JPH07262783A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH07262783A
JPH07262783A JP6074022A JP7402294A JPH07262783A JP H07262783 A JPH07262783 A JP H07262783A JP 6074022 A JP6074022 A JP 6074022A JP 7402294 A JP7402294 A JP 7402294A JP H07262783 A JPH07262783 A JP H07262783A
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JP
Japan
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data
write
data line
memory cell
line load
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Masayuki Obayashi
正幸 大林
Nobuo Tanba
展雄 丹場
Sosuke Tsuji
壮介 辻
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce noise of power source. CONSTITUTION:Control circuits for the load of a data line 26a, 26b, 27a, 27b for selectively controlling the impedance of the load element of the corresponding data line are provided based on a column selecting signal for selecting a column system and a write-enable signal for instructing to write data in a memory cell. The change of current is reduced by decreasing the number of P channel MOS transistors which are simultaneously driven and the noise of power source caused by driving the load element of a data line is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、さら
にはそれのデータ書込み時における電源ノイズの低減化
技術に関し、例えばSRAM(スタティック・ランダム
・アクセス・メモリ)に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a technique for reducing power source noise at the time of writing data to the semiconductor memory device, for example, a technique effectively applied to SRAM (Static Random Access Memory). .

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体記憶装置の一例とされるSRAM
(スタティック・ランダム・アクセス・メモリ)は、複
数個のスタティック型メモリセルをマトリクス配置して
成るメモリセルアレイを含む。メモリセルアレイは、通
常、複数のメモリマット又は複数のメモリブロックなど
称される単位で形成される。メモリセルの選択端子はロ
ウ方向(行方向)毎にワード線に結合され、メモリセル
のデータ入出力端子はカラム方向(列方向)毎に相補デ
ータ線(相補ビット線とも称される)に結合される。そ
れぞれの相補データ線は、相補データ線に1対1で結合
されたカラムスイッチを介して相補コモンデータ線に共
通接続されている。
2. Description of the Related Art SRAM as an example of a semiconductor memory device
(Static random access memory) includes a memory cell array in which a plurality of static memory cells are arranged in a matrix. A memory cell array is usually formed by a unit called a plurality of memory mats or a plurality of memory blocks. Select terminals of memory cells are connected to word lines in each row direction (row direction), and data input / output terminals of memory cells are connected to complementary data lines (also called complementary bit lines) in each column direction (column direction). To be done. Each complementary data line is commonly connected to the complementary common data line via a column switch which is coupled to the complementary data line in a one-to-one relationship.

【0003】外部より入力されるアドレス信号は、それ
に対応して配置されたアドレスバッファを介してロウア
ドレスデコーダやカラムアドレスデコーダに伝達され
る。ロウアドレスデコーダのデコード出力に基づいて、
入力アドレス信号に対応するワード線が選択レベルに駆
動されると、このワード線に結合された全てのメモリセ
ルが選択される。また、カラムアドレスデコーダのデコ
ード出力に基づいてカラムスイッチがオンされて、上記
選択されたメモリセルが、相補コモンデータ線に導通さ
れる。外部から書込みデータが与えられると、その書込
みデータに従って相補コモンデータ線が駆動され、カラ
ムアドレスによって選択された相補データ線を介して所
定のメモリセルにそのデータに応ずる電荷情報が蓄積さ
れる。
An address signal input from the outside is transmitted to a row address decoder or a column address decoder via an address buffer arranged corresponding to the address signal. Based on the decode output of the row address decoder,
When the word line corresponding to the input address signal is driven to the selection level, all the memory cells connected to this word line are selected. Further, the column switch is turned on based on the decode output of the column address decoder, and the selected memory cell is electrically connected to the complementary common data line. When write data is externally applied, the complementary common data line is driven according to the write data, and charge information corresponding to the data is stored in a predetermined memory cell via the complementary data line selected by the column address.

【0004】尚、SRAMについて記載された文献の例
としては、昭和59年11月30日にオーム社より発行
された「LSIハンドブック(第500頁〜)」があ
る。
An example of a document describing SRAM is "LSI Handbook (starting from page 500)" issued by Ohmsha on November 30, 1984.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】データ線には、それを
プリチャージするためのデータ線負荷素子が結合され、
このデータ線負荷素子を介して、データ線が所定の電位
レベルにプリチャージされるようになっている。データ
書込みのためにデータ線をローレベルに引下げる場合を
考えると、データ線負荷素子のインピーダンスを高くし
た方が、書込みの高速化の点で有利である。しかしなが
ら、メモリマット又はメモリブロック単位で、データ線
負荷素子のインピーダンスを一斉に変えると、SRAM
の構成によっては、データ線負荷素子の数が膨大となる
ために、データ線負荷素子を駆動するときの過渡電流に
より、電源電圧レベルが瞬間的に大きく変動してしま
う。この変動は電源ノイズとなり、各部の動作に悪影響
を与える。メモリの高速化のためには電源電圧が低い方
が有利であるが、特に、データ線負荷素子としてMOS
トランジスタを用いた場合には、低電源電圧のもとでは
データ線負荷MOSトランジスタのゲートに印加する電
圧の振幅が小さくなるため、必要なデータ線振幅を得る
ためにデータ線負荷MOSトランジスタのゲート幅を大
きくする必要がある。そのようにMOSトランジスタの
ゲート幅が大きくなると、ゲート容量が大きくなるため
に、上記のようなインピーダンス制御により、より大き
な過渡電流が流れるようになる。さらに高速書込み動作
時には、短時間のうちに上記過渡電流が流れるため、電
源ノイズが更に大きくなってしまう。
A data line load element for precharging the data line is coupled to the data line,
The data line is precharged to a predetermined potential level via the data line load element. Considering the case where the data line is pulled down to a low level for data writing, it is advantageous to increase the impedance of the data line load element in terms of speeding up writing. However, if the impedance of the data line load elements is changed all at once for each memory mat or memory block, the SRAM
Depending on the configuration, the number of data line load elements becomes enormous, so that the transient voltage when driving the data line load elements causes the power supply voltage level to fluctuate momentarily. This fluctuation causes power supply noise and adversely affects the operation of each unit. A low power supply voltage is advantageous for speeding up the memory, but especially as a data line load element, a MOS is used.
When a transistor is used, the amplitude of the voltage applied to the gate of the data line load MOS transistor becomes small under a low power supply voltage. Therefore, in order to obtain the necessary data line amplitude, the gate width of the data line load MOS transistor is reduced. Needs to be increased. When the gate width of the MOS transistor becomes large as described above, the gate capacitance becomes large, so that a larger transient current will flow due to the impedance control as described above. Further, during the high speed write operation, the transient current flows in a short time, so that the power supply noise is further increased.

【0006】本発明の目的は、電源ノイズを低減するた
めの技術を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a technique for reducing power source noise.

【0007】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0009】すなわち、カラム系選択のためのカラム選
択信号と、メモリセルへのデータ書込みを指示するため
のライトイネーブル信号とに基づいて、対応するデータ
線負荷素子のインピーダンスを選択的に制御するための
データ線負荷制御回路を設けて半導体記憶装置を構成す
るものである。
That is, in order to selectively control the impedance of the corresponding data line load element based on the column select signal for selecting the column system and the write enable signal for instructing the data write to the memory cell. The semiconductor memory device is configured by providing the data line load control circuit of.

【0010】また、上記カラム選択のためのカラム選択
信号と、メモリセルへのデータ書込みを指示するための
ライトイネーブル信号とに加えて、メモリセルへの書込
みデータをも考慮して、対応するデータ線負荷素子のイ
ンピーダンスを選択的に制御するためのデータ線負荷制
御回路を設けるものである。
In addition to the column select signal for selecting the column and the write enable signal for instructing the data write to the memory cell, the write data to the memory cell is also taken into consideration and the corresponding data is taken into consideration. A data line load control circuit for selectively controlling the impedance of the line load element is provided.

【0011】このとき、ライトリカバリを行うための複
数のライトリカバリ用素子や、このライトリカバリ動作
を指示するためのライトリカバリ信号、及びメモリセル
へのデータ書込みを指示するためのライトイネーブル信
号に基づいて、対応するライトリカバリ用素子を選択的
に動作制御するためのライトリカバリ制御回路を設ける
ことができる。
At this time, based on a plurality of write recovery elements for performing write recovery, a write recovery signal for instructing this write recovery operation, and a write enable signal for instructing data writing to the memory cell. Thus, a write recovery control circuit for selectively controlling the operation of the corresponding write recovery element can be provided.

