JPH07256056A - 廃棄物質の処理方法 - Google Patents

廃棄物質の処理方法

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JPH07256056A
JPH07256056A JP6051780A JP5178094A JPH07256056A JP H07256056 A JPH07256056 A JP H07256056A JP 6051780 A JP6051780 A JP 6051780A JP 5178094 A JP5178094 A JP 5178094A JP H07256056 A JPH07256056 A JP H07256056A
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JP
Japan
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decomposition
discharge
gas
processing
chamber
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Application number
JP6051780A
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English (en)
Inventor
Setsuo Suzuki
節雄 鈴木
Etsuo Noda
悦夫 野田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters

Abstract

(57)【要約】 【目的】 除去率や分解率が高く、より効率的な処理が
安定的に行える廃棄物質の処理方法を提供する。 【構成】 処理容器２１の内部を窓２４によって、高電
圧電極２２に密着した誘電体板２３が内面側に露出して
いる放電室２５と分解処理室２６とに区画すると共に、
放電室２５内に多数の開口を有する放電電極２７を誘電
体板２３に対向して設け、また分解処理室２６に加熱器
３３を備えた処理ガス導入管３０と処理ガス排出管３４
を取着して構成し、加熱器３３で熱励起させたＮＯX 、
ＳＯX を含む燃焼排ガスを分解処理室２６に導入し、こ
こで誘電体障壁放電に伴い発生した真空紫外光を照射し
て光解離させ多量のフリーラジカルを発生させて分解し
ＮＯX 、ＳＯX を無害化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光や放電プラズマを利
用した廃棄物質の処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、燃焼排ガス中のＮＯX 、ＳＯX 等
に起因する酸性雨による森林破壊やフロン（フッ素化炭
化水素）によるオゾン層の破壊、生物体内に濃縮され生
物に害を与えるＰＣＢ（ポリ塩化ビフェニール混合物）
による環境汚染などの有害産業廃棄物質による種々の自
然破壊が問題になっている。このような中で地球環境保
全技術として有害産業廃棄物質を無害化するための廃棄
物質の処理が注目されている。
【０００３】以下、廃棄物質の処理について、ＮＯX 、
ＳＯX の処理及びフロンの分解処理に関する従来の技術
を図１４及び図１５を参照して説明する。
【０００４】先ず、燃焼排ガス中の廃棄物質であるＮＯ
X 、ＳＯX の処理について図１４により説明する。図１
４は火力発電の燃焼排ガスを処理する場合の処理システ
ムの概略を示す構成図で、石炭や原油等のボイラ１での
燃焼によって発生した燃焼排ガスは、１５０℃程度の温
度で電気集塵装置２に送り込まれ、ここで灰分や未燃カ
ーボンなどの塵が捕集され、捕集された灰分等の塵は灰
処理装置３で処理される。
【０００５】一方、灰分等が取り除かれた燃焼排ガスは
冷却器４によって冷却され、その後、アンモニア添加装
置５により微量のアンモニアが添加されて脱硝・脱硫処
理室６の反応容器７に導入される。反応容器７では電子
ビーム発生装置８からの高速の電子ビームが照射され、
この電子ビームの照射によって燃焼排ガス中のＮＯX、
ＳＯX が酸化され、硝酸、硫酸の中間生成物が発生し、
混合したアンモニアにより硝安（硝酸アンモニウム）と
硫安（硫酸アンモニウム）が生成される。
【０００６】この生成された硝安と硫安は生成物捕集装
置９でそれぞれ回収され、硝安、硫安が回収された後の
清浄化された燃焼排ガスは煙突１０から大気中に排出さ
れる。なお、１１は燃焼排ガスの流路にそれぞれ挿入さ
れた送風機である。
【０００７】そして、上記の電子ビームの照射による燃
焼排ガス中のＮＯX 、ＳＯX の処理の主要反応スキーム
は以下のように示される。すなわち、 フリーラジカル（反応性化学種）〔（Ｏ＊）、（ＯＨ
＊）〕の形成 Ｏ2 ＋ｅ → ２（Ｏ＊）＋ｅ Ｈ2 Ｏ＋ｅ → （ＯＨ＊）＋Ｈ＋ｅ ＮＯX の酸化と硝酸の生成 ＮＯ＋（Ｏ＊） → ＮＯ2 ＮＯ2 ＋（ＯＨ＊） → ＨＮＯ3 ＮＯ2 ＋（ＯＨ＊） → ＨＮＯ3 ＳＯX の酸化と中間生成物（ＨＳＯ3 ＊）及び硫酸の生
成 ＳＯ2 ＋（Ｏ＊） → ＳＯ3 ＳＯ3 ＋Ｈ2 Ｏ → Ｈ2 ＳＯ4 ＳＯ2 ＋（ＯＨ＊） → （ＨＳＯ3 ＊） （ＨＳＯ3 ＊）＋（ＯＨ＊） → Ｈ2 ＳＯ4 電子ビームの役割は上述した反応式の中でフリーラジカ
ル〔（Ｏ＊）、（ＯＨ＊）〕の形成にある。
【０００８】なお、アンモニアと生成された硝酸及び硫
酸によって、硝安（硝酸アンモニウム：ＮＨ4 ＳＯ4 ）
と硫安（硫酸アンモニウム：（ＮＨ4 ）2 ＳＯ4 ）がそ
れぞれ生成される。
【０００９】しかしながら上記の従来技術においては、
フリーラジカルを形成する電子ビーム発生装置８が高価
であり、これによって処理システムのコストが引き上げ
られてしまう。また電子ビームを発生させるのに数１０
０ｋＶの高電圧を使用するため、放射線管理等の安全面
で十分な対応処置を講じる必要があった。
【００１０】さらに、電子ビーム発生装置８から反応容
器７内へ電子ビームを取り出す窓は、取り出し効率の面
からベリリウム等の薄膜で形成する必要がある。この薄
膜で形成された窓は破壊し易く、寿命が短くて効率的な
脱硝・脱硫処理運転を行い難いものであった。
【００１１】また、上記構成のものでは比較的高い除去
率でＮＯX 、ＳＯX の除去が行えるものの十分なものと
はいえず、より効率的な分解除去が行えると共に除去率
が高く、寿命が長く、安全且つ安価な処理方法及び処理
装置の実現が求められている。
【００１２】次に、廃棄物質であるフロンの分解処理に
ついて図１５により説明する。図１５は処理装置の要部
の縦断面図で、１２は筒状の分解処理室で、その外側に
は高周波コイル１３が配置されている。また分解処理室
１２の片端側にはアルゴンガスを導入するためのガス導
入口１４と、処理するフロンを導入するフロン導入口１
５が設けられている。
【００１３】このような構成であるのでアルゴンガスが
導入された大気圧の分解処理室１２には、高周波による
誘導加熱によってアークプラズマ（高温プラズマ）１６
が形成される。このアークプラズマ１６の中心温度は約
１００００℃程度に達し、ここに導入されたフロンは熱
分解される。
【００１４】そして、フロンの分解処理によって生成さ
れた分解生成物は分解処理室１２の他端側から排出され
る。なお、添加した水によってフロンの分解率が向上
し、分解生成物は酸化し炭酸ガス等の気体状になって排
出されて回収される。
【００１５】すなわち、このときの反応式は ＣＣｌ3 Ｆ＋Ｈ2 Ｏ → ＣＯ2 ＋３ＨＣｌ＋ＨＦ となる。
【００１６】しかし、アークプラズマ１６によって大量
のフロンを分解しようとする場合には、大容積の放電プ
ラズマが必要となってくるので分解処理室１２を大きく
