JPH0727070Y2 - グラファイト電極加工装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本考案は、放電加工用グラファイ
ト電極の加工装置、特に加工液槽中で電極加工する湿式
加工方式において、切削加工時に生じるグラファイト粉
塵を前記液槽から回収する装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、グラファイト電極は粉末
焼結体であるため、切削加工中に多量の粉末状切粉が生
じ、このグラファイト粉塵が飛散することにより作業者
の健康悪化を招くだけでなく、加工機の摺動部等を傷つ
ける他、グラファイトが導電性物質であるためその粉塵
が制御系の電気系統に入り込んでショートさせる虞れが
ある等の難点があり、その解消策として、従来より大別
してグラファイトの切削加工域を密閉しグラファイト粉
塵を負圧吸引する乾式加工方式と、グラファイトワーク
の加工用テーブルを加工液槽中に設置し該液槽中に満た
した加工液中において切削加工を行なう湿式加工方式と
の２通りが知られている。

【０００３】ところで、これら２方式を比較すると、前
者の乾式加工方式の場合、切削加工域を完全に密閉ガー
ドすることが実際上困難であり、完全な防塵対策をなし
得ないという問題点があるのに対し、後者の湿式加工方
式はほぼ完全な防塵を行なえる点で優れている。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
湿式加工方式を用いた装置の場合、加工液槽の内底面に
沈下堆積したグラファイト粉塵は、液槽内の加工液を抜
く際に生じる液流によって液槽外へ流出させるようにし
ていたため、液循内から加工液を抜いた後も、該液槽
内、特に内底面周辺部にグラファイト粉塵が堆積状態で
多量に残存する上、その除去処理が困難であるという問
題点があった。

【０００５】本考案は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたもので、加工後において加工液槽内に沈下堆
積したグラファイト粉塵を効率よくほぼ完全に除去する
ことが可能なグラファイト電極加工装置を提供すること
を目的とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本考案の構成を、実施例に対応する図面を参照しなが
ら説明すると、まず、グラファイト電極ワークＷの加工
用テーブル３が設置された加工液槽２中においてグラフ
ァイト粉塵が特に多量に堆積する内底面２ａからグラフ
ァイト粉塵を効果的に除去するために、該液槽２の内底
面２ａを一隅に向かって下方に傾斜する領斜面に形成し
て、その下傾端側に排液口１０を配設し、液槽２中のグ
ラファイト粉塵を該排液口１０に案内する。更に、グラ
ファイト粉塵を排液口１０から積極的に排出するため
に、排液口１０に加工液噴出ノズル１１を臨ませている
ものである。

【０００７】また、前記加工液槽２の内周側面に沿っ
て、液槽中央部側に向かって加工液を噴出させる多数の
噴出孔８ａを設けた加工液噴出管８を周回状に配設し、
液槽内底面２ａ、特にその周辺部に堆積したグラファイ
ト粉塵を強制的に排除するように構成している。

【０００８】

【作用】加工時に発生したグラファイト粉塵は加工液槽
２の傾斜内底面２ａに案内され、その多くが排液口１０
に向かって流下し、排液口１０が閉栓１２されている状
態では排液口１０付近が最も多く堆積する。排液口１０
を開栓１２し、加工液噴出ノズル１１から排液口１０に
向かって加工液を噴出させると、該ノズル１１の動作に
より発生した噴流によって排液口１０付近が負圧とな
り、この負圧によって加工液槽２の傾斜内底面２ａに案
内されながら排液口１０に向かって流下するグラファイ
ト粉塵は加工液に混合した状態で排液口１０から積極的
に流出させられるものである。

【０００９】また、加工液噴出管８を設けているので、
その多数の噴出孔８ａから加工液槽２の中央部側に向か
って加工液を噴出させたとき、各噴出孔８ａからの噴流
によって液槽内底面２ａに沈下堆積したグラファイト粉
塵、特に内底面２ａ周辺に存在する粉塵が強制的に液槽
中央部側へ移動され、堆積状態から加工液に混ざって漂
う状態となってグラファイト粉塵が除去される。

【００１０】

【実施例】以下、本考案の実施例を図面を参照しながら
詳細に説明する。本実施例のグラファイト電極加工装置
は加工液槽内においてグラファイト電極ワークＷを加工
する湿式加工方式によるものであって、図４に示すよう
に、切削加工部１の下方に加工液槽２を配設し、この加
工液槽２内にグラファイト電極ワークＷの加工用テーブ
ル３を設置してなるものである。