【0012】さらに、上記ライトリカバリ用素子を選択
的に動作制御するためのライトリカバリ制御回路とし
て、ライトリカバリ動作を指示するためのライトリカバ
リ信号、及びメモリセルへのデータ書込みを指示するた
めのライトイネーブル信号に加えて、上記メモリセルへ
の書込みデータを考慮するように構成することができ
る。
Further, as a write recovery control circuit for selectively controlling the operation of the write recovery element, a write recovery signal for instructing a write recovery operation and a write for instructing data writing to the memory cell. In addition to the enable signal, the write data to the memory cell can be considered.

【0013】[0013]

【作用】上記した手段によれば、データ線負荷制御回路
は、メモリマットあるいはメモリブロック単位でデータ
線負荷素子インピーダンスを一斉に制御するのではな
く、カラム選択信号、及びライトイネーブル信号に基づ
いて、対応するデータ線負荷素子を選択的に制御する。
このことが、データ線負荷素子の同時駆動素子数を減少
させ、過渡電流低減により、データ線負荷素子駆動に起
因する電源ノイズの低減化を達成する。このとき、上記
カラム選択信号及びライトイネーブル信号に加えて、メ
モリセルへの書込みデータをも参照して、対応するデー
タ線負荷素子のインピーダンスを選択的に制御すること
は、同時駆動されるデータ線負荷素子数を更に少なくし
て、データ線負荷素子を駆動する際の電流変化を低減す
る。
According to the above means, the data line load control circuit does not control the data line load element impedances in units of memory mats or memory blocks all at once, but on the basis of the column selection signal and the write enable signal. Selectively control the corresponding data line load element.
This reduces the number of simultaneous drive elements of the data line load elements, and achieves reduction of power supply noise caused by driving the data line load elements by reducing the transient current. At this time, in addition to the column selection signal and the write enable signal, the write data to the memory cell is also referred to so as to selectively control the impedance of the corresponding data line load element. The number of load elements is further reduced to reduce the change in current when driving the data line load elements.

【0014】そして上記ライトリカバリ制御回路は、ラ
イトリカバリ信号及びライトイネーブル信号に基づい
て、対応するライトリカバリ用素子を選択的に動作制御
し、このことが、データ書込み直後のライトリカバリ時
の電流変化を低減し、電源ノイズの低減化を達成する。
このとき、ライトリカバリ信号及びライトイネーブル信
号に加えて、メモリセルへの書込みデータをも参照し
て、対応するライトリカバリ用素子のインピーダンスを
選択的に制御することは、同時駆動されるライトリカバ
リ用素子数を更に少なくして、ライトリカバリ時の電流
変化を低減する。
The write recovery control circuit selectively controls the operation of the corresponding write recovery element based on the write recovery signal and the write enable signal, which results in a change in current during write recovery immediately after data writing. To reduce power supply noise.
At this time, in addition to the write recovery signal and the write enable signal, the write data to the memory cell is also referred to so as to selectively control the impedance of the corresponding write recovery element. The number of elements is further reduced to reduce the change in current during write recovery.

【0015】[0015]

【実施例】図5には本発明の一実施例であるSRAMを
含むコンピュータシステムが示される。このシステム
は、システムバス400を介して、CPU(中央処理装
置)401、DRAM制御部403、SRAM406、
ROM(リード・オンリ・メモリ)405、周辺装置制
御部407、表示系410などが、互いに信号のやり取
り可能に結合されて成る。CPU401は、本システム
の論理的中核とされ、主として、アドレス指定、情報の
読出しと書込み、データの演算、命令のシーケンス、割
り込の受付け、記憶装置と入出力装置との情報交換の起
動等の機能を有し、演算制御部や、バス制御部、メモリ
アクセス制御部などの各部から構成される。内部記憶装
置として、上記DRAM制御部403によって制御され
るDRAM402や、メインメモリなどとして使用され
るSRAM406、このSRAM406のバックアップ
を制御するためのバックアップ制御部404、ROM4
05が設けられる。ROM405には、書換えを要しな
いプログラムが格納される。上記周辺装置制御部407
は、特に制限されないが、磁気記憶装置を一例とする外
部記憶装置408や、キーボード(KB)409を一例
とする入力装置などの周辺装置のインタフェースとして
機能する。上記表示系410は、VRAM(ビデオ・ラ
ンダム・アクセス・メモリ)や、それの制御回路を含
み、システムバス400を介して転送された表示用デー
タは、CRTディスプレイ装置412に同期して当該デ
ィスプレイ装置412に出力される。また、電源供給部
411が設けられ、ここで生成された各種電圧が、本シ
ステムの各部に供給されるようになっている。
FIG. 5 shows a computer system including an SRAM which is an embodiment of the present invention. This system includes a CPU (Central Processing Unit) 401, a DRAM control unit 403, an SRAM 406, a system bus 400,
A ROM (Read Only Memory) 405, a peripheral device control unit 407, a display system 410, and the like are connected so that signals can be exchanged with each other. The CPU 401 is the logical core of the present system, and is mainly used for addressing, reading and writing of information, data operation, instruction sequence, acceptance of interrupts, activation of information exchange between a storage device and an input / output device, and the like. It has a function and is composed of various units such as an arithmetic control unit, a bus control unit, and a memory access control unit. A DRAM 402 controlled by the DRAM control unit 403 as an internal storage device, an SRAM 406 used as a main memory, a backup control unit 404 for controlling backup of the SRAM 406, and a ROM 4
05 is provided. The ROM 405 stores a program that does not require rewriting. The peripheral device control unit 407
Is not particularly limited, but functions as an interface of a peripheral device such as an external storage device 408, which is a magnetic storage device, and an input device, which is a keyboard (KB) 409. The display system 410 includes a VRAM (Video Random Access Memory) and its control circuit, and the display data transferred via the system bus 400 is synchronized with the CRT display device 412. It is output to 412. Further, a power supply unit 411 is provided, and various voltages generated here are supplied to each unit of the present system.

【0016】図6には上記SRAM406の全体的な構
成が示される。このSRAMは、特に制限されないが、
32キロワード×32ビット構成の1MビットSRAM
とされ、公知の半導体集積回路製造技術により、単結晶
シリコン基板などの一つの半導体基板に形成されてい
る。図6において31は、複数個のスタティック型メモ
リセルをマトリクス配置したメモリセルアレイであり、
メモリセルの選択端子はロウ方向毎にワード線に結合さ
れ、メモリセルのデータ入出力端子はカラム方向毎に相
補データ線(相補ビット線とも称される)に結合され
る。34はカラム系周辺回路であり、このカラム系周辺
回路34には、相補データ線に結合された複数のデータ
線負荷回路やメモリセルデータ増幅のための差動増幅回
路、カラム系選択のためのカラム選択回路などが含まれ
る。それぞれの相補データ線は、相補データ線に1対1
で結合された複数個のカラムスイッチを介して相補コモ
ンデータ線に共通接続されている。
FIG. 6 shows the overall structure of the SRAM 406. This SRAM is not particularly limited,
32 kiloword x 32 bit 1M bit SRAM
And is formed on one semiconductor substrate such as a single crystal silicon substrate by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique. In FIG. 6, 31 is a memory cell array in which a plurality of static memory cells are arranged in a matrix,
Select terminals of memory cells are coupled to word lines in each row direction, and data input / output terminals of memory cells are coupled to complementary data lines (also referred to as complementary bit lines) in each column direction. A column system peripheral circuit 34 includes a plurality of data line load circuits coupled to complementary data lines, a differential amplifier circuit for amplifying memory cell data, and a column system peripheral circuit 34 for selecting a column system. A column selection circuit and the like are included. Each complementary data line has a one-to-one correspondence with the complementary data line.
Are commonly connected to the complementary common data line via a plurality of column switches coupled together.

【0017】外部より入力されるアドレスX0〜X7
は、それに対応して配置されたバッファ(図示せず)を
介してXデコーダ及びドライバ30に伝達される。ま
た、アドレスY0〜Y6は、それに対応して配置された
バッファ(図示せず)を介してYデコーダ及びドライバ
32に伝達される。Xデコーダ及びドライバ30の出力
信号に基づいて、入力アドレス信号に対応するワード線
が選択レベルに駆動される。所定のワード線が駆動され
ると、このワード線に結合された全てのメモリセルが選
択される。また、Yデコーダ及びドライバ32は、これ
に供給されるアドレス信号に対応するカラムスイッチを
オン動作させて、対応する相補データ線を相補コモンデ
ータ線に導通させる。メモリセルデータは、出力回路3
5を介して外部出力可能とされる。この出力データは、
特に制限されないが、32ビット構成とされ、Do0〜
Do31で示される。書込み回路33には、書き込みパ
ルス幅を規制するための書込み制御信号WTPや書込み
データDi0〜Di31が入力されるようになってい
る。外部から書込みデータDi0〜Di31が与えられ
ると、その書込みデータに従って相補コモンデータ線が
駆動され、それにより、アドレス信号によって選択され
た相補データ線を介して所定のメモリセルにそのデータ
に応ずる電荷情報が蓄積される。
Addresses X0 to X7 input from the outside
Is transmitted to the X decoder and driver 30 via a buffer (not shown) arranged correspondingly. Further, the addresses Y0 to Y6 are transmitted to the Y decoder and driver 32 via a buffer (not shown) arranged corresponding to the addresses. Based on the output signal of the X decoder and driver 30, the word line corresponding to the input address signal is driven to the selection level. When a predetermined word line is driven, all the memory cells connected to this word line are selected. Further, the Y decoder and driver 32 turns on the column switch corresponding to the address signal supplied thereto, and brings the corresponding complementary data line into conduction with the complementary common data line. The memory cell data is output by the output circuit 3
It is made possible to output to the outside through 5. This output data is
Although not particularly limited, it has a 32-bit configuration and Do0 to Do0
This is indicated by Do31. A write control signal WTP for controlling the write pulse width and write data Di0 to Di31 are input to the write circuit 33. When write data Di0 to Di31 is applied from the outside, the complementary common data line is driven according to the write data, whereby the charge information corresponding to the data is supplied to a predetermined memory cell via the complementary data line selected by the address signal. Is accumulated.

