JPH07272268A

JPH07272268A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH07272268A
Application number: JP6271794A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Nishimori; 賢一西森
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1994-03-31
Filing date: 1994-03-31
Publication date: 1995-10-20

Abstract

(57)【要約】【目的】保護層とその上に形成される潤滑層との間に
不要な吸着物等が介在しないようにすることにより、潤
滑層の保護層への付着を確実なものとすると同時に、耐
食性低下の要因を排除し、かつ、製造工程のより簡略化
を可能にする磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】スパッタリング装置１の真空容器１４内に設
けられた４個のターゲット取付部２，３，４，５のうち
の３つには、下地層、磁性層及び保護層形成用のターゲ
ットを取り付け、残り１つに、表面に潤滑剤を塗布・乾
燥した潤滑剤塗布プレート１０を取り付け、このスパッ
タリング装置１によってガラス基板２２に順次下地層、
磁性層及び保護層を形成した後、真空容器１４内の雰囲
気ガスを排気して、１０⁴〜１０^-7Ｐａの範囲の真空に
し、開閉シャッター１２を開くとともに、加熱ヒータ１
８によって潤滑剤塗布プレートを加熱して潤滑剤を飛散
させて保護層２６の上に潤滑層２７を形成させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、情報の記録又は再生を
行う磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】各種コンピュータの外部記憶装置の中核
をなす磁気記録装置は、その主たる構成要素である磁気
ヘッドスライダー及び磁気記録媒体が、相対運動しなが
ら情報の読み書きを行う方式を採用しており、その原理
上、両者の間欠的あるいは完全接触摺動回避できない。
そのため、そこから派生する様々なトライボロジー現象
が、装置自体の情報記録再生機能を著しく左右し、その
信頼性を低下させているのが現状である。

【０００３】その中でも特に憂慮すべき問題として位置
付けられるものに、ヘッドスライダー／媒体間（Head M
edia Interface、以下ＨＭＩと記す）における接触摺動
状態下で発生する摩擦力が、媒体などに機械的な摩耗損
傷を与え、その結果磁性層に記録されている情報が破壊
されてしまう“ヘッドクラッシュ現象”がある。このト
ライボロジー問題の発生を抑制するために、従来より次
のような工夫が磁気記録媒体に対し、施されてきた。

【０００４】すなわち、例えば、固定磁気記録媒体（ハ
ードディスク）においては、非磁性基板上に下地層及び
磁性層を、真空中におけるスパッタリング法などにより
順次形成した後、この磁性層上にカーボン、金属酸化
物、炭化物、窒化物等からなる保護層を連続して成膜
し、その保護層上にフロロカーボン系あるいはハイドロ
カーボン系などの液体潤滑剤をスピンコート法などによ
り塗布して潤滑層を形成することにより、磁性層自体が
ヘッドスライダーと直接摺動することを防止し、媒体の
耐摩耗性・耐腐食性向上を図ることが行われている（特
開平４ー１０９４２７号公報参照）。

【０００５】上記したように、磁性層上に保護層を設
け、その保護層の上に潤滑層を設ける技術は、媒体の耐
ヘッドクラッシュ特性を向上させる一手段として従来よ
り多く用いられていることは当業者間では公知である
が、これ以外にも、例えば保護層を設けず磁性層上に直
接潤滑層を設ける方法、あるいは保護層だけを設けて磁
気記録媒体として使用する手法などが存在する。但し、
前者はＨＭＩにおけるスペーシング損失を少なくできる
という磁気特性上の利点があるものの、耐久性が十分で
なく、保護層を設けた場合に比べ、走行中ヘッドスライ
ダーと磁性層が直接的に接触しやすい状態にあるため、
ヘッドクラッシュ問題を起こしやすい。一方、後者にお
いては、保護層及びその相手材となるヘッドスライダー
は比較的機械的強度が高い材料が用いられる場合が多
く、高速摺動環境下での両者の固体接触は、そのどちら
かを摩耗損傷させる可能性を高くしてしまう。そのた
め、現状で最も有効なヘッドクラッシュ防止のための解
決策は、まず磁性層上に保護層を設けて滑性を良好にす
るとともに、両者の直接的な接触摺動を緩和させる潤滑
剤を塗布することであるといわれている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、近年におけ
る媒体の高記録密度化・高速アクセス化の要求は、より
高い相対速度環境下で、しかも耐ヘッドクラッシュ特性
に優れた媒体を必要としてきているが、上述の従来の方
法で製造した磁気記録媒体はこの要求を十分に満たすも
のとはいい難くなってきた。

