JPH0725208B2 - Information recording medium - Google Patents

Information recording medium

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JPH0725208B2
JPH0725208B2 JP2329490A JP32949090A JPH0725208B2 JP H0725208 B2 JPH0725208 B2 JP H0725208B2 JP 2329490 A JP2329490 A JP 2329490A JP 32949090 A JP32949090 A JP 32949090A JP H0725208 B2 JPH0725208 B2 JP H0725208B2
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Japan
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point
change
recording layer
substrate
ratio
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JP2329490A
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勲 森本
一美 板垣
晃一 森
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旭化成工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規な情報記録材料、さらに詳しくいえば、所
定の基板上に設けた記録層にレーザー光のようなエネル
ギービームを照射し、照射部分の反射率変化を利用し
て、情報の記録及び読み出して行うための媒体に関する
ものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel information recording material, more specifically, a recording layer provided on a predetermined substrate is irradiated with an energy beam such as a laser beam to expose an irradiated portion. The present invention relates to a medium for recording and reading information by utilizing a change in reflectance.

従来の技術 従来、記録可能な情報記録媒体としては、例えば、基板
上に所定の記録層を設け、レーザー光を照射し、情報に
応じた孔を形成させ、この孔の有無による反射率の差を
利用して情報を読み出す記録媒体が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a recordable information recording medium, for example, a predetermined recording layer is provided on a substrate, a laser beam is irradiated to form a hole corresponding to information, and a difference in reflectance depending on the presence or absence of this hole. There is known a recording medium for reading out information by utilizing.

この場合、記録層としては、融点の低いTeやBi及びそれ
らを含む合金あるいは化合物などがよく用いられてい
る。
In this case, Te or Bi having a low melting point and an alloy or compound containing them are often used as the recording layer.

また、レーザー光照射により光学特性を変化させ、この
光学特性の変化によって生じる反射率の変化を利用する
記録層も提案されており、このようなものとしては、例
えばTeO2中にTeの微粒子を分散させた系(特開昭59−18
5048号公報)や、Sb2Se3\Bi2Te3などの2層構造のもの
(特開昭59−35988号公報)やTeを主成分とするカルコ
ゲナイトガラス(特公昭47−26897号公報)などが知ら
れている。
Further, a recording layer has also been proposed which changes the optical characteristics by irradiating a laser beam and utilizes the change in reflectance caused by the change in the optical characteristics. As such a recording layer, for example, Te particles in TeO 2 are used. Dispersed system (Japanese Patent Laid-Open No. 59-18
No. 5048), a two-layer structure such as Sb 2 Se 3 \ Bi 2 Te 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 59-35988), and a chalcogenite glass containing Te as a main component (Japanese Patent Publication No. 47-26897). Gazette) is known.

しかしながら、上記の孔開け方式では、孔を形成させる
に際して、加熱の他に、溶融、分散、あるいは蒸発とい
う過程を伴うために、溶融時の粘度や分散時の表面張力
などが微妙な影響を与え、孔の形状を制御しにくく、ま
た、孔の内部に残留物が発生して、ノイズの増加やエラ
ーの増加をもたらす欠点がある。
However, in the above-mentioned perforation method, since the process of melting, dispersion, or evaporation in addition to heating is involved in forming the holes, the viscosity at the time of melting and the surface tension at the time of dispersion have a delicate influence. However, there is a drawback that it is difficult to control the shape of the hole, and a residue is generated inside the hole to increase noise and errors.

他方、レーザー光照射による加熱によって生じる光学特
性の変化を利用する方式では、記録層の溶融、分散ある
いは蒸発という過程を必要としないために、ビットの形
状を制御することが容易であり、かつ、孔内の残留物発
生という問題もなくなる。しかし、この方式を利用する
従来の記録材では、熱的安定性が乏しく、これが実用上
の障害となっていた。
On the other hand, in the method of utilizing the change in optical characteristics caused by heating by laser light irradiation, the process of melting, dispersing or evaporating the recording layer is not required, so that the shape of the bit can be easily controlled, and The problem of residue generation in the holes also disappears. However, the conventional recording material using this method has poor thermal stability, which has been a practical obstacle.

ところで、Sb2Te3という化合物は、加熱によって透過率
が大きく変化するために、これまでも情報記録材として
利用することが検討されていたが、変化温度が低く熱的
安定性に欠くため、実用上の使用が不可能とされていた
〔「ジャーナル・オブ・アプライド・フイジックス(J.
Appl.Phys)」、第54巻(No.3)、第1256〜1260ペー
ジ〕。
By the way, the compound Sb 2 Te 3 has been considered to be used as an information recording material because the transmittance greatly changes by heating, but since the temperature change is low and it lacks thermal stability, It was considered impossible to use for practical purposes ("Journal of Applied Physics (J.
Appl.Phys) ", Volume 54 (No.3), pages 1256-1260].

発明が解決しようとする課題 本発明の目的は、このような事情に鑑み、レーザ照射に
よる光学特性の変化を利用する情報記録媒体において、
熱的に安定であり、かつ感度、S/N比及びビットエラー
率の点で従来のものよりも優れた記録材を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide an information recording medium that utilizes a change in optical characteristics due to laser irradiation.
It is to provide a recording material that is thermally stable and is superior to conventional recording materials in terms of sensitivity, S / N ratio and bit error rate.