【0018】図1には、図6のメモリセルアレイ50
6、及びその近傍の詳細な構成例が示される。図1で
は、1組の相補コモンデータ線20,21に対応する回
路のみが示されているが、実際には同一構成の回路が、
同時出力ビット数に対応して(本実施例の場合32ビッ
ト分)形成される。また、1組のコモンデータ線20,
21に対応して、複数組の相補データ線が設けられる
が、図1においては、この複数の相補データ線のうち、
12a,13aで示される相補データ線と、12b,1
3bで示される相補データ線が代表的に示されている。
相補データ線12a,13aはカラムスイッチ22aを
介して、また、相補データ線12b,13bはカラムス
イッチ22bを介して、それぞれコモンデータ線20,
21に結合されるようになっている。カラムスイッチ2
2a,22bは、それぞれ図6に示されるカラム周辺回
路34の一部を構成するもので、Yデコーダ及びドライ
バ32から出力されるカラム選択信号6a,6bによっ
てそれぞれ選択的に動作制御される。そしてこのコモン
データ線20,21には、図6に示される書込み回路3
3に属する書込みドライバ5が結合され、この書込みド
ライバ5によって相補コモンデータ線20,21が駆動
されるようになってる。相補データ線12a,13aに
は、代表的に示されるメモリセル1a,1bのデータ入
出力端子が結合される。メモリセル1a,1bの選択端
子は、ロウ方向毎にワード線3に結合される。図6に示
されるXデコーダ及びワードドライバ30の出力信号に
基づいて、入力アドレス信号に対応するワード線3が選
択レベルに駆動されると、このワード線に結合された全
てのメモリセル1a,1bが選択される。図6に示され
るYデコーダ及びドライバ32によってカラム選択信号
6a又は6bが設定された場合、対応するカラムスイッ
チ22a又は22bがオンされることによって、相補デ
ータ線12a,13a又は12b,13bがコモンデー
タ線20,21に結合される。書込みドライバ5を介し
て書込みデータが与えられると、その書込みデータに従
って相補コモンデータ線20,21が駆動され、アドレ
ス信号によって選択された相補データ線を介して所定の
メモリセルにそのデータに応ずる電荷情報が蓄積され
る。また、メモリセル1a及び1bから、それぞれ相補
データ線12a,13a、及び12b,13bに読出さ
れたデータは、差動増幅回路2a及び2bでそれぞれ増
幅されてから、出力回路35を介して外部出力される。
差動増幅回路2a及び2bは、特に制限されないが、バ
イポーラトランジスタが差動結合されて成り、それぞれ
カラム選択信号6a及び6bによって動作制御されるよ
うなっている。例えば、カラム選択信号6aがハイレベ
ルに設定された場合に差動増幅回路2aが選択的に活性
化され、また、カラム選択信号6bがハイレベルに設定
された場合に差動増幅回路2bが選択的に活性化され
る。
FIG. 1 shows the memory cell array 50 of FIG.
6 and a detailed configuration example of the vicinity thereof are shown. In FIG. 1, only the circuits corresponding to the pair of complementary common data lines 20 and 21 are shown, but in reality, circuits having the same configuration are
It is formed corresponding to the number of simultaneous output bits (32 bits in the case of the present embodiment). Also, a set of common data lines 20,
A plurality of sets of complementary data lines are provided corresponding to No. 21, but in FIG.
12a and 13a and complementary data lines 12b and 1
The complementary data line indicated by 3b is representatively shown.
The complementary data lines 12a and 13a are connected via the column switch 22a, and the complementary data lines 12b and 13b are connected via the column switch 22b.
It is designed to be connected to 21. Column switch 2
Reference numerals 2a and 22b respectively constitute a part of the column peripheral circuit 34 shown in FIG. 6, and their operations are selectively controlled by the column selection signals 6a and 6b output from the Y decoder and driver 32, respectively. The common data lines 20 and 21 are connected to the write circuit 3 shown in FIG.
The write driver 5 belonging to 3 is coupled, and the complementary common data lines 20 and 21 are driven by the write driver 5. Data input / output terminals of representatively shown memory cells 1a and 1b are coupled to complementary data lines 12a and 13a. Select terminals of the memory cells 1a and 1b are coupled to the word line 3 in each row direction. When the word line 3 corresponding to the input address signal is driven to the selection level based on the output signals of the X decoder and the word driver 30 shown in FIG. 6, all the memory cells 1a and 1b coupled to this word line are driven. Is selected. When the column selection signal 6a or 6b is set by the Y decoder and driver 32 shown in FIG. 6, the corresponding column switch 22a or 22b is turned on, so that the complementary data lines 12a, 13a or 12b, 13b become common data. Connected to lines 20,21. When write data is applied through the write driver 5, the complementary common data lines 20 and 21 are driven according to the write data, and charges corresponding to the data are supplied to a predetermined memory cell via the complementary data line selected by the address signal. Information is accumulated. The data read from the memory cells 1a and 1b to the complementary data lines 12a, 13a and 12b, 13b are amplified by the differential amplifier circuits 2a and 2b, respectively, and then output to the outside via the output circuit 35. To be done.
Although not particularly limited, the differential amplifier circuits 2a and 2b are formed by differentially connecting bipolar transistors, and their operations are controlled by the column selection signals 6a and 6b, respectively. For example, the differential amplifier circuit 2a is selectively activated when the column selection signal 6a is set to the high level, and the differential amplifier circuit 2b is selected when the column selection signal 6b is set to the high level. Are activated.

