合して用いてもよく、100
℃での蒸気圧が0.1mmHg 以上好ましくは1.0mmHg
以上の有機ジイソシアネート化合物、例えばヘキサメチ
レンジイソシアネート,トリレンジイソシアネートが好
適に用いられる。
【0007】本発明の単官能性活性水素化合物と有機ジ
イソシアネート化合物とのブロック化反応は、当量比
(イソシアネート基/活性水素基)が3〜20、好まし
くは8〜15、さらに好ましくは10〜15の割合で行
う。当量比が3未満ではジブロックジイソシアネート化
合物が多く生成し、主剤との相溶性が悪く、均一な塗膜
が得られない場合があり、また、20を越えると得られ
るハーフブロックジイソシアネート化合物の収率が低
く、生産効率が悪くなる場合があるからである。反応温
度は、ブロック剤の熱解離、着色等の問題より120℃
以下、好ましくは80℃より好ましくは60℃以下と
し、反応時間は用いるブロック剤及び有機ジイソシアネ
ート化合物の種類に応じて決定される。触媒は用いて
も、用いなくてもよいが、未反応有機ジイソシアネート
化合物を除去するに際し、薄膜蒸留する場合の熱履歴、
あるいは貯蔵安定性の点から、用いない方が好ましい。
ブロック化反応は、溶媒中で行ってもよい。該溶媒とし
ては、エステル系,ケトン系,芳香族系等のイソシアネ
ート基に不活性な溶媒であればいずれでもよい。該エス
テル系溶媒としては、酢酸エチル,酢酸ブチル,エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート,ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げら
れる。該ケトン系溶媒としてはメチルエチルケトン,メ
チルイソブチルケトン等が挙げられる。該芳香族系溶媒
としては、ベンゼン,トルエン,キシレン等が挙げられ
る。
イソシアネート化合物とのブロック化反応は、当量比
(イソシアネート基/活性水素基)が3〜20、好まし
くは8〜15、さらに好ましくは10〜15の割合で行
う。当量比が3未満ではジブロックジイソシアネート化
合物が多く生成し、主剤との相溶性が悪く、均一な塗膜
が得られない場合があり、また、20を越えると得られ
るハーフブロックジイソシアネート化合物の収率が低
く、生産効率が悪くなる場合があるからである。反応温
度は、ブロック剤の熱解離、着色等の問題より120℃
以下、好ましくは80℃より好ましくは60℃以下と
し、反応時間は用いるブロック剤及び有機ジイソシアネ
ート化合物の種類に応じて決定される。触媒は用いて
も、用いなくてもよいが、未反応有機ジイソシアネート
化合物を除去するに際し、薄膜蒸留する場合の熱履歴、
あるいは貯蔵安定性の点から、用いない方が好ましい。
ブロック化反応は、溶媒中で行ってもよい。該溶媒とし
ては、エステル系,ケトン系,芳香族系等のイソシアネ
ート基に不活性な溶媒であればいずれでもよい。該エス
テル系溶媒としては、酢酸エチル,酢酸ブチル,エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート,ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げら
れる。該ケトン系溶媒としてはメチルエチルケトン,メ
チルイソブチルケトン等が挙げられる。該芳香族系溶媒
としては、ベンゼン,トルエン,キシレン等が挙げられ
る。
【0008】本発明による方法では、ブロック化反応終
了後、未反応有機ジイソシアネート化合物を除去する。
除去方法としては、溶媒抽出法、薄膜蒸留法等が挙げら
れる。溶媒抽出法では、抽出溶媒としてヘキサン,シク
ロヘキサン,ヘプタン等の非極性溶媒を用い、常法に従
い液一液抽出を行う。薄膜蒸留法では、蒸留温度は滞留
時間内にブロック剤が熱解離しない温度以下で行うこと
が必要であり、通常140℃以下、好ましくは120℃
以下、さらに好ましくは100℃以下で行う。真空度は
用いる有機ジイソシアネート化合物の蒸気圧に基づき設
定される。蒸留加熱ゾーン通過後の生成物は速やかに冷
却し、室温以下とする。得られたハーフブロックジイソ
シアネート組成物中ジブロックジイソシアナート化合物
の含有量は10重量%以下好ましくは8重量%以下、よ
り好ましくは5重量%以下であり、また、未反応有機ジ