課題を解決するための手段 本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた
結果、基板上に、少なくともSb、Te及びGeの3元素から
成り、かつこれらの3元素の割合が特定の範囲にある記
録層を設けることにより、Sb−Teの二元系の特徴である
光学特性の変化自体をほとんど変えることなく、熱的安
定性を大幅に向上しうることを見い出し、この知見に基
づいて本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned object, the inventors have found that at least three elements of Sb, Te and Ge are present on the substrate, and the ratio of these three elements is at least three. It was found that by providing a recording layer in a specific range, the thermal stability can be significantly improved without substantially changing the change itself in the optical characteristics that are a characteristic of the Sb-Te binary system. The present invention has been completed based on the above.

すなわち、本発明は、基板上に、加熱により光の吸収係
数が変化する材料から成る記録層を設け、該吸収係数の
変化によって生じる光の反射率の変化により情報を記録
する情報記録用媒体において、該記録層が少なくともS
b、Te及びGeの3元素から成り、基板上に、加熱により
光の吸収係数が変化する材料から成る記録層を設け、該
吸収係数の変化によって生じる光の反射率の変化により
情報を記録する情報記録媒体において、該記録層が少な
くともSb、Te及びGeの3元素から成り、かつこれらの3
元素の原子数比が、これらの各元素を頂点とする三角座
標グラフにおいて、 点(Sb0.8Te0Ge0.2)と点(Sb0Te0.8Ge0.2)とを結ぶ直
線(イ)、 点(Sb0.4Te0Ge0.6)と点(Sb0Te0.4Ge0.6)とを結ぶ直
線(ロ)、 点(Sb0.2Te0Ge0.8)と点(Sb0.2Te0.8Ge0)とを結ぶ直
線(ハ)、 点(Sb0Te0Ge1.0)と点(Sb0.05Te0.95Ge0)とを結ぶ直
線(ニ) によって囲まれる領域内 [ただし直線(イ)(ロ)(ハ)(ニ)を含むが、 点(Sb0.4Te0.6Ge0)と点(Sb0Te0.5Ge0.5)とを結ぶ直
線(ホ) 及び 点(Sb0Te0.5Ge0.5)と点(Sb1.0Te0Ge0)とを結ぶ直線
(ヘ)を除く] の組成を有することを特徴とする情報記録用媒体を提供
するものである。
That is, the present invention provides an information recording medium in which a recording layer made of a material whose light absorption coefficient changes by heating is provided on a substrate, and information is recorded by a change in light reflectance caused by the change in the absorption coefficient. , The recording layer is at least S
A recording layer made of a material, which is composed of three elements b, Te and Ge, and whose light absorption coefficient is changed by heating, is provided on the substrate, and information is recorded by a change of light reflectance caused by the change of the absorption coefficient. In the information recording medium, the recording layer consists of at least three elements of Sb, Te and Ge, and
In the triangular coordinate graph with the apexes of each of these elements, the atomic ratio of the elements is the straight line (a) connecting the point (Sb 0.8 Te 0 Ge 0.2 ) and the point (Sb 0 Te 0.8 Ge 0.2 ), and the point (Sb A straight line (b) connecting 0.4 Te 0 Ge 0.6 ) and a point (Sb 0 Te 0.4 Ge 0.6 ), and a straight line (c) connecting a point (Sb 0.2 Te 0 Ge 0.8 ) and a point (Sb 0.2 Te 0.8 Ge 0 ). , Within a region surrounded by a straight line (d) connecting the point (Sb 0 Te 0 Ge 1.0 ) and the point (Sb 0.05 Te 0.95 Ge 0 ), where the straight line (a) (b) (c) (d) is included , A line (e) connecting the point (Sb 0.4 Te 0.6 Ge 0 ) and the point (Sb 0 Te 0.5 Ge 0.5 ), and a point (Sb 0 Te 0.5 Ge 0.5 ) and the point (Sb 1.0 Te 0 Ge 0 ). Except for the straight line (f)].

第1図は、本発明の組成範囲を示す、Sb、Te及びGeの3
元素を頂点とする三角座標グラフであり、本発明は斜線
で示される範囲において直線ホ及びヘの上の点を除いた
組成範囲を有している。
FIG. 1 shows the composition range of the present invention, including 3 of Sb, Te and Ge.
3 is a triangular coordinate graph having elements as vertices, and the present invention has a composition range excluding the points on the straight lines (e) and (e) in the range indicated by diagonal lines.

この際の加熱の手段としては、レーザー光の電子ビーム
などのエネルギービームの照射が好適である。レーザー
光や電子ビームなどのエネルギービームの照射により情
報を記録する場合、エネルギービームの照射による加熱
温度及び照射後の冷却速度により、2通りの記録を行う
ことができる。すなわち、吸収係数の小さい状態から大
きい状態へ変化させることによって記録を行ったり、吸
収係数の大きい状態から小さい状態へ変化させることに
よっても記録を行うことができる。
As a heating means at this time, irradiation with an energy beam such as an electron beam of laser light is suitable. When information is recorded by irradiation with an energy beam such as a laser beam or an electron beam, two kinds of recording can be performed depending on the heating temperature by irradiation with the energy beam and the cooling rate after irradiation. That is, recording can be performed by changing from a state with a small absorption coefficient to a state with a large absorption coefficient, or by changing from a state with a large absorption coefficient to a state with a small absorption coefficient.