【0019】また、相補データ線12a,13aには、
当該相補データ線12a,13aをプリチャージするた
めのデータ線負荷回路24a,25aが設けられ、同様
に、相補データ線12b,13bには、当該相補データ
線12b,13bをプリチャージするためのデータ線負
荷素子24b,25bが設けられている。このデータ線
負荷回路24a,25a、24b,25bは、特に制限
されないが、互いに並列接続された二つのpチャンネル
型MOSトランジスタとされる。例えば、データ線負荷
素子24b,25aについての構成例が代表的に示され
るように、pチャンネル型MOSトランジスタ8aとp
チャンネル型MOSトランジスタ48aとが並列接続さ
れてデータ線負荷素子24bが形成され、pチャンネル
型MOSトランジスタ9aとpチャンネル型MOSトラ
ンジスタ49aとが並列接続されてデータ線負荷素子2
5aが形成される。データ線負荷回路24aにおいて、
pチャンネル型MOSトランジスタ8a,48aのドレ
イン電極はデータ線12aに結合され、ソース電極は電
源Vdhに結合される。また、pチャンネル型MOSト
ランジスタ48aのゲート電極は電源Vdlに結合され
る。また、データ線負荷素子25aにおいて、pチャン
ネル型MOSトランジスタ9a,49aのドレイン電極
はデータ線13aに結合され、ソース電極は電源Vdh
に結合される。さらに、pチャンネル型MOSトランジ
スタ49aのゲート電極は電源Vdlに結合される。こ
こで、ECL(エミッタ結合論理)の高電位側電源電圧
を0Vとし、低電位側電源Veeを−4Vとした場合、
上記電源Vdhの電位は−1.5Vとされ、上記電源V
dlの電位は−3.3Vとされ、メモリ動作速度を向上
させるために低電圧化されている。一方、pチャンネル
型MOSトランジスタ8a,9aのゲート電極は、それ
ぞれデータ線負荷制御回路26a,26bに結合され
る。このデータ線負荷制御回路26aは、カラム選択信
号6aと、メモリセルへのデータ書込みを指示するため
のライトイネーブル信号7と、メモリセルへの書込みデ
ータDiとに基づいて、データ線負荷回路24aのイン
ピーダンスを選択的に制御するもので、特に制限されな
いが、カラム選択信号6a、ライトイネーブル信号7、
メモリセルへの書込みデータDiとの論理積を得るため
の論理積回路によって構成される。同様に、データ線負
荷制御回路27aは、カラム選択信号6aと、メモリセ
ルへのデータ書込みを指示するためのライトイネーブル
信号7と、メモリセルへの書込みデータDi*(Diの
論理反転信号)とに基づいて、データ線負荷素子25a
のインピーダンスを選択的に制御するもので、特に制限
されないが、カラム選択信号6a、ライトイネーブル信
号7、メモリセルへの書込みデータDi*との論理積を
得るための論理積回路によって構成される。つまり、上
記pチャンネル型MOSトランジスタ8aは、カラム選
択信号6a、ライトイネーブル信号7、メモリセルへの
書込みデータDiとの論理積出力によって制御され、上
記pチャンネル型MOSトランジスタ9aは、カラム選
択信号6a、ライトイネーブル信号7、メモリセルへの
書込みデータDi*との論理積出力によって制御される
ようになっている。
The complementary data lines 12a and 13a have
Data line load circuits 24a and 25a for precharging the complementary data lines 12a and 13a are provided. Similarly, complementary data lines 12b and 13b are provided with data for precharging the complementary data lines 12b and 13b. Line load elements 24b and 25b are provided. The data line load circuits 24a, 25a, 24b, 25b are not particularly limited, but are two p-channel type MOS transistors connected in parallel with each other. For example, as a typical configuration example of the data line load elements 24b and 25a is shown, p-channel type MOS transistors 8a and p
The data line load element 24b is formed by connecting in parallel with the channel type MOS transistor 48a, and the data line load element 2 is formed by connecting the p-channel type MOS transistor 9a and the p-channel type MOS transistor 49a in parallel.
5a is formed. In the data line load circuit 24a,
The drain electrodes of the p-channel MOS transistors 8a and 48a are coupled to the data line 12a, and the source electrodes are coupled to the power supply Vdh. Further, the gate electrode of the p-channel type MOS transistor 48a is coupled to the power supply Vdl. In the data line load element 25a, the drain electrodes of the p-channel MOS transistors 9a and 49a are coupled to the data line 13a, and the source electrode thereof is the power supply Vdh.
Be combined with. Further, the gate electrode of the p-channel type MOS transistor 49a is coupled to the power supply Vdl. Here, when the high potential side power source voltage of ECL (emitter coupled logic) is 0 V and the low potential side power source Vee is -4 V,
The electric potential of the power source Vdh is set to -1.5 V,
The potential of dl is -3.3V, which is lowered to improve the memory operation speed. On the other hand, the gate electrodes of the p-channel type MOS transistors 8a and 9a are coupled to the data line load control circuits 26a and 26b, respectively. The data line load control circuit 26a outputs the data line load circuit 24a based on the column selection signal 6a, the write enable signal 7 for instructing the data writing to the memory cell, and the write data Di to the memory cell. The impedance is selectively controlled and is not particularly limited, but the column selection signal 6a, the write enable signal 7,
It is constituted by a logical product circuit for obtaining a logical product with write data Di to the memory cell. Similarly, the data line load control circuit 27a receives the column selection signal 6a, the write enable signal 7 for instructing the data writing to the memory cell, and the write data Di * (the logical inversion signal of Di) to the memory cell. Based on the data line load element 25a
Of the column select signal 6a, the write enable signal 7, and the write data Di * to the memory cell. That is, the p-channel MOS transistor 8a is controlled by the logical product output of the column selection signal 6a, the write enable signal 7, and the write data Di to the memory cell, and the p-channel MOS transistor 9a is controlled by the column selection signal 6a. , The write enable signal 7, and the write data Di * to the memory cell are controlled by the logical product output.

【0020】データ線12b,13bに結合されたデー
タ線負荷素子24b,25bは、上記データ線負荷回路
24a,25aと同一構成とされる。また、データ線負
荷素子24bを制御するためのデータ線負荷制御回路2
6bは、カラム選択信号6bと、メモリセルへのデータ
書込みを指示するためのライトイネーブル信号7と、メ
モリセルへの書込みデータDiとの論理積を得るための
論理積回路によって構成され、データ線負荷素子25b
を制御するためのデータ線負荷制御回路27bは、カラ
ム選択信号6bと、メモリセルへのデータ書込みを指示
するためのライトイネーブル信号7と、メモリセルへの
書込みデータDi*との論理積を得るための論理積回路
によって構成される。
The data line load elements 24b and 25b coupled to the data lines 12b and 13b have the same structure as the data line load circuits 24a and 25a. In addition, the data line load control circuit 2 for controlling the data line load element 24b
6b includes a logical product circuit for obtaining a logical product of the column selection signal 6b, the write enable signal 7 for instructing the data writing to the memory cell, and the write data Di to the memory cell, and the data line Load element 25b
The data line load control circuit 27b for controlling the write operation obtains the logical product of the column selection signal 6b, the write enable signal 7 for instructing the data writing to the memory cell, and the write data Di * to the memory cell. It is composed of an AND circuit for.

【0021】図2には本実施例回路の主要部の動作タイ
ミングが示される。図1において、ワード線3が選択レ
ベルに駆動され、カラム選択信号6aによりメモリセル
1aが選択され、さらに書込みデータDiによりデータ
線12a側をローレベルに引下げることによって、メモ
リセル1aにデータを書込む場合を考える。
FIG. 2 shows the operation timing of the main part of the circuit of this embodiment. In FIG. 1, the word line 3 is driven to the selection level, the memory cell 1a is selected by the column selection signal 6a, and the data line 12a side is pulled down to low level by the write data Di, so that the data is written in the memory cell 1a. Consider the case of writing.

【0022】書込みドライバ5によりコモンデータ線2
0が書込みレベルまで引下げられたとき、ライトイネー
ブル信号7がハイレベルに設定される。入力データDi
がハイレベル、カラム選択信号6aがハイレベル、ライ
トイネーブル信号7がハイレベル、とされると、データ
線負荷制御回路26aの論理積条件成立により、その出
力制御信号28aが、それまでのローレベルからハイレ
ベルに変化される。それにより、データ線負荷素子とし
てのpチャンネル型MOSトランジスタ8aがオフされ
るので、そのソース・ドレイン間のインピーダンスが大
きくなる。pチャンネル型MOSトランジスタ48a
は、データ線フローティング防止のため常時オン状態に
固定されているが、それに並列接続されるpチャンネル
型MOSトランジスタ8aがオフされるため、結果的
に、データ線負荷回路24aのインピーダンスは、pチ
ャンネル型MOSトランジスタ8aがオン状態の場合に
比べて大きくなる。そのようにデータ線負荷回路24a
のインピーダンスが大きくなることによって、データ線
12aをローレベルに引下げ易くなるので、データ線1
2aをローレベルとするようなデータ書込みの高速化が
図られる。そのようなデータ書込みにおいて、データ線
12aと対になるデータ線13aはローレベルに引下げ
られることはないので、このデータ線13aに結合され
たデータ線負荷回路25aのインピーダンスを変化させ
る必要はない。そのため、本実施例では、データ線負荷
回路制御において、書込みのための入力データをチェッ
クすることによって、相補データ線対のうちの他方のデ
ータ線に対応するデータ線負荷回路のインピーダンスを
変化させないようにしている。つまり、上記の例の場
合、データ線負荷制御回路27aでは、Di*(Diの
論理反転信号)がローレベルであるために、そこでの論
理積である出力制御信号29aがローレベルのままの状
態とされるから、それに対応するpチャンネル型MOS
トランジスタ9aは、引続きオン状態のままとされる。
また、カラム選択信号6aがハイレベルに設定されてカ
ラムスイッチ22aがオンされる場合、コモンデータ線
20,21を共有する他のカラムスイッチがオンされる
ことは無い。例えばカラム選択信号6aがハイレベルに
設定される場合、カラム選択信号6bがローレベルとさ
れるので、それを取込むデータ線負荷制御回路26b,
27bの出力制御信号28b,29bはローレベルとさ
れるから、データ線負荷回路24b,25bでのインピ
ーダンスは変化されない。つまり、当該データ線負荷回
路24b,25bに含まれるpチャンネル型MOSトラ
ンジスタは、制御信号28b,29bがローレベルであ
ることから、引続きオン状態を維持する。
The common data line 2 by the write driver 5
When 0 is pulled down to the write level, the write enable signal 7 is set to high level. Input data Di
Is set to the high level, the column selection signal 6a is set to the high level, and the write enable signal 7 is set to the high level, the output control signal 28a is changed to the low level until the logical product condition of the data line load control circuit 26a is satisfied. Is changed to high level. As a result, the p-channel type MOS transistor 8a serving as the data line load element is turned off, and the impedance between the source and drain thereof increases. p-channel MOS transistor 48a
Is fixed to the ON state at all times to prevent the floating of the data line, but the p-channel type MOS transistor 8a connected in parallel to it is turned off. As a result, the impedance of the data line load circuit 24a becomes p-channel. It becomes larger than that when the type MOS transistor 8a is on. As such, the data line load circuit 24a
Since the impedance of the data line 12a becomes large, the data line 12a can be easily pulled down to the low level.
It is possible to speed up the data writing such that 2a is set to the low level. In such data writing, since the data line 13a paired with the data line 12a is not pulled down to the low level, it is not necessary to change the impedance of the data line load circuit 25a coupled to this data line 13a. Therefore, in this embodiment, in the data line load circuit control, by checking the input data for writing, the impedance of the data line load circuit corresponding to the other data line of the complementary data line pair is not changed. I have to. That is, in the case of the above example, in the data line load control circuit 27a, the output control signal 29a, which is the logical product of Di * (the logical inversion signal of Di) is at the low level, remains at the low level. Therefore, the corresponding p-channel type MOS
The transistor 9a remains in the ON state.
When the column selection signal 6a is set to the high level and the column switch 22a is turned on, the other column switches sharing the common data lines 20 and 21 are not turned on. For example, when the column selection signal 6a is set to the high level, the column selection signal 6b is set to the low level, so that the data line load control circuit 26b,
Since the output control signals 28b and 29b of 27b are at low level, the impedances in the data line load circuits 24b and 25b are not changed. That is, the p-channel type MOS transistors included in the data line load circuits 24b and 25b continue to maintain the ON state because the control signals 28b and 29b are at the low level.