イソシアネート化合物の含有量は、1.0重量%以下、
好ましくは0.5重量%以下である。得られたハーフブ
ロックジイソシアネート化合物には、貯蔵安定性,塗料
の安定性,塗膜の耐候性等を高めるため、安定剤等の公
知の添加剤を添加してもよい。該安定剤としては、ヒン
ダードフェノール類、ヒンダードアミン類,トリアジン
化合物類,リン酸エステル類等が挙げられる。
了後、未反応有機ジイソシアネート化合物を除去する。
除去方法としては、溶媒抽出法、薄膜蒸留法等が挙げら
れる。溶媒抽出法では、抽出溶媒としてヘキサン,シク
ロヘキサン,ヘプタン等の非極性溶媒を用い、常法に従
い液一液抽出を行う。薄膜蒸留法では、蒸留温度は滞留
時間内にブロック剤が熱解離しない温度以下で行うこと
が必要であり、通常140℃以下、好ましくは120℃
以下、さらに好ましくは100℃以下で行う。真空度は
用いる有機ジイソシアネート化合物の蒸気圧に基づき設
定される。蒸留加熱ゾーン通過後の生成物は速やかに冷
却し、室温以下とする。得られたハーフブロックジイソ
シアネート組成物中ジブロックジイソシアナート化合物
の含有量は10重量%以下好ましくは8重量%以下、よ
り好ましくは5重量%以下であり、また、未反応有機ジ
イソシアネート化合物の含有量は、1.0重量%以下、
好ましくは0.5重量%以下である。得られたハーフブ
ロックジイソシアネート化合物には、貯蔵安定性,塗料
の安定性,塗膜の耐候性等を高めるため、安定剤等の公
知の添加剤を添加してもよい。該安定剤としては、ヒン
ダードフェノール類、ヒンダードアミン類,トリアジン
化合物類,リン酸エステル類等が挙げられる。
【0009】本発明により得られるハーフブロックジイ
ソシアネート組成物を架橋成分とする主剤には、分子中
に少なくとも2以上のイソシアネート基と反応し得る活
性水素基を有する樹脂が用いられる。かかる樹脂として
は、アクリル樹脂,エポキシ樹脂,ポリエステル樹脂,
ポリカプロラクトン樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリ
エーテル樹脂,フッ素樹脂等が挙げられる。かかる樹脂
中の活性水素基の30〜70モル%好ましくは40〜6
0モル%を本発明により得られたハーフブロックジイソ
シアネート化合物のイソシアネート基と反応させること
により、完全一液型の樹脂を得ることができる。反応温
度は、ブロック剤の熱解離を押えるために100℃以
下、好ましくは80℃以下である。主剤として用いる樹
脂は、用途により選定されるべきであり、例えば、電着
塗装、プレコートメタルプライマーの金属下地処理用途
には、ビスフェノールAより誘導されるエポキシ樹脂等
が、また。中上塗り用途にはアクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂等が好適に用いられる。
ソシアネート組成物を架橋成分とする主剤には、分子中
に少なくとも2以上のイソシアネート基と反応し得る活
性水素基を有する樹脂が用いられる。かかる樹脂として
は、アクリル樹脂,エポキシ樹脂,ポリエステル樹脂,
ポリカプロラクトン樹脂,ポリカーボネート樹脂,ポリ
エーテル樹脂,フッ素樹脂等が挙げられる。かかる樹脂
中の活性水素基の30〜70モル%好ましくは40〜6
0モル%を本発明により得られたハーフブロックジイソ
シアネート化合物のイソシアネート基と反応させること
により、完全一液型の樹脂を得ることができる。反応温
度は、ブロック剤の熱解離を押えるために100℃以
下、好ましくは80℃以下である。主剤として用いる樹
脂は、用途により選定されるべきであり、例えば、電着
塗装、プレコートメタルプライマーの金属下地処理用途
には、ビスフェノールAより誘導されるエポキシ樹脂等
が、また。中上塗り用途にはアクリル樹脂、ポリエステ
ル樹脂等が好適に用いられる。
【0010】
【実施例】以下、本発明を実施例と比較例により具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。 実施例1 撹拌機、温度計、窒素導入管及びジムロート冷却管を備
えた、500ml容量の四ッ口フラスコに、窒素ガス雰囲
気下、ヘキサメチレンジイソシアネート(以下、HDI
と略す。)400gを仕込み、水冷しながら、メチルエ