本発明の情報記録媒体における記録層は、少なくともS
b、Te、Geの3元素から成っており、これらの組成比
は、一般式(SbxTe1-x)yGe1-xで表わした場合、xが0.
05〜0.7、好ましくは0.1〜0.6、yが0.4〜0.8、好まし
くは0.5〜0.7の範囲であって、TeとGeとが等しい場合及
びGe1-xSb2xTe1+2x(0<x<1.0)の場合を除いたもの
である。xの値が0.05未満では加熱による吸収係数の変
化が小さく、十分なコントラストが得られない上に、温
度や湿度に対する安定性が低く、また0.7を越えるとコ
ントラストが極端に低くなり、したがって、S/N比も低
くなる。一方、yの値が0.8を超えると加熱による吸収
係数の変化が低温で生じるようになり、熱安定性が低下
するし、また0.4未満ではコントラストが極端に低下
し、S/N法も低くなる。特に感度を重要視する場合は、
xの値は0.1〜0.35の範囲にあることが好ましい。
The recording layer in the information recording medium of the present invention is at least S
It consists of three elements, b, Te, and Ge, and their composition ratio is such that when expressed by the general formula (SbxTe 1- x) yGe 1- x, x is 0.
05-0.7, preferably 0.1-0.6, y is 0.4-0.8, preferably 0.5-0.7, and Te and Ge are equal, and Ge 1- xSb 2 xTe 1 + 2 x (0 <x < 1.0) is excluded. If the value of x is less than 0.05, the change in the absorption coefficient due to heating is small, sufficient contrast cannot be obtained, and the stability against temperature and humidity is low, and if it exceeds 0.7, the contrast becomes extremely low. The / N ratio will also be low. On the other hand, if the value of y exceeds 0.8, the change of the absorption coefficient due to heating will occur at low temperature, and the thermal stability will decrease, and if it is less than 0.4, the contrast will decrease significantly and the S / N method will also decrease. . If sensitivity is important,
The value of x is preferably in the range of 0.1 to 0.35.

さらに、実用的な観点から、長時間にわたって同一個所
に情報読み出しビームを照射し続けることも生じるが、
このような長時間再生時には、読み出しビームによる熱
が蓄積され、その熱によって未記録部分も徐々に記録部
分と同一状態に近づき、その結果再生信号の振幅が減少
して、S/N比やエラストマーが徐々に低下する傾向があ
る。したがって、このような長時間再生に対する安定性
を考慮し、さらに感度及びS/N比のバランスをとるため
には、前記xの値が0.15〜0.4で、yの値が0.5〜0.7の
範囲にあることが実用上最も好ましい。
Furthermore, from a practical point of view, it may occur that the information reading beam is continuously applied to the same location for a long time,
During such a long-time reproduction, heat due to the read beam is accumulated, and due to the heat, the unrecorded part gradually approaches the same state as the recorded part, and as a result, the amplitude of the reproduced signal decreases, and the S / N ratio and elastomer are reduced. Tend to decline gradually. Therefore, in order to balance the sensitivity and the S / N ratio in consideration of such stability for long-term reproduction, the value of x is set to 0.15 to 0.4 and the value of y is set to the range of 0.5 to 0.7. It is most preferable for practical use.

また、SbとTeとGeの合計量に基づく、Sbの量は20原子%
以下である。
In addition, the amount of Sb is 20 atom% based on the total amount of Sb, Te, and Ge.
It is the following.

本発明の情報記録用材料においては、記録層としてSb、
Te及びGeの3元素のみから成るものを用いるだけで実用
的には十分であるが、必要に応じ他の元素を含有させる
こともできる。
In the information recording material of the present invention, Sb as a recording layer,
It is practically sufficient to use only the elements consisting of the three elements Te and Ge, but other elements can be contained if necessary.

(SbxTe1-x)yGe1-yの記録層は、真空蒸着、スパッタリ
ングなどの蒸着法で形成される。組成のコントロールに
は、真空蒸着の場合は、三元共蒸着法やあるいは特定組
成の蒸着物をフラッシュ蒸着法によって行うのが好まし
く、また、所望の組成によっては、二元共蒸着法で行う
こともできる。
The (SbxTe 1- x) yGe 1- y recording layer is formed by a vapor deposition method such as vacuum vapor deposition or sputtering. To control the composition, in the case of vacuum vapor deposition, it is preferable to perform the ternary co-evaporation method or the flash vapor deposition method of the deposit of a specific composition, and depending on the desired composition, the binary co-evaporation method. You can also

他方、スパッタリングの場合は、特定組成のターゲット
材料を用いたり、1つの元素あるいは合金のターゲット
材の上に、他の元素あるいは合金の破片を置いて行うの
が有利である。
On the other hand, in the case of sputtering, it is advantageous to use a target material having a specific composition or to place fragments of another element or alloy on a target material of one element or alloy.

真空蒸着法によって膜形成を行う場合には、真空度は10
-5〜10-6Torrの範囲、蒸着速度は0.5〜20Å/秒の範囲
が好ましく、また基板温度としては特に制限はないの
で、室温が望ましい。一法、スパッタリング法による場
合は、特に基板温度が上昇しやすいので、冷却する必要
がある。
When the film is formed by the vacuum evaporation method, the degree of vacuum is 10
It is preferably in the range of -5 to 10 -6 Torr and the vapor deposition rate is in the range of 0.5 to 20 Å / sec. The substrate temperature is not particularly limited, so room temperature is desirable. In the case of one method or the sputtering method, the substrate temperature is likely to rise, so that it is necessary to cool the substrate.

