JPH07267907A - 新規なＮ−アリール−α−アミノ酸、光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 - Google Patents
新規なＮ−アリール−α−アミノ酸、光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法Info
- Publication number
- JPH07267907A JPH07267907A JP6170876A JP17087694A JPH07267907A JP H07267907 A JPH07267907 A JP H07267907A JP 6170876 A JP6170876 A JP 6170876A JP 17087694 A JP17087694 A JP 17087694A JP H07267907 A JPH07267907 A JP H07267907A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- aryl
- compound
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた感光特性を示す感光性組成物および感
光材料を提供する新規な化合物、これを用いた感光性組
成物、感光材料およびパターンの製造法を提供する。 【構成】 下記の式（Ｉ）で示される新規なＮ−アリー
ル−α−アミノ酸、これを用いた光開始剤、感光性組成
物、感光材料およびこの感光材料を用いたパターンの製
造法。 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は水素、ハロゲ
ン原子、炭素数１から４のアルキル基、シアノ基、炭素
数１から４のアルキルスルホン基であって、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5のうち少なくとも１つがシアノ基ま
たは炭素数１から４のアルキルスルホン基であり、Ｒ6
は水素、炭素数１から１２のアルキル基、シクロアルキ
ル基、炭素数１から１２のヒドロキシアルキル基、炭素
数２から１２のアルコキシアルキル基、炭素数１から１
２のアミノアルキル基またはアリール基であり、Ｒ7お
よびＲ8は水素原子または炭素数１から８のアルキル基
であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8
は同一でもよい）
光材料を提供する新規な化合物、これを用いた感光性組
成物、感光材料およびパターンの製造法を提供する。 【構成】 下記の式（Ｉ）で示される新規なＮ−アリー
ル−α−アミノ酸、これを用いた光開始剤、感光性組成
物、感光材料およびこの感光材料を用いたパターンの製
造法。 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は水素、ハロゲ
ン原子、炭素数１から４のアルキル基、シアノ基、炭素
数１から４のアルキルスルホン基であって、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5のうち少なくとも１つがシアノ基ま
たは炭素数１から４のアルキルスルホン基であり、Ｒ6
は水素、炭素数１から１２のアルキル基、シクロアルキ
ル基、炭素数１から１２のヒドロキシアルキル基、炭素
数２から１２のアルコキシアルキル基、炭素数１から１
２のアミノアルキル基またはアリール基であり、Ｒ7お
よびＲ8は水素原子または炭素数１から８のアルキル基
であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8
は同一でもよい）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なＮ−アリール−
α−アミノ酸、これを用いた光開始剤、感光性組成物、
感光材料およびパターンの製造法に関する。
α−アミノ酸、これを用いた光開始剤、感光性組成物、
感光材料およびパターンの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】感光性組成物は一般に紫外線光源が用い
られ、凸版用、レリーフ像用、フォトレジスト用等に広
く用いられているが、その感度はより高い系が望まれて
いる。特にレーザビームによる走査露光を目的とする場
合には、高感度であるとともにアルゴンレーザの出力波
長である可視光（４５８、４８８、５１４．５nm）に対
し十分高い感度を有することが必要である。また、厚膜
用感光性ポリイミドのように半導体用途でも、単色光を
用いるｇ線ステッパ（４３５nm光を使用）や、水銀灯の
全波長を用いるコンタクト露光機やミラープロジェクシ
ョンタイプの露光機で感光させるため十分な感度と感光
波長特性が要求される。従来から、感度を増大させるた
め光開始剤について多くの研究がなされている。光開始
剤としてはベンゾインおよびその誘導体、置換又は非置
換の多核キノン類等多くの物質が既に知られているが、
上記の目的に合う優れた感度特性を有するものは知られ
ていない。
られ、凸版用、レリーフ像用、フォトレジスト用等に広
く用いられているが、その感度はより高い系が望まれて
いる。特にレーザビームによる走査露光を目的とする場
合には、高感度であるとともにアルゴンレーザの出力波
長である可視光（４５８、４８８、５１４．５nm）に対
し十分高い感度を有することが必要である。また、厚膜
用感光性ポリイミドのように半導体用途でも、単色光を
用いるｇ線ステッパ（４３５nm光を使用）や、水銀灯の
全波長を用いるコンタクト露光機やミラープロジェクシ
ョンタイプの露光機で感光させるため十分な感度と感光
波長特性が要求される。従来から、感度を増大させるた
め光開始剤について多くの研究がなされている。光開始
剤としてはベンゾインおよびその誘導体、置換又は非置
換の多核キノン類等多くの物質が既に知られているが、
上記の目的に合う優れた感度特性を有するものは知られ
ていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、新規
な化合物、これを用いた光開始剤、優れた感光特性を示
す感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法を提
供するものである。
な従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、新規
な化合物、これを用いた光開始剤、優れた感光特性を示
す感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法を提
供するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は下記の式（Ｉ）
で示される新規なＮ−アリール−α−アミノ酸に関す
る。
で示される新規なＮ−アリール−α−アミノ酸に関す
る。
【化４】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は水素、ハロゲ
ン原子、炭素数１から４のアルキル基、シアノ基、炭素
数１から４のアルキルスルホン基であって、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5のうち少なくとも１つがシアノ基ま
たは炭素数１から４のアルキルスルホン基であり、Ｒ6
は水素、炭素数１から１２のアルキル基、シクロアルキ
ル基、炭素数１から１２のヒドロキシアルキル基、炭素
数２から１２のアルコキシアルキル基、炭素数１から１
２のアミノアルキル基またはアリール基であり、Ｒ7お
よびＲ8は水素原子または炭素数１から８のアルキル基
であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8
は同一でもよい）
ン原子、炭素数１から４のアルキル基、シアノ基、炭素
数１から４のアルキルスルホン基であって、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5のうち少なくとも１つがシアノ基ま
たは炭素数１から４のアルキルスルホン基であり、Ｒ6
は水素、炭素数１から１２のアルキル基、シクロアルキ
ル基、炭素数１から１２のヒドロキシアルキル基、炭素
数２から１２のアルコキシアルキル基、炭素数１から１
２のアミノアルキル基またはアリール基であり、Ｒ7お
よびＲ8は水素原子または炭素数１から８のアルキル基
であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8
は同一でもよい）
【０００５】また、本発明は上記のＮ−アリール−α−
アミノ酸と下記の式（II）で示される３−置換クマリン
化合物および／または下記の式（III）で示されるアザ
ベンザルシクロヘキサノン化合物とを含有してなる光開
始剤に関する。
アミノ酸と下記の式（II）で示される３−置換クマリン
化合物および／または下記の式（III）で示されるアザ
ベンザルシクロヘキサノン化合物とを含有してなる光開
始剤に関する。
【化５】 （式中、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、水素原
子、１個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたア
ミノ基、２個の炭素数１から５のアルキル基で置換され
たアミノ基、炭素数１から５のアルコキシ基、アシルオ
キシ基、アリール基、ハロゲン原子または炭素数１から
５のチオアルキル基であり、Ｒ14は非置換のフェニル
基、ビフェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフ
リル基、フリル基、ピリジン基、クマリニル基、アミノ
基、炭素数１から５のアルキル基で置換されたアミノ
基、シアノ基、炭素数１から５のアルコキシ基、炭素数
１から５のアルキル基、ハロゲン原子、ハロアルキル
基、ホルミル基、炭素数１から５のアルコキシカルボニ
ル基、炭素数１から５のアシルオキシ基または炭素数１
から５のアシル基で置換されたフェニル基、ビフェニル
基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル
基、ピリジン基もしくはクマリニル基である）
子、１個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたア
ミノ基、２個の炭素数１から５のアルキル基で置換され
たアミノ基、炭素数１から５のアルコキシ基、アシルオ