【０００７】そこで、本発明者等が上述の従来の方法の
各工程を検討し、各工程にトライボロジー特性に影響を
与える要素がないか否かを検討・実験した結果、以下の
事実が判明した。

【０００８】上述の従来技術は、磁性層から保護層まで
の形成については、真空中で一括して成膜するが、潤滑
層の塗布・形成は、保護層形成後に、大気中に媒体を暴
露し、その環境下で行っている。

【０００９】すなわち、潤滑剤塗布方法としては、ディ
ッピング法（浸漬法）あるいはスピンコート法に代表さ
れる湿式法が一般的であるが、それらの手法は、媒体上
に塗布する潤滑剤を溶媒（フロン系の溶媒が比較的多く
用いられている）に希釈して後、その希釈液中に媒体を
浸漬、あるいはその希釈液を媒体上に滴下し、その溶媒
を乾燥させて潤滑層を形成するものであり、いずれも大
気中での成膜プロセスとなる。

【００１０】この潤滑層の形成を大気中で行うことが、
トライボロジー特性に次のような悪影響を与えているこ
とがわかった。

【００１１】すなわち、保護層形成後の媒体を大気中に
開放することにより、その保護層表面には、大気中に存
在する水分やハイドロカーボン等が不可避的に吸着する
が、それらの吸着層がＨＭＩでのトライボロジー特性を
著しく不安定にしてしまうという問題である。その具体
例の一つとしては、それらの吸着層が潤滑剤の保護層へ
の付着強度を著しく低下させるため、ヘッドスライダー
との接触摺動中に潤滑剤の剥離が生じてその剥離部分の
滑性が損なわれるという、媒体の耐摩耗性劣化に関する
問題がある。また、これ以外にも前記の各種吸着物の中
で、特に水分などは潤滑層形成後も保護層と潤滑層の間
に中間層として存在すると、媒体の耐腐食特性をも低下
させてしまう要因となっていた。

【００１２】本発明は、上述の解明結果に基づいてなさ
れたものであり、保護層とその上に形成される潤滑層と
の間に不要な吸着物等が介在しないようにすることによ
り、潤滑層の保護層への付着を確実なものとすると同時
に、耐食性低下の要因を排除し、かつ、製造工程のより
簡略化を可能にする磁気記録媒体の製造方法を提供する
ことを目的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明における磁気記録媒体の製造方法は、（構
成１）真空背圧のもとでの雰囲気下において、被磁性
基体上に、少なくとも磁性層及び保護層を順次成膜した
後、この保護層の上に潤滑層を形成して磁気記録媒体を
製造する磁気記録媒体の製造方法において、前記潤滑層
の形成を、前記保護層形成後において、前記磁性層及び
保護層が形成された非磁性基体を大気にさらすことなく
行うことを特徴とした構成とし、この構成１の態様とし
て、（構成２）構成１の磁気記録媒体の製造方法にお
いて、前記潤滑層の形成を、前記保護層形成後におい
て、前記磁性層及び保護層が形成された非磁性基体を大
気にさらすことなく、真空圧力雰囲気のもとで行うこと
を特徴とした構成とし、この構成２の態様として、（構
成３）構成２の磁気記録媒体の製造方法において、前
記真空圧力雰囲気の真空度を、１０⁴〜１０^-7Ｐａの範
囲とすることを特徴とした構成とした。

【００１４】

【作用】本発明において、構成１及び２によれば、潤滑
剤の保護層への吸着を阻害する水分その他の吸着物が保
護層上に存在する量を、大気中での場合に比べ遥かに少
なくすることができるため、潤滑剤と保護層との密着性
を飛躍的に高めることが可能となり、その効果、ＨＭＩ
における高速摺動環境下でも潤滑剤が保護層から剥離す
る確率が小さくなり、良好な活性を長期間に渡って保持
できる。また、保護層と潤滑層との間に存在する水分量
が低減されるため、媒体の耐腐食性低下を防止できる。
加えて、磁性層から潤滑層形成までを一貫したプロセス
で製造することを可能にして製造工程の単純化を可能に
する。