一般に、基板上に薄膜が積層されている場合の反射率
は、基板及び薄膜の屈折率、吸収係数及び厚みによって
一義的に決まるので、加熱前後の屈折率及び吸収係数を
用いて、各膜厚での反射率を求めることによって、加熱
前後の反射率変化を大きくするための膜厚の範囲は自ず
と決まる。一方、実際にレーザー光などの照射によって
記録を行う場合には、記録層や反射層の膜厚によってレ
ーザー光の吸収率や熱の逸散状態が異なり、したがって
記録感度が異なってくる。記録層や反射層の好ましい膜
厚範囲は、主に前記した2つの要因から決まる。
In general, the reflectance when a thin film is laminated on a substrate is uniquely determined by the refractive index, the absorption coefficient and the thickness of the substrate and the thin film. By determining the reflectance at 1, the range of the film thickness for increasing the reflectance change before and after heating is naturally determined. On the other hand, when recording is actually performed by irradiation with laser light or the like, the absorptivity of the laser light and the heat dissipation state differ depending on the film thickness of the recording layer and the reflection layer, and therefore the recording sensitivity also differs. The preferable film thickness range of the recording layer and the reflective layer is mainly determined by the above two factors.

(SbxTe1-x)yGe1-yを記録層として情報記録媒体に用い
る場合、この記録層単度でもよいが、その場合には十分
なコントラストを得るために、記録層の膜厚は700Å以
上、好ましくは800〜2000Åの範囲にするのがよい。し
かし、膜厚をあまり厚くすると、光の吸収係数を変化さ
せるための物理化学的な状態変化を膜厚方向に一様に生
じさせにくくなり、本来の高いコントラストに相当する
S/N比を得ることができなくなる。これに対し、記録層
の上若しくは下に反射層を設ける場合、記録層の膜厚が
薄い領域においても十分なコントラストを得ることがで
き、その結果高いS/N比を得ることができるので有利で
ある。このような反射層を設ける場合には、記録層の膜
厚は反射層の材料及び膜厚によって左右されるが、一般
に20〜1000Åの範囲が好ましい。
When (SbxTe 1- x) yGe 1- y is used as a recording layer in an information recording medium, this recording layer may be a single layer, but in that case, in order to obtain sufficient contrast, the thickness of the recording layer should be 700 Å or more. , Preferably in the range of 800 to 2000Å. However, if the film thickness is made too thick, it becomes difficult to uniformly cause a physicochemical state change for changing the light absorption coefficient in the film thickness direction, which corresponds to the original high contrast.
It becomes impossible to obtain the S / N ratio. On the other hand, when the reflective layer is provided above or below the recording layer, sufficient contrast can be obtained even in a region where the film thickness of the recording layer is thin, and as a result, a high S / N ratio can be obtained, which is advantageous. Is. When such a reflective layer is provided, the film thickness of the recording layer depends on the material and film thickness of the reflective layer, but in general, the range of 20 to 1000Å is preferable.

反射層に用いることのできる材料としては、情報読み出
しビームに対して高い吸収係数を有する物質が好まし
く、このようなものとしては、例えばAl,Ti,Cr,Co,Ni,S
e,Ge,Zr,Ag,In,Sn,Sb,Te,Pt,Au,Pb,Biなどの金属、ある
いはそれらの合金を挙げることができる。これらの中
で、特にSb,Te及びBi、あるいはそれらの合金が、感度
の点で優れている。該反射層は、これらの元素や合金の
単独でもよいが、2種以上の元素あるいは合金を積層し
てもよい。この反射層の膜厚は100Å以上が好ましく、
特に感度の点から100〜1000Åの範囲にあることが好ま
しい。なお、以下において、反射層を設けた構成につい
て述べる場合、記録層と反射層の両者を合わせて情報担
体層と称する。
As a material that can be used for the reflective layer, a substance having a high absorption coefficient for an information reading beam is preferable, and examples of such a material include Al, Ti, Cr, Co, Ni, and S.
Examples thereof include metals such as e, Ge, Zr, Ag, In, Sn, Sb, Te, Pt, Au, Pb and Bi, or alloys thereof. Among these, Sb, Te and Bi, or alloys thereof, are particularly excellent in sensitivity. The reflective layer may be a single element or an alloy of these elements, or may be a laminate of two or more elements or alloys. The film thickness of this reflective layer is preferably 100Å or more,
Particularly, from the viewpoint of sensitivity, it is preferably in the range of 100 to 1000Å. In the following description, when the structure provided with the reflective layer is described, both the recording layer and the reflective layer are collectively referred to as an information carrier layer.

本発明における反射層は、記録層と同様、真空蒸着、ス
パッタリングなどの蒸着法を用いて形成することができ
る。
Like the recording layer, the reflective layer in the present invention can be formed by a vapor deposition method such as vacuum vapor deposition or sputtering.

本発明における基板としては、ガラスやガラス上に光硬
化性樹脂を設けたもの、ポリカーボネート、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリスチレンなどのプラスチック基
板、アルミニウム合金などの金属板などが用いられる。
As the substrate in the present invention, glass, a substrate provided with a photocurable resin on glass, a plastic substrate such as polycarbonate, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene, or a metal plate such as an aluminum alloy is used.

第1図ないし第2図は、本発明の記録媒体の構造例を示
す断面図であり、1は基板、2は記録層、3は反射層で
ある。
1 and 2 are sectional views showing a structural example of the recording medium of the present invention, in which 1 is a substrate, 2 is a recording layer, and 3 is a reflective layer.