チルケトキシム(以下、MEKOと略す。)50gを、
内温を40℃以下に保ちながら、徐々に添加した。添加
終了後さらに、1時間反応を続け、部分ブロック化ジイ
ソシアネート反応液を得た。該反応液を薄膜蒸留装置
(真空度0.3mmHg,温度100℃)にて処理し、未反
応のHDIを除去し、ハーフブロックジイソシアネート
組成物137g(転化率30.4%)を得た。このハー
フブロックジイソシアネート組成物は、25℃における
粘度(BL型粘度計による回転粘度。)が93センチポ
イズで、イソシアネート基含有率15.2重量%、遊離
HDI含有率0.2重量%、ジブロック体含有率8.2重
量%であった。
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。 実施例1 撹拌機、温度計、窒素導入管及びジムロート冷却管を備
えた、500ml容量の四ッ口フラスコに、窒素ガス雰囲
気下、ヘキサメチレンジイソシアネート(以下、HDI
と略す。)400gを仕込み、水冷しながら、メチルエ
チルケトキシム(以下、MEKOと略す。)50gを、
内温を40℃以下に保ちながら、徐々に添加した。添加
終了後さらに、1時間反応を続け、部分ブロック化ジイ
ソシアネート反応液を得た。該反応液を薄膜蒸留装置
(真空度0.3mmHg,温度100℃)にて処理し、未反
応のHDIを除去し、ハーフブロックジイソシアネート
組成物137g(転化率30.4%)を得た。このハー
フブロックジイソシアネート組成物は、25℃における
粘度(BL型粘度計による回転粘度。)が93センチポ
イズで、イソシアネート基含有率15.2重量%、遊離
HDI含有率0.2重量%、ジブロック体含有率8.2重
量%であった。
【0011】実施例2 HDIを415gとMEKO 35gを用いた以外は、
実施例1と同様にして、25℃における粘度が82セン
チポイズで、イソシアネート基含有率15.7重量%、
遊離HDI含有率0.3重量%、ジブロック体含有率5.
0重量%のハーフブロックジイソシアネート組成物99
g(転化率22.0%)を得た。 実施例3 トリレンジイソシアネート(2.4体/2.6体=80/
20(重量比)、以下、TDIと略す。)を400gと
MEKO 50gを用い、実施例1と同様に部分ブロッ
ク化ジイソシアネート反応液を得た。該反応液を薄膜蒸
留装置(真空度0.2mmHg,温度100℃)にて処理
し、未反応のTDIを除去し、ハーフブロックジイソシ
アネート組成物148g(転化率32.9%)を得た。
このハーフブロックジイソシアネート組成物は、25℃
における粘度が22,600センチポイズで、イソシア
ネート含有率15.7重量%、遊離TDI含有率0.2重
量%、ジブロック体含有率3.0重量%であった。
実施例1と同様にして、25℃における粘度が82セン
チポイズで、イソシアネート基含有率15.7重量%、
遊離HDI含有率0.3重量%、ジブロック体含有率5.
0重量%のハーフブロックジイソシアネート組成物99
g(転化率22.0%)を得た。 実施例3 トリレンジイソシアネート(2.4体/2.6体=80/
20(重量比)、以下、TDIと略す。)を400gと
MEKO 50gを用い、実施例1と同様に部分ブロッ
ク化ジイソシアネート反応液を得た。該反応液を薄膜蒸
留装置(真空度0.2mmHg,温度100℃)にて処理
し、未反応のTDIを除去し、ハーフブロックジイソシ
アネート組成物148g(転化率32.9%)を得た。
このハーフブロックジイソシアネート組成物は、25℃
における粘度が22,600センチポイズで、イソシア
ネート含有率15.7重量%、遊離TDI含有率0.2重
量%、ジブロック体含有率3.0重量%であった。
【0012】実施例4 キシリレンジイソシアネート(以下、XDIと略す。)
464gとMEKO36gを用い、実施例1と同様に、
部分ブロック化ジイソシアネート反応液を得た。該反応
液を薄膜蒸留装置(真空度0.1mmHg,温度120℃)
にて処理し、未反応のXDIを除去し、ハーフブロック
ジイソシアネート組成物111g(転化率22.2%)
を得た。このハーフブロックジイソシアネート組成物
は、25℃における粘度が395センチポイズで、イソ
シアネート含有率14.5重量%,遊離XDI含有率0.
