JPH07263179A - プラズマ計測装置 - Google Patents

プラズマ計測装置

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JPH07263179A
JPH07263179A JP6051593A JP5159394A JPH07263179A JP H07263179 A JPH07263179 A JP H07263179A JP 6051593 A JP6051593 A JP 6051593A JP 5159394 A JP5159394 A JP 5159394A JP H07263179 A JPH07263179 A JP H07263179A
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JP
Japan
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light
plasma
diffraction grating
spectrum
lens
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6051593A
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English (en)
Inventor
Takao Abe
阿部  隆夫
Tatsuo Shiyouji
多津男 庄司
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP6051593A priority Critical patent/JPH07263179A/ja
Publication of JPH07263179A publication Critical patent/JPH07263179A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、異なるスペクトルについても、それ
ぞれに対応した計測結果が得られるプラズマ測定装置を
提供する。 【構成】真空容器21内部のプラズマ22の電子、イオ
ンまたは中性粒子からの放射光が入射される回析格子2
7の、放射光のスペクトルによって反射角度が変わる性
質を利用して、目的とする放射光スペクトル線の反射角
度に合わせた位置にレンズ28、空間フィルタ29、レ
ンズ30を介してCCDカメラ31を配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマを利用した装
置における、プラズマ生成、計測および制御などに適用
されるプラズマ計測装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、実用化されているプラズマ計測装
置には、プローグ法(探針法)、マイクロ波法、光計測
法などを適用したものが知られている。このうちプロー
グ法は、最も簡単で安価なプラズマ計測方法であり、広
く使用されているが、局所的なプラズマ電子密度を計測
するものであるから、例えば、密度分布を計測する場合
には、プローグの位置を掃引するような面倒な操作を必
要となる。また、プローグを構成する導体、絶縁体をプ
ラズマ空間に挿入することになるので、プラズマ場を乱
すことがあり、さらに、反応性プラズマに対しては、プ
ローグのコーティングや汚れが原因で計測不能になるこ
ともある。
【0003】また、マイクロ波法は、プラズマに対して
非接触であるが、マイクロ波を透過させる方向に平均化
された電子密度がわかるだけのものである。さらに、光
計測法は、プラズマに対して非接触であるが、結果的に
プラズマ局所から放射されるスペクトルを観察するため
密度分布を計測する場合は、計測機器の移動が必要とな
る。
【0004】図2は、従来の光計測法を適用したプラズ
マ計測装置の一例を示すものである。この場合の光計測
法は、プラズマ中にレーザ光を入射し、その散乱光を観
察する場合も、自然放出光を観察する場合も、それぞれ
プラズマから放射される光を計測するようになる。
【0005】まず、真空容器1中のプラズマ2に対し、
計測したい部分に、レンズ4の焦点を合わせる。この状
態で、プラズマ2からの放射光を真空容器1に設置され
ている窓3を通して取り出す。
【0006】この取り出された放射光を、レンズ4を介
して分光器5に導入する。分光器5では、放射光より波
長掃引された反射光スペクトル信号を生成する。そし
て、この分光器5からの反射光スペクトル信号を、アン
プ6、ADコンバータ(アナログ・デジタル変換器)7
を介して演算装置8に与え、ここで演算処理し、演算装
置8の出力として、プラズマ電子温度あるいは電子密度
を求めるようになる。
【0007】しかして、このようなプラズマ計測法によ
ると、プローグ法の場合、局所的な計測となるととも
に、密度分布測定にプローグ位置を掃引するような面倒
な操作を必要とし、計測に時間がかかり、さらに、反応
性プラズマに対して、プローグのコーティングや汚れが
原因で計測不能になることがある。また、マイクロ波法
の場合には、プラズマの体積に対して平均化された密度
しか計測できない。そして、光計測法の場合、局所的な
計測となり、密度分布計測には、計測機器を移動するよ
うな面倒な操作が必要になる。
【0008】そこで、最近、このような緒問題を解決す
べく、図3に示すようなプラズマ計測装置が考えられて
いる。この場合、真空容器11のプラズマ12中のイオ
ンまたは中性粒子から放射される光を窓13を通して取