本発明の記録媒体を実際に情報記録媒体として用いる場
合は、基板上に記録層を設けた2枚の同一の円板を、記
録材を設けた面を互いに対向させた状態で、スペーサー
を介して接着一体化した、いわゆるエアーサンドイッチ
構造や2枚の同一の円板を、記録材を設けた面を互いに
対向させた状態で、スペーサーを介さずに、全面で接着
し一体化させた、いわゆる全面接着構造、あるいはこれ
らとは全く異なり、フィルム状のシートの上に記録材を
設け、このシートをロール状に巻いた構造などいずれの
構造にしてもよい。なお、実施例においては、吸収係数
の小さい状態から大きい状態へ変化させることによって
記録を行う場合について説明しているが、逆の場合も同
様に行うことができる。
When the recording medium of the present invention is actually used as an information recording medium, two identical discs each having a recording layer provided on a substrate are placed with a spacer in between with the recording material-provided surfaces facing each other. In this state, the so-called air sandwich structure or two identical discs, which are adhered and integrated together, are adhered and integrated over the entire surface without the spacers, with the surfaces provided with the recording materials facing each other. It may have any structure such as a full-surface adhesive structure, or a structure different from those, in which a recording material is provided on a film-like sheet and the sheet is rolled. In addition, in the embodiment, the case where recording is performed by changing from a state with a small absorption coefficient to a state with a large absorption coefficient has been described, but the reverse case can be similarly performed.

実施例 次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples.

実施例1 厚さ1.2mmのスライドガラス上に、抵抗加熱法により、S
b、Te及びGeを入れた3つの蒸着ボートから、三元共蒸
着により第1表に示すような組成の膜を、300Åの厚み
にそれぞれ形成した。比較例として、Sb2Te3合金を1つ
の蒸着ボートから蒸着し、300Åの厚みの膜を形成し
た。
Example 1 On a glass slide having a thickness of 1.2 mm, by the resistance heating method, S
From three vapor deposition boats containing b, Te and Ge, a film having a composition shown in Table 1 was formed to a thickness of 300 Å by ternary co-evaporation. As a comparative example, Sb 2 Te 3 alloy was vapor-deposited from one vapor deposition boat to form a film having a thickness of 300 Å.

これらのサンプルを、50℃から250℃までの温度範囲
で、約10分間の加熱処理を施し、それぞれの温度におけ
る光透過率を、波長830nmのところで測定した。この透
過率の変化率を第3図に示す。
These samples were subjected to heat treatment for about 10 minutes in the temperature range of 50 ° C. to 250 ° C., and the light transmittance at each temperature was measured at a wavelength of 830 nm. The rate of change of this transmittance is shown in FIG.

サンプルA及びBの光学特性の変化を解析したところ、
加熱処理の前後で消衰係数すなわち吸収係数の変化が大
きいことが分かった。
Analysis of changes in the optical characteristics of Samples A and B revealed that
It was found that the extinction coefficient, that is, the absorption coefficient changed largely before and after the heat treatment.

これらのサンプルの加熱処理を施さなかったものを80℃
の乾燥器中に7日間放置したのち、透過率を測定した。
この7日後の透過率変化を第4図に示す。
Those samples that have not been heat-treated at 80 ° C
After being left for 7 days in the drier, the transmittance was measured.
The change in transmittance after 7 days is shown in FIG.

第4図より、Geを含まない例では透過率が大きく変化し
ているのに対し、Geを20原子%以上含む例では透過率変
化がほとんどなく、したがって、熱的に非常に安定であ
ることが分かる。
As shown in Fig. 4, the transmissivity greatly changes in the example containing no Ge, whereas the transmissivity hardly changes in the example containing 20 atomic% or more of Ge, and therefore is very thermally stable. I understand.

実施例2 実施例1と同様の方法で、厚さ1.2mmのスライドガラス
上に、三元共蒸着法によりSb、Te及びGeの膜を、第2表
に示す組成で、300Åの厚みに形成させた。第2表中の
x及びyは、作成した膜の組成を式(SbxTe1-x)yGe1-y
(x及びyは原子数比を示す)で表わした場合の相当す
る値である。
Example 2 In the same manner as in Example 1, a Sb, Te and Ge film having a composition shown in Table 2 and a thickness of 300 Å was formed on a 1.2 mm-thick glass slide by a ternary co-evaporation method. Let X and y in Table 2 represent the composition of the formed film by the formula (SbxTe 1- x) yGe 1- y
(X and y are atomic ratios) are the corresponding values.

これらのサンプルを、未処理の状態と、200℃に加温し
たオーブン中で約10分間加熱処理を施した状態とで、波
長830nmの光透過率を測定した。この加熱前後における
透過率の変化率を第5図に示す。この図から明らかなよ
うに、すべてのサンプルにおいて透過率の変化が大きく
なっている。
The light transmittance at a wavelength of 830 nm was measured for these samples in an untreated state and a state in which they were heat-treated in an oven heated to 200 ° C. for about 10 minutes. The rate of change in transmittance before and after heating is shown in FIG. As is clear from this figure, the change in transmittance is large in all the samples.

これらのサンプルで加熱処理を施さなかったものを50
℃、90%RHの恒温恒湿槽中に10日間放置したのち、透過
率を測定したところ、A及びDのサンプルの透過率は、
初期に比べて、それぞれ約2倍及び約1.5倍に増加して
いた。この透過率の増加はTeの酸化によるものと推測さ
れる。他方、A及びD以外のサンプルについては透過率
の変化はほとんど認められなかった。
50 of these samples without heat treatment
After leaving it in a constant temperature and humidity chamber at 90 ° C and 90% RH for 10 days, the transmittance was measured.
Compared to the initial period, they increased by about 2 times and about 1.5 times, respectively. It is speculated that this increase in transmittance is due to the oxidation of Te. On the other hand, almost no change in transmittance was observed in the samples other than A and D.