【００１５】また、構成３によれば、前記保護層まで形
成された磁気記録媒体が設置されている真空容器内の真
空度を、１０⁴〜１０^-7Ｐａとすることで、構成１で得
られる機能がより効果的に発現されることとなる。すな
わち、１０⁴Ｐａより低い真空度の場合、真空容器内に
吸着種となるハイドロカーボン、あるいは水分などの存
在量が多くなり、それらが潤滑層形成前の保護層表面に
吸着し、潤滑剤の保護層への密着性を劣化させてしま
う。一方、１０^-7Ｐａより高い真空度では、潤滑剤の蒸
気圧よりも真空容器内の真空度が大幅に高くなり、それ
によって潤滑剤が飛散してしまうことで潤滑層形成の制
御が困難となるため、結果的にＨＭＩでのトライボロジ
ー特性に悪影響を及ぼすこととなる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明における磁気記録媒体の製造方
法をハードディスクの製造に適用した場合を実施例１〜
１２として掲げ、次に、この実施例によって製造したハ
ードディスクのトライボロジー特性と従来技術による製
造方法によって製造したハードディスクのトライボロジ
ー特性と比較した結果を示す。なお、以下の説明では、
まず、実施例１〜１２に共通する手順を説明し、次い
で、各実施例で異なる部分のみを説明する。

【００１７】図１ないし図３は実施例の方法を実施する
ための装置の概略構成を示す図、図５は実施例の方法に
よって製造されるハードディスクの構成を示す部分断面
図である。

【００１８】この実施例の方法によって製造されるハー
ドディスクは、図５に示されるように、ガラス基板２２
の表面にメカニカルテクスチャー２３を施し、その上
に、下地層２４、磁性層２５、保護層２６及び潤滑層２
７を順次形成したものである。

【００１９】メカニカルテクスチャー２３は、直径６５
ｍｍ、厚さ０．８８９ｍｍのガラス基板２２にラッピン
グテープにより同心円状のメカニカルテクスチャーを施
して形成したものである。その際、ダイヤモンド砥粉タ
イプ（Ｄ＃８０００、平均砥粉径：１μｍ）のラッピン
グテープを使用し、テクスチャリング装置に取り付けた
ガラス基板２２の回転速度を２００ｒｐｍ、テープ送り
速度を５０ｃｍ／ｍｉｎ、テープ圧力を１．０ｋｇｆ／
ｃｍ²に設定して、テクスチャー加工を行った。本テク
スチャリングによって作製した表面凹凸は、ＲＭＳ（自
乗平均粗さ）で５ｎｍであった。

【００２０】メカニカルテクスチャー２３の上に設けら
れる下地層２４、磁性層２５、保護層２６及び潤滑層２
７の形成は、図１ないし図３に示されるスパッタリング
装置１によって一貫して連続的によって行われる。

【００２１】このスパッタリング装置１は、ＲＦマグネ
トロンスパッタリング装置であり、真空容器１４内に
は、電子銃その他のスパッタリングに必要な装置（図示
省略）、主排気口２０及び雰囲気ガス流入口２１（図
３）、４つのターゲット取付部２，３，４，５等を有
し、また、この真空容器１４の上部開口部を、上蓋開閉
装置１９によって開閉自在とする上蓋１５を有し、この
上蓋１５の内側には、成膜対象たるガラス基板２２を保
持する円板状のサンプルホルダー１６が設けられてい
る。このサンプルホルダー１６は、上蓋１６に回転自在
に取り付けられており、これを回転することにより、円
板の中心からずれた位置に保持したガラス基板２２を、
所望のターゲット取付部に対向する位置、すなわち、成
膜位置まで移動できるようになっている。なお、サンプ
ルホルダー１６には、該サンプルホルダー１６に保持し
たガラス基板２２を覆ったり、その覆いを解除したりし
て成膜を制御する開閉シャッター１７が設けられてい
る。