3重量%、ジブロック体含有率5.8重量%であった。 実施例5 ビスジイソシアナートメチルシクロヘキサン(水添キシ
リレンジイソシアネート、以下、H6XDIと略す。)
466gとMEKO 34gを用いた以外は実施例4と
同様にして、25℃における粘度が2230センチポイ
ズで、イソシアネート含有率14.2重量%、遊離H6X
DI含有率0.3重量%、ジブロック体含有率6.0重量
%のハーフブロックジイソシアネート組成物108g
(転化率21.6)を得た。
464gとMEKO36gを用い、実施例1と同様に、
部分ブロック化ジイソシアネート反応液を得た。該反応
液を薄膜蒸留装置(真空度0.1mmHg,温度120℃)
にて処理し、未反応のXDIを除去し、ハーフブロック
ジイソシアネート組成物111g(転化率22.2%)
を得た。このハーフブロックジイソシアネート組成物
は、25℃における粘度が395センチポイズで、イソ
シアネート含有率14.5重量%,遊離XDI含有率0.
3重量%、ジブロック体含有率5.8重量%であった。 実施例5 ビスジイソシアナートメチルシクロヘキサン(水添キシ
リレンジイソシアネート、以下、H6XDIと略す。)
466gとMEKO 34gを用いた以外は実施例4と
同様にして、25℃における粘度が2230センチポイ
ズで、イソシアネート含有率14.2重量%、遊離H6X
DI含有率0.3重量%、ジブロック体含有率6.0重量
%のハーフブロックジイソシアネート組成物108g
(転化率21.6)を得た。
【0013】実施例6 イソホロジイソシアネート(以下、IPDIと略す。)
464gとMEKO36gを用いた以外は、実施例4と
同様にして、25℃における粘度が12500センチポ
イズで、イソシアネート含有率13.1重量%、遊離I
PDI含有率0.5重量%、ジブロック体含有率4.8重
量%のハーフブロックジイソシアネート組成物126g
(転化率25.2%)を得た。 実施例7 テトラメチルキシリレンジイソシアネート(以下、TM
XDIと略す。)473gとMEKO 27gを用い、
実施例1と同様に、部分ブロック化ジイソシアネート反
応液を得た。該反応液を薄膜蒸留装置(真空度0.2mm
Hg,温度110℃)にて処理し、未反応のTMXDI
を除去し、ハーフブロックジイソシアネート組成物10
2g(転化率20.4%)を得た。このハーフブロック
ジイソシアネート組成物は、25℃における粘度が28
60センチポイズで、イソシアネート含有率12.2重
量%、遊離TMXDI含有率0.4重量%、ジブロック
体含有率4.8重量%であった。
464gとMEKO36gを用いた以外は、実施例4と
同様にして、25℃における粘度が12500センチポ
イズで、イソシアネート含有率13.1重量%、遊離I
PDI含有率0.5重量%、ジブロック体含有率4.8重
量%のハーフブロックジイソシアネート組成物126g
(転化率25.2%)を得た。 実施例7 テトラメチルキシリレンジイソシアネート(以下、TM
XDIと略す。)473gとMEKO 27gを用い、
実施例1と同様に、部分ブロック化ジイソシアネート反
応液を得た。該反応液を薄膜蒸留装置(真空度0.2mm
Hg,温度110℃)にて処理し、未反応のTMXDI
を除去し、ハーフブロックジイソシアネート組成物10
2g(転化率20.4%)を得た。このハーフブロック
ジイソシアネート組成物は、25℃における粘度が28
60センチポイズで、イソシアネート含有率12.2重
量%、遊離TMXDI含有率0.4重量%、ジブロック
体含有率4.8重量%であった。
【0014】実施例8 HDI 466gとアセトキシム34gを用いた以外
は、実施例1と同様にして、25℃における粘度が70
センチポイズで、イソシアネート含有率16.6重量
%、遊離HDI含有率0.2重量%、ジブロック体含有
率5.2重量%のハーフブロックジイソシアネート組成
物110g(転化率22.0%)を得た。 実施例9 TDI 455gと2−エチルヘキサノール45gを用
い、実施例1と同様に、部分ブロック化ジイソシアネー
ト反応液を得た。該反応液を薄膜蒸留装置(真空度0.