以上より、xの値が0.05以上の領域が、加熱による透過
率の変化が大きく、かつ高温多湿環境下でも安定性であ
ることが分る。
From the above, it can be seen that in the region where the value of x is 0.05 or more, the change in transmittance due to heating is large and the stability is high even in a high temperature and high humidity environment.

実施例3 厚さ1.2mmとスライドグラス上に、抵抗加熱により、S
b、Te及びGeを入れた3つの蒸着ボートから三元共蒸着
によって、Sb0.12Te0.48Ge0.4の組成比の膜を、それぞ
れ200Å、350Å、600Åの厚みで形成し、さらにその上
に抵抗加熱法によりSb膜を1000Åの厚みで設けた。
Example 3 On a slide glass having a thickness of 1.2 mm, by resistance heating, S
Films with composition ratios of Sb 0.12 Te 0.48 Ge 0.4 were formed with three compositional vapor deposition boats containing b, Te, and Ge to 200 Å, 350 Å, and 600 Å, respectively, and further resistance heating was performed on them. An Sb film having a thickness of 1000 Å was formed by the method.

これらのサンプルを、未処理の状態と、200℃に加温し
たオーブン中で約10分間加熱処理を施した状態とで、波
長830nmの、スライドガラス側からの反射率を測定し
た。この加熱処理前後の反射率を第6図に示す。図中の
実線は加熱前、破線は加熱後のものである(以下同
じ)。この第6図より、Sbを反射層に用いた場合は、記
録層の膜厚が、350Å前後でコントラストが最も高いこ
とが分る。
The reflectance of these samples from the side of the slide glass at a wavelength of 830 nm was measured in an untreated state and a state where the sample was heat-treated in an oven heated to 200 ° C. for about 10 minutes. The reflectance before and after this heat treatment is shown in FIG. The solid line in the figure is before heating, and the broken line is after heating (same below). From FIG. 6, it can be seen that when Sb is used for the reflective layer, the contrast is highest when the film thickness of the recording layer is around 350 Å.

次に、直径305mm、厚さ1.5mmの射出成形法によって得ら
れた円板状のアクリル基板及び1.2mmのスライドガラス
上に、三元共蒸着法によってSb0.12Te0.48Ge0.4の組成
比の膜を、350Åの厚さに形成したのち、さらに、この
上に、抵抗加熱法によってSbをそれぞれ200Å、500Å形
成した。スライドガラス上に形成したサンプルについ
て、同様に、スライドガラス側から測定した加熱処理前
後の反射率を第7図に示す。第6図及び第7図の計算曲
線は、加熱処理前の屈折率(4.4)と消衰係数(1.6)
と、加熱処理後の屈折率(4.2)と消衰係数(4.0)に基
づいて計算したものである。アクリル基板上に膜を形成
したサンプルを、900rpmで基板回転させ、透明な基板を
介して半導体レーザー(波長830nm)の光を集光させて
照射し、円板上の直径140mmの個所に1.5MHzの信号を書
き込んだ。信号の再生には、同一波長の半導体レーザー
光を用い、1.2mWで再生した。信号のC/N比はバンド幅30
KHzで測定した。この際、円板上の直径140mmの個所に信
号を記録するのに要したレーザーパワーは、記録鏡面で
それぞれ4mW、5.5mWでC/N比は60dB及び58dBであり、実
用上、十分な感度及びC/N比を有していた。しかし、Sb
が500Åのものは、熱の逃散が大きいために、200Åのも
のに比べて感度が低く、C/N比も若干低かった。これら
のサンプルを60℃の乾燥器中に10日間放置しても、感
度、C/N比、反射率に変化は認められなかった。
Next, on a disk-shaped acrylic substrate obtained by an injection molding method with a diameter of 305 mm and a thickness of 1.5 mm and a slide glass of 1.2 mm, a film having a composition ratio of Sb 0.12 Te 0.48 Ge 0.4 by a ternary co-evaporation method. Was formed to a thickness of 350 Å, and then Sb was formed thereon to a resistance of 200 Å and 500 Å, respectively. Similarly, with respect to the sample formed on the slide glass, the reflectance before and after the heat treatment measured from the slide glass side is shown in FIG. The calculation curves in Fig. 6 and Fig. 7 show the refractive index (4.4) and extinction coefficient (1.6) before heat treatment.
And calculated based on the refractive index (4.2) and extinction coefficient (4.0) after heat treatment. The sample with the film formed on the acrylic substrate was rotated at 900 rpm, and the light of the semiconductor laser (wavelength 830 nm) was focused and irradiated through the transparent substrate, and the area of 140 mm in diameter on the disk was 1.5 MHz. I wrote the signal. The signal was reproduced with a semiconductor laser beam of the same wavelength and 1.2 mW. Signal C / N ratio has a bandwidth of 30
Measured in KHz. At this time, the laser power required to record a signal at a location with a diameter of 140 mm on the disk was 4 mW and 5.5 mW on the recording mirror surface, respectively, and the C / N ratio was 60 dB and 58 dB, which is practically sufficient sensitivity. And C / N ratio. But Sb
However, the 500 Å had less sensitivity than the 200 Å due to the large heat dissipation, and had a slightly lower C / N ratio. Even if these samples were left in a dryer at 60 ° C for 10 days, no change was observed in the sensitivity, C / N ratio and reflectance.