【0023】次に、ライトイネーブル信号7がハイレベ
ルからローレベルに変化される場合を考えてみる。上記
のように、カラム選択信号6aによりメモリセル1aが
選択され、さらに書込みデータDiによりデータ線12
a側をローレベルに引下げることによって、メモリセル
1aにデータを書込む場合には、コモンデータ線20,
21を共有する複数のデータ線のうち、データ線12a
のみをローレベルに引下げ易くするためにデータ線負荷
回路24aのみのインピーダンスが高く制御されている
ため、ライトイネーブル信号7がハイレベルからローレ
ベルに変化される場合には、このデータ線負荷回路24
aのみのインピーダンスが低く制御される。つまり、ラ
イトイネーブル信号7がハイレベルからローレベルに変
化される場合、データ線負荷制御回路26aの出力制御
信号28aがハイレベルからローレベルに変化され、そ
れによってpチャンネル型MOSトランジスタ8aがオ
フ状態からオン状態に移行され、データ線負荷制御回路
27a,26b,27bなど、他のデータ線負荷制御回
路の出力制御信号の論理は変化されない。
Next, consider the case where the write enable signal 7 is changed from the high level to the low level. As described above, the memory cell 1a is selected by the column selection signal 6a, and the data line 12 is further selected by the write data Di.
When data is written in the memory cell 1a by pulling the a side to the low level, the common data line 20,
Data line 12a of the plurality of data lines sharing 21
Since the impedance of only the data line load circuit 24a is controlled to be high in order to easily pull down only the data line load circuit 24a to the low level, when the write enable signal 7 changes from the high level to the low level, the data line load circuit 24a
The impedance of only a is controlled to be low. That is, when the write enable signal 7 is changed from the high level to the low level, the output control signal 28a of the data line load control circuit 26a is changed from the high level to the low level, which turns off the p-channel type MOS transistor 8a. From the ON state to the ON state, and the logic of the output control signal of the other data line load control circuits such as the data line load control circuits 27a, 26b and 27b is not changed.

【0024】上記実施例によれば、以下の作用効果を得
ることができる。 (1)図2に示されるように、データ線負荷制御回路2
6aの出力制御信号28aが立上がるタイミングaでは
データ線負荷素子としてのpチャンネル型MOSトラン
ジスタ8aを充電するための過渡電流が高電位側電源か
ら流れ込み、そのため、高電位側電源にノイズが発生し
やすい。また、上記出力制御信号28bが立ち下がるタ
イミングbでは、上記の場合とは逆にデータ線負荷素子
としてのpチャンネル型MOSトランジスタ8aの蓄積
電荷を放出するための過渡電流が低電位側電源に流れ込
むため、低電位側電源にノイズが発生しやすい。ここ
で、メモリマット又はメモリブロック単位で、データ線
負荷素子のインピーダンスを一斉に変える方式では、メ
モリセルへのデータ書込み動作において、データ線負荷
を駆動するときの過渡電流により、電源ノイズを発生さ
せ、特に、低電源電圧のもとではデータ線負荷MOSト
ランジスタのゲートに印加する電圧の振幅も小さくなる
ため、必要なデータ線振幅を得るためにはデータ線負荷
MOSトランジスタのゲート幅を大きくする必要が有
り、その結果、ゲート容量が大きくなり、より大きな過
渡電流が流れるようになる。
According to the above embodiment, the following operational effects can be obtained. (1) As shown in FIG. 2, the data line load control circuit 2
At the timing a when the output control signal 28a of 6a rises, a transient current for charging the p-channel type MOS transistor 8a as the data line load element flows from the high potential side power supply, and therefore noise is generated in the high potential side power supply. Cheap. At the timing b when the output control signal 28b falls, contrary to the above case, a transient current for discharging the accumulated charge of the p-channel type MOS transistor 8a as the data line load element flows into the low potential side power source. Therefore, noise is likely to occur in the power supply on the low potential side. Here, in the method of simultaneously changing the impedance of the data line load elements in units of memory mats or memory blocks, in the data write operation to the memory cells, power supply noise is generated by the transient current when driving the data line load. In particular, since the amplitude of the voltage applied to the gate of the data line load MOS transistor is small under a low power supply voltage, it is necessary to increase the gate width of the data line load MOS transistor to obtain the required data line amplitude. As a result, the gate capacitance becomes large and a larger transient current flows.

【0025】それに対して、上記実施例によれば、デー
タ書込みにおいて、データ線をローレベルに引下げる必
要のあるデータ線についてのみ、それに対応するデータ
線負荷回路のインピーダンスを制御することにより、結
果的に、データ書込みの際に同時駆動されるデータ線負
荷素子としてのpチャンネル型MOSトランジスタの数
を大幅に低減することができるので、同時駆動されるp
チャンネル型MOSトランジスタのゲート容量の総和を
大幅に低減することができ、その結果、データ線負荷を
駆動するための過渡電流を小さくすることができるの
で、電源ノイズを低減することができる。つまり、メモ
リの動作速度の向上のために低電圧化し、必要なデータ
線振幅を得るためにデータ線負荷素子としてのpチャン
ネル型MOSトランジスタのゲート幅を大きくしたにも
かかわらず、同時に駆動されるデータ線負荷素子の数が
少なくなるため、データ線負荷回路のインピーダンス制
御に起因する電源ノイズを低減することができる。ま
た、データ書込みの際に同時駆動されるデータ線負荷素
子としてのpチャンネル型MOSトランジスタの数を大
幅に低減することにより、消費電流の低減をも図ること
ができる。
On the other hand, according to the above-described embodiment, in the data writing, by controlling the impedance of the data line load circuit corresponding to only the data line which needs to be pulled down to the low level, the result can be obtained. In addition, since the number of p-channel type MOS transistors as the data line load elements simultaneously driven at the time of data writing can be significantly reduced, it is possible to simultaneously drive the p
The sum of the gate capacitances of the channel type MOS transistors can be significantly reduced, and as a result, the transient current for driving the data line load can be reduced, so that the power supply noise can be reduced. That is, although the voltage is lowered in order to improve the operation speed of the memory and the gate width of the p-channel type MOS transistor as the data line load element is increased in order to obtain the required data line amplitude, they are simultaneously driven. Since the number of data line load elements is reduced, power supply noise due to impedance control of the data line load circuit can be reduced. Further, the current consumption can be reduced by greatly reducing the number of p-channel type MOS transistors as data line load elements that are simultaneously driven when writing data.

【0026】(2)そして、そのように低電源電圧のも
とで高速な書込み動作が可能とされ、しかも電源ノイズ
が抑えられるため、そのようなSRAMをメインメモリ
やキャッシュメモリなどとして搭載するデータ処理装置
においては、CPU401によるメモリアクセス速度の
向上や、ノイズ低減により、記憶データの信頼性の向上
を図ることができる。
(2) Then, since a high speed write operation can be performed under such a low power supply voltage and the power supply noise can be suppressed, the data mounted with such an SRAM as a main memory or a cache memory. In the processing device, the reliability of the stored data can be improved by improving the memory access speed by the CPU 401 and reducing noise.