3mmHg,温度120℃)にて処理し、未反応のTDI
を除去し、ハーフブロックジイソシアネート組成物10
6g(転化率21.2%)を得た。このハーフブロック
ジイソシアネート組成物は、25℃における粘度が45
0センチポイズで、イソシアネート含有率14.0重量
%、遊離TDI含有率0.2重量%、ジブロック体含有
率3.5重量%であった。
は、実施例1と同様にして、25℃における粘度が70
センチポイズで、イソシアネート含有率16.6重量
%、遊離HDI含有率0.2重量%、ジブロック体含有
率5.2重量%のハーフブロックジイソシアネート組成
物110g(転化率22.0%)を得た。 実施例9 TDI 455gと2−エチルヘキサノール45gを用
い、実施例1と同様に、部分ブロック化ジイソシアネー
ト反応液を得た。該反応液を薄膜蒸留装置(真空度0.
3mmHg,温度120℃)にて処理し、未反応のTDI
を除去し、ハーフブロックジイソシアネート組成物10
6g(転化率21.2%)を得た。このハーフブロック
ジイソシアネート組成物は、25℃における粘度が45
0センチポイズで、イソシアネート含有率14.0重量
%、遊離TDI含有率0.2重量%、ジブロック体含有
率3.5重量%であった。
【0015】実施例10 撹拌機、温度計、窒素導入管及びジムロート冷却管を備
えた、1リットル容量の四ッ口フラスコに、窒素ガス雰
囲気下ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート
(以下、MDIと略す。)465gを仕込み、内温を6
0℃に保ちながら、ε−カプロラクトン35gを徐々に
添加した。添加終了後さらに1時間、反応を続け、部分
ブロック化ジイソシアネート反応液を得た。得られた反
応液に500mlのn−ヘキサンを加え、撹拌、静置後、
相分離した上層液部をデカンテーションにより除去し
た。同様の操作をさらに2回繰り返し、残留するn−ヘ
キサンを窒素バブリングにて除去し、室温にて固形のハ
ーフブロックジイソシアネート組成物78g(収率1
5.6%)を得た。このハーフブロックジイソシアネー
ト組成物は、イソシアネート基含有率10.7重量%、
遊離MDI含有率0.8重量%、ジブロック体含有率8.
5重量%であった。
えた、1リットル容量の四ッ口フラスコに、窒素ガス雰
囲気下ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート
(以下、MDIと略す。)465gを仕込み、内温を6
0℃に保ちながら、ε−カプロラクトン35gを徐々に
添加した。添加終了後さらに1時間、反応を続け、部分
ブロック化ジイソシアネート反応液を得た。得られた反
応液に500mlのn−ヘキサンを加え、撹拌、静置後、
相分離した上層液部をデカンテーションにより除去し
た。同様の操作をさらに2回繰り返し、残留するn−ヘ
キサンを窒素バブリングにて除去し、室温にて固形のハ
ーフブロックジイソシアネート組成物78g(収率1
5.6%)を得た。このハーフブロックジイソシアネー
ト組成物は、イソシアネート基含有率10.7重量%、
遊離MDI含有率0.8重量%、ジブロック体含有率8.
5重量%であった。
【0016】応用実施例1(一液型アクリルウレタン塗
料の製造例) 撹拌機、温度計、窒素導入管及びジムロート冷却管を備
えた、500ml四ッ口フラスコに窒素ガス雰囲気下、タ
ケラック UA−906(武田薬品工業(株)製、アク
リルポリオール,OH価=40,固形分50%)378
g,メトキシプロピルアセテート36g及び、実施例1
で得られたハーフブロックジイソシアネート組成物36
gを加え、撹拌混合後、ジブチルスズジラウレート0.
05gを添加し60℃にて2時間反応させた。同一分子
内に、反応性を有する水酸基とブロックイソシアネート
基を持つ、アクリルウレタン樹脂を得た。得られた一液
型アクリルウレタン樹脂は、〔表1〕に示すように、平
滑で可とう性のある塗膜物性を与えた。 応用実施例2(一液型ポリエステルポリオール塗料の製
造例) タケラック U−21(武田薬品工業(株)製、ポリエ
ステルポリオール、OH価=350,固形分70%)1
53g、メトキシプロピルアセテート179g及び実施
例2で得られたハーフブロックジイソシアネート組成物
118gを用いる以外は、応用実施例1と同様にして、
一液型ポリエステルウレタン樹脂を得た。〔表1〕に示
すように、良好な塗膜物性を与えた。
料の製造例) 撹拌機、温度計、窒素導入管及びジムロート冷却管を備
えた、500ml四ッ口フラスコに窒素ガス雰囲気下、タ
ケラック UA−906(武田薬品工業(株)製、アク
リルポリオール,OH価=40,固形分50%)378
g,メトキシプロピルアセテート36g及び、実施例1
で得られたハーフブロックジイソシアネート組成物36
gを加え、撹拌混合後、ジブチルスズジラウレート0.