しなければならないが、放電室である分解処理室１２を
大きくするとアーク放電が部分的に形成されるなどして
不安定になってしまう。その結果、十分に高い温度が得
られず分解率も低下し、分解処理能力が低下する。
【００１７】また、大量のフロンを高い分解率で効率よ
く分解処理しようとすると、上述の構成のような比較的
分解処理室１２が小さい装置を多数並列に稼働させなけ
ればならず、装置コストが高いものとなると共に運転も
繁雑なものとなってしまう。
【００１８】さらに、廃棄物質のＰＣＢについては、こ
れを無害化する有効な処理技術の実現が望まれている。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】上記のような状況に鑑
みて本発明はなされたもので、その目的とするところは
除去率や分解率が高く、より効率的な処理が安定的に行
える廃棄物質の処理方法を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明の廃棄物質の処理
方法は、廃棄物質を分解処理するに際し、廃棄物質を加
熱した後または加熱と同時に光を照射し、熱励起させ光
解離させて分解処理するようにしたことを特徴とするも
のであり、さらに、廃棄物質が少なくともＮＯX 、ＳＯ
X 、クロロフルオロカーボン、ポリ塩化ビフェニール混
合物のいずれかであることを特徴とするものであり、ま
た、廃棄物質を分解処理するに際し、廃棄物質に光を照
射して光解離させ、さらに光照射の後に加熱または冷却
するようにしたことを特徴とするものであり、また、廃
棄物質を分解処理するに際し、廃棄物質を加熱した後ま
たは加熱と同時に光を照射して熱励起させ光解離させ、
さらに光照射の後に加熱または冷却するようにしたこと
を特徴とするものであり、また廃棄物質の処理装置は、
気密に形成された分解処理室と、この分解処理室内に廃
棄物質を含む廃棄ガスを導入する導入口と、分解処理室
内に導入された廃棄物質を含む廃棄ガスに分解処理室外
から光を照射する窓と、廃棄物質を含む廃棄ガスに光を
照射する前または照射と同時に加熱する加熱部と、光の
照射によって分解された廃棄物質の分解生成物質と廃棄
ガスを分解処理室内から排出する排出口とを備えたこと
を特徴とするものであり、また、気密に形成された分解
処理室と、この分解処理室内に廃棄物質を含む廃棄ガス
を導入する導入口と、分解処理室内に導入された廃棄物
質を含む廃棄ガスに分解処理室外から光を照射する窓
と、廃棄物質を含む廃棄ガスを光を照射した後に加熱ま
たは冷却する加熱冷却部と、光の照射と加熱または冷却
によって分解された廃棄物質の分解生成物質と廃棄ガス
を分解処理室内から排出する排出口とを備えたことを特
徴とするものであり、また、気密に形成された分解処理
室と、この分解処理室内に廃棄物質を含む廃棄ガスを導
入する導入口と、分解処理室内に導入された廃棄物質を
含む廃棄ガスに外部光源からの光を照射する窓と、廃棄
物質を含む廃棄ガスに前記光を照射する前または照射と
同時に加熱する加熱部と、光の照射を受けた廃棄物質を
加熱または冷却する加熱冷却部と、光の照射と加熱また
は冷却によって分解された廃棄物質の分解生成物質と廃
棄ガスを排出する排出口とを備えたことを特徴とするも
のであり、また、面状の高電圧電極と、この高電圧電極
の片面側に設けられた誘電体板と、この誘電体板に対向
して設けられ間に所定放電ガスの放電プラズマが生成さ
れるプラズマ生成領域を形成する多数の開口を有する放
電電極と、この放電電極の裏面側に配置された放電プラ
ズマの光に透明な窓と、この窓の裏面側に形成され廃棄
物質を含む廃棄ガスを流通させながら放電プラズマの光
照射によって廃棄物質を分解させると共に廃棄物質の分
解生成物質と廃棄ガスとを外部に排出するように構成し
た分解領域と、廃棄物質を含む廃棄ガスを放電プラズマ
の光照射前または光照射と同時に加熱する加熱部とを備
えたことを特徴とするものであり、また、面状の高電圧
電極と、この高電圧電極の片面側に設けられた誘電体板
と、この誘電体板に対向して設けられ間に所定放電ガス
の放電プラズマが生成されるプラズマ生成領域を形成す
る多数の開口を有する放電電極と、この放電電極の裏面
側に配置された放電プラズマの光に透明な窓と、この窓
の裏面側に形成され廃棄物質を含む廃棄ガスを流通させ
ながら放電プラズマの光照射によって廃棄物質を分解さ
せると共に廃棄物質の分解生成物質と廃棄ガスとを外部
に排出するように構成した分解領域と、廃棄物質を含む
廃棄ガスを放電プラズマの光照射後に加熱または冷却す
る加熱冷却部とを備えたことを特徴とするものであり、
また、面状の高電圧電極と、この高電圧電極の片面側に
設けられた誘電体板と、この誘電体板に対向して設けら
れ間に所定放電ガスの放電プラズマが生成されるプラズ
マ生成領域を形成する多数の開口を有する放電電極と、
この放電電極の裏面側に配置された放電プラズマの光に
透明な窓と、この窓の裏面側に形成され廃棄物質を含む
廃棄ガスを流通させながら放電プラズマの光照射によっ
て廃棄物質を分解させると共に廃棄物質の分解生成物質
と廃棄ガスとを外部に排出するように構成した分解領域
と、廃棄物質を含む廃棄ガスを放電プラズマの光照射前
または光照射と同時に加熱する加熱部と、廃棄物質を含
む廃棄ガスを放電プラズマの光照射後に加熱または冷却
する加熱冷却部とを備えたことを特徴とするものであ
り、また、面状の高電圧電極と、この高電圧電極の片面
側に設けられた誘電体板と、この誘電体板に対向して設
けられ間に所定放電ガスの放電プラズマが生成されるプ
ラズマ生成領域を形成する多数の開口を有する放電電極
と、この放電電極の裏面側に形成された廃棄物質を流通
させて放電プラズマ及び放電プラズマの光によって該廃
棄物質を分解させると共に廃棄物質の分解生成物質と放
電電極の開口を通過した放電ガスとを外部に排出するよ
うに構成した分解領域とを備えたことを特徴とするもの
である。
【００２１】
【作用】上記のように構成された廃棄物質の処理方法
は、有害産業廃棄物質を含む廃棄ガスを加熱することに
よって熱励起させ解離し易い状態とする。そして解離し
易い状態となったものに光を照射して光解離させること
で光解離速度が速くなり、分解率が高くなる。したがっ
て、フリーラジカルが多量に発生する。また、光解離に
よって行われる分解が吸熱反応か、発熱反応かによって
光照射して光解離させた後に加熱あるいは冷却して反応
を促進する。
【００２２】廃棄物質の処理装置では、廃棄物質を含む
産業廃棄ガスに、誘電体による誘電体障壁放電に伴い発
生した光を照射し光解離させて分解を行うと共に、放電
により生成された放電ガスのフリーラジカルによっても
分解を行うことで分解率を向上させている。また、誘電
体障壁放電を利用するものであるので、大容積のプラズ
マが安定に生成され、廃棄物質の分解処理能力も向上す
る。
【００２３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。先ず第１の実施例を図１により説明する。図１は
断面図であり、図１において２１は気密に構成された処
理容器であり、この処理容器２１の上部は平板状の高電
圧電極２２と、この高電圧電極２２の内面側に密着する
ように設けられたアルミナ、窒化ケイ素などのセラミッ
クの誘電体板２３によって閉塞されている。
【００２４】また、処理容器２１の内部は石英ガラス、
サファイヤガラス、弗化マグネシウムなどの窓２４によ
って放電室２５と分解領域である分解処理室２６とに、
放電室２５が高電圧電極２２側に形成されるように区画
されている。このように区画された放電室２５内には誘
電体板２３の平板面に対向するように多数の開口を有す
る例えばメッシュ状、あるいは多孔板状の放電電極２７
が設けられている。