キシ基、アリール基、ハロゲン原子または炭素数１から
５のチオアルキル基であり、Ｒ14は非置換のフェニル
基、ビフェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフ
リル基、フリル基、ピリジン基、クマリニル基、アミノ
基、炭素数１から５のアルキル基で置換されたアミノ
基、シアノ基、炭素数１から５のアルコキシ基、炭素数
１から５のアルキル基、ハロゲン原子、ハロアルキル
基、ホルミル基、炭素数１から５のアルコキシカルボニ
ル基、炭素数１から５のアシルオキシ基または炭素数１
から５のアシル基で置換されたフェニル基、ビフェニル
基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル
基、ピリジン基もしくはクマリニル基である）
【化６】 （式中、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21お
よびＲ22は水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１か
ら１２のアルキル基、アリール基または炭素数１から１
２のアルコキシ基であり、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25およびＲ26
は、炭素数１から６のアルキル基であり、Ｘは炭素数１
から１２のアルキル基、炭素数７から２０のアラルキル
基、アリール基、炭素数２から１２のアシル基、炭素数
７から２０のアリールカルボニル基、炭素数２から１２
のアルコキシカルボニル基または炭素数７から２０のア
リールオキシカルボニル基で置換されたもしくは置換さ
れてない窒素原子である）
よびＲ22は水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１か
ら１２のアルキル基、アリール基または炭素数１から１
２のアルコキシ基であり、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25およびＲ26
は、炭素数１から６のアルキル基であり、Ｘは炭素数１
から１２のアルキル基、炭素数７から２０のアラルキル
基、アリール基、炭素数２から１２のアシル基、炭素数
７から２０のアリールカルボニル基、炭素数２から１２
のアルコキシカルボニル基または炭素数７から２０のア
リールオキシカルボニル基で置換されたもしくは置換さ
れてない窒素原子である）
【０００６】また、本発明は、常圧において１００℃以
上の沸点を有する付加重合性化合物および上記の光開始
剤を含有してなる感光性組成物に関する。
上の沸点を有する付加重合性化合物および上記の光開始
剤を含有してなる感光性組成物に関する。
【０００７】また、本発明は、ポリアミド酸、化学線に
より２量化または重合可能な炭素炭素二重結合およびア
ミノ基またはその四級化塩を有する化合物、上記の光開
始剤を含有してなる感光材料ならびにこの感光材料を用
いたパターンの製造法に関する。
より２量化または重合可能な炭素炭素二重結合およびア
ミノ基またはその四級化塩を有する化合物、上記の光開
始剤を含有してなる感光材料ならびにこの感光材料を用
いたパターンの製造法に関する。
【０００８】本発明の上記の式（Ｉ）で示されるＮ−ア
リール−α−アミノ酸は、例えば相当する置換ハロベン
ゼンとグリシン化合物の芳香族求核置換反応を行わせる
ことによって得られる。上記の式（Ｉ）で示される化合
物の例としては、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニルフェニ
ル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニ
ルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メチル
スルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ
−（ｐ−メチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブチル
グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−グリシン、Ｎ
−（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニル）−Ｎ−メチ
ルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニ
ル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルス
ルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−
（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブ
チルグリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスルホニルフェニル）
−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスルホニルフ
ェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスル
ホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−
（ｐ−エチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグ
リシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノエチルスルホニルフェ
ニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノ
エチルスルホニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ
−（ｐ−２′−シアノエチルスルホニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノエチ
ルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ
−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、
Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシ
ン、Ｎ−（ｐ−ｎ−プロピルスルホニルフェニル）−Ｎ
−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−ｎ−ブチルスルホニルフ
ェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−カルボキシ
アミドフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−カ
ルボキシアミドフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピル
グリシン、Ｎ−（ｐ−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニル
フェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エトキシ
カルボニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ
−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグ
リシン、Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニル
フェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メトキシ
カルボニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ
−メトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグ
リシン、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン等がある。これらのＮ−アリール
−α−アミノ酸は適当な増感剤との組み合わせて、紫外
および可視光の作用により活性ラジカルを発生する光開
始剤として有効である。
リール−α−アミノ酸は、例えば相当する置換ハロベン
ゼンとグリシン化合物の芳香族求核置換反応を行わせる
ことによって得られる。上記の式（Ｉ）で示される化合
物の例としては、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニルフェニ
ル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニ
ルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メチル
スルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ
−（ｐ−メチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブチル
グリシン、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−グリシン、Ｎ
−（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニル）−Ｎ−メチ
ルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニ
ル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ−シアノメチルス
ルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−
（ｐ−シアノメチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブ
チルグリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスルホニルフェニル）
−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスルホニルフ
ェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エチルスル
ホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−
（ｐ−エチルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグ
リシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノエチルスルホニルフェ
ニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノ
エチルスルホニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ
−（ｐ−２′−シアノエチルスルホニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−プロピルグリシン、Ｎ−（ｐ−２′−シアノエチ
ルスルホニルフェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ
−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグリシン、
Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）−Ｎ−ｎ−ブチルグリシ
ン、Ｎ−（ｐ−ｎ−プロピルスルホニルフェニル）−Ｎ
−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−ｎ−ブチルスルホニルフ
ェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−カルボキシ
アミドフェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−カ
ルボキシアミドフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−
（ｐ−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピル
グリシン、Ｎ−（ｐ−カルボキシアミドフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニル
フェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−エトキシ
カルボニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ
−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグ
リシン、Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニル
フェニル）−Ｎ−メチルグリシン、Ｎ−（ｐ−メトキシ
カルボニルフェニル）−Ｎ−エチルグリシン、Ｎ−（ｐ
−メトキシカルボニルフェニル）−Ｎ−ｎ−プロピルグ
リシン、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）−Ｎ
−ｎ−ブチルグリシン等がある。これらのＮ−アリール
−α−アミノ酸は適当な増感剤との組み合わせて、紫外
および可視光の作用により活性ラジカルを発生する光開
始剤として有効である。
【０００９】これらのＮ−アリール−α−アミノ酸に組
み合わせる適当な増感剤としては上記の式（II）で示さ
れる３−置換クマリン化合物、例えば３−ベンゾイルク
マリン、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−
ベンゾイル−５，７−ジメトキシクマリン、３−（４′
シアノベンゾイル）−クマリン、３−（４′シアノベン
ゾイル）−７−メトキシクマリン、３−（４′シアノベ
ンゾイル）−５，７−ジメトキシクマリン、３−チエニ
ルカルボニルクマリン、７−メトキシ−３−チエニルカ
ルボニルクマリン、５，７−ジメトキシ−３−チエニル
カルボニルクマリン、７−ジエチルアミノ−３−チエニ
ルカルボニルクマリン、７−ジメチルアミノ−３−チエ
ニルカルボニルクマリン、３−（４′−メトキシベンゾ
イル）クマリン、３−（４′−メトキシベンゾイル）−
７−メトキシクマリン、３−（４′−メトキシベンゾイ
ル）−５，７−ジメトキシクマリン、３，３′−カルボ
ニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３，３′−
カルボニルビス（７−メトキシクマリン）、３，３′−
カルボニルビス（５，７−ジメトキシクマリン）等があ
げられ、または上記の式（III）で示されるアザベンザ
ルシクロヘキサノン化合物、例えば、２，６−ビス（ｐ
−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンザル）−４−メチル−４
−アザシクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノベンザル）−４−メチル−４−アザシク
ロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノベンザル）−４−エチル−４−アザシクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−エチル−４−アザシクロヘキサノン、２，６
−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンザル）−４−
ｎ−プロピル−４−アザシクロヘキサノン、２，６−ビ
ス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザル）−４−ｎ−
プロピル−４−アザシクロヘキサノン、２，６−ビス
（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザル）−４−フェネ
チル−４−アザシクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザル）−４−ベンジル−４
−アザシクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノベンザル）−４−アセチル−４−アザシ
クロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノベンザル）−４−ベンゾイル−４−アザシクロヘ
キサノン等があげられる。これらは二種以上を組み合わ
せて用いてもよい。
み合わせる適当な増感剤としては上記の式（II）で示さ
れる３−置換クマリン化合物、例えば３−ベンゾイルク
マリン、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−
ベンゾイル−５，７−ジメトキシクマリン、３−（４′
シアノベンゾイル）−クマリン、３−（４′シアノベン
ゾイル）−７−メトキシクマリン、３−（４′シアノベ
ンゾイル）−５，７−ジメトキシクマリン、３−チエニ
ルカルボニルクマリン、７−メトキシ−３−チエニルカ
ルボニルクマリン、５，７−ジメトキシ−３−チエニル
カルボニルクマリン、７−ジエチルアミノ−３−チエニ
ルカルボニルクマリン、７−ジメチルアミノ−３−チエ
ニルカルボニルクマリン、３−（４′−メトキシベンゾ
イル）クマリン、３−（４′−メトキシベンゾイル）−
７−メトキシクマリン、３−（４′−メトキシベンゾイ
ル）−５，７−ジメトキシクマリン、３，３′−カルボ
ニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３，３′−
カルボニルビス（７−メトキシクマリン）、３，３′−
カルボニルビス（５，７−ジメトキシクマリン）等があ
げられ、または上記の式（III）で示されるアザベンザ
ルシクロヘキサノン化合物、例えば、２，６−ビス（ｐ
−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンザル）−４−メチル−４
−アザシクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノベンザル）−４−メチル−４−アザシク
ロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノベンザル）−４−エチル−４−アザシクロヘキサノ
ン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−エチル−４−アザシクロヘキサノン、２，６
−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンザル）−４−
ｎ−プロピル−４−アザシクロヘキサノン、２，６−ビ
ス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザル）−４−ｎ−
プロピル−４−アザシクロヘキサノン、２，６−ビス
（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザル）−４−フェネ
チル−４−アザシクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンザル）−４−ベンジル−４
−アザシクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノベンザル）−４−アセチル−４−アザシ
クロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノベンザル）−４−ベンゾイル−４−アザシクロヘ
キサノン等があげられる。これらは二種以上を組み合わ
せて用いてもよい。
【００１０】Ｎ−アリール−α−アミノ酸と上記の式
（II）で示される３−置換クマリン化合物または上記の
式（III）で示されるアザベンザルシクロヘキサノン化
合物との割合には特に制限はないが、通常前者を後者よ
り多い重量部として用いる。
（II）で示される３−置換クマリン化合物または上記の
式（III）で示されるアザベンザルシクロヘキサノン化
合物との割合には特に制限はないが、通常前者を後者よ
り多い重量部として用いる。
【００１１】感光性組成物とする場合には、必要に応じ
て光重合開始剤をさらに含有してもよい。光重合開始剤
としては例えば、ミヒラーズケトン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２