05gを添加し60℃にて2時間反応させた。同一分子
内に、反応性を有する水酸基とブロックイソシアネート
基を持つ、アクリルウレタン樹脂を得た。得られた一液
型アクリルウレタン樹脂は、〔表1〕に示すように、平
滑で可とう性のある塗膜物性を与えた。 応用実施例2(一液型ポリエステルポリオール塗料の製
造例) タケラック U−21(武田薬品工業(株)製、ポリエ
ステルポリオール、OH価=350,固形分70%)1
53g、メトキシプロピルアセテート179g及び実施
例2で得られたハーフブロックジイソシアネート組成物
118gを用いる以外は、応用実施例1と同様にして、
一液型ポリエステルウレタン樹脂を得た。〔表1〕に示
すように、良好な塗膜物性を与えた。
【0017】応用実施例3(一液型フッ素ウレタン塗料
の製造例) ゼッフル GK−510(ダイキン工業(株)製、フッ
素ポリオール,OH価=30,固形分50%)398
g、メトキシプロピルアセテート26g及び実施例2で
得られたハーフブロックジイソシアネート組成物26g
を用いる以外は、応用実施例1と同様にして、一液型フ
ッ素ウレタン樹脂を得た。得られた樹脂は、溶液、塗膜
何れも透明であり(応用比較例3〜5と比較;〔表
2〕)、〔表1〕に示すように、良好な塗膜物性を与え
た。
の製造例) ゼッフル GK−510(ダイキン工業(株)製、フッ
素ポリオール,OH価=30,固形分50%)398
g、メトキシプロピルアセテート26g及び実施例2で
得られたハーフブロックジイソシアネート組成物26g
を用いる以外は、応用実施例1と同様にして、一液型フ
ッ素ウレタン樹脂を得た。得られた樹脂は、溶液、塗膜
何れも透明であり(応用比較例3〜5と比較;〔表
2〕)、〔表1〕に示すように、良好な塗膜物性を与え
た。
【表1】
【0018】比較例1 撹拌機、温度計、窒素導入管及びジムロート冷却管を備
えた、500mlの四ッ口フラスコに窒素ガス雰囲気下、
HDI297gを仕込み、水冷しながらMEKO 15
3gを、内温を40℃以下に保ちながら徐々に添加し、
25℃における粘度が74センチポイズで、イソシアネ
ート含有率16.5重量%、遊離HDI含有率16.3重
量%、ジブロック体含有率33.7重量%のブロックイ
ソシアネート組成物を得た。 比較例2 H6XDI 311gとMEKO 139gを用いる以外
は比較例1と同様にして、25℃における粘度が126
0センチポイズで、イソシアネート含有率14.8%、
遊離HbXDI含有率17.3%、ジブロック体含有率
33.6%のブロックイソシアネート化合物を得た。
えた、500mlの四ッ口フラスコに窒素ガス雰囲気下、
HDI297gを仕込み、水冷しながらMEKO 15
3gを、内温を40℃以下に保ちながら徐々に添加し、
25℃における粘度が74センチポイズで、イソシアネ
ート含有率16.5重量%、遊離HDI含有率16.3重
量%、ジブロック体含有率33.7重量%のブロックイ
ソシアネート組成物を得た。 比較例2 H6XDI 311gとMEKO 139gを用いる以外
は比較例1と同様にして、25℃における粘度が126
0センチポイズで、イソシアネート含有率14.8%、
遊離HbXDI含有率17.3%、ジブロック体含有率
33.6%のブロックイソシアネート化合物を得た。
【0019】応用比較例1、2 比較例1、2で得られたブロックイソシアネート組成物
を応用実施例1〜3と同様にして、ほぼ当量の水酸基
と、ブロックイソシアネート基を同一分子内に有する一
液硬化型ウレタン塗料を調製しようとしたが、調製途中
でゲル化してしまい、目的物は得られなかった。 応用比較例3〜5 〔表2〕に示すように市販のポリイソシアネート硬化剤
のMEKOブロック体を用い、一液型フッ素ウレタン塗
料を製造した。いずれもクリアーな塗膜は得られなかっ
た。
を応用実施例1〜3と同様にして、ほぼ当量の水酸基
と、ブロックイソシアネート基を同一分子内に有する一
液硬化型ウレタン塗料を調製しようとしたが、調製途中
でゲル化してしまい、目的物は得られなかった。 応用比較例3〜5 〔表2〕に示すように市販のポリイソシアネート硬化剤
のMEKOブロック体を用い、一液型フッ素ウレタン塗
料を製造した。いずれもクリアーな塗膜は得られなかっ
た。
【0020】
【表2】
【0021】
【発明の効果】本発明により得られるハーフブロックジ
イソシアネート組成物は、実質的に未反応の有機ジイソ
シアネート化合物を含まず、また、ジブロックジイソシ
アネート化合物含量が少ないため、焼付硬化型ウレタン
塗料の架橋成分として主剤中に容易に導入でき、硬化
性,塗膜の平滑性等の性能にすぐれ、下塗りから上塗り
まで幅広く応用可能である。
イソシアネート組成物は、実質的に未反応の有機ジイソ
シアネート化合物を含まず、また、ジブロックジイソシ
アネート化合物含量が少ないため、焼付硬化型ウレタン
塗料の架橋成分として主剤中に容易に導入でき、硬化
性,塗膜の平滑性等の性能にすぐれ、下塗りから上塗り
まで幅広く応用可能である。
Claims (8)
- 【請求項1】単官能性活性水素化合物と当量比で過剰の