【００２５】そして高電圧電極２２と放電電極２７との
間には交流高電圧電源２８によって所定の高電圧、例え
ば２０ｋＶ〜３０ｋＶの電圧が印加可能になっている。
また放電室２５内には放電ガスとして希ガス、あるいは
希ガスとハロゲンガスの組み合わせガスが導入されるよ
うになっている。
【００２６】一方、処理容器２１の下部は下板２９で閉
塞されており、下板２９の略中央部には処理ガス導入管
３０の片端が分解処理室２６内に開口するように取着さ
れている。この処理ガス導入管３０には、その分解処理
室２６に取着された片端の近傍に加熱電源３１に接続さ
れたヒータ３２が巻回されてなる加熱器３３が設けられ
ている。さらに、処理容器２１の分解処理室２６部分の
側壁には処理ガス排出管３４の片端が分解処理室２６内
に開口するように取着されている。
【００２７】このように構成されたものでは、高電圧電
源２８によって所定の高電圧を高電圧電極２２と放電電
極２７との間に印加することで誘電体板２３による誘電
体障壁放電が放電室２５内に引き起こされる。
【００２８】そして、放電に伴い発生する真空紫外光が
窓２４を透過して分解領域である分解処理室２６内に放
射される。なお、このとき使用する光の波長はキセノ
ン、クリプトン、アルゴン、ネオン、ヘリウム等の希ガ
スの共鳴線やエキシマからの発光、あるいは希ガスとフ
ッ素、塩素、臭素等のハロゲンガスの組み合わせガスの
エキシマからの発光を利用する。
【００２９】また、同時に加熱器３３によって処理ガス
導入管３０を流れる処理ガスが数１００℃の所定の高温
度となるように処理ガス導入管３０内を加熱しておく。
【００３０】このようにした状態で処理ガス導入管３０
に処理ガスとして、例えば有害産業廃棄物質であるＮＯ
X やＳＯX を含む燃焼排ガスを流す。燃焼排ガスは処理
ガス導入管３０を流れる間に所定温度にまで加熱され、
この加熱により含まれているＮＯX やＳＯX は熱励起さ
れる。
【００３１】その後、図中に実線矢印で流れ方向を示す
ように、燃焼排ガスは分解処理室２６内に下方から窓２
４に打ち当たるように流れて導入される。分解処理室２
６内で燃焼排ガスは窓２４の面に沿って中央部から外周
方向に向かって流れる。この窓２４の面に沿って流れる
間に放電室２５から窓２４を介して放射された光が、熱
励起されているＮＯX やＳＯX を含む燃焼排ガスに照射
され、ＮＯX やＳＯXは分解して無害化する。
【００３２】そして無害化した分解生成物質は燃焼排ガ
スと共に分解処理室２６の側壁に設けられた処理ガス排
出管３４を通じて排出される。なお、燃焼排ガスを連続
して処理ガス導入管３０から導入することで分解処理室
２６内を流れる間にＮＯX やＳＯX は分解し、処理ガス
排出管３４を通じて排出されることになり、連続処理が
可能となる。
【００３３】次に、上記の燃焼排ガスに含まれるＮＯX
やＳＯX が分解して無害化する分解処理過程について説
明する。先ず、燃焼排ガスを処理ガス導入管３０から導
入することでＮＯX やＳＯX などの分子状の廃棄物質の
ガスと、水や空気成分の酸素や窒素を含む燃焼排ガスは
加熱器３３を通過する際により高温に加熱される。これ
により分子状の廃棄物質等のガスは熱励起され、解離し
やすい状態になる。
【００３４】このように解離しやすい状態になった分子
状の廃棄物質等のガスに、窓２４を介して放射された光
を照射することで廃棄物質のＮＯX やＳＯX は光解離を
起こし、分解して無害の分解生成物質となる。このとき
放電室２５から窓２４を通過して分解処理室２６内に放
射される光は、酸素分子や水分子の分解が起こる吸収波
長以下の波長（およそ１８０ｎｍ以下）が要求される。
【００３５】しかし、レーザ等光強度が非常に強い場
合、必ずしも光吸収波長以下でなくてもよい。すなわ
ち、光強度が強い場合には吸収波長が長くても多光子吸
収が起こり、その結果、フリーラジカルが多量に発生
し、次ぎに続く後続反応が促進されて燃焼排ガス中のＮ
ＯX 、ＳＯX が分解される。
【００３６】このような燃焼排ガス中のＮＯX 、ＳＯX
が熱励起され光照射によって光解離を起こして分解し、
無害の分解生成物質となる時の主要反応スキームは以下
のように示される。すなわち、 フリーラジカル〔（Ｏ＊）、（ＯＨ＊）〕の形成 Ｏ2 ＋ｈν → ２（Ｏ＊）＋ｈν Ｈ2 Ｏ＋ｈν → （ＯＨ＊）＋Ｈ＋ｈν ここで、ｈ：プランク定数 ν：周波数 ＮＯX の酸化と硝酸の生成 ＮＯ＋（Ｏ＊） → ＮＯ2 ＮＯ2 ＋（ＯＨ＊） → ＨＮＯ3 ＮＯ2 ＋（ＯＨ＊） → ＨＮＯ3 ＳＯX の酸化と中間生成物（ＨＳＯ3 ＊）及び硫酸の生
成 ＳＯ2 ＋（Ｏ＊） → ＳＯ3 ＳＯ3 ＋Ｈ2 Ｏ → Ｈ2 ＳＯ4 ＳＯ2 ＋（ＯＨ＊） → （ＨＳＯ3 ＊） （ＨＳＯ3 ＊）＋（ＯＨ＊） → Ｈ2 ＳＯ4 以上のように本実施例は構成されているので、熱励起さ
れた燃焼排ガス中のＮＯX 、ＳＯX が光解離を起こして
分解し、無害の分解生成物質となり、熱励起されていな
いものに比べて光解離速度が速くなり、分解率がより高
くなる。
【００３７】さらに、電子ビーム発生装置を用いるもの
ではないので装置コストは安価なものとなり、装置・部
品等が破損するような虞もなく、また放射線管理の問題
もなく扱いやすく、安全に処理が行えるものである。
【００３８】次に第２の実施例を図２により説明する。
なお、以下の各実施例の説明では、第１の実施例と同一
構成要素には同一符号を付し、重複する説明を省略す
る。図２は断面図であり、第１の実施例とは処理ガス導
入管に設けられた加熱器の構成が異なる。
【００３９】図２において、処理容器２１の下板２９に
取着された処理ガス導入管３０には、その分解処理室２
６に取着された片端の近傍に空胴共振器でなる加熱部３
５が設けられている。
【００４０】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えばＮＯX やＳＯX を含む燃焼排ガスは、処理ガ
ス導入管３０から分解処理室２６に導入される際、加熱
器３５の空胴共振器での高周波による誘導加熱によって
数１００℃の所定温度となるように加熱される。この加
熱により含まれているＮＯX やＳＯX は熱励起される。
【００４１】その後、燃焼排ガスは分解処理室２６内に
導入され、放電室２５から窓２４を介して放射された誘
電体障壁放電に伴い発生した真空紫外光が、熱励起され
ているＮＯX やＳＯX を含む燃焼排ガスに照射される。
そして、ＮＯX やＳＯX は第１の実施例と同様に光解離
を起こして分解し無害化する。無害化した分解生成物質
は燃焼排ガスと共に処理ガス排出管３４を通じて排出さ
れる。なお、図中の実線矢印は燃焼排ガスの流れる方向
を示す。
【００４２】以上のように構成されているので、本実施
例においても第１の実施例と同様の作用・効果が得られ
る。
【００４３】次に第３の実施例を図３により説明する。
図３は断面図であり、第１の実施例とは処理ガス導入管
の構成が異なる。図３において、気密に構成された処理
容器３６は下部が下板３７で閉塞されており、この処理
容器３６の分解処理室２６部分の側壁には処理ガス導入
管３８の片端が分解処理室２６内に開口するように、処
理ガス排出管３４の取着位置に対向するように取着され
ている。そして処理ガス導入管３８には、その分解処理
室２６に取着された片端の近傍に加熱電源３１に接続さ
れたヒータ３２が巻回されてなる加熱器３３が設けられ
ている。
【００４４】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えばＮＯX やＳＯX を含む燃焼排ガスは、処理ガ
ス導入管３８から分解処理室２６に導入される際、加熱
器３３によって数１００℃の所定温度となるように加熱
され、この加熱により含まれているＮＯX やＳＯX は熱