【００１１】図１〜図３は加工液槽部を示す。前記加工
液槽２は上面が全面的に開口した直方体形状に形成され
ている。前記加工用テーブル３は加工液槽２の内底面２
ａの中央部に一定の間隙を設けて複数本のボルト４によ
って締着固定されている。５はテーブル３の上面所定個
所に穿設された電極ワークＷの取付用孔である。

【００１２】６は加工液の給液管であって、その主管路
６ａは加工液槽２の周壁２ｂに沿って屈曲起立して該周
壁２ｂの後端上部に開口している。この主管路６ａの屈
曲部直前からは主管路６ａよりも小径のバイパス管路６
ｂを分岐させてあり、これら主管路６ａとバイパス管路
６ｂとの切換えは主管路６ａの屈曲起立部に設けた開閉
弁７ａと、バイパス管路６ｂの分岐部に設けた開閉弁７
ｂによって行なえるようにしてある。７ｃは給液管６の
元コックであって、主管路６ａの上流側に設けられてい
る。前記バイパス管路６ｂは加工液槽２の外底部に沿っ
てクランク状に屈曲して加工液槽２の前面側に延びてい
る。

【００１３】８は給液管６のバイパス管路６ｂに連通接
続された加工液噴出管であって、加工液槽２の下部内周
側面に沿って周回状に配設してあり、加工液槽２の中央
部側と対面する管壁部分に所定間隔毎に多数の噴出孔８
ａを穿設したものである。

【００１４】一方、加工液槽２の内底面２ａは前面側右
隅に向かって下方に傾斜する傾斜面に形成してあり、且
つその下傾端側に小面積の長方形状凹陥部９を形成して
ある。この凹陥部９には排液口１０が傾斜状に開口して
おり、更に該排液口１０に加工液噴出ノズル１１を臨ま
せてある。この加工液噴出ノズル１１は加工液噴出管８
に延びる給液管６のバイパス管路６ｂの途中部と連通さ
せてあり、該バイパズ管路６ｂを通じて加工液が供給さ
れるものである。１２は排液口１０の開閉栓である。前
記排液口１０は液槽周壁２ｂの前方下端部に開口する排
液管１３の入口端と、液槽２の開口上面からの加工液の
溢出を防止するオーバーフロー防止部１４を介して連通
している。

【００１５】オーバーフロー防止部１４は液槽内底面２
ａの凹陥部９に隣接する液槽前半右寄り部に立設された
液面レベル規制壁１５と、液槽周壁２ｂとにより垂直な
オーバーフロー流路１６を形成し、このオーバーフロー
流路１６の下端を前記排液口１０の出口端と排液管１３
の入口端間においてその双方に連通させると共に、該流
路１６の上端に臨んで液槽周壁２ｂにオーバーフローバ
イパス管路１７を開口し、更に、該オーバーフローバイ
パス管路１７の下端を排液管１３に連通させたものであ
る。

【００１６】このように構成された本実施例装置におい
ては、周知の手法により加工用テーブル３上にグラファ
イト電極ワークＷを上載固定し、給液管６の主管路６ａ
から加工液槽２に加工液を連続注入して、該加工液中に
電極ワークＷを沈め、この状態で切削加工部１の工具を
加工液中に没入させて電極ワー２Ｗを加工するものであ
る。

【００１７】この加工時において通常、加工液は連続供
給されるものであり、加工時における電極ワークＷの切
削により発生したグラファイト粉塵の一部は、加工液と
共に液面レベル規制壁１５を超えて、オーバーフロー流
路１６及びオーバーフローバイパス管路１７を経由して
排液管１３へ流出するものである。

【００１８】排液口１０が閉栓されている加工時におい
て、グラファイト電極ワークＷの加工時に発生したグラ
ファイト粉塵は加工液槽２の傾斜内底面２ａ上で下方に
移動し、その多くが排液口１０に向かって流下して、排
液口１０付近に最も多く堆積することになる。加工完了
後において、排液口１０を開栓すると共に、給液管６の
主管路６ａの開閉弁７ａを閉じバイパス管路６ｂの開閉
弁７ｂを開いて、加工液噴出ノズル１１と加工液噴出管
８とに加工液を供給すると、前記噴出管８の多数の噴出
孔８ａから加工液槽２の中央部側に向かって加工液が噴
出すると共に、前記噴出ノズル１１から排液口１０に向
かって加工液が噴出する。