り出し、この取り出した光を光学フィルタ14に透過し
て目的とするスペクトル線だけを選び出し、さらに、こ
の透過した光をCCDカメラ15で検知し、ここでプラ
ズマ反射光のうち選択されたスペクトル線の映像信号を
生成して演算装置16に取り込み、この演算装置16で
画像プログラムによってスペクトル線強度分布を生成す
るとともに、このスペクトル線強度から電子密度、電子
温度などを演算し、最終的に、これらの空間分布を測定
できるようにしている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
プラズマ12からの放射光の任意のスペクトル線を光学
フィルタ14で選択し、CCDカメラ15によりスペク
トル線の映像信号を生成するものでは、選択できるスペ
クトル線が光学フィルタ14を透過できるスペクトル範
囲が限られてしまい、スペクトル範囲外のスペクトル線
を検出するには、光学フィルタ14を対応するものに交
換するなどの作業が必要となり、それだけプラズマ計測
に時間がかかってしまうという問題点があった。
【0010】また、計測対象となるプラズマ媒質が変わ
ったような場合、あるいは同一プラズマ媒質で電子温度
を推定する時のように2種類のスペクトル線強度の比較
を必要とするような場合には、それぞれ複数のスペクト
ル線を同時に扱うことになるが、このような場合も、光
学フィルタ14を透過できるスペクトル範囲が限られる
ことから、それぞれの場合に対処できないという問題点
があった。
【0011】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、異なるスペクトルについても、それぞれに対応した
計測結果が得られるプラズマ測定装置を提供することを
目的とする。また、
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラズマから
の放射光から平行光を検出する手段と、前記平行光を反
射もしくは透過させることでスペクトル分布毎に分散さ
せる波長選択素子と、前記波長選択素子で分散した光の
うち所望のスペクトルの光を取り込む撮像手段と、前記
波長選択素子で分散した所望のスペクトルの光の経過に
前記撮像手段が位置するように前記波長選択素子もしく
は前記撮像手段の位置もしくは向きを調整する手段によ
り構成されている。
【0013】また、本発明によれば、前記波長選択素子
は、回析格子からなり、該回析格子での目的のスペクト
ルの光の反射角度に合わせた位置に前記撮像手段を配置
するように構成されている。
【0014】さらに本発明によれば、前記波長選択素子
は、回析格子からなり、該回析格子を回動可能にし、所
望のスペクトルに対し前記回析格子を回動することで一
定の光の経過を得られるように構成されている。
【0015】
【作用】この結果、本発明のプラズマ測定装置によれ
ば、プラズマからの放射光から検出される平行光を、波
長選択素子で反射もしくは透過させることでスペクトル
分布毎に分散させ、この分散された光のうち所望のスペ
クトルの光を撮像手段に取り込むのに際し、波長選択素
子で分散した所望のスペクトルの光の経過に撮像手段が
位置するように前記波長選択素子もしくは撮像手段の位
置もしくは向きを調整するようにしているので、任意の
複数の異なるスペクトルについても、これらスペクトル
の光を撮像手段に取り込むようにできる。
【0016】また、本発明によれば、波長選択素子とし
て回析格子を用い、この回析格子での目的のスペクトル
の光の反射角度に合わせた位置に撮像手段を配置するよ
うにしたので、撮像手段の位置を調整することで、任意
の複数の異なるスペクトルについて、これらスペクトル
の光を撮像手段に取り込むようにできる。
【0017】さらに本発明によれば、波長選択素子とし
て回析格子を用い、この回析格子を所望のスペクトルに
対し回動することで一定のスペクトルの光の経過を得ら
れるようにしたので、回析格子の回動を調整すること
で、任意の複数の異なるスペクトルについて、これらス
ペクトルの光を撮像手段に取り込むようにできる。
【0018】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に従い説明す
る。 (第1実施例)図1は、第1実施例の概略構成を示して
いる。図において、21は真空容器で、この真空容器2
1は紙面と直角方向にある長さを持った円筒状をなして
いる。
【0019】そして、この真空容器21の内部には、電
子、イオンおよび中性粒子からなるプラズマ22が発生
しているものとする。この場合、真空容器21内部に発
生しているプラズマ22も円筒状である。
【0020】また、真空容器21には、プラズマ22中
の電子、イオンまたは中性粒子から放射される光を取り
出すための窓23を設置している。そして、この窓23
より取り出した放射光に対してレンズ24、空間フィル
タ25、レンズ26を配置している。この場合、空間フ
ィルタ25を、レンズ24、26のそれぞれの焦点位置
に設け、レンズ24より収束した放射光を空間フィルタ
25に透過し、さらにレンズ26に入射するようにし
て、窓23からの放射光のうち、平行光成分のみを取り
出すようにしている。
【0021】レンズ26に対向させて回析格子27を配
置している。この回析格子27は、レンズ26を通して
入射する放射光のスペクトルによって反射角度が変わる
ような性質を有するものである。
【0022】そして、この回析格子27からの目的の放
射光スペクトル線の反射角度に合わせた位置にレンズ2
8、空間フィルタ29、レンズ30を配置している。こ