有機ジイソシアネート化合物とを反応させた後、未反応
有機ジイソシアネート化合物を除去することを特徴とす
るハーフブロックジイソシアネート組成物の製造方法。 - 【請求項2】イソシアネート基/活性水素基の当量比が
3〜20である請求項1記載のハーフブロックジイソシ
アネート組成物の製造方法。 - 【請求項3】未反応有機ジイソシアネート化合物を薄膜
蒸留法により除去する請求項1記載のハーフブロックジ
イソシアネート組成物の製造方法。 - 【請求項4】有機ジイソシアネート化合物がヘキサメチ
レンジイソシアネートである請求項1,2または3記載
のハーフブロックジイソシアネート組成物の製造方法。 - 【請求項5】単官能性活性水素化合物がメチルエチルケ
トオキシムである請求項1,2,3または4記載のハー
フブロックジイソシアネート組成物の製造方法。 - 【請求項6】ジブロックジイソシアネート化合物の含有
量が10重量%以下で、未反応有機ジイソシアネート化
合物の含有量が1重量%以下であるハーフブロックジイ
ソシアネート組成物。 - 【請求項7】ハーフブロックジイソシアネート組成物の
製造に用いられる有機ジイソシアネート化合物がヘキサ
メチレンジイソシアネートである請求項6記載のハーフ
ブロックジイソシアネート組成物。 - 【請求項8】ハーフブロックジイソシアネート組成物の
製造に用いられる単官能性活性水素化合物がメチルエチ
ルケトオキシムである請求項7記載のハーフブロックジ
イソシアネート組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5146268A JPH072753A (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | ハーフブロックジイソシアネート化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5146268A JPH072753A (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | ハーフブロックジイソシアネート化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH072753A true JPH072753A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=15403900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5146268A Pending JPH072753A (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | ハーフブロックジイソシアネート化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH072753A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007278649A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Osada Res Inst Ltd | 歯科用ガスバーナ |
JP2013001654A (ja) * | 2011-06-14 | 2013-01-07 | Kohjin Co Ltd | 不飽和第4級アンモニウム塩化合物の製造方法及びそれからなる帯電防止剤と帯電防止組成物 |
US9252295B2 (en) | 2011-11-04 | 2016-02-02 | Daikin Industries, Ltd. | Coating material, coating film, backsheet for solar cell module, and solar cell module |
-
1993
- 1993-06-17 JP JP5146268A patent/JPH072753A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007278649A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Osada Res Inst Ltd | 歯科用ガスバーナ |
JP2013001654A (ja) * | 2011-06-14 | 2013-01-07 | Kohjin Co Ltd | 不飽和第4級アンモニウム塩化合物の製造方法及びそれからなる帯電防止剤と帯電防止組成物 |
US9252295B2 (en) | 2011-11-04 | 2016-02-02 | Daikin Industries, Ltd. | Coating material, coating film, backsheet for solar cell module, and solar cell module |
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