【００１９】その結果、噴出管８の各噴出孔８ａから流
出する加工液によって加工液槽２の内底面２ａに沈下堆
積したグラファイト粉塵、特に内底面２ａ周辺に堆積し
た粉塵が液槽中央部側に強制的に移動させられ、堆積状
態から加工液と混合して漂流する状態となる。

【００２０】この場合、噴出管８の噴出孔８ａの開口面
積の総和は噴出ノズル１１の開口面積よりも遥かに大き
いものであるため、個々の噴出孔８ａからの加工液の流
出量は噴出ノズル１１よりも小さいものとなる。従っ
て、噴出ノズル１１の噴出口付近、即ち噴出ノズル１１
と排液口１０間の凹陥部９が負圧となり、この負圧によ
る強力な吸引作用によって加工液槽２の傾斜内底面２ａ
に導かれて流下するグラファイト粉塵は加工液と混合し
た状態で排液口１０から排液管１３へと積極的に流出さ
せられるものである。

【００２１】尚、作製しようとするグラファイト電極の
寸法、形状によっては加工液槽２の液面レベルを満量状
態とする必要がないものもあり、このような場合、液面
レベル規制壁１５の中間高さ位置に加工液をオーバーフ
ロー流路１６へ溢出させる開閉自在な加工液流出窓を形
成するようにしてもよい。

【００２２】

【考案の効果】以上説明したように本考案に係るグラフ
ァイト電極加工装置は、グラファイト電極ワークＷの加
工用テーブル３が設置された加工液槽２の内底面２ａを
一隅に向かって下方に傾斜する傾斜面に形成して、その
下傾端側に排液口１０を配設することにより、グラファ
イト電極ワークＷの切削加工時に発生し液槽内底面２ａ
に沈下堆積したグラファイト粉塵が排液口１０に自然に
案内されるようにし、更に前記排液口１０に加工液噴出
ノズル１１を臨設することにより、グラファイト粉塵を
排液口１０から積極的に排出できるように構成したの
で、グラファイト粉塵は傾斜内底面２ａに案内され、前
記ノズル１１からの加工液噴流によって負圧となった排
液口１０へ向かって流下し、該排液口１０から流出する
ので、加工液槽２内に沈下堆積したグラファイト粉塵を
円滑に排出することができる。

【００２３】このように本考案装置によるときは、比較
的簡単な構成により、加工液噴出ノズル１１から加工液
槽２へ加工液を供給するだけの極めて簡単な操作によっ
て、加工液槽２内に沈下堆積したグラファイト粉塵を迅
速に極力除去排出できるという従来にない優れた効果を
奏するものである。

【００２４】更に、本考案は、加工液槽２の内周側面に
沿って、該液槽中央部側に向かって加工液を噴出させる
多数の噴出孔８ａを設けた加工液噴出管８を周回状に配
設しているので、この噴出管８の多数の噴出孔８ａから
加工液を勢いよく噴出させて 、その噴流により液槽２中
のグラファイト粉塵、特に液槽内底面２ａ周辺部に多量
に沈下堆積するグラファイト粉塵を強制排除することが
でき、これによって液槽２中に沈下堆積したグラファイ
ト粉塵を隅々まで効果的に除去することができるもので
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】加工液槽部の一部を切り欠いて示す平面図

【図２】その縦断正面図

【図３】その側面図

【図４】装置の全体構成を示す概略正面図

【符号の説明】

２ 加工液槽 ２ａ 加工液槽の内底面 ２ｂ 加工液槽の周壁 ３ 加工用テーブル ８ 加工液噴出管 ８ａ 加工液噴出管の噴出孔 １０ 排液口 １１ 加工液噴出ノズル

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 グラファイト電極ワークＷの加工用テー
   ブル３が設置された加工液槽２の内底面２ａを一隅に向
   かって下方に傾斜する傾斜面に形成して、その下傾端側
   に排液口１０を配設すると共に、この排液口１０に加工
   液噴出ノズル１１を臨ませ、更に、加工液槽２の内周側
   面に沿って液槽中央部側に向かって加工液を噴出させる
   多数の噴出孔８ａを設けた加工液噴出管８を周回状に配
   設したことを特徴とするグラファイト電極加工装置。