励起される。
【００４５】その後、図中に実線矢印で流れ方向を示す
ように、燃焼排ガスは分解処理室２６内に側方から導入
され、窓２４の面に沿って対向する側壁方向に向かって
流れる。この窓２４の面に沿って流れる間に放電室２５
から窓２４を介して放射された誘電体障壁放電に伴い発
生した真空紫外光が、熱励起されているＮＯX やＳＯX
を含む燃焼排ガスに照射される。そして、ＮＯX やＳＯ
X は第１の実施例と同様に光解離を起こして分解し無害
化する。無害化した分解生成物質は燃焼排ガスと共に処
理ガス排出管３４を通じて排出される。
【００４６】以上のように構成されているので、本実施
例においても第１の実施例と同様の作用・効果が得られ
る。
【００４７】次に第４の実施例を図４により説明する。
図４は断面図である。図４において、３９は内部に分解
処理室を形成する略円筒状の処理容器であり、この処理
容器３９の両端は端板４０，４１によって気密に閉塞さ
れている。そして片側の端板４０には処理ガス導入管４
２が取着されており、他側の端板４１には処理ガス排出
管４３が取着されている。
【００４８】また、処理容器３９の端板４０側の外周面
には加熱器４４のヒータ４５が巻回され、ヒータ４５に
は加熱電源４６が接続されている。これにより処理容器
３９の端板４０側内部に熱励起領域４７が形成される。
【００４９】さらに処理容器３９の端板４１と加熱器４
４が設けられている部分との間の壁面には、石英ガラ
ス、サファイヤガラス、弗化マグネシウムなどでなる窓
４８が設けられている。そして窓４８を介して図示しな
い外部光源から図中に破線で示すように光を導入し、処
理容器３９の端板４１側内部の分解領域４９に光を照射
するようになっている。
【００５０】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えば燃焼排ガスに含まれるＮＯX やＳＯX を分解
処理するに際し、窓４８を通じて外部光源からの光が処
理容器３９内部の分解領域４９に放射する。このとき分
解領域４９に照射される光は、酸素分子や水分子の分解
が起こる吸収波長以下の波長（およそ１８０ｎｍ以下）
のインコヒーレント光でも、コヒーレント光（レーザ
光）でもよい。
【００５１】そして光がレーザ光のように照射強度が非
常に強い場合には、必ずしも１８０ｎｍ以下の波長でな
くてもよい。すなわち、照射強度が強い場合には吸収波
長が長くても多光子吸収が起こり、その結果、フリーラ
ジカルが多量に発生することになるからである。また、
レーザについては炭酸ガスレーザ、銅蒸気レーザ、エキ
シマレーザ等の各種レーザを用いることができる。
【００５２】また、同時に処理容器３９の端板４０側内
部の熱励起領域４７を加熱器４４によって数１００℃の
所定の高温度となるように加熱しておく。
【００５３】このようにした状態で処理ガス導入管４２
から処理ガスのＮＯX やＳＯX を含む燃焼排ガスを処理
容器３９の端板４０側の熱励起領域４７内に流す。燃焼
排ガスは熱励起領域４７を端板４０側から端板４１側方
向に向けて流れる間に所定温度にまで加熱され、この加
熱により含まれているＮＯX やＳＯX は熱励起される。
【００５４】その後、ＮＯX やＳＯX が熱励起された燃
焼排ガスは、分解領域４９に流れ、この分解領域４９で
窓４８を通じて外部光源から分解領域４９内に放射され
た光が、熱励起されたＮＯX やＳＯX を含むに燃焼排ガ
スに照射される。そして、この光照射によって第１の実
施例と同様にＮＯX やＳＯX は光解離を起こして分解し
無害化する。この分解による分解生成物質は燃焼排ガス
と共に他側の端板４１に取着された処理ガス排出管４３
を通じて排出される。
【００５５】以上のように構成されているので、本実施
例においても第１の実施例と同様の作用・効果が得られ
る。
【００５６】次に第５の実施例を図５により説明する。
図５は断面図であり、第１及び第３の実施例とは処理ガ
スの加熱器と放電室の構成が異なる。図５において、気
密に構成された処理容器５０は下部が下板３７で閉塞さ
れており、この下板３７の外面には加熱器５１のヒータ
５２が配設れ、ヒータ５２には加熱電源５３が接続され
ている。これにより処理容器５０の下部に設けられた分
解処理室２６内が所定温度となるようになっている。そ
して分解処理室２６部分の側壁には、処理ガス導入管５
４が処理ガス排出管３４に対向して取着されている。
【００５７】また、処理容器５０上部の放電室２５部分
の側壁には、放電ガス導入管５５とこれに対向して放電
ガス排出管５６が取着されていて、図中に細実線で示す
ように放電ガスが流れるようになっている。
【００５８】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えばＮＯX やＳＯX を含む燃焼排ガスは、処理ガ
ス導入管５４から分解処理室２６内に導入される。そし
て、図中に太実線矢印で流れ方向を示すように窓２４の
面に沿って対向する側壁方向に向かって流れる間に、加
熱器５１によって数１００℃の所定温度となるように加
熱されて、含まれているＮＯX やＳＯX が熱励起され
る。
【００５９】また、窓２４の面に沿って流れる間に加熱
と同時に放電室２５から窓２４を介して分解処理室２６
内に放射された誘電体障壁放電に伴い発生した真空紫外
光が燃焼排ガスに照射され、含まれているＮＯX やＳＯ
X が光解離を起こして分解し無害化する。無害化した分
解生成物質は燃焼排ガスと共に処理ガス排出管３４を通
じて排出される。
【００６０】以上のように構成されているので、本実施
例においても第１の実施例と同様の作用・効果が得られ
ると共に、熱励起と光解離を同時に行うものであるので
装置をコンパクトなものにすることができる。
【００６１】次に第６の実施例を図６により説明する。
図６は断面図である。図６において、５７は内部に分解
処理室を形成する略円筒状の処理容器であり、この処理
容器５７の両端は、石英ガラス、サファイヤガラス、弗
化マグネシウムなどでなる窓５８によって気密に閉塞さ
れている。そして窓５８を介して図示しない外部光源か
ら図中に破線で示すように光を導入し、処理容器５７内
の分解領域５９に光を照射するようになっている。
【００６２】一方、処理容器５７の側壁には処理ガス導
入管６０と処理ガス排出管６１が、両端部にそれぞれ軸
方向に離間して取着されていて、図中に実線で示すよう
に処理ガスが流れるようになっている。また、処理容器
５７の処理ガス導入管６０と処理ガス排出管６１がそれ
ぞれ取着されている位置に挟まれた中間部の外周面に
は、加熱器４４のヒータ４５が巻回され、ヒータ４５に
は加熱電源４６が接続されている。これにより処理容器
５７内の分解領域５９が加熱されるようになっている。
【００６３】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えば燃焼排ガスに含まれるＮＯX やＳＯX を分解
処理するに際し、窓５８を通じて外部光源からの光が処
理容器５７内部の分解領域５９に放射する。このとき分
解領域５９に照射される光は、第４に実施例と同様に酸
素分子や水分子の分解が起こる吸収波長以下の波長（お
よそ１８０ｎｍ以下）インコヒーレント光でも、コヒー
レント光（レーザ光）でもよい。そして光がレーザ光の
ように照射強度が非常に強い場合には、必ずしも１８０
ｎｍ以下の波長でなくてもよい。
【００６４】また、同時に処理容器５７内の分解領域５
９が加熱器４４によって数１００℃の所定の高温度とな
るように加熱しておく。
【００６５】このようにした状態で処理ガス導入管６０
から処理ガスのＮＯX やＳＯX を含む燃焼排ガスを高温
度となっている処理容器５７内の分解領域５９に流す。
燃焼排ガスは図中に実線矢印で示すように分解領域５９