−エチルアントラキノン、４，４′−ビス（Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベン
ゾフェノン、チオキサントン、２，２−ジメトキシ−２
−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン、２−メチル−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、
ベンジル、ジフェニルジスルフィド、フェナンスレンキ
ノン、２−イソプロピルチオキサントン、リボフラビン
テトラブチレート、Ｎ−フェニルジエタノールアミン、
２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシイミノ−１，３
−ジフェニルプロパンジオン、１−フェニル−２−（Ｏ
−エトキシカルボニル）オキシイミノプロパン−１−オ
ン、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、２−（Ｏ−エトキシカ
ルボニル）オキシイミノ−１，３−ジフェニル−１，
２，３−トリオン、２−（Ｏ−フェノキシカルボニル）
オキシイミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリ
オン、２−｛Ｏ−（２′−メトキシ）エトキシカルボニ
ル｝オキシイミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−
トリオン、２−（Ｏ−ｎ−ヘプチルオキシカルボニル）
オキシイミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリ
オン、２−（Ｏ−ベンザルオキシカルボニル）オキシイ
ミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリオン、
て光重合開始剤をさらに含有してもよい。光重合開始剤
としては例えば、ミヒラーズケトン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２
−エチルアントラキノン、４，４′−ビス（Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベン
ゾフェノン、チオキサントン、２，２−ジメトキシ−２
−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン、２−メチル−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、
ベンジル、ジフェニルジスルフィド、フェナンスレンキ
ノン、２−イソプロピルチオキサントン、リボフラビン
テトラブチレート、Ｎ−フェニルジエタノールアミン、
２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシイミノ−１，３
−ジフェニルプロパンジオン、１−フェニル−２−（Ｏ
−エトキシカルボニル）オキシイミノプロパン−１−オ
ン、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、２−（Ｏ−エトキシカ
ルボニル）オキシイミノ−１，３−ジフェニル−１，
２，３−トリオン、２−（Ｏ−フェノキシカルボニル）
オキシイミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリ
オン、２−｛Ｏ−（２′−メトキシ）エトキシカルボニ
ル｝オキシイミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−
トリオン、２−（Ｏ−ｎ−ヘプチルオキシカルボニル）
オキシイミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリ
オン、２−（Ｏ−ベンザルオキシカルボニル）オキシイ
ミノ−１，３−ジフェニル−１，２，３−トリオン、
【化７】 等があげられる。光重合開始剤の使用量については特に
制限はない。
制限はない。
【００１２】本発明の感光性組成物に含まれる付加重合
性化合物は常圧において１００℃以上の沸点を有するも
のが用いられる。常圧において沸点が１００℃より低い
ものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によって除去する
際または活性光線を照射する際、該付加重合性化合物が
揮散して特性上好ましくないからである。また付加重合
性化合物は光開始剤等と均一な組成物とするために、通
常用いられる有機溶剤に可溶なものが好ましい。
性化合物は常圧において１００℃以上の沸点を有するも
のが用いられる。常圧において沸点が１００℃より低い
ものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によって除去する
際または活性光線を照射する際、該付加重合性化合物が
揮散して特性上好ましくないからである。また付加重合
性化合物は光開始剤等と均一な組成物とするために、通
常用いられる有機溶剤に可溶なものが好ましい。
【００１３】有機溶剤としては、例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、トルエン、クロロホルム、メタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノー
ル、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、キシレン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシ
ド、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、
スルホラン等が用いられる。
ルエチルケトン、トルエン、クロロホルム、メタノー
ル、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノー
ル、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、キシレン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシ
ド、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、
スルホラン等が用いられる。
【００１４】常圧において１００℃以上の沸点を有する
付加重合性化合物としては、多価アルコールとα，β−
不飽和カルボン酸とを縮合して得られる化合物、例えば
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（ジアクリ
レートまたはジメタクリレートの意味、以下同じ）、ト
リエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、１，２−プロピ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ジ（１，２−
プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、トリ
（１，２−プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレ
ート、テトラ（１，２−プロピレングリコール）ジ（メ
タ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジ
エチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、１，４−
ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキ
サンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラ（メタ）アクリレート、スチレン、ジビニルベ
ンゼン、４−ビニルトルエン、４−ビニルピリジン、Ｎ
−ビニルピロリドン、２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、１，３−（メタ）アクリロイルオキシ−２
−ヒドロキシプロパン、メチレンビスアクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアク
リルアミドなどがあげられ、これらは２種以上を組み合
わせて用いてもよい。Ｎ−（ｐ−メチルスルホニル）−
Ｎ−メチルグリシン、７ホジエチルアミノ−３−チエニ
ルカルボニルクマリン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノベンザル）−４−メチル−アザシクロヘキ
サノン、３−ジメチルアミノプロピルメタクリレートお
よびポリアミド酸の組み合わせが好ましい。
付加重合性化合物としては、多価アルコールとα，β−
不飽和カルボン酸とを縮合して得られる化合物、例えば
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（ジアクリ
レートまたはジメタクリレートの意味、以下同じ）、ト
リエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、１，２−プロピ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ジ（１，２−
プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、トリ
（１，２−プロピレングリコール）ジ（メタ）アクリレ
ート、テトラ（１，２−プロピレングリコール）ジ（メ
タ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジ
エチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、１，４−
ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキ
サンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラ（メタ）アクリレート、スチレン、ジビニルベ
ンゼン、４−ビニルトルエン、４−ビニルピリジン、Ｎ
−ビニルピロリドン、２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、１，３−（メタ）アクリロイルオキシ−２