実施例4 厚さ1.5mm、直径305mmの強化ガラスの円板状に、光硬化
性樹脂を用いて、あらかじめ溝(深さ700Å、巾0.6μ
m、ピッチ1.6μm)を形成した基板上に、抵抗加熱法
により、Sb、Te及びGeを入れた3つの蒸着ボートから三
元共蒸着によって、Sb0.15Te0.35Ge0.5の組成比の膜
を、厚さ400Åで形成させ、さらにこの上に、同様の抵
抗加熱法で300ÅのBi膜を設けた。
Example 4 A hardened glass disk having a thickness of 1.5 mm and a diameter of 305 mm was preliminarily formed with a groove (depth 700 Å, width 0.6 μm) using a photocurable resin.
m, pitch 1.6 μm) on the substrate formed by resistance heating method, from the three vapor deposition boats containing Sb, Te and Ge by ternary co-evaporation, a film with a composition ratio of Sb 0.15 Te 0.35 Ge 0.5 , The film was formed to a thickness of 400 Å, and a 300 Å Bi film was further formed thereon by the same resistance heating method.

この記録体を記録する信号を3MHzにすること以外は、実
施例3と同様の方法で評価したところ、感度6mW、C/N比
58dBを得た。
Evaluation was made in the same manner as in Example 3 except that the signal recorded on this recording medium was set to 3 MHz, and the sensitivity was 6 mW and the C / N ratio was
I got 58 dB.

これを80℃の乾燥器中に10日間放置しても、感度、C/N
比、反射率に変化は認められなかった。
Even if it is left in a dryer at 80 ° C for 10 days, the sensitivity and C / N
No change was observed in the ratio and reflectance.

実施例5 射出成形により、あらかじめ溝(深さ700Å、巾0.5μ
m、ピッチ1.6μm)を設けた厚さ1.5mm、直径305mmの
アクリル基板上に、抵抗加熱法により、Sb、Te及びGeの
3元素を共蒸着させ、組成比(SbxTe1-x)yGe1-yの膜を
厚さ300Åで形成させた。ここでy=0.6とし、xの値を
0.1、0.2、0.3として3種のサンプルを作成した。これ
ら3種のサンプルのすべてについて、(SbxTe1-x)yGe
1-yの膜上に、さらに厚さ200ÅのSb膜を形成させた。
Example 5 A groove (depth 700Å, width 0.5 μm) was previously prepared by injection molding.
m, pitch 1.6 μm) and a composition ratio (SbxTe 1- x) yGe 1 by co-evaporating three elements of Sb, Te and Ge on an acrylic substrate with a thickness of 1.5 mm and a diameter of 305 mm by a resistance heating method. - and a film of y is formed in a thickness of 300 Å. Here, y = 0.6, and the value of x is
Three kinds of samples were prepared as 0.1, 0.2 and 0.3. For all three samples, (SbxTe 1- x) yGe
An Sb film having a thickness of 200Å was further formed on the 1- y film.

それぞれの媒体を実施例4と同様の方法で評価したとこ
ろ、それぞれ、感度C/N比として(3.5mW、60dB)、(4m
W、6dB)、(4.5mW、60dB)を得た。これらのデイスク
を60℃、82%RHの条件下で7日間の加速テストを行った
のち信号を再生したところ、いずれのサンプルについて
もC/N比の変化は認められなかった。
When each medium was evaluated by the same method as in Example 4, the sensitivity C / N ratio was (3.5 mW, 60 dB), (4 m
W, 6 dB), (4.5 mW, 60 dB) was obtained. These disks were subjected to an accelerated test for 7 days under the conditions of 60 ° C. and 82% RH, and then the signals were reproduced. No change in C / N ratio was observed in any of the samples.

実施例6 射出成形により、あらかじめ溝を設けた(深さ700Å、
巾0.65μm、ピッチ1.6μm)、厚さ1.5mmのアクリル基
板上に、Sb2Te3及びGeのターゲットを用いて、高周波ス
パッタ法により、同時にスパッタリングさせて、組成が
Sb20Te35Ge45の膜厚500Åの記録層を設け、さらにその
上に100ÅのSb膜を抵抗加熱法により設けた。この媒体
の基板を通して半導体レーザー光(波長830nm)を集光
し、照射し、1.5MHzの信号を、600rpmの基板回転速度で
記録した。記録に要したレーザーパワーは、記録面で5m
Wであった。
Example 6 Pre-grooved by injection molding (depth 700Å,
Width 0.65 μm, pitch 1.6 μm) and thickness 1.5 mm on an acrylic substrate, Sb 2 Te 3 and Ge targets were used to simultaneously sputter by the high frequency sputtering method to obtain a composition.
A 500 Å-thick recording layer of Sb 20 Te 35 Ge 45 was provided, and a 100 Å Sb film was further provided thereon by a resistance heating method. A semiconductor laser beam (wavelength: 830 nm) was collected and irradiated through the substrate of this medium, and a signal of 1.5 MHz was recorded at a substrate rotation speed of 600 rpm. The laser power required for recording is 5 m on the recording surface.
It was W.

信号の再生には、1.2mWの半導体レーザー光を用い、C/N
比58dBを得た。この媒体を60℃、80%RHの条件下で7日
間加速テストを行ったが、感度、C/N比とも変化が認め
られなかった。
A 1.2 mW semiconductor laser beam was used to reproduce the signal, and C / N
A ratio of 58 dB was obtained. This medium was subjected to an acceleration test for 7 days under the conditions of 60 ° C. and 80% RH, but no change was observed in the sensitivity and the C / N ratio.