を軸方向に流れる間に所定温度にまで加熱され、この加
熱により熱励起される。そして同時に、窓５８を通じて
外部光源から分解領域５９内に放射された光が熱励起さ
れたＮＯX やＳＯX を含む燃焼排ガスに照射され、第１
の実施例と同様に光解離を起こしてＮＯX やＳＯX を分
解し無害化し、分解生成物質は燃焼排ガスと共に処理ガ
ス排出管６１を通じて排出される。
【００６６】以上のように構成されているので、本実施
例においても第５の実施例と同様の作用・効果が得られ
る。
【００６７】次に第７の実施例を図７により説明する。
図７は断面図である。図７において、６２は気密に構成
された処理容器であり、この処理容器６２の下部に形成
された分解処理室２６部分の側壁には処理ガス導入管６
３の片端が分解処理室２６内に開口するように取着され
ている。
【００６８】また、処理容器６２の下部を閉塞する下板
２９の略中央部には処理ガス排出管６４の片端が分解処
理室２６内に開口するように取着されている。この処理
ガス排出管６４には、分解処理室２６に取着された片端
近傍に加熱電源６５に接続されたヒータ６６が巻回され
てなる加熱器６７が設けられている。
【００６９】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えば燃焼排ガスに含まれるＮＯX を分解処理する
に際し、放電室２５内に誘電体障壁放電が引き起こさ
れ、放電に伴い発生する真空紫外光が窓２４を透過して
分解領域である分解処理室２６内に放射される。また処
理ガス排出管６４内が加熱器６７によって所定の温度に
保持されている。
【００７０】そして、処理ガス導入管６３からＮＯX を
含む燃焼排ガスが分解処理室２６内に導入され、外周部
から中央部に向かって窓２４の面に沿って流れる。窓２
４の面に沿って流れる間に燃焼排ガスに窓２４を透過し
て来た光が照射されて光解離を起こしてＮＯX は分解す
る。
【００７１】その後、光解離を起こしているＮＯX を含
む燃焼排ガスは所定の温度に保持されている処理ガス排
出管６４に流れ、加熱される。この加熱によって、ＮＯ
X の酸化による吸熱反応の分解過程が促進されてＮＯX
は無害化し、分解生成物質は燃焼排ガスと共に処理ガス
排出管６４を通じて排出される。
【００７２】以上のように構成されているので、本実施
例においては分解過程が吸熱反応である廃棄物質の分解
処理は分解過程が促進され分解率が増加し、分解が迅速
且つ有効に行えて分解効率が向上したものとなる。
【００７３】次に第８の実施例を図８により説明する。
図８は断面図であり、第７の実施例とは処理ガス排出管
に加熱器に替えて冷却器を設けた点で構成を異にする。
図８において、処理容器６２の下部を閉塞する下板２９
の略中央部に設けられた処理ガス排出管６４には、分解
処理室２６に取着された片端近傍に冷却器６８が設けら
れている。
【００７４】この冷却器６８は、処理ガス排出管６４の
外面との間に冷媒通路６９が形成されるように設けられ
た外筒部材７０と、外筒部材７０に離間して取着され冷
媒通路６９に各片端が開口する冷媒導入管７１、冷媒排
出管７２とによって構成されている。そして図示しない
冷却源から冷媒が冷媒導入管７１を通じて冷媒通路６９
に供給され、冷媒排出管７２から冷却源に戻るように流
れるようになっている。
【００７５】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えば燃焼排ガスに含まれるＳＯX を分解処理する
に際し、放電室２５内に誘電体障壁放電が引き起こさ
れ、放電に伴い発生する真空紫外光が窓２４を透過して
分解領域である分解処理室２６内に放射される。また処
理ガス排出管６４内が冷却器６８によって所定の温度に
保持されている。
【００７６】そして、処理ガス導入管６３からＳＯX を
含む燃焼排ガスが分解処理室２６内に導入され、外周部
から中央部に向かって窓２４の面に沿って流れる。窓２
４の面に沿って流れる間に燃焼排ガスに窓２４を透過し
て来た光が照射されて光解離を起こしてＳＯX は分解す
る。
【００７７】その後、光解離を起こしているＳＯX を含
む燃焼排ガスは所定の温度に保持されている処理ガス排
出管６４に流れ、冷却される。この冷却によって、ＳＯ
X の酸化による発熱反応の分解過程が促進されてＳＯX
は無害化し、分解生成物質は燃焼排ガスと共に処理ガス
排出管６４を通じて排出される。
【００７８】以上のように構成されているので、本実施
例においては分解過程が発熱反応である廃棄物質の分解
処理が促進され分解率が増加し、分解が迅速且つ有効に
行えて分解効率が向上したものとなる。
【００７９】次に第９の実施例を図９により説明する。
図９は断面図である。図９において、７３は内部に分解
処理室を形成する略円筒状の処理容器であり、この処理
容器７３の両端は処理ガス導入管４２及び処理ガス排出
管４３が取着された端板４０，４１によって気密に閉塞
されている。
【００８０】また、処理容器７３の端板４１側の外面に
は加熱器７４のヒータ７５が巻回され、ヒータ７５には
加熱電源７６が接続されている。これにより処理容器７
３の端板４１側内部が所定温度となるようになってい
る。
【００８１】さらに処理容器７３の端板４０と加熱器７
４が設けられた部分との間の壁面には、図示しない外部
光源から図中に破線で示すように光を導入する石英ガラ
ス、サファイヤガラス、弗化マグネシウムなどでなる窓
４８が設けられている。
【００８２】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えば燃焼排ガスに含まれるＮＯX を分解処理する
に際し、窓４８を通じて外部光源からの光が処理容器７
３内部の分解領域４９に放射する。このとき分解領域４
９に照射される光は、酸素分子や水分子の分解が起こる
吸収波長以下の波長（およそ１８０ｎｍ以下）のインコ
ヒーレント光でも、コヒーレント光（レーザ光）でもよ
い。
【００８３】また、処理容器７３の端板４１側内部を加
熱器７４によって所定温度となるように加熱しておく。
【００８４】このようにした状態で処理ガス導入管４２
から処理ガスのＮＯX を含む燃焼排ガスを処理容器７３
の内部に流す。燃焼排ガスは端板４０側から端板４１側
方向に向けて分解領域４９を流れる間に、窓４８を通じ
て外部光源から分解領域４９内に放射された光がＮＯX
を含む燃焼排ガスに照射され、燃焼排ガスは光解離を起
こしてＮＯX は分解する。
【００８５】その後、光解離を起こしているＮＯX を含
む燃焼排ガスは所定の温度に保持されている処理容器７
３の端板４１側内部を流れ、加熱される。この加熱によ
って、ＮＯX の酸化による吸熱反応の分解過程が促進さ
れてＮＯX は無害化し、分解生成物質は燃焼排ガスと共
に端板４１の処理ガス排出管４３を通じて排出される。
【００８６】以上のように構成されているので、本実施
例においても第７の実施例と同様の作用・効果が得られ
る。
【００８７】次に第１０の実施例を図１０により説明す
る。図１０は断面図であり、第９の実施例とは処理容器
に加熱器に替えて冷却器を設けた点で構成を異にする。
図１０において、略円筒状の処理容器７３の両端は処理
ガス導入管４２及び処理ガス排出管４３が取着された端
板４０，４１によって気密に閉塞され、処理容器７３の
端板４１側の外面には冷却器７７が設けられている。
【００８８】この冷却器７７は、処理容器７３の外面と
の間に冷媒通路７８が形成されるように設けられた外筒
部材７９と、外筒部材７９に離間して取着され冷媒通路
７８に各片端が開口する冷媒導入管８０、冷媒排出管８
１とによって構成されている。そして図示しない冷却源
から冷媒が冷媒導入管８０を通じて冷媒通路７８に供給
され、冷媒排出管８１から冷却源に戻るように流れるよ