−ヒドロキシプロパン、メチレンビスアクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアク
リルアミドなどがあげられ、これらは２種以上を組み合
わせて用いてもよい。Ｎ−（ｐ−メチルスルホニル）−
Ｎ−メチルグリシン、７ホジエチルアミノ−３−チエニ
ルカルボニルクマリン、２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノベンザル）−４−メチル−アザシクロヘキ
サノン、３−ジメチルアミノプロピルメタクリレートお
よびポリアミド酸の組み合わせが好ましい。
【００１５】光開始剤は、光感度とフィルム強度の点か
ら、常圧において１００℃以上の沸点を有する付加重合
性化合物に対して０．０１から３０重量％、好ましくは
０．０５から１０重量％の添加量で用いられる。
ら、常圧において１００℃以上の沸点を有する付加重合
性化合物に対して０．０１から３０重量％、好ましくは
０．０５から１０重量％の添加量で用いられる。
【００１６】本発明になる感光性組成物は、必要に応じ
て一種以上の高分子量有機重合体を含有してもよい。該
高分子量有機重合体の分子量は、１０，０００から７０
０，０００を有するものが好ましい。例えば次のものが
用いられる。
て一種以上の高分子量有機重合体を含有してもよい。該
高分子量有機重合体の分子量は、１０，０００から７０
０，０００を有するものが好ましい。例えば次のものが
用いられる。
【００１７】（Ａ）コポリエステル 多価アルコール、例えばジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメ
チロールプロパン、ネオペンチルグリコール等と多価カ
ルボン酸、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、セバシ
ン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステル
チレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメ
チロールプロパン、ネオペンチルグリコール等と多価カ
ルボン酸、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、セバシ
ン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステル
【００１８】（Ｂ）ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸またはアクリ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル（メタ）アクリレ
ート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）
アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等
のビニル単量体のホモポリマまたはコポリマ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル（メタ）アクリレ
ート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）
アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等
のビニル単量体のホモポリマまたはコポリマ
【００１９】（Ｃ）ポリホルムアルデヒド （Ｄ）ポリウレタン （Ｅ）ポリカーボネート （Ｆ）ポリアミド （Ｇ）ポリアミド酸
【００２０】ポリアミド酸は、次のようなテトラカルボ
ン酸二無水物とジアミン化合物を材料とした付加重合に
よって得られる。テトラカルボン酸二無水物としては、
例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３′，４，４′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，
３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸二
無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン
酸二無水物、４，４′−スルホニルジフタル酸二無水
物、ｍ−ターフェニル−３，３″，４，４″−テトラカ
ルボン酸二無水物、ｐ−ターフェニル−３，３″，４，
４″−テトラカルボン酸二無水物、４，４′−オキシジ
フタル酸二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロ−２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニ
ル）プロパン二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェ
ニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカ
ルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビ
ス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニ
ル］プロパン二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２，２−ビス［４−（３，４−ジカルボキ
シフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物が挙げられ
る。ジアミン化合物としては、例えば、ｐ−フェニレン
ジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−キシリレンジ
アミン、ｍ−キシリレンジアミン、１，５−ジアミノナ
フタレン、ベンジジン、３，３′−ジメチルベンジジ
ン、３，３′−ジメトキシベンジジン、４，４′（また
は３，４′−、３，３′−、２，４′−）−ジアミノジ
フェニルメタン、４，４′（または３，４′−、３，
３′−、２，４′−）−ジアミノジフェニルエーテル、
４，４′（または３，４′−、３，３′−、２，４′
−）−ジアミノジフェニルスルホン、４，４′（または
３，４′−、３，３′−、２，４′−）−ジアミノジフ
ェニルスルフィド、４，４′−ベンゾフェノンジアミ
ン、３，３′−ベンゾフェノンジアミン、４，４′−ジ
（４−アミノフェノキシ）フェニルスルホン、４，４′
−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、１，４−
ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス
（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（４−アミノフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル］プロパン、３，３′−ジメチル−
４，４′ジアミノジフェニルメタン、３，３′，５，
５′−テトラメチル−４，４′ジアミノジフェニルメタ
ン、４，４′−ジ（３−アミノフェノキシ）フェニルス
ルホン、３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、２，
２′−ビス（４−アミノフェニル）プロパン等の芳香族
ジアミン、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミ
ノピリミジン、２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、
２，７−ジアミノジベンゾフラン、２，７−ジアミノカ
ルバゾール、３，７−ジアミノフェノチアジン、２，５
−ジアミノ−１，３，４−チアジアゾール、２，４−ジ
アミノ−６−フェニル−ｓ−トリアジン等の複素環式ジ
アミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、２，２−ジメチルプロピ
レンジアミン、下記に示すジアミノポリシロキサン等の
脂肪族ジアミンなどが挙げられる。
ン酸二無水物とジアミン化合物を材料とした付加重合に
よって得られる。テトラカルボン酸二無水物としては、
例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３′，４，４′
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，
３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸二
無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸
二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン
酸二無水物、４，４′−スルホニルジフタル酸二無水
物、ｍ−ターフェニル−３，３″，４，４″−テトラカ
ルボン酸二無水物、ｐ−ターフェニル−３，３″，４，
４″−テトラカルボン酸二無水物、４，４′−オキシジ
フタル酸二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロ−２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニ
ル）プロパン二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェ
ニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカ
ルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、
１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビ
ス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニ
ル］プロパン二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキ
サフルオロ−２，２−ビス［４−（３，４−ジカルボキ
シフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物が挙げられ
る。ジアミン化合物としては、例えば、ｐ−フェニレン
ジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−キシリレンジ
アミン、ｍ−キシリレンジアミン、１，５−ジアミノナ
フタレン、ベンジジン、３，３′−ジメチルベンジジ
ン、３，３′−ジメトキシベンジジン、４，４′（また
は３，４′−、３，３′−、２，４′−）−ジアミノジ
フェニルメタン、４，４′（または３，４′−、３，
３′−、２，４′−）−ジアミノジフェニルエーテル、
４，４′（または３，４′−、３，３′−、２，４′
−）−ジアミノジフェニルスルホン、４，４′（または
３，４′−、３，３′−、２，４′−）−ジアミノジフ
ェニルスルフィド、４，４′−ベンゾフェノンジアミ
ン、３，３′−ベンゾフェノンジアミン、４，４′−ジ
（４−アミノフェノキシ）フェニルスルホン、４，４′
−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、１，４−
ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス
（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（４−アミノフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル］プロパン、３，３′−ジメチル−
４，４′ジアミノジフェニルメタン、３，３′，５，
５′−テトラメチル−４，４′ジアミノジフェニルメタ
ン、４，４′−ジ（３−アミノフェノキシ）フェニルス
ルホン、３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、２，
２′−ビス（４−アミノフェニル）プロパン等の芳香族
ジアミン、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミ
ノピリミジン、２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、
２，７−ジアミノジベンゾフラン、２，７−ジアミノカ
ルバゾール、３，７−ジアミノフェノチアジン、２，５
−ジアミノ−１，３，４−チアジアゾール、２，４−ジ
アミノ−６−フェニル−ｓ−トリアジン等の複素環式ジ
アミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、２，２−ジメチルプロピ
レンジアミン、下記に示すジアミノポリシロキサン等の
脂肪族ジアミンなどが挙げられる。
【化８】 （ｎ、ｍは１〜１０の整数であり、ｎとｍは同じでも良
い）
い）
【００２１】上記のテトラカルボン酸二無水物およびジ
アミン化合物はそれぞれ単独で用いても二種以上を組み
合わせて用いてもよい。
アミン化合物はそれぞれ単独で用いても二種以上を組み
合わせて用いてもよい。
【００２２】（Ｈ）セルロースエステル例えばメチルセ
ルロース、エチルセルロース
ルロース、エチルセルロース
【００２３】感光性組成物中に高分子量有機重合体を加
えることによって、基体への接着性、耐薬品性、フィル
ム性等の特性を改良することができる。この高分子量有
機重合体は、光硬化性の点から該高分子量有機重合体と
前記の付加重合性化合物の合計重量を基準として２０〜
８０重量％の範囲とすることが好ましい。高分子量有機
重合体を用いる場合にも、光開始剤の使用量は、常圧に
おいて１００℃以上の沸点を有する付加重合性化合物に
対して０．０１から３０重量％、好ましくは０．０５か
ら１０重量％の範囲とされる。
えることによって、基体への接着性、耐薬品性、フィル
ム性等の特性を改良することができる。この高分子量有
機重合体は、光硬化性の点から該高分子量有機重合体と
前記の付加重合性化合物の合計重量を基準として２０〜
８０重量％の範囲とすることが好ましい。高分子量有機
重合体を用いる場合にも、光開始剤の使用量は、常圧に
おいて１００℃以上の沸点を有する付加重合性化合物に
対して０．０１から３０重量％、好ましくは０．０５か
ら１０重量％の範囲とされる。
【００２４】本発明になる感光性組成物はまた必要に応
じて染料、顔料等の着色物質を含有してもよい。着色物
質としては、例えばフクシン、クリスタルバイオレッ
ト、メチルオレンジ、ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアピ
ュアブルー、マラカイトグリーン、ナイトグリーンＢ、
スピロンブルー等があげられる。
じて染料、顔料等の着色物質を含有してもよい。着色物
質としては、例えばフクシン、クリスタルバイオレッ
ト、メチルオレンジ、ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアピ
ュアブルー、マラカイトグリーン、ナイトグリーンＢ、
スピロンブルー等があげられる。
【００２５】本発明になる感光性組成物は保存時の安定
性を高めるためにラジカル重合禁止剤またはラジカル重
合抑制剤を含有してもよい。このようなものとしてはｐ
−メトキシフェノール、ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、ナフチルアミン、フェノチアジ
ン、アリールフォスファイト、ニトロソアミン等があ
る。
性を高めるためにラジカル重合禁止剤またはラジカル重
合抑制剤を含有してもよい。このようなものとしてはｐ
−メトキシフェノール、ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、ナフチルアミン、フェノチアジ
ン、アリールフォスファイト、ニトロソアミン等があ
る。
【００２６】本発明になる感光性組成物は感光性樹脂組
成物に用いることが知られている他の添加物、例えば可
塑剤、接着促進剤等の添加物を含有してもよい。
成物に用いることが知られている他の添加物、例えば可
塑剤、接着促進剤等の添加物を含有してもよい。
【００２７】本発明の感光材料は、上記のポリアミド
酸、上記の常圧において１００℃以上の沸点を有する付
加重合性化合物中の化学線により２量化または重合可能
な炭素炭素二重結合およびアミノ基またはその四級化塩
を有する化合物ならびに光開始剤を含むものである。こ
れらの使用割合は、感光性組成物の場合と同様とされ
る。ポリアミド酸は、化学線により２量化または重合可
能な炭素、炭素二重結合およびアミノ基またはその四級
化塩を有する化合物を、ポリアミド酸の有するカルボキ
シル基と等モルとなる量で用いることが好ましい。
酸、上記の常圧において１００℃以上の沸点を有する付
加重合性化合物中の化学線により２量化または重合可能
な炭素炭素二重結合およびアミノ基またはその四級化塩
を有する化合物ならびに光開始剤を含むものである。こ
れらの使用割合は、感光性組成物の場合と同様とされ
る。ポリアミド酸は、化学線により２量化または重合可
能な炭素、炭素二重結合およびアミノ基またはその四級
化塩を有する化合物を、ポリアミド酸の有するカルボキ
シル基と等モルとなる量で用いることが好ましい。
【００２８】本発明の感光材料を基材上に塗布、乾燥
し、露光、現像してパターンが製造される。本発明の感
光材料は、浸漬法、スプレー法、スクリーン印刷法、回
転塗布法等によってシリコンウエーハ、金属基板、ガラ
ス基板、セラミック基板等の基材上に塗布され、溶剤の
大部分を加熱乾燥することにより粘着性のない塗膜とす
ることが出来る。この塗膜上に、所望のパターンが描か
れたマスクを通して活性光線または化学線を照射する。
照射する活性光線または化学線としては、紫外線、遠紫
外線、可視光、電子線、Ｘ線などがある。照射後未照射
部を適当な現像液で溶解除去することにより所望のパタ
ーンを得る。現像液としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンなどの良溶媒やこれらと低級アルコー
ル、水、芳香族炭化水素などの貧溶媒との混合溶媒が用
いられる。現像後は必要に応じて貧溶媒などでリンスを
行い、１００℃前後で乾燥しパターンを安定なものとす
る。
し、露光、現像してパターンが製造される。本発明の感
光材料は、浸漬法、スプレー法、スクリーン印刷法、回
転塗布法等によってシリコンウエーハ、金属基板、ガラ
ス基板、セラミック基板等の基材上に塗布され、溶剤の
大部分を加熱乾燥することにより粘着性のない塗膜とす
ることが出来る。この塗膜上に、所望のパターンが描か
れたマスクを通して活性光線または化学線を照射する。
照射する活性光線または化学線としては、紫外線、遠紫
外線、可視光、電子線、Ｘ線などがある。照射後未照射
部を適当な現像液で溶解除去することにより所望のパタ
ーンを得る。現像液としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンなどの良溶媒やこれらと低級アルコー
ル、水、芳香族炭化水素などの貧溶媒との混合溶媒が用
いられる。現像後は必要に応じて貧溶媒などでリンスを
行い、１００℃前後で乾燥しパターンを安定なものとす
る。
【００２９】感光材料はビスアジド化合物を含んでもよ
く、ビスアジド化合物の例としては
く、ビスアジド化合物の例としては
【化９】
【化１０】 等が挙げられる。ビスアジド化合物は、ポリアミドに対
して０．０１〜１０重量％の範囲で用いるのが好まし
い。
して０．０１〜１０重量％の範囲で用いるのが好まし
い。
【００３０】感光材料に含まれる化学線により２量化ま
たは重合可能な炭素炭素二重結合およびアミノ基または
その四級化塩を有する化合物の例としては次の化合物が
あげられる。
たは重合可能な炭素炭素二重結合およびアミノ基または
その四級化塩を有する化合物の例としては次の化合物が
あげられる。
【化９】
【００３１】
【実施例】以下に本発明を実施例を用いて更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって制限される
ものではない。 実施例１ Ｎ−（４−メチルスルホニルフェニル）−Ｎ−メチルグ
リシン（化合物番号１）の合成 ４−フルオロフェニルメチルスルホン（１５．０１ｇ、
８６．２６mmol）、Ｎ−メチルグリシン（８．４５ｇ、
９４．８９mmol）および炭酸カリウム（１４．２８ｇ、
１０３．４８mmol）を５００mlのナス型フラスコに加
え、さらにジメチルスルホキシド１２００mlを溶媒とし
て加え、水流冷却管をつけマグネチックスターラで撹拌
しながら１００℃の油浴で９時間加熱した。放冷後、水
１リットル中に溶解させて１／１０ＮのＨＣｌで酸析
し、沈殿を濾別した。良く水洗いした後に、ヘキサン／
ベンゼン（容積比４／１）でさらに洗浄した。乾燥後の