の場合、空間フィルタ29を、レンズ28、30のそれ
ぞれの焦点位置に設け、レンズ28より収束した反射光
を空間フィルタ29に透過し、さらにレンズ30に入射
するようにして、回析格子27からの放射光のうち、平
行光成分のみを取り出すようにしている。
【0023】ここで、レンズ28、空間フィルタ29、
レンズ30を設ける理由は、回析格子27からの放射光
以外の光、例えば、真空容器21中のプラズマ22から
漏れる光などが後述するCCDカメラ31に直接入射す
るのを防止するためである。従って、回析格子27から
CCDカメラ31までの光の経路をパイプなどで覆え
ば、レンズ28、空間フィルタ29、レンズ30などを
設ける必要はない。
【0024】レンズ30に対向させてCCDカメラ31
を配置している。このCCDカメラ31は、CCD(C
harg Coupld Device)素子を2次元
配置したもので、放射光強度を2次元分布の信号で得る
ようにしている。
【0025】そして、CCDカメラ31からの出力信号
を、演算装置32に与えるようにしている。演算装置3
2では、予め用意された画像処理プログラムに従ってス
ペクトル強度を求めるとともに、そのスペクトル強度
と、そのスペクトルに対する励起速度係数および電子密
度の関係式から電子密度、中性子密度および電子温度を
求めるとともに、それぞれの空間分布を出力するように
している。
【0026】次に、以上のように構成した実施例の動作
を説明する。いま、真空容器21内部で、電子、イオン
および中性粒子からなるプラズマ22を発生すると、こ
のプラズマ22中の電子、イオンまたは中性粒子からの
光が窓23より放射光として出力される。
【0027】この窓23からの放射光は、レンズ24に
入射し収束され、レンズ24の焦点位置に設けた空間フ
ィルタ25を透過され、さらにレンズ26を通して窓2
3からの放射光のうち平行光成分のみが出力される。
【0028】そして、レンズ26を通した放射光は、回
析格子27に入射される。この場合、回析格子27は、
放射光のスペクトルによって反射角度が変わることか
ら、回析格子27より反射された放射光は、目的の放射
光スペクトル線の反射角度に合わせた位置に設けられた
レンズ28に入射し収束され、レンズ28の焦点位置に
設けた空間フィルタ29を透過され、さらにレンズ30
を通して放射光のうち平行光成分のみが出力される。
【0029】レンズ30を通した放射光は、CCDカメ
ラ31に入射される。ここで、レンズ28、空間フィル
タ29、レンズ30により放射光のうち平行光成分のみ
を出力するのは、CCDカメラ31での放射光の検出を
確実にするためである。
【0030】そして、CCDカメラ31で放射光強度の
2次元分布信号が生成され、この信号が演算装置32に
与えられる。これにより、演算装置32では、予め用意
された画像処理プログラムに従って電子密度、中性子密
度および電子温度を求め、それぞれの空間分布の計測結
果が得られることになる。
【0031】従って、このような第1実施例によれば、
真空容器21内部のプラズマ22の電子、イオンまたは
中性粒子からの放射光が入射される回析格子27の放射
光のスペクトルによって反射角度が変わる性質を利用し
て、目的とする放射光スペクトル線の反射角度に合わせ
た位置にレンズ28、空間フィルタ29、レンズ30を
介してCCDカメラ31を配置するようにしているの
で、予めスペクトルと回析格子27での反射角度の関係
を把握しておき、スペクトルに応じてCCDカメラ31
の位置を変えるようにすれば、異なるスペクトルについ
ても、確実にCCDカメラ31に取り込むことができ、
それぞれに対応した電子密度、中性子密度および電子温
度の空間分布の計測結果を得られることになる。
【0032】(第2実施例)第1実施例では、回析格子
27を固定にし、回析格子27が入射スペクトルによっ
て反射角度が変わる性質を利用して、目的とする放射光
スペクトル線の反射角度に合わせた方向にCCDカメラ
を配置するようにしたが、図1に示すように回析格子2
7の中間位置を、紙面と垂直方向の軸271で支持し、
この軸271を回転し回析格子27を回動することによ
り、異なるスペクトルに対しても、常に一定の反射方向
を得られるようにすることもできる。
【0033】このようにすれば、レンズ28、空間フィ
ルタ29、レンズ30を介してCCDカメラ31の位置
を固定したままでも、入射されるスペクトルによって回
析格子27を回動を調整すれば、これらスペクトルの光
を連続してCCDカメラ31に取り込むようにできる。
【0034】これにより、複数の異なるスペクトルに対
して回析格子27を回動するのみで、それぞれのスペク
トルを時間的に連続して選択することができ、それぞれ
に対応した電子密度、中性子密度および電子温度の空間
分布の計測結果を得られることになる。
【0035】なお、本発明は上記実施例にのみ限定され
ず、要旨を変更しない範囲で適宜変形して実施できる。
例えば、上述では、回析格子27を用いたが、入射光の
スペクトルに応じて反射もしくは透過する光の照射角度
が変わるものならば、回析格子27に限らず、プリズ
ム、エタロンなどの波長選択素子を用いることもでき
る。また、上述では、CCD素子を使用したCCDカメ
ラの場合を述べたが、MOS(Metal Oxide
Semiconductor)型素子、CPD(Ch
arg Priming Device)型素子を適用
しても同様な機能を得られる。
【0036】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のプラズマ計