うになっていて、冷媒が冷媒通路７８を流れることによ
って処理容器７３の端板４１側内部が所定温度となるよ
うになっている。
【００８９】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えば燃焼排ガスに含まれるＳＯX を分解処理する
に際し、窓４８を通じて外部光源からの光が処理容器７
３内部の分解領域４９に放射する。このとき分解領域４
９に照射される光は、酸素分子や水分子の分解が起こる
吸収波長以下の波長（およそ１８０ｎｍ以下）のインコ
ヒーレント光でも、コヒーレント光（レーザ光）でもよ
い。また、処理容器７３の端板４１側内部を冷却器７７
によって所定温度となるように冷却しておく。
【００９０】このようにした状態で処理ガス導入管４２
から処理ガスのＳＯX を含む燃焼排ガスを処理容器７３
の内部に流す。燃焼排ガスは端板４０側から端板４１側
方向に向けて分解領域４９を流れる間に、窓４８を通じ
て外部光源から分解領域４９内に放射された光がＳＯX
含む燃焼排ガスに照射され、燃焼排ガスは光解離を起こ
してＳＯX は分解する。
【００９１】その後、光解離を起こしているＳＯX を含
む燃焼排ガスは所定の温度に保持されている処理容器７
３の端板４１側内部を流れ、冷却される。この冷却によ
って、ＳＯX の酸化による発熱反応の分解過程が促進さ
れてＳＯX は無害化し、分解生成物質は燃焼排ガスと共
に端板４１の処理ガス排出管４３を通じて排出される。
【００９２】以上のように構成されているので、本実施
例においても第８の実施例と同様の作用・効果が得られ
る。
【００９３】次に第１１の実施例を図１１により説明す
る。図１１は断面図である。図１１において、８２は気
密に構成された処理容器であり、この処理容器８２の下
部に形成された分解処理室２６部分の側壁には、加熱器
３３が設けられた処理ガス導入管３８の片端が分解処理
室２６内に開口するように取着されている。
【００９４】また、処理容器８２の下部を閉塞する下板
２９の略中央部には処理ガス排出管６４の片端が分解処
理室２６内に開口するように取着されている。そして、
処理ガス排出管６４には、分解処理室２６に取着された
片端近傍に加熱冷却器８３が設けられていて、処理ガス
排出管６４内が所定温度となるようになっている。
【００９５】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えば燃焼排ガスに含まれるＮＯX あるいはＳＯX
等を分解処理するに際し、処理ガス導入管３８内が加熱
器３３によって数１００℃の所定温度となるように加熱
され、この温度が保持される。また、放電室２５内には
誘電体障壁放電が引き起こされ、放電に伴い発生する真
空紫外光が窓２４を透過して分解領域である分解処理室
２６内に放射される。
【００９６】さらに処理ガス排出管６４内が加熱冷却器
８３によって所定の温度に保持される。すなわち、廃棄
物質がＮＯX 等のように酸化して無害化する分解処理が
吸熱反応である場合には、加熱冷却器８３を加熱器とし
て作動させる。また、廃棄物質がＳＯX 等のように酸化
して無害化する分解処理が発熱反応である場合には、加
熱冷却器８３を冷却器として作動させる。
【００９７】そして、例えば含まれている廃棄物質がＮ
ＯX の場合、ＮＯX を含む燃焼排ガスは、処理ガス導入
管３８内で加熱器３３によって数１００℃の所定温度と
なるように加熱され、熱励起されて分解処理室２６に導
入される。
【００９８】分解処理室２６内に導入された燃焼排ガス
は、図中に実線矢印で流れ方向を示すように、外周部か
ら中央部に向かって窓２４の面に沿って流れる。窓２４
の面に沿って流れる間に放電室２５から窓２４を介して
放射された誘電体障壁放電に伴い発生した真空紫外光が
燃焼排ガスに照射されて光解離を起こしてＮＯX は分解
する。
【００９９】その後、光解離を起こしているＮＯX を含
む燃焼排ガスは加熱冷却器８３で所定の温度となるよう
加熱され保持されている処理ガス排出管６４に流れ、加
熱される。この加熱によって、ＮＯX の酸化による吸熱
反応の分解過程が促進されてＮＯX は無害化し、分解生
成物質は燃焼排ガスと共に処理ガス排出管６４を通じて
排出される。
【０１００】一方、例えば含まれている廃棄物質がＳＯ
X の場合、ＳＯX を含む燃焼排ガスは、処理ガス導入管
３８内で加熱器３３によって数１００℃の所定温度とな
るように加熱され、熱励起されて分解処理室２６に導入
される。
【０１０１】分解処理室２６内に導入された燃焼排ガス
は、図中に実線矢印で流れ方向を示すように、外周部か
ら中央部に向かって窓２４の面に沿って流れる。窓２４
の面に沿って流れる間に放電室２５から窓２４を介して
放射された誘電体障壁放電に伴い発生した真空紫外光が
燃焼排ガスに照射されて光解離を起こしてＳＯX は分解
する。
【０１０２】その後、光解離を起こしているＳＯX を含
む燃焼排ガスは加熱冷却器８３で所定の温度となるよう
冷却され保持されている処理ガス排出管６４に流れ、冷
却される。この冷却によって、ＳＯX の酸化による発熱
反応の分解過程が促進されてＳＯX は無害化し、分解生
成物質は燃焼排ガスと共に処理ガス排出管６４を通じて
排出される。
【０１０３】以上のように構成されているので、光解離
がこれを行う前の熱励起の実施で分解率が向上し、さら
に光を照射して光解離を行った後に分解過程が吸熱反
応、あるいは発熱反応であるかによって加熱もしくは冷
却することで、廃棄物質の分解処理の分解過程が促進さ
れ分解率が増加し、分解が迅速且つ有効に行えて分解効
率がより向上したものとなる。
【０１０４】次に第１２の実施例を図１２により説明す
る。図１２は断面図である。図１２において、８４は内
部に分解処理室を形成する略円筒状の処理容器であり、
この処理容器８４の両端は端板４０，４１によって気密
に閉塞されている。そして片側の端板４０には処理ガス
導入管４２が取着されており、他側の端板４１には処理
ガス排出管４３が取着されている。
【０１０５】また、処理容器８４の端板４０側の外周面
には加熱器４４が設けられており、これにより処理容器
８４の端板４０側内部に熱励起領域４７が形成される。
さらに、処理容器８４の端板４１側の外面には加熱冷却
器８５が設けられていて、処理容器８４の端板４１側内
部が所定温度になるようになっている。
【０１０６】またさらに、処理容器８４の加熱器４４が
設けられた部分と加熱冷却器８５が設けられた部分との
間の壁面には、図示しない外部光源から図中に破線で示
すように光を導入する石英ガラス、サファイヤガラス、
弗化マグネシウムなどでなる窓４８が設けられている。
【０１０７】このように構成されたものでは、処理ガ
ス、例えば燃焼排ガスに含まれるＮＯX あるいはＳＯX
等を分解処理するに際し、熱励起領域４７が加熱器４４
によって数１００℃の所定温度となるように加熱され、
この温度が保持される。また、窓４８を通じて外部光源
からの光が処理容器８４内部の分解領域４９に放射す
る。このとき分解領域４９に照射される光は、酸素分子
や水分子の分解が起こる吸収波長以下の波長（およそ１
８０ｎｍ以下）のインコヒーレント光でも、コヒーレン
ト光（レーザ光）でもよい。
【０１０８】さらに、処理容器８４内が加熱冷却器８５
によって所定の温度に保持される。すなわち、廃棄物質
がＮＯX 等のように酸化して無害化する分解処理が吸熱
反応である場合には、加熱冷却器８５を加熱器として作
動させる。また、廃棄物質がＳＯX 等のように酸化して
無害化する分解処理が発熱反応である場合には、加熱冷
却器８５を冷却器として作動させる。
【０１０９】そして、例えば含まれている廃棄物質がＮ
ＯX の場合、ＮＯX を含む燃焼排ガスは、熱励起領域４
７で加熱器４４によって数１００℃の所定温度となるよ