生成物の収量は１２．１３ｇ（４９．９２mmol、５７．
９％）、融点は１６１．２℃であった。
明するが、本発明はこれらの実施例によって制限される
ものではない。 実施例１ Ｎ−（４−メチルスルホニルフェニル）−Ｎ−メチルグ
リシン（化合物番号１）の合成 ４−フルオロフェニルメチルスルホン（１５．０１ｇ、
８６．２６mmol）、Ｎ−メチルグリシン（８．４５ｇ、
９４．８９mmol）および炭酸カリウム（１４．２８ｇ、
１０３．４８mmol）を５００mlのナス型フラスコに加
え、さらにジメチルスルホキシド１２００mlを溶媒とし
て加え、水流冷却管をつけマグネチックスターラで撹拌
しながら１００℃の油浴で９時間加熱した。放冷後、水
１リットル中に溶解させて１／１０ＮのＨＣｌで酸析
し、沈殿を濾別した。良く水洗いした後に、ヘキサン／
ベンゼン（容積比４／１）でさらに洗浄した。乾燥後の
生成物の収量は１２．１３ｇ（４９．９２mmol、５７．
９％）、融点は１６１．２℃であった。
【００３２】実施例２ Ｎ−（４−シアノフェニル）−グリシン（化合物番号
２）の合成 ４−シアノアニリン（１００ｇ、８４７．４mmol）を５
００mlの三つ首フラスコに入れ、水３００mlをさらに加
え、水流冷却管、メカニカルスターラおよび滴下ロート
をセットし、油温１００℃で加熱し、良く撹拌しなが
ら、モノクロロ酢酸（１０４ｇ、１１１６mmol）の水溶
液（水１５０ml）を約３０分かけて滴下し、さらに２．
５時間加熱還流した。放冷後、酢酸エチルを約１００ml
加え、不溶分を溶解せしめ、この有機層を分液ロートで
分けた。残りの水層と、この有機層を１００mlの重量５
％ＮａＯＨ水で抽出した水層を合わせ、１／１０ＮのＨ
Ｃｌで酸析し、生じた沈殿を濾別し、さらに水洗を数度
行い洗浄した。６０℃のオーブンで３時間加熱乾燥した
後、真空デシケータで一晩乾燥させた。得られた、淡い
ベージュ色のパウダーは融点を示さず、２３３．１℃で
分解した。収量は３８．８ｇ（２６％）であった。
２）の合成 ４−シアノアニリン（１００ｇ、８４７．４mmol）を５
００mlの三つ首フラスコに入れ、水３００mlをさらに加
え、水流冷却管、メカニカルスターラおよび滴下ロート
をセットし、油温１００℃で加熱し、良く撹拌しなが
ら、モノクロロ酢酸（１０４ｇ、１１１６mmol）の水溶
液（水１５０ml）を約３０分かけて滴下し、さらに２．
５時間加熱還流した。放冷後、酢酸エチルを約１００ml
加え、不溶分を溶解せしめ、この有機層を分液ロートで
分けた。残りの水層と、この有機層を１００mlの重量５
％ＮａＯＨ水で抽出した水層を合わせ、１／１０ＮのＨ
Ｃｌで酸析し、生じた沈殿を濾別し、さらに水洗を数度
行い洗浄した。６０℃のオーブンで３時間加熱乾燥した
後、真空デシケータで一晩乾燥させた。得られた、淡い
ベージュ色のパウダーは融点を示さず、２３３．１℃で
分解した。収量は３８．８ｇ（２６％）であった。
【００３３】実施例３ Ｎ−（４−シアノフェニル）−Ｎ−メチルグリシン（化
合物番号３）の合成 ４−フルオロベンゾニトリル（１０．４４ｇ、８６．２
６mmol）、Ｎ−メチルグリシン（８．４５ｇ、９４．８
９mmol）および炭酸カリウム（１４．２８ｇ、１０３．
４８mmol）を５００mlのナス型フラスコに加え、さらに
２００mlのジメチルスルホキシドを溶媒として加え、水
流冷却管をつけてマグネチックスターラで撹拌しながら
１００℃の油浴で９時間加熱した。放冷後、水１リット
ル中に溶解させて１／１０ＮのＨＣｌで酸析し、沈殿を
濾別した。良く水洗した後に、ヘキサン／ベンゼン（容
積比４／１）でさらに洗浄した。乾燥後の生成物の収量
は１４．２１ｇ（７４．７９mmol、８６．７％）、融点
は６４．５℃であった。化合物番号１、２、３について
Ｈ1−ｎｍｒスペクトルにより、構造を確認した。Ｈ1−
ｎｍｒのデータを表１に示す。
合物番号３）の合成 ４−フルオロベンゾニトリル（１０．４４ｇ、８６．２
６mmol）、Ｎ−メチルグリシン（８．４５ｇ、９４．８
９mmol）および炭酸カリウム（１４．２８ｇ、１０３．
４８mmol）を５００mlのナス型フラスコに加え、さらに
２００mlのジメチルスルホキシドを溶媒として加え、水
流冷却管をつけてマグネチックスターラで撹拌しながら
１００℃の油浴で９時間加熱した。放冷後、水１リット
ル中に溶解させて１／１０ＮのＨＣｌで酸析し、沈殿を
濾別した。良く水洗した後に、ヘキサン／ベンゼン（容
積比４／１）でさらに洗浄した。乾燥後の生成物の収量
は１４．２１ｇ（７４．７９mmol、８６．７％）、融点
は６４．５℃であった。化合物番号１、２、３について
Ｈ1−ｎｍｒスペクトルにより、構造を確認した。Ｈ1−
ｎｍｒのデータを表１に示す。
【００３４】比較例１、２および実施例４〜８ ４，４′−ジアミノジフェニルエーテルとピロメリット
酸二無水物とを等モルで常法により反応させて得られた
ポリアミド酸のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液１０ｇ
（固形分２０重量％）、２−ジメチルアミノエチルメタ
クリレート１．８ｇおよび表２に示す光開始剤を配合し
た後撹拌混合し感光材料とした。フィルタで濾過した後
シリコンウエーハ上に回転塗布した。次いで、ホットプ
レート上１００℃で２００秒加熱し、溶剤を乾燥させて
感光性塗膜とした。乾燥後の膜厚は１０ミクロンであっ
た。塗膜上にフォトマスクを介し超高圧水銀灯でパター
ン露光を行った。このときの露光量は５００mJ/cm2であ
った。このあとＮ−メチル−２−ピロリドンとメチルア
ルコールの混合溶液（容積比：４／１）で浸漬現像を行
った。さらにイソプロパノールでリンスした。現像後の
パターン形状を測定、観察し、得られた残膜率（膜厚を
初期の膜厚で割った値）と最小開口スルホール径（開口
径）を表２に示した。Ｎ−（４−メチルスルホニルフェ
ニル）−Ｎ−メチルグリシンを用いたウエーハ（実施例
４）のみについては窒素雰囲気下で１００℃で１５分、
２００℃で２０分、３５０℃で６０分加熱し最終硬化膜
とした。最終硬化膜厚は５ミクロンで良好なポリイミド
パターンが得られた。
酸二無水物とを等モルで常法により反応させて得られた
ポリアミド酸のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液１０ｇ
（固形分２０重量％）、２−ジメチルアミノエチルメタ
クリレート１．８ｇおよび表２に示す光開始剤を配合し
た後撹拌混合し感光材料とした。フィルタで濾過した後
シリコンウエーハ上に回転塗布した。次いで、ホットプ
レート上１００℃で２００秒加熱し、溶剤を乾燥させて
感光性塗膜とした。乾燥後の膜厚は１０ミクロンであっ
た。塗膜上にフォトマスクを介し超高圧水銀灯でパター
ン露光を行った。このときの露光量は５００mJ/cm2であ
った。このあとＮ−メチル−２−ピロリドンとメチルア
ルコールの混合溶液（容積比：４／１）で浸漬現像を行
った。さらにイソプロパノールでリンスした。現像後の
パターン形状を測定、観察し、得られた残膜率（膜厚を
初期の膜厚で割った値）と最小開口スルホール径（開口
径）を表２に示した。Ｎ−（４−メチルスルホニルフェ
ニル）−Ｎ−メチルグリシンを用いたウエーハ（実施例
４）のみについては窒素雰囲気下で１００℃で１５分、
２００℃で２０分、３５０℃で６０分加熱し最終硬化膜
とした。最終硬化膜厚は５ミクロンで良好なポリイミド
パターンが得られた。
【００３５】
【表１】
【００３６】
【表２】 1)７−ジエチルアミノ−３−チエニルカルボニルクマリ
ン 2)２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンザ
ル）−４−メチル−４−アザシクロヘキサノン 実施例に示したように本発明の感光性組成物は感光特性
に優れたものである。
ン 2)２，６−ビス（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンザ
ル）−４−メチル−４−アザシクロヘキサノン 実施例に示したように本発明の感光性組成物は感光特性
に優れたものである。
【００３７】
【発明の効果】本発明になる新規な化合物により、優れ
た感光特性を示す感光性組成物および感光材料を得るこ
とができ、この感光材料により良好なパターンを製造す
ることができる。
た感光特性を示す感光性組成物および感光材料を得るこ
とができ、この感光材料により良好なパターンを製造す
ることができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/031 (72)発明者 加藤木 茂樹 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内
Claims (6)
- 【請求項１】 下記の式（Ｉ）で示されるＮ−アリール
−α−アミノ酸。 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は水素、ハロゲ
ン原子、炭素数１から４のアルキル基、シアノ基、炭素
数１から４のアルキルスルホン基であって、Ｒ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5のうち少なくとも１つがシアノ基ま
たは炭素数１から４のアルキルスルホン基であり、Ｒ6
は水素、炭素数１から１２のアルキル基、シクロアルキ
ル基、炭素数１から１２のヒドロキシアルキル基、炭素
数２から１２のアルコキシアルキル基、炭素数１から１
２のアミノアルキル基またはアリール基であり、Ｒ7お
よびＲ8は水素原子または炭素数１から８のアルキル基
であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8
は同一でもよい） - 【請求項２】 請求項１記載のＮ−アリール−α−アミ
ノ酸と下記の式（II）で示される３−置換クマリン化合
物および／または下記の式（III）で示されるアザベン
ザルシクロヘキサノン化合物とを含有してなる光開始
剤。 【化２】 （式中、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12およびＲ13は、水素原
子、１個の炭素数１から５のアルキル基で置換されたア
ミノ基、２個の炭素数１から５のアルキル基で置換され
たアミノ基、炭素数１から５のアルコキシ基、アシルオ
キシ基、アリール基、ハロゲン原子または炭素数１から
５のチオアルキル基であり、Ｒ14は非置換のフェニル
基、ビフェニル基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフ
リル基、フリル基、ピリジン基、クマリニル基、アミノ