測装置によれば、プラズマからの放射光から検出される
平行光を、波長選択素子で反射もしくは透過させること
でスペクトル分布毎に分散させ、この分散された光のう
ち所望のスペクトルの光を撮像手段に取り込むのに際
し、波長選択素子で分散した所望のスペクトルの光の経
過に撮像手段が位置するように前記波長選択素子もしく
は撮像手段の位置もしくは向きを調整するようにしてい
るので、任意の複数の異なるスペクトルについても、こ
れらスペクトルの光を撮像手段に取り込むようにでき、
それぞれ対応した電子密度、中性子密度および電子温度
の空間分布を時間的に連続的に計測できる。このこと
は、第1にプラズマ媒質を変えたような場合、また、複
数のプラズマ媒質が混在するような場合に、それぞれの
電子密度、中性子密度および電子温度の空間分布を観測
するための測定装置として有効であり、第2に電子温度
を推定する場合で、2本以上のスペクトル線強度が必要
の場合も、計測対象の状態が変化してしまう前に、つま
りほぼ同一条件のもとで、時間をおかないでプラズマを
観測できるので、精度の高い結果が得られる。
【0037】また、本発明によれば、波長選択素子とし
て回析格子を用い、この回析格子での目的のスペクトル
の光の反射角度に合わせた位置に撮像手段を配置するよ
うにしたので、プラズマ媒質を変えたような場合でも、
撮像手段の位置を調整することで、それぞれのスペクト
ルについて、これらスペクトルの光を撮像手段に取り込
むようにでき、それぞれの電子密度、中性子密度および
電子温度の空間分布を計測することができる。
【0038】さらに本発明によれば、波長選択素子とし
て回析格子を用い、この回析格子を所望のスペクトルに
対し回動することで一定のスペクトルの光の経過を得ら
れるようにしたので、例えば、複数のプラズマ媒質が混
在するような場合、2本以上のスペクトル線強度を、計
測対象の状態が変化してしまう前に、つまりほぼ同一条
件のもとで入手したいような場合も、回析格子を回動を
調整するだけで、それぞれのスペクトルについて、これ
らスペクトルの光を連続して撮像手段に取り込むように
でき、的確な測定結果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の概略構成を示す図。
【図2】従来のプラズマ測定装置の一例を示す図。
【図3】従来考えられているプラズマ測定装置の一例を
示す図。
【符号の説明】
21…真空容器、 22…プラズマ、 23…窓、 24…レンズ、 25…空間フィルタ、 26…レンズ、 27…回析格子、 28…レンズ、 29…空間フィルタ、 30…レンズ、 31…CCDカメラ、 32…演算装置。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラズマからの放射光から平行光を検出
    する手段と、 前記平行光を反射もしくは透過させることでスペクトル
    分布毎に分散させる波長選択素子と、 前記波長選択素子で分散した光のうち所望のスペクトル
    の光を取り込む撮像手段と、 前記波長選択素子で分散した所望のスペクトルの光の経
    過に前記撮像手段が位置するように前記波長選択素子も
    しくは前記撮像手段の位置もしくは向きを調整する手段
    とを具備したことを特徴とするプラズマ計測装置。
  2. 【請求項2】 前記波長選択素子は、回析格子からな
    り、該回析格子での目的のスペクトルの光の反射角度に
    合わせた位置に前記撮像手段を配置することを特徴とす
    る請求項1記載のプラズマ計測装置。
  3. 【請求項3】 前記波長選択素子は、回析格子からな
    り、該回析格子を回動可能にし、所望のスペクトルに対
    し前記回析格子を回動することで一定の光の経過を得ら
    れるようにしたことを特徴とする請求項1記載のプラズ
    マ計測装置。
JP6051593A 1994-03-23 1994-03-23 プラズマ計測装置 Withdrawn JPH07263179A (ja)

Priority Applications (1)

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JP6051593A JPH07263179A (ja) 1994-03-23 1994-03-23 プラズマ計測装置

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JP6051593A JPH07263179A (ja) 1994-03-23 1994-03-23 プラズマ計測装置

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JPH07263179A true JPH07263179A (ja) 1995-10-13

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012524281A (ja) * 2009-04-21 2012-10-11 カーハーエス・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング 電子放射の強度を監視する方法および装置
CN115151010A (zh) * 2022-07-11 2022-10-04 核工业西南物理研究院 一种应用于磁约束装置中测量离子温度及其扰动的系统

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Effective date: 20010605