【0027】図3には本発明の他の実施例であるSRA
Mの主要部構成例が示される。尚、図3において、図1
に示されるのと同一機能を有するものには同一符号が付
されている。本実施例は、上記実施例の場合と同様にデ
ータ線負荷素子として、pチャンネル型MOSトランジ
スタを用い、さらに、書込み直後にデータ線を読出し状
態の電位まで高速に引上げることによって、いわゆるラ
イトリカバリを行うためのライトリカバリ回路42a,
43a,42b,43bと、このライトリカバリ回路4
2a,43a,42b,43bを制御するためのリカバ
リ制御回路40a,41a,40b,41bが設けられ
ている。ライトリカバリ回路は、特に制限されないが、
高速動作可能なバイポーラトランジスタによって構成さ
れる。代表的に示されるように、ライトリカバリ回路4
2a,43aを構成するnpn型バイポーラトランジス
タ44a,45aのエミッタ電極は、それぞれデータ線
12a、13aに結合され、コレクタ電極は高電位側電
源(グランドライン)に結合されている。また、上記ラ
イトリカバリ制御回路は、ライトリカバリ信号4とカラ
ム選択信号6a又は6bと、データDi又はDi*との
論理積を得るための論理積回路によって構成される。
FIG. 3 shows an SRA which is another embodiment of the present invention.
A configuration example of the main part of M is shown. In addition, in FIG.
Those having the same function as shown in FIG. In this embodiment, a p-channel MOS transistor is used as a data line load element as in the case of the above embodiment, and the data line is immediately pulled up to the potential of the read state immediately after writing, so-called write recovery. Write recovery circuit 42a for performing
43a, 42b, 43b and the write recovery circuit 4
Recovery control circuits 40a, 41a, 40b, 41b for controlling 2a, 43a, 42b, 43b are provided. The write recovery circuit is not particularly limited,
It is composed of bipolar transistors that can operate at high speed. As typically shown, the write recovery circuit 4
The emitter electrodes of the npn-type bipolar transistors 44a and 45a forming the transistors 2a and 43a are coupled to the data lines 12a and 13a, respectively, and the collector electrodes are coupled to the high potential side power source (ground line). The write recovery control circuit is composed of a logical product circuit for obtaining a logical product of the write recovery signal 4, the column selection signal 6a or 6b, and the data Di or Di *.

【0028】図4には本実施例回路の主要部の動作タイ
ミングが示される。相補データ線12a,13aには、
当該相補データ線12a,13aをプリチャージするた
めのデータ線負荷回路24a,25aが設けられて、同
様に、相補データ線12b,13bには、当該相補デー
タ線12b,13bをプリチャージするためのデータ線
負荷素子24b,25bが設けられており、データ書込
みにおいて、データ線をローレベルに引下げる必要のあ
るデータ線についてのみ、それに対応するデータ線負荷
回路のインピーダンスを制御することにより、結果的
に、データ書込みの際に同時駆動されるデータ線負荷素
子としてのpチャンネル型MOSトランジスタの数を低
減することについては、上記実施例の場合と同様であ
る。
FIG. 4 shows the operation timing of the main part of the circuit of this embodiment. The complementary data lines 12a and 13a include
Data line load circuits 24a and 25a for precharging the complementary data lines 12a and 13a are provided, and similarly, complementary data lines 12b and 13b are used to precharge the complementary data lines 12b and 13b. The data line load elements 24b and 25b are provided, and by controlling the impedance of the data line load circuit corresponding to only the data line that needs to be pulled down to a low level during data writing, The reduction of the number of p-channel type MOS transistors as the data line load elements simultaneously driven at the time of data writing is the same as that of the above-mentioned embodiment.

【0029】そして、データ書込み直後にデータ線を読
出し状態の電位まで高速に引上げるためのライトリカバ
リ回路42a,43a,42b,43bには、それぞれ
リカバリ制御回路40a,41a,40b,41bの出
力信号46a、47a、46b、47bが入力されてい
る。ライトリカバリ信号4はデータ線を読出し状態の電
位まで高速に引上げるためにライトイネーブル信号7の
立上りエッジに応じて作らる。カラム選択信号6aが選
択され、入力データDiを書き込むためにデータ線12
aがローレベルに引下げられるので、リカバリ制御回路
40aの出力制御信号46aのみが変化される。それに
より、ライトリカバリ動作のためにオンされるのは、デ
ータ線12aに結合されたライトリカバリ回路42aと
してのバイポーラトランジスタ44aのみである。つま
り、データ線12aをローレベルに引下げるようなデー
タ書込みが行われた直後において、ライトリカバリが必
要なのはデータ線12aのみであり、その他のデータ線
13a,12b,13bなどは、ライトリカバリの必要
が無いから、ライトリカバリ制御回路40a,41a,
40b,41bに対してライトリカバリ信号4がハイレ
ベルに設定されたにもかかわらず、ライトリカバリ制御
回路41a,40b,41bでは、ライトリカバリ用素
子としてのバイポーラトランジスタのオン駆動が行われ
ない。これは、ライトリカバリ制御回路41aでは入力
データDi*がローレベルであること、ライトリカバリ
制御回路40bではカラム選択信号6bがローレベルで
あること、ライトリカバリ制御回路41bではカラム選
択信号6b及び入力データDi*が共にローレベルであ
ること、による。同様に、データ線13aをローレベル
に引下げるようなデータ書込みが行われる場合には、当
該データ線13aに結合されているライトリカバリ回路
43aのみがオン駆動され、他のライトリカバリ回路は
オン駆動されない。
The write recovery circuits 42a, 43a, 42b, 43b for rapidly raising the data line to the potential of the read state immediately after data writing are respectively provided with output signals of the recovery control circuits 40a, 41a, 40b, 41b. 46a, 47a, 46b and 47b are input. The write recovery signal 4 is generated in response to the rising edge of the write enable signal 7 in order to quickly pull up the data line to the potential of the read state. The column selection signal 6a is selected, and the data line 12 for writing the input data Di
Since a is lowered to the low level, only the output control signal 46a of the recovery control circuit 40a is changed. As a result, only the bipolar transistor 44a as the write recovery circuit 42a coupled to the data line 12a is turned on for the write recovery operation. That is, immediately after the data writing for pulling the data line 12a to the low level is performed, the write recovery is required only for the data line 12a, and the other data lines 13a, 12b, 13b, etc. are required for the write recovery. Therefore, the write recovery control circuits 40a, 41a,
Even though the write recovery signal 4 is set to the high level for 40b and 41b, the write recovery control circuits 41a, 40b and 41b do not turn on the bipolar transistor as the write recovery element. This is because the input data Di * is low level in the write recovery control circuit 41a, the column selection signal 6b is low level in the write recovery control circuit 40b, and the column selection signal 6b and input data are in the write recovery control circuit 41b. This is because both Di * are low level. Similarly, when data writing is performed such that the data line 13a is pulled down to a low level, only the write recovery circuit 43a coupled to the data line 13a is turned on and the other write recovery circuits are turned on. Not done.