基、炭素数１から５のアルキル基で置換されたアミノ
基、シアノ基、炭素数１から５のアルコキシ基、炭素数
１から５のアルキル基、ハロゲン原子、ハロアルキル
基、ホルミル基、炭素数１から５のアルコキシカルボニ
ル基、炭素数１から５のアシルオキシ基または炭素数１
から５のアシル基で置換されたフェニル基、ビフェニル
基、ナフチル基、チエニル基、ベンゾフリル基、フリル
基、ピリジン基もしくはクマリニル基である） 【化３】 （式中、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ21お
よびＲ22は水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１か
ら１２のアルキル基、アリール基または炭素数１から１
２のアルコキシ基であり、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25およびＲ26
は、炭素数１から６のアルキル基であり、Ｘは炭素数１
から１２のアルキル基、炭素数７から２０のアラルキル
基、アリール基、炭素数２から１２のアシル基、炭素数
７から２０のアリールカルボニル基、炭素数２から１２
のアルコキシカルボニル基または炭素数７から２０のア
リールオキシカルボニル基で置換されたもしくは置換さ
れてない窒素原子である） - 【請求項３】 常圧において１００℃以上の沸点を有す
る付加重合性化合物および請求項２記載の光開始剤を含
有してなる感光性組成物。 - 【請求項４】 ポリアミド酸、化学線により２量化また
は重合可能な炭素炭素二重結合およびアミノ基またはそ
の四級化塩を有する化合物ならびに請求項２記載の光開
始剤を含有してなる感光材料。 - 【請求項５】 さらにビスアジド化合物を含有する請求
項４記載の感光材料。 - 【請求項６】 請求項４または５記載の感光材料を基材
上に塗布、乾燥し、露光、現像することを特徴とするパ
ターンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17087694A JP3651615B2 (ja) | 1993-07-28 | 1994-07-22 | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 |
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18598393 | 1993-07-28 | ||
| JP5-185983 | 1993-07-28 | ||
| JP20927593 | 1993-08-24 | ||
| JP5-209275 | 1993-08-24 | ||
| JP6-14132 | 1994-02-08 | ||
| JP1413294 | 1994-02-08 | ||
| JP17087694A JP3651615B2 (ja) | 1993-07-28 | 1994-07-22 | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07267907A true JPH07267907A (ja) | 1995-10-17 |
| JP3651615B2 JP3651615B2 (ja) | 2005-05-25 |
Family
ID=27456143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17087694A Expired - Lifetime JP3651615B2 (ja) | 1993-07-28 | 1994-07-22 | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3651615B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1036212A (ja) * | 1996-07-22 | 1998-02-10 | Kuraray Co Ltd | 歯科用光重合性組成物 |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP17087694A patent/JP3651615B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1036212A (ja) * | 1996-07-22 | 1998-02-10 | Kuraray Co Ltd | 歯科用光重合性組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3651615B2 (ja) | 2005-05-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4579809A (en) | Positive image formation | |
| JP3446909B2 (ja) | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 | |
| US5811218A (en) | Photoinitiator compositions including amino acids, coumarin and titanocene and photosensitive materials using the same | |
| JPH07278214A (ja) | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 | |
| EP0636939B1 (en) | Photoinitiator compositions and photosensitive materials using the same | |
| US6524770B1 (en) | Hexaaryl biimidazole compounds as photoinitiators, photosensitive composition and method of manufacturing patterns using the compounds | |
| JP3651615B2 (ja) | 光開始剤、感光性組成物、感光材料およびパターンの製造法 | |
| JP3168909B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、ポリイミドパターンの製造法及び半導体素子の製造法 | |
| JPH07330814A (ja) | 光開始剤、感光性組成物、感光材料及びレリーフパターンの製造法 | |
| JP3748086B2 (ja) | 感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法 | |
| JPH1138619A (ja) | 感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造法 | |
| JPH09325479A (ja) | 感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法 | |
| JP7078749B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化膜、積層体、及び、デバイス | |
| JP3064899B2 (ja) | 組成物、これを用いた感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法 | |
| JPH08292573A (ja) | 光開始剤、感光性組成物、感光材料及びレリーフパターンの製造法 | |
| JP2000019727A (ja) | 感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法 | |
| JPH11209613A (ja) | 感光性ポリイミド前駆体組成物、およびそれを用いたパターン製造方法 | |
| JPH09208697A (ja) | 高分子化合物の製造方法 | |
| JPH11316459A (ja) | 感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法 | |
| JPH09208696A (ja) | 高分子化合物の製造方法 | |
| JP2002328471A (ja) | 感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法 | |
| JPH11133598A (ja) | 感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法 | |
| JPH1165113A (ja) | 感光性組成物及びレリーフパターンの製造法 | |
| JP2001092133A (ja) | 感光性組成物、感光材料、レリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法 | |
| KR0166560B1 (ko) | 광개시제 조성물 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040930 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041126 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050203 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050216 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080304 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090304 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100304 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110304 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110304 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130304 Year of fee payment: 8 |