【００２２】また、このスパッタリング装置１は、通常
は、主排気口２０を通じて真空容器内１４内を真空にし
た後、雰囲気ガス流入口２１を通じて所望の雰囲気ガス
を導入して所定のガス雰囲気にし、ターゲット取付部
２，３，４，５に所望のターゲットを取り付けてこれを
順次スパッタし、サンプルホルダー１６に固定したガラ
ス基板２２に順次薄膜を成膜していく装置である。

【００２３】本発明の方法を実施するために、ターゲッ
ト取付部２，３，４には、それぞれ下地層２４を形成す
るためのＣｒターゲット６、磁性層２５を形成するため
のＣｏＮｉＣｒターゲット７、保護層２６を形成するた
めのＣターゲット８が取り付けられるが、ターゲット取
付部５には、ターゲットの代わりに潤滑剤塗布プレート
９が取り付けられる。このターゲット取付部５は、ここ
に取り付けた潤滑剤塗布プレート９を加熱できる加熱ヒ
ータ１８が設けられ、また、下地層等を成膜している間
にはこの潤滑剤塗布プレート９にプラズマが照射されな
いように潤滑剤塗布プレート９を覆うとともに、潤滑剤
塗布の際にはその覆いを解放する開閉シャッター１２を
備えたプラズマ防止カバー１３が設けられている。

【００２４】この潤滑剤塗布プレート９（図４参照）
は、次のような方法で製作したものである。すなわち、
まず、材質がアルミノシリケート系のガラスからなる直
径１０１．６ｍｍ、厚さ２ｍｍのプレート１０を、純度
９９．９％以上のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）内
で２０ｍｉｎ間超音波洗浄し、プレート表面をクリーニ
ングする。次に、この洗浄後のプレート１０を洗浄器よ
り取り出し、温度が２４℃、湿度が１０％Ｒ．Ｈ、清浄
度がクラス１００の環境下で潤滑剤希釈液をそのプレー
ト１０上に滴下し、希釈液中の溶媒を乾燥させて潤滑剤
塗布層１１を形成する。

【００２５】この場合、潤滑剤希釈溶液は、まず、潤滑
剤にＰＥＰＥ（パーフルオロポリエーテル、Ｆｏｍｂｌ
ｉｎＡＭ２００１）を、そしてその溶媒にＨＣＦＣ
（旭ガラス製ＡＫ−２２５）を使用し、潤滑剤濃度を
１．０ｖｏｌ％（溶媒中に、潤滑剤を混入した時点での
濃度）に調整し、２２℃の液温に保持しながらテフロン
製撹拌棒で３ｍｉｎ間撹拌下後、３ｍｉｎ間放置したも
のである。そして、前記条件での撹拌及び放置を終えた
潤滑剤希釈液をプレート１０全面に８ｍｌマイクロピペ
ットにより塗布し、温度：２４℃、湿度１０％Ｒ．Ｈ、
清浄度：クラス１００の環境下で１ｍｉｎ放置し、その
後６０℃で５ｍｉｎ加熱して潤滑剤希釈溶液中の溶媒を
蒸発させ、潤滑剤塗布層１１を形成したものを、潤滑剤
塗布プレート９とする。

【００２６】上述のスパッタリング装置によって、以下
の手順により磁気記録媒体を製造する。

【００２７】まず、サンプルホルダー１６にはテクスチ
ャリングまでが施されたガラス基板２２を取り付け、タ
ーゲット取付部２，３，４，５には、それぞれ下地層２
４を形成するためのＣｒターゲット６、磁性層２５を形
成するためのＣｏＮｉＣｒターゲット７、保護層２６を
形成するためのＣターゲット８、潤滑剤塗布プレート９
を取り付ける。

【００２８】次に、上蓋１５を閉じ、真空容器１４内を
主排気口２０を通じて排気し、該真空容器１４内の到達
真空度（一般に、「背圧」と呼ぶ）を１０^-7Ｐａにす
る。