うに加熱され、熱励起されて分解領域４９に流れる。
【０１１０】分解領域４９に流れた熱励起された燃焼排
ガスには、窓４８を通じて外部光源から分解領域４９内
に放射された光が照射され、燃焼排ガスは光解離を起こ
してＮＯX は分解する。
【０１１１】その後、光解離を起こしているＮＯX を含
む燃焼排ガスは加熱冷却器８５で所定の温度となるよう
加熱され保持されている処理容器８４の端板４１側に流
れ、加熱される。この加熱によって、ＮＯX の酸化によ
る吸熱反応の分解過程が促進されてＮＯX は無害化し、
分解生成物質は燃焼排ガスと共に処理ガス排出管４３を
通じて排出される。
【０１１２】一方、例えば含まれている廃棄物質がＳＯ
X の場合、ＳＯX を含む燃焼排ガスは、熱励起領域４７
で加熱器４４によって数１００℃の所定温度となるよう
に加熱され、熱励起されて分解領域４９に流れる。
【０１１３】分解領域４９に流れた熱励起された燃焼排
ガスには、窓４８を通じて外部光源から分解領域４９内
に放射された光が照射され、燃焼排ガスは光解離を起こ
してＳＯX は分解する。
【０１１４】その後、光解離を起こしているＳＯX を含
む燃焼排ガスは加熱冷却器８５で所定の温度となるよう
加熱され保持されている処理容器８４の端板４１側に流
れ、加熱される。この加熱によって、ＳＯX の酸化によ
る吸熱反応の分解過程が促進されてＳＯX は無害化し、
分解生成物質は燃焼排ガスと共に処理ガス排出管４３を
通じて排出される。
【０１１５】以上のように構成されているので、本実施
例においても第１１の実施例と同様の作用・効果が得ら
れる。
【０１１６】なお、上記の各実施例の処理ガス導入管や
処理ガス排出管、処理容器に設けた加熱部は、上述のヒ
ータ加熱及び高周波による誘導加熱に限定されるもので
はなく、マイクロ波による誘導加熱やプラズマ加熱等で
あっても良い。
【０１１７】また、上記の各実施例では処理ガスを燃焼
排ガスとし、これに含まれるＮＯXあるいはＳＯX の分
解処理について説明したが、フロンやＰＣＢ等を処理ガ
スとすることによって、これらフロンやＰＣＢ等を分解
処理することができ、ＮＯXあるいはＳＯX の分解処理
におけると同様の効果が得られる。
【０１１８】なおまた、フロンの処理については、フロ
ンに水を加えて処理することでフロンの転化率が向上し
分解処理される。すなわち、このときのフロンと水蒸気
との反応は次のように表わされる。
【０１１９】さらにＰＣＢの処理については、ＰＣＢに
アルコールを加えて紫外光を照射することにより、塩素
（Ｃｌ）と分離し、アルコールに含まれる水素と反応さ
せ、ＨＣｌとしてＰＣＢに含まれる塩素を除去する。し
たがって光は、主にＰＣＢの１つの成分であるＣｌを解
離する役目を持つ。
【０１２０】次に第１３の実施例を図１３により説明す
る。図１３は断面図である。図１３において、８６は気
密に構成された処理容器であり、この処理容器８６の上
部は高電圧電極２２の内面側に密着するように設けられ
た誘電体板２３によって閉塞され、下部は下板３７で閉
塞されている。そして処理容器８６の内部は、多数の開
口を有する放電電極２７により高電圧電極２２側の放電
室２５と分解領域である分解処理室２６とに、上下に区
画されている。
【０１２１】また、処理容器８６の放電室２５部分の側
壁には、放電ガスとして希ガス、あるいは希ガスとハロ
ゲンガスの組み合わせガスを導入するための放電ガス導
入管５５の片端が放電室２５内に開口するように取着さ
れている。一方、分解処理室２６部分の側壁には、処理
ガスを導入するための処理ガス導入管５４の片端が分解
処理室２６内に開口するように取着され、さらに、処理
ガス導入管５４に対向する位置には、処理ガス排出管３
４の片端が同じく処理容器８６内の下部に開口するよう
に取着されている。
【０１２２】このように構成されたものでは、例えばフ
ロンを処理ガスとして分解処理する場合、放電ガス導入
管５５から放電ガスのアルゴンガスを放電室２５内に導
入して図中に細実線矢印で示すように流し、放電電極２
７の多数の開口を通過して分解処理室２６内に導かれ、
処理ガス排出管３４から排出させるようにし、放電室２
５内が所定の雰囲気となるようにする。
【０１２３】その後、高電圧電源２８によって所定の高
電圧、例えば２０ｋＶ〜３０ｋＶの電圧を高電圧電極２
２と放電電極２７との間に印加することで誘電体板２３
による誘電体障壁放電が放電室２５内に引き起こされ
る。このアルゴンのプラズマ放電に伴い真空紫外光が発
生し放電電極２７の多数の開口を介して分解処理室２６
内に放射される。
【０１２４】このような状態にしておきながら、分解処
理室２６内に処理ガス導入管５４を通じて水蒸気を添加
した処理ガスのフロンを分解処理室２６内に導入する。
導入されたフロンと水蒸気は、分解処理室２６内を図中
に太実線矢印で流れ方向を示すように処理ガス排出管３
４の方向に流れる。
【０１２５】そして、フロンと水蒸気とは放電電極２７
の面に沿って流れる間にプラズマ放電に伴う光が照射さ
れて分解し、フロンはオゾン層を破壊をきたすことがな
いものに変換され無害化する。これと同時にフロンと水
蒸気には放電電極２７を通過してきたアルゴンガスのア
ルゴンラジカル（主に準安定状態原子）が衝突し、フロ
ンの分解を促進して無害化する。
【０１２６】このフロンの分解過程の反応式は、 ＣＣｌ3 Ｆ＋Ｈ2 Ｏ → ＣＯ2 ＋３ＨＣｌ＋ＨＦ となる。
【０１２７】こうして分解したフロンの分解生成物質は
アルゴンガス等と共に処理ガス排出管３４を介して外部
に排出される。なお、処理ガスのフロンと水蒸気を連続
して処理ガス導入管５４から導入して分解処理室２６内
を流し、アルゴンガスを放電ガスとした誘電体障壁放電
に伴う真空紫外光を照射し、アルゴンラジカルを衝突さ
せて分解し、処理ガス排出管３４を通じて排出させるよ
うにすることにより、連続処理が可能となる。
【０１２８】以上のように本実施例は構成されているの
で、フロンは放電に伴う光照射及びアルゴンラジカルの
衝突の相乗効果によって分解速度が早められが促進さ
れ、分解効率が向上し、高い分解率で無害の分解生成物
質とすることができる。
【０１２９】また、誘電体板２３による誘電体障壁放電
を使用しているために、さらに放電が行われる放電室２
５部分にフロン等の放電を不安定にするガスが存在しな
いために、放電プラズマが局所に集中せず大面積のプラ
ズマが実現でき、多量のフロンの分解処理が安定して行
える。
【０１３０】なお、本実施例ではフロンを処理ガスとし
てその分解処理を説明したが、ＮＯX 、ＳＯX を含む燃
焼排ガスや類似物質、あるいはＰＣＢ等の分解処理も同
様過程を経ることによって行うことができる。
【０１３１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、廃棄物質の除去あるいは分解による無害化が、
高い除去率あるいは分解率で、より効率的な処理のもと
に安定的に行える等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例を示す断面図である。
【図２】本発明の第２の実施例を示す断面図である。
【図３】本発明の第３の実施例を示す断面図である。
【図４】本発明の第４の実施例を示す断面図である。
【図５】本発明の第５の実施例を示す断面図である。
【図６】本発明の第６の実施例を示す断面図である。
【図７】本発明の第７の実施例を示す断面図である。
【図８】本発明の第８の実施例を示す断面図である。
【図９】本発明の第９の実施例を示す断面図である。
【図１０】本発明の第１０の実施例を示す断面図であ
る。
【図１１】本発明の第１１の実施例を示す断面図であ
る。
【図１２】本発明の第１２の実施例を示す断面図であ
る。
【図１３】本発明の第１３の実施例を示す断面図であ
る。