【0030】データ書込み直後のライトリカバリのため
に、膨大な数のライトリカバリ用素子が同時に駆動され
た場合、データ線負荷回路のインピーダンス制御の場合
と同様に、過渡電流が流れることによって、電源ノイズ
を生ずる虞がある。しかしながら、本実施例では、ライ
トリカバリ用素子としてのバイポーラトランジスタを駆
動するために、ライトリカバリ信号と、カラム選択信号
と、入力データ線との論理積を得るようにしているの
で、データ書込み直後に、対応するデータ線を高速に読
出し状態の電位まで引上げるのは、データ書込みのため
に選択されたデータ線に対応するバイポーラトランジス
タのみであり、他のライトリカバリ用素子としてのバイ
ポーラトランジスタは、オン駆動されない。そのよう
に、ライトリカバリのためにバイポーラトランジスタを
選択的に駆動することにより、ライトリカバリにおい
て、同時駆動されるバイポーラトランジスタの数を減少
させることができるので、メモリマット又はメモリブロ
ック単位で、ライトリカバリ用素子としてのバイポーラ
トランジスタを一斉に駆動制御するのに比して、ライト
リカバリ動作に起因する過渡電流を減少させることがで
きる。そのため、上記したデータ線負荷素子駆動の場合
と同様に、過渡電流による電源電圧レベルの瞬間的な変
動を低減することによって、電源ノイズを抑えることが
できる。つまり、本実施例回路では、データ書込みにお
いて、データ線をローレベルに引下げる必要があるデー
タ線についてのみ、それに対応するデータ線負荷回路の
インピーダンスを制御することにより、同時駆動される
データ線負荷素子としてのpチャンネル型MOSトラン
ジスタの数を低減することにより過渡電流を抑え、加え
て、ライトリカバリにおいては、同時駆動されるバイポ
ーラトランジスタの数を減少させることによって過渡電
流を抑えるようにしているので、データ線負荷回路のイ
ンピーダンス制御や、ライトリカバリ動作に起因する電
源ノイズを低減することができる。
When a huge number of write recovery elements are driven at the same time for write recovery immediately after data writing, as in the case of impedance control of the data line load circuit, a transient current flows, causing power supply noise. May occur. However, in the present embodiment, since the logical product of the write recovery signal, the column selection signal, and the input data line is obtained in order to drive the bipolar transistor as the write recovery element, immediately after writing the data. , Only the bipolar transistor corresponding to the data line selected for writing data can raise the corresponding data line to the potential of the read state at high speed, and the other bipolar transistor as the write recovery element is turned on. Not driven. In this way, by selectively driving the bipolar transistors for the write recovery, the number of simultaneously driven bipolar transistors in the write recovery can be reduced. Therefore, the write recovery can be performed for each memory mat or memory block. The transient current resulting from the write recovery operation can be reduced as compared with the case where the bipolar transistors as the protection elements are driven and controlled all at once. Therefore, similarly to the case of driving the data line load element described above, the power supply noise can be suppressed by reducing the instantaneous fluctuation of the power supply voltage level due to the transient current. That is, in the circuit of the present embodiment, the data line load driven simultaneously is controlled by controlling the impedance of the data line load circuit corresponding to only the data line that needs to be pulled down to a low level in data writing. Since the transient current is suppressed by reducing the number of p-channel type MOS transistors as elements, and in the write recovery, the transient current is suppressed by reducing the number of bipolar transistors simultaneously driven. It is possible to control the impedance of the data line load circuit and reduce the power supply noise caused by the write recovery operation.

【0031】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Yes.

【0032】例えば、上記実施例ではデータ線負荷制御
回路26a,27a,26b,27bにおいて、入力デ
ータDi,Di*を取込むようにしたが、それを省略す
ることができる。つまり、上記実施例ではデータ線負荷
制御回路26a,27a,26b,27bとして、3入
力の論理積回路が適用されるが、これを2入力論理積回
路とし、入力データDiや、Di*の取込みを省略する
ようにしても良い。この場合、ライトイネーブル信号7
とカラム選択信号6a(又は6b)との論理積を得るこ
とになるが、データ線負荷制御にカラム選択信号を関与
させることによって、少なくともカラム非選択状態のデ
ータ線に対応するデータ線負荷素子のインピーダンス制
御を行わずに済むから、その場合においても、同時駆動
されるデータ線負荷素子の数が少なくなり、同時駆動さ
れるpチャンネル型MOSトランジスタのゲート容量の
総和を低減することができるので、上記実施例の場合と
同様に、データ線負荷を駆動するための過渡電流を小さ
くすることにより、電源ノイズを低減することができ
る。
For example, in the above embodiment, the data line load control circuits 26a, 27a, 26b, 27b are designed to receive the input data Di, Di *, but this can be omitted. That is, in the above-mentioned embodiment, a 3-input logical product circuit is applied as the data line load control circuits 26a, 27a, 26b, 27b, but this is a 2-input logical product circuit and the input data Di and Di * are taken in. May be omitted. In this case, write enable signal 7
AND the column selection signal 6a (or 6b) is obtained. By involving the column selection signal in the data line load control, at least the data line load element corresponding to the data line in the column non-selected state is selected. Since impedance control is not required, even in that case, the number of simultaneously driven data line load elements is reduced, and the sum of the gate capacitances of the simultaneously driven p channel type MOS transistors can be reduced. As in the case of the above embodiment, the power supply noise can be reduced by reducing the transient current for driving the data line load.

【0033】また、上記実施例では、ライトリカバリ用
素子としてのバイポーラトランジスタを駆動するため
に、ライトリカバリ信号と、カラム選択信号と、入力デ
ータ線との論理積を得るようにしたが、この論理積を得
る場合において、入力データDiや、Di*の取込みを
省略するようにしても良い。例えば、図3に示されるラ
イトリカバリ制御回路40a,41a,40b,41b
をそれぞれ2入力論理積回路によって構成し、それぞれ
ライトリカバリ信号とカラム選択信号との論理積を得る
ように構成することができる。その場合においても、ラ
イトリカバリ制御にカラム選択信号を関与させることに
よって、少なくともカラム非選択状態のデータ線に対応
するライトリカバリ用素子の動作制御を行わずに済むか
ら、同時駆動されるライトリカバリ用素子の数の減少に
より、上記実施例の場合と同様に、データ線負荷を駆動
するための過渡電流を小さくすることにより、電源ノイ
ズを低減することができる。
In the above embodiment, the logical product of the write recovery signal, the column selection signal and the input data line is obtained in order to drive the bipolar transistor as the write recovery element. When the product is obtained, the input data Di and Di * may be omitted. For example, the write recovery control circuits 40a, 41a, 40b, 41b shown in FIG.
Can be configured by a 2-input AND circuit, and a logical product of the write recovery signal and the column selection signal can be obtained. Even in that case, since the column selection signal is involved in the write recovery control, it is not necessary to control the operation of at least the write recovery element corresponding to the data line in the column non-selected state. By reducing the number of elements, the power supply noise can be reduced by reducing the transient current for driving the data line load, as in the case of the above embodiment.

【0034】また、上記実施例では書込みポートと読出
しポートとが別れているものについて説明したが、書込
みポートと読出しポートとを兼用することができる。つ
まり、メモリセルデータの読出しにおいても、データ線
に読出されたメモリデータをカラムスイッチを介してコ
モンデータ線20,21に伝達し、入出力兼用の外部端
子を介してメモリセルデータの外部出力を行うようにし
ても良い。かかる構成においても、上記したように、デ
ータ線負荷素子のインピーダンスを選択的に制御するこ
とによって、また、ライトリカバリ用素子を選択的に動
作制御することによって、上記実施例の場合と同様の作
用効果を得ることができる。
In the above embodiment, the write port and the read port are separated, but the write port and the read port can be used in common. That is, also in the reading of the memory cell data, the memory data read to the data line is transmitted to the common data lines 20 and 21 through the column switch, and the external output of the memory cell data is performed through the external terminal for both input and output. You may do it. Also in such a configuration, as described above, by selectively controlling the impedance of the data line load element and selectively controlling the operation of the write recovery element, the same operation as in the case of the above embodiment is performed. The effect can be obtained.

【0035】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるシング
ルチップのSRAMに適用した場合について説明した
が、本発明はそれに限定されるものではなく、シングル
チップマイクロコンピュータなどのデータ処理装置に内
蔵されるようなSRAMに適用することもできる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to a single-chip SRAM which is the field of application which is the background of the invention has been described. However, the present invention is not limited to this, and a single It can also be applied to an SRAM incorporated in a data processing device such as a chip microcomputer.

【0036】本発明は、少なくともデータ線をプリチャ
ージするためのデータ線負荷素子を含むことを条件に適
用することができる。
The present invention can be applied on the condition that at least a data line load element for precharging the data line is included.

【0037】[0037]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0038】すなわち、データ線負荷制御回路は、カラ
ム選択信号、及びライトイネーブル信号に基づいて、対
応するデータ線負荷素子を選択的に制御することによ
り、データ線負荷素子を駆動するときの電流変化を低減
して、データ線負荷素子駆動に起因する電源ノイズを低
減することができる。また、カラム選択信号及びライト
イネーブル信号に加えて、メモリセルへの書込みデータ
をも参照して、対応するデータ線負荷素子のインピーダ
ンスを選択的に制御することにより、選択的に制御され
るデータ線負荷素子数を更に少なくして、データ線負荷
素子を駆動するときの電流変化を低減することができ
る。
That is, the data line load control circuit selectively controls the corresponding data line load element based on the column selection signal and the write enable signal to change the current when driving the data line load element. Can be reduced to reduce power supply noise caused by driving the data line load element. In addition to the column select signal and the write enable signal, the write data to the memory cell is also referred to, and the impedance of the corresponding data line load element is selectively controlled to selectively control the data line. The number of load elements can be further reduced to reduce the change in current when driving the data line load elements.