【００２９】次に、雰囲気ガス流入口２１を通じて雰囲
気ガスを所定量流入させ、真空容器１４内をスパッタガ
ス雰囲気にする。この実施例では、下地層２４、磁性層
２５のスパッタリング条件は同一とし、雰囲気ガスとし
て、純度９９．９％のアルゴンガスを用い、ガス圧を５
ｍＴｏｒｒ、ガス流量を１０ＳＣＣＭ（Ａｒ）とし、投
入電力を１００Ｗにして、ガラス基板２２の加熱がなし
の条件で成膜を行う。

【００３０】これら各膜の成膜は、サンプルホルダー１
６を回転させ、ターゲット取付部２に設置してある下地
層ターゲット６（Ｃｒ）上にガラス基板２２を設置し、
開閉シャッター１７を開け、ガラス基板２２上に下地層
２４を１００ｎｍの厚さに積層する。次いで、サンプル
ホルダー１６を回転させ、同様にして該下地層２４上に
磁性層２５を５０ｎｍの厚さに積層する。

【００３１】上記下地層２４と磁性層２５の成膜が終了
したら、雰囲気ガスを、純度９９．９％のアルゴンガス
とＣＨ₄ガスとの混合ガスに変えて保護層２６の成膜を
行う。この場合、ガス圧を５ｍＴｏｒｒ、ガス流量を、
１０ＳＣＣＭ（Ａｒ）、５ＳＣＣＭ（ＣＨ₄）、投入電
力：１００Ｗ、基板加熱なしの条件で成膜を行う。保護
層２６の膜厚は２０ｎｍとする。

【００３２】上記保護層２６の成膜が終了したら、スパ
ッタリングの雰囲気ガスを排気して真空容器１４内を所
定の真空度にし、以下に説明するような潤滑層２７の形
成を行う。なお、この場合、上記真空度を種々変えたも
のが実施例１〜１２、比較例１〜２として後で掲げられ
るものである。

【００３３】潤滑層２７の形成は、保護層２６まで成膜
を完了したガラス基板２２を、ターゲット取付部５に設
置されてある潤滑剤塗布プレート９の上側まで移動さ
せ、プラズマ防止カバー１３に装備されている開閉シャ
ッター１２を開ける。そして、加熱ヒータ１８によって
潤滑剤塗布プレート９の温度を１００℃まで徐々に上昇
させ、潤滑剤塗布プレート９上の潤滑剤塗布層１１を蒸
発させる。そして反対側に位置しているガラス基板２２
上の保護層２６の上にその潤滑剤を吸着させ、平均膜厚
で２ｎｍ（エリプソメータで評価）の潤滑層２７を形成
してハードディスクを得る。

【００３４】上述した方法を用い、保護層２６の成膜
後、潤滑層２７形成前の真空容器１４内の真空度を種々
変えてディスクサンプルを作成し、この真空度を背圧と
同じになる１０^-7Ｐａとして作製したディスクサンプル
を実施例１とした。

【００３５】同様にして、上記真空度を１０^-6Ｐａとし
たものを実施例２とし、以下、同様に、１０^-5Ｐａを実
施例３とし、１０^-4Ｐａを実施例４とし、１０^-3Ｐａを
実施例５とし、１０^-2Ｐａを実施例６とし、１０^-1Ｐａ
を実施例７とし、１０⁰Ｐａを実施例８とし、１０¹Ｐ
ａを実施例９とし、１０²Ｐａを実施例１０とし、１０
³Ｐａを実施例１１とし、１０⁴Ｐａを実施例１２と
し、１０^-8 Ｐａを比較例１とし（但し、潤滑層膜厚は
エリプソメータによる評価で０．５ｎｍ）、大気中に解
放し、その環境下で潤滑層２７を形成したものを比較例
２とした。