【図１４】従来技術に係る燃焼排ガスの処理システムの
概略を示す構成図である。
【図１５】従来技術に係るフロン処理装置の要部の縦断
面図である。
【符号の説明】
２１…処理容器 ２２…高電圧電極 ２３…誘電体板 ２４…窓 ２５…放電室 ２６…分解処理室 ２７…放電電極 ３０…処理ガス導入管 ３３…加熱器 ３４…処理ガス排出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/32 53/34 ＺＡＢ 53/70 Ｂ０１Ｊ 19/12 Ｚ 8822−4Ｇ Ｆ２３Ｇ 7/06 ＺＡＢ Ｎ Ｂ０１Ｄ 53/34 １３４ Ｅ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 廃棄物質を分解処理するに際し、前記廃
    棄物質を加熱した後または加熱と同時に光を照射し、熱
    励起させ光解離させて分解処理するようにしたことを特
    徴とする廃棄物質の処理方法。
  2. 【請求項２】 廃棄物質を分解処理するに際し、前記廃
    棄物質に光を照射して光解離させ、さらに光照射の後に
    加熱または冷却するようにしたことを特徴とする廃棄物
    質の処理方法。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000013769A1 (fr) * 1998-09-03 2000-03-16 Kyowa Co.,Ltd. Four de decomposition thermique pour gaz d'emission
WO2000051405A1 (en) * 1999-02-24 2000-08-31 Regents Of The University Of Minnesota Dielectric barrier discharge system and method for decomposing hazardous compounds in fluids
JP2002210327A (ja) * 2001-01-16 2002-07-30 Nishimatsu Constr Co Ltd 排ガスの処理方法および排ガス処理装置
US6562386B2 (en) 2001-05-07 2003-05-13 Regents Of The University Of Minnesota Method and apparatus for non-thermal pasteurization
JP2003344281A (ja) * 2002-05-29 2003-12-03 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ラジカル種の分析方法及び分析装置
WO2004076035A1 (ja) * 2003-02-28 2004-09-10 Japan Science And Technology Agency 脱硫及び脱硝方法
US6911225B2 (en) 2001-05-07 2005-06-28 Regents Of The University Of Minnesota Method and apparatus for non-thermal pasteurization of living-mammal-instillable liquids
US7011790B2 (en) 2001-05-07 2006-03-14 Regents Of The University Of Minnesota Non-thermal disinfection of biological fluids using non-thermal plasma
US7931811B2 (en) 2006-10-27 2011-04-26 Regents Of The University Of Minnesota Dielectric barrier reactor having concentrated electric field
CN104096464A (zh) * 2014-07-18 2014-10-15 杭州电子科技大学 一种栅栏电晕簇射放电处理挥发性有机污染物的方法
JP2016150888A (ja) * 2015-02-19 2016-08-22 国立大学法人岐阜大学 硝酸製造方法および硝酸製造装置

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000013769A1 (fr) * 1998-09-03 2000-03-16 Kyowa Co.,Ltd. Four de decomposition thermique pour gaz d'emission
US6645440B1 (en) 1998-09-03 2003-11-11 Kyowa Co., Ltd. Thermal decomposition furnace for exhaust gas
WO2000051405A1 (en) * 1999-02-24 2000-08-31 Regents Of The University Of Minnesota Dielectric barrier discharge system and method for decomposing hazardous compounds in fluids
JP2002210327A (ja) * 2001-01-16 2002-07-30 Nishimatsu Constr Co Ltd 排ガスの処理方法および排ガス処理装置
US6562386B2 (en) 2001-05-07 2003-05-13 Regents Of The University Of Minnesota Method and apparatus for non-thermal pasteurization
US6911225B2 (en) 2001-05-07 2005-06-28 Regents Of The University Of Minnesota Method and apparatus for non-thermal pasteurization of living-mammal-instillable liquids
US7011790B2 (en) 2001-05-07 2006-03-14 Regents Of The University Of Minnesota Non-thermal disinfection of biological fluids using non-thermal plasma
JP2003344281A (ja) * 2002-05-29 2003-12-03 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ラジカル種の分析方法及び分析装置
WO2004076035A1 (ja) * 2003-02-28 2004-09-10 Japan Science And Technology Agency 脱硫及び脱硝方法
US7931811B2 (en) 2006-10-27 2011-04-26 Regents Of The University Of Minnesota Dielectric barrier reactor having concentrated electric field
CN104096464A (zh) * 2014-07-18 2014-10-15 杭州电子科技大学 一种栅栏电晕簇射放电处理挥发性有机污染物的方法
JP2016150888A (ja) * 2015-02-19 2016-08-22 国立大学法人岐阜大学 硝酸製造方法および硝酸製造装置

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