【0039】そして、データ書込み直後にライトリカバ
リが行われる場合において、ライトリカバリ制御回路を
設け、ライトリカバリ信号及びライトイネーブル信号に
基づいて、対応するライトリカバリ用素子を選択的に動
作制御することにより、ライトリカバリ時の電流変化が
低減され、電源ノイズが低減される。このとき、ライト
リカバリ信号及びライトイネーブル信号に加えて、メモ
リセルへの書込みデータをも参照して、対応するライト
リカバリ用素子のインピーダンスを選択的に制御するこ
とにより、選択的に制御されるライトリカバリ用素子数
を更に少なくして、ライトリカバリ時の電流変化を低減
することができる。
Then, when the write recovery is performed immediately after the data writing, the write recovery control circuit is provided to selectively control the operation of the corresponding write recovery element based on the write recovery signal and the write enable signal. The current change at the time of write recovery is reduced and the power supply noise is reduced. At this time, in addition to the write recovery signal and the write enable signal, the write data to the memory cell is also referred to, and the impedance of the corresponding write recovery element is selectively controlled to selectively control the write. By further reducing the number of recovery elements, it is possible to reduce the change in current during write recovery.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例であるSRAMの主要部構成
ブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram of a main part of an SRAM according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記SRAMの主要部動作タイミング図であ
る。
FIG. 2 is an operation timing chart of a main part of the SRAM.

【図3】本発明の他の実施例であるSRAMの主要部構
成ブロック図である。
FIG. 3 is a configuration block diagram of a main part of an SRAM which is another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施例であるSRAMの主要部の
動作タイミング図である。
FIG. 4 is an operation timing chart of a main part of an SRAM which is another embodiment of the present invention.

【図5】上記SRAMを含むデータ処理装置の構成例ブ
ロック図である。
FIG. 5 is a block diagram of a configuration example of a data processing device including the SRAM.

【図6】上記SRAMの全体的な構成ブロック図であ
る。
FIG. 6 is an overall configuration block diagram of the SRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a メモリセル 1b メモリセル 2a 差動増幅回路 2b 差動増幅回路 3 ワード線 5 書込みドライバ 8a pチャンネル型MOSトランジスタ 9a pチャンネル型MOSトランジスタ 12a データ線 12b データ線 13a データ線 13b データ線 20 コモンデータ線 21 コモンデータ線 22a カラムスイッチ 22b カラムスイッチ 24a データ線負荷回路 24b データ線負荷回路 25a データ線負荷回路 25b データ線負荷回路 26a データ線負荷制御回路 26b データ線負荷制御回路 27a データ線負荷制御回路 27b データ線負荷制御回路 30 Xデコーダ及びドライバ 31 メモリセルアレイ 32 Yデコーダ及びドライバ 33 書込み回路 34 カラム系周辺回路 35 出力回路 40a ライトリカバリ制御回路 41a ライトリカバリ制御回路 40b ライトリカバリ制御回路 41b ライトリカバリ制御回路 42a ライトリカバリ回路 43a ライトリカバリ回路 42b ライトリカバリ回路 43b ライトリカバリ回路 44a バイポーラトランジスタ 45a バイポーラトランジスタ 48a pチャンネル型MOSトランジスタ 49a pチャンネル型MOSトランジスタ 402 DRAM 403 DRAM制御部 404 バックアップ制御部 405 ROM 406 SRAM 407 周辺装置制御部 408 外部記憶装置 409 キーボード 410 表示系 411 電源供給部 412 ディスプレイ装置 1a memory cell 1b memory cell 2a differential amplifier circuit 2b differential amplifier circuit 3 word line 5 write driver 8a p-channel type MOS transistor 9a p-channel type MOS transistor 12a data line 12b data line 13a data line 13b data line 20 common data line 21 common data line 22a column switch 22b column switch 24a data line load circuit 24b data line load circuit 25a data line load circuit 25b data line load circuit 26a data line load control circuit 26b data line load control circuit 27a data line load control circuit 27b data Line load control circuit 30 X decoder and driver 31 Memory cell array 32 Y decoder and driver 33 Write circuit 34 Column system peripheral circuit 35 Output circuit 40a Write recovery control circuit 41a write recovery control circuit 40b write recovery control circuit 41b write recovery control circuit 42a write recovery circuit 43a write recovery circuit 42b write recovery circuit 43b write recovery circuit 44a bipolar transistor 45a bipolar transistor 48a p-channel MOS transistor 49a p-channel MOS transistor 402 DRAM 403 DRAM control unit 404 Backup control unit 405 ROM 406 SRAM 407 Peripheral device control unit 408 External storage device 409 Keyboard 410 Display system 411 Power supply unit 412 Display device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丹場 展雄 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 辻 壮介 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Nobuo Tanba 2326 Imai, Ome-shi, Tokyo Inside the Device Development Center, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Sosuke Tsuji, 5-20-1 Mizumizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Hitate Super LSI Engineering Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルのデータ入出力端子に結合さ
れた複数のデータ線と、このデータ線に対応して設けら
れ、それぞれ対応するデータ線をプリチャージするため
の複数のデータ線負荷素子とを有し、カラム系選択のた
めのカラム選択信号に基づいて上記データ線を選択的に
コモンデータ線に結合させるためのカラムスイッチとを
含む半導体記憶装置において、上記カラム選択信号と、
上記メモリセルへのデータ書込みを指示するためのライ
トイネーブル信号とに基づいて、対応するデータ線負荷
素子のインピーダンスを選択的に制御するためのデータ
線負荷制御回路を含むことを特徴とする半導体記憶装
置。
1. A plurality of data lines coupled to data input / output terminals of a memory cell, and a plurality of data line load elements provided corresponding to the data lines for precharging the corresponding data lines. And a column switch for selectively coupling the data line to a common data line based on a column selection signal for column system selection, in the semiconductor memory device,
A semiconductor memory including a data line load control circuit for selectively controlling impedance of a corresponding data line load element based on a write enable signal for instructing data write to the memory cell. apparatus.
【請求項2】 メモリセルのデータ入出力端子に結合さ
れた複数のデータ線と、このデータ線に対応して設けら
れ、それぞれ対応するデータ線をプリチャージするため
の複数のデータ線負荷素子と、カラム系選択のためのカ
ラム選択信号に基づいて上記複数のデータ線を選択的に
コモンデータ線に結合させるためのカラムスイッチとを
含む半導体記憶装置において、上記カラム選択信号と、
上記メモリセルへのデータ書込みを指示するためのライ
トイネーブル信号と、上記メモリセルへの書込みデータ
とに基づいて、対応するデータ線負荷素子のインピーダ
ンスを選択的に制御するためのデータ線負荷制御回路を
含むことを特徴とする半導体記憶装置。
2. A plurality of data lines coupled to the data input / output terminals of the memory cell, and a plurality of data line load elements provided corresponding to the data lines and precharging the corresponding data lines. A semiconductor memory device including a column switch for selectively coupling the plurality of data lines to a common data line based on a column selection signal for selecting a column system,
A data line load control circuit for selectively controlling the impedance of the corresponding data line load element based on the write enable signal for instructing the data writing to the memory cell and the write data to the memory cell. A semiconductor memory device comprising:
【請求項3】 上記複数のデータ線に対応して設けら
れ、上記メモリセルへのデータ書込み直後にデータ線を
メモリセルデータ読出し状態の電位レベルに駆動するこ
とによってライトリカバリを行うための複数のライトリ
カバリ用素子と、このライトリカバリ動作を指示するた
めのライトリカバリ信号、及びメモリセルへのデータ書
込みを指示するためのライトイネーブル信号に基づい
て、対応するライトリカバリ用素子を選択的に動作制御
するためのライトリカバリ制御回路とを含む請求項1又
は2記載の半導体記憶装置。
3. A plurality of write lines provided corresponding to the plurality of data lines and for performing write recovery by driving the data lines to a potential level in a memory cell data read state immediately after writing data to the memory cells. Based on the write recovery element, the write recovery signal for instructing this write recovery operation, and the write enable signal for instructing the data writing to the memory cell, the operation control of the corresponding write recovery element is selectively performed. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a write recovery control circuit for performing the operation.
【請求項4】 上記複数のデータ線に対応して設けら
れ、上記メモリセルへのデータ書込み直後にデータ線を
メモリセルデータ読出し状態の電位レベルに駆動するこ
とによってライトリカバリを行うための複数のライトリ
カバリ用素子と、このライトリカバリ動作を指示するた
めのライトリカバリ信号、及びメモリセルへのデータ書
込みを指示するためのライトイネーブル信号、並びに上
記メモリセルへの書込みデータに基づいて、対応するラ
イトリカバリ用素子を選択的に動作制御するためのライ
トリカバリ制御回路とを含む請求項1又は2記載の半導
体記憶装置。
4. A plurality of write circuits provided corresponding to the plurality of data lines and for performing write recovery by driving the data lines to a potential level in a memory cell data read state immediately after writing data to the memory cells. Based on the write recovery element, a write recovery signal for instructing this write recovery operation, a write enable signal for instructing data write to the memory cell, and write data to the memory cell, a corresponding write operation is performed. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a write recovery control circuit for selectively controlling the operation of the recovery element.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009277341A (en) * 2008-05-14 2009-11-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd Write assist circuit for improving write margin of sram cell

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