【００３６】なお、比較例２におけるディスクサンプル
上での潤滑層２７の形成は、温度：２４℃、湿度４０％
Ｒ．Ｈ、清浄度：クラス１００の環境下でのディッピン
グ法により、行っている。その際、まず潤滑剤にＰＥＰ
Ｅ（パーフルオロポリエーテル、ＦｏｍｂｌｉｎＡＭ
２００１）を、そしてその溶媒にＨＣＦＣ（旭ガラス製
ＡＫ−２２５）を使用し、潤滑剤濃度が０．０１ｖｏｌ
％（溶媒中に、潤滑剤を混入した時点での濃度）となる
潤滑剤希釈溶液を作製した。同潤滑剤希釈溶液は、溶液
中に潤滑剤を混入後、２２℃の液温に保持し、テフロン
製撹拌棒で３ｍｉｎ間撹拌した後、３ｍｉｎ間放置した
ものを使用している。そして、３ｍｉｎ間の撹拌、３ｍ
ｉｎ間の放置を終えた潤滑剤希釈液中にディスクサンプ
ルを１ｍｉｎ間浸漬した後、１．４ｍｍ／ｓの引上げス
ピードで徐々に潤滑剤希釈液から引上げ、潤滑剤を保護
層２６上に塗布し、平均膜厚で２ｎｍ（エリプソメータ
で評価）の潤滑層２７を形成した。

【００３７】次に、前記実施例及び比較例につき、連続
摺動試験を行った結果を図６に示す。本連続摺動試験
は、下記のような方法で実施している。

【００３８】まず、ディスクサンプルを１．５ｋｇｆｃ
ｍの締め付けトルクで、市販の摩擦・摩耗試験器の回転
スピンドルに装着後、ヘッドスライダーの媒体に対し内
周側のエアベアリング面（ＡＢＳ面）の中心が、媒体中
心より１７．５ｍｍになるようにヘッドスライダーを媒
体上に設置する。そして、ヘッドスライダーとディスク
間の相対速度を０．８３４ｍ／ｓに設定し、両者を連続
的に摺動させ、その間歪ゲージ式の摩擦力センサーより
出力されるＨＭＩでの摩擦力をＸ−Ｔレコーダによりモ
ニターし、その摩擦力をヘッド荷重により除した値（以
下、摩擦係数と記す）が１．０を越えたところの摺動試
験回数をディスク耐久回数と定義した。本測定に用いた
ヘッドは、ＩＢＭ３３７０タイプのインライン型ヘッド
であり、ヘッド荷重は６．５ｇｆ、ヘッドスライダー材
質はＡｌ₂Ｏ₃ーＴｉＣを使用している。また、本測定
は、クリーン清浄度１００のクリーンルーム内で行い、
その際の室温は２４℃、湿度は４０％Ｒ．Ｈであった。

【００３９】その結果、潤滑層２７形成前（保護層２６
の成膜後）の真空容器１４内の真空度が所定の範囲内で
は高くなるほど、ディスク耐久回数が増加しており、従
来技術において作製された比較例２に比べても、優れた
摺動特性が得られている。これは、保護層形成後のディ
スクを、大気中よりも潤滑剤の吸着を阻害する吸着物の
存在量が少ない環境に保持することで、それらの吸着物
の保護層表面への吸着が低減され、結果的に潤滑剤と保
護層との密着性が高められたことによるものであり本発
明の効果を実証するものである。

【００４０】但し、比較例２の結果に示されるように１
０^-8Ｐａ付近の高真空度になると、潤滑剤の蒸気圧（２
×１０^-4Ｐａ程度）よりも真空容器内の真空度が大幅に
高くなり、それによって潤滑剤塗布プレート上の潤滑剤
が実施例１〜８に比べて比較的早期に飛散してしまう。
そのため、潤滑層形成の制御が困難となり、保護層上に
形成される潤滑層の膜厚をある一定の厚さ以上にするこ
とが出来なくなるため、結果的にＨＭＩでのトライボロ
ジー特性を向上させることが難しくなる。

【００４１】本実施例においては、潤滑層２７形成前
（保護層２６の成膜後）の真空容器１４内の真空度を所
定の範囲内で高くすることで、保護層への潤滑剤の吸着
を阻害する吸着物の存在裡量を低減し、ディスク耐久性
向上の効果を得ているが、それら吸着物の含有が少ない
環境下（例えば真空容器内での潤滑層形成前の環境をＮ
₂雰囲気とする）において潤滑層を形成しても同様の効
果が得られる。