実施例7 実施例6と同様のアクリル基板上に、抵抗加熱法によ
り、Sb、Te及びGeの3元素を共蒸着させ、組成比(SbxT
e1-x)yGe1-yにおいてx=0.4、y=0.5の膜を300Åの
厚さで形成した。次いでこの上にさらにSbの膜を200Å
の厚さで形成させた。このものの感度は、5.5mW、C/N比
は58dBであった。これらのデイスクを60℃、82%RHの条
件下で7日間加速テストを行ったのち、信号を再生した
ところC/N比の変化は認められなかった。
Example 7 On the same acrylic substrate as in Example 6, three elements of Sb, Te and Ge were co-deposited by a resistance heating method, and the composition ratio (SbxT
e 1− x) yGe 1− y, a film with x = 0.4 and y = 0.5 was formed with a thickness of 300 Å. Then add another Sb film on this 200 Å
Was formed. The sensitivity of this product was 5.5 mW, and the C / N ratio was 58 dB. These discs were subjected to an acceleration test for 7 days under the conditions of 60 ° C. and 82% RH, and when the signals were reproduced, no change in C / N ratio was observed.

発明の効果 本発明によれば、高感度かつ高C/N比で、しかも温度及
び湿度に対して極めて安定な信頼度の高い情報記録用媒
体が得られる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, an information recording medium with high sensitivity and high C / N ratio, which is extremely stable against temperature and humidity and has high reliability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の記録層の元素組成を示す三角座標グラ
フ、第2図及び第3図は、本発明の情報記録用媒体の構
造例を示す断面図、第4図は本発明実施例の加熱による
透過率変化を示すグラフ、第5図は本発明実施例の経時
的な透過率変化を示すグラフ、第6図は本発明実施例の
透過率変化を示すグラフ、第7図ないし第9図は本発明
実施例の加熱による反射率の変化と膜厚との関係を示す
グラフである。 図中1は基板、2は記録層、3は反射層である。
FIG. 1 is a triangular coordinate graph showing the elemental composition of the recording layer of the present invention, FIGS. 2 and 3 are sectional views showing a structural example of the information recording medium of the present invention, and FIG. 4 is an embodiment of the present invention. 5 is a graph showing changes in transmittance due to heating, FIG. 5 is a graph showing changes in transmittance over time in Examples of the present invention, FIG. 6 is graphs showing changes in transmittance in Examples of the present invention, and FIGS. FIG. 9 is a graph showing the relationship between the change in reflectance due to heating and the film thickness in the example of the present invention. In the figure, 1 is a substrate, 2 is a recording layer, and 3 is a reflective layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に、加熱により光の吸収係数が変化
する材料から成る記録層を設け、該吸収係数の変化によ
って生じる光の反射率の変化により情報を記録する情報
記録媒体において、該記録層が少なくともSb、Te及びGe
の3元素から成り、かつこれらの3元素の原子数比が、
これらの各元素を頂点とする三角座標グラフにおいて、 点(Sb0.8Te0Ge0.2)と点(Sb0Te0.8Ge0.2)とを結ぶ直
線(イ)、 点(Sb0.4Te0Ge0.6)と点(Sb0Te0.4Ge0.6)とを結ぶ直
線(ロ)、 点(Sb0.2Te0Ge0.8)と点(Sb0.2Te0.8Ge0)とを結ぶ直
線(ハ)、 点(Sb0Te0Ge1.0)と点(Sb0.05Te0.95Ge0)とを結ぶ直
線(ニ) によって囲まれる領域内 [ただし直線(イ)(ロ)(ハ)(ニ)を含むが、 点(Sb0.4Te0.6Ge0)と点(Sb0Te0.5Ge0.5)とを結ぶ直
線(ホ) 及び 点(Sb0Te0.5Ge0.5)と点(Sb1.0Te0Ge0)とを結ぶ直線
(ヘ)を除く] の組成を有することを特徴とする情報記録媒体。
1. An information recording medium in which a recording layer made of a material whose light absorption coefficient is changed by heating is provided on a substrate, and information is recorded by a change of light reflectance caused by the change of the absorption coefficient. Recording layer is at least Sb, Te and Ge
Of the three elements, and the atomic ratio of these three elements is
In a triangular coordinate graph with these elements as vertices, a straight line (a) connecting the point (Sb 0.8 Te 0 Ge 0.2 ) and the point (Sb 0 Te 0.8 Ge 0.2 ) and the point (Sb 0.4 Te 0 Ge 0.6 ) Straight line (b) connecting point (Sb 0 Te 0.4 Ge 0.6 ), line (c) connecting point (Sb 0.2 Te 0 Ge 0.8 ) and point (Sb 0.2 Te 0.8 Ge 0 ), point (Sb 0 Te 0 Ge 1.0 ) and a point (Sb 0.05 Te 0.95 Ge 0 ) within a region surrounded by a straight line (d) [however, the lines (a), (b), (c), and (d) are included, but the point (Sb 0.4 Te 0.6 Except for the straight line (e) connecting Ge 0 ) and the point (Sb 0 Te 0.5 Ge 0.5 ), and the straight line (f) connecting the point (Sb 0 Te 0.5 Ge 0.5 ) and the point (Sb 1.0 Te 0 Ge 0 )] An information recording medium having the following composition.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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