【００４２】本実施例においては、従来技術において開
示されている下地層、中間層、磁性層、保護層、そして
潤滑剤を構成する各種材料を適用することが可能であ
る。また、磁性層上に潤滑剤を直接塗布する場合におい
ても、製造技術的には何等問題はなく、その適用を排除
するものではない。

【００４３】また、本実施例においては、実験用のスパ
ッタリング装置（バッチ方式）により磁気記録媒体を製
造しているが、本製造方法は実際の磁気記録媒体の生産
に用いられるような、複数枚のディスクを同時に成膜す
るような生産プロセスにおいても使用できることはいう
までもない。例えば複数枚のディスクを一枚のパレット
上に配置し、反りパレットを真空容器中で通過させなが
ら成膜を行うスパッタリング装置などにおいては、前記
実施例において使用した潤滑剤塗布プレートの大きさ、
材質、そして潤滑剤厚さなどを、パレット上に配置され
た各ディスク上に良好な潤滑層が形成できるような大き
さに調整し、かつ潤滑層の下地となる層（保護層、ある
いは磁性層など）を成膜する成膜用ターゲットの隣に配
置することで、基本的には本実施例における効果と同様
のものが得られる。

【００４４】また、本実施例においては、スパッタリン
グ法により下地層から保護層までの成膜を行っており、
その装置へ潤滑層成膜プロセスを設けているが、他の真
空環境下での成膜方法、例えば真空蒸着法、各種ＣＶＤ
法等とも併用できる。

【００４５】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明における磁
気記録媒体の製造方法は、潤滑層の形成を、保護層形成
後において、磁性層及び保護層が形成された非磁性基体
を大気にさらすことなく行うことを特徴としたものであ
り、これにより、潤滑剤の吸着を阻害する吸着物の保護
層上における存在量を、大気中での場合に比べ遥かに少
なくして潤滑剤と保護層との密着性を飛躍的に高めるこ
とを可能とし、良好な滑性を長期間に渡って保持するこ
とを可能にし、さらに、保護層と潤滑層との間に存在す
る水分量を低減して媒体の耐腐食性低下の防止を可能に
し、さらには、磁性層から潤滑層形成までを一貫して連
続した製造プロセスで作製することを可能にして工業生
産を容易にすることを可能にしたものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の方法を実施するための装置の概略構成
を示す図である。

【図２】実施例の方法を実施するための装置の概略構成
を示す図である。

【図３】実施例の方法を実施するための装置の概略構成
を示す図である。

【図４】潤滑剤塗布プレートを示す図である。

【図５】実施例の方法によって製造されるハードディス
クの構成を示す部分断面図である。

【図６】実施例及び比較例のディスクの耐久回数を示す
図である。

【符号の説明】

１…スパッタリング装置、２，３，４，５…ターゲット
取付部、６…下地層ターゲット、７…磁性層ターゲッ
ト、８…保護層ターゲット、９…潤滑剤塗布プレート、
１０…プレート、１１…潤滑剤塗布層、１２…開閉シャ
ッター、１３…プラズマ防止カバー、１４…真空容器、
１５…上蓋、１６…サンプルホルダー、１７…開閉シャ
ッター、１８…加熱ヒータ、１９…上蓋開閉装置、２０
…主排気口、１…雰囲気ガス流入口、２２…ガラス基
板、２３…メカニカルテクスチャー、２４…下地層、２
５…磁性層、２６…保護層、２７…潤滑層。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】真空背圧のもとでの雰囲気下において、
被磁性基体上に、少なくとも磁性層及び保護層を順次成
膜した後、この保護層の上に潤滑層を形成して磁気記録媒体を製造
する磁気記録媒体の製造方法において、前記潤滑層の形成を、前記保護層形成後において、前記
磁性層及び保護層が形成された非磁性基体を大気にさら
すことなく行うことを特徴とした磁気記録媒体の製造方
法。
【請求項２】請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方
法において、前記潤滑層の形成を、前記保護層形成後において、前記
磁性層及び保護層が形成された非磁性基体を大気にさら
すことなく、真空圧力雰囲気下で行うことを特徴とした
磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方
法において、前記真空圧力雰囲気の真空度を、１０⁴〜１０^-7Ｐａの
範囲とすることを特徴とした磁気記録媒体の製造方法。