JPH07244257A - 光アドレス型の液晶空間光変調器を用いたフィルタリング装置 - Google Patents
光アドレス型の液晶空間光変調器を用いたフィルタリング装置Info
- Publication number
- JPH07244257A JPH07244257A JP3266994A JP3266994A JPH07244257A JP H07244257 A JPH07244257 A JP H07244257A JP 3266994 A JP3266994 A JP 3266994A JP 3266994 A JP3266994 A JP 3266994A JP H07244257 A JPH07244257 A JP H07244257A
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- Japan
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- polarizing plate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】フィルタリングのためのフィルムマスクを必要
としない光アドレス型の液晶空間変調器（ＳＬＭ）を用
いたフィルタリング装置を提供することにある。 【構成】本発明の光アドレス型の液晶空間光変調器を用
いたフィルタリング装置は、偏光板と、偏光板を透過し
た光を受容すると共に偏光板に向けて反射させるように
配列された光アドレス型の液晶空間光変調器とを備えて
いる。液晶空間光変調器は、光導電体層と、強誘電性液
晶層とからなる。
としない光アドレス型の液晶空間変調器（ＳＬＭ）を用
いたフィルタリング装置を提供することにある。 【構成】本発明の光アドレス型の液晶空間光変調器を用
いたフィルタリング装置は、偏光板と、偏光板を透過し
た光を受容すると共に偏光板に向けて反射させるように
配列された光アドレス型の液晶空間光変調器とを備えて
いる。液晶空間光変調器は、光導電体層と、強誘電性液
晶層とからなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光アドレス型の液晶空
間光変調器液晶ＳＬＭを用いたフィルタリング方法及び
装置、特に液晶パネルやＩＣのフォトマスクなどの欠陥
検査や画像処理における閾値処理等を行う光アドレス型
の液晶空間光変調器（ＳＬＭ）を用いたフィルタリング
装置に関する。
間光変調器液晶ＳＬＭを用いたフィルタリング方法及び
装置、特に液晶パネルやＩＣのフォトマスクなどの欠陥
検査や画像処理における閾値処理等を行う光アドレス型
の液晶空間光変調器（ＳＬＭ）を用いたフィルタリング
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣフォトマスク及び液晶パネル等の周
期的な構造をもつパタ−ン中の欠陥を検査する技術とし
ては、従来、パターン同士のマッチングによる方法と、
フ−リエ変換を用いた空間周波数フィルタリングによる
方法とがある。パタ−ン同士のマッチングによる方法
は、画像処理によって正常なパタ−ン及び検査対象を比
較することによって不良箇所を検出する。空間周波数フ
ィルタリングによる方法は、電気的又は光学的なフ−リ
エ変換によってパタ−ンを周波数成分に分解し、正規の
パタ−ンの周波数成分のみを除去した後に逆フ−リエ変
換を行うことによって、欠陥を抽出する方法である。
期的な構造をもつパタ−ン中の欠陥を検査する技術とし
ては、従来、パターン同士のマッチングによる方法と、
フ−リエ変換を用いた空間周波数フィルタリングによる
方法とがある。パタ−ン同士のマッチングによる方法
は、画像処理によって正常なパタ−ン及び検査対象を比
較することによって不良箇所を検出する。空間周波数フ
ィルタリングによる方法は、電気的又は光学的なフ−リ
エ変換によってパタ−ンを周波数成分に分解し、正規の
パタ−ンの周波数成分のみを除去した後に逆フ−リエ変
換を行うことによって、欠陥を抽出する方法である。
【０００３】以下、図６を参照しながら従来の光学的フ
−リエ変換による手法について説明する。
−リエ変換による手法について説明する。
【０００４】ＩＣフォトマスク及び液晶パネル等のＨｅ
−Ｎｅレ−ザ３１は、コリメ−タ３２を介して検査対象
３３を照射し、透過光がパタ−ンを形成する。この透過
光は、レンズ３４による光の回折によって後焦点面にフ
−リエ変換像を形成する。ＩＣフォトマスク及び液晶パ
ネルの周波数成分は特定の場所、即ちフ−リエ変換面に
集中するので、ここにマク３５を置き、正規のパタ−ン
による成分の光だけをカットする。この光を再びレンズ
３６によって逆フ−リエ変換することによって、パタ−
ンに欠陥が含まれている場合に欠陥の像だけが結像面３
７に抽出される。
−Ｎｅレ−ザ３１は、コリメ−タ３２を介して検査対象
３３を照射し、透過光がパタ−ンを形成する。この透過
光は、レンズ３４による光の回折によって後焦点面にフ
−リエ変換像を形成する。ＩＣフォトマスク及び液晶パ
ネルの周波数成分は特定の場所、即ちフ−リエ変換面に
集中するので、ここにマク３５を置き、正規のパタ−ン
による成分の光だけをカットする。この光を再びレンズ
３６によって逆フ−リエ変換することによって、パタ−
ンに欠陥が含まれている場合に欠陥の像だけが結像面３
７に抽出される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】欠陥パネル等の欠陥検
査において光学的なフィルタリングによる方法を用いる
場合、フィルタリングに用いるマスクを作成する必要が
ある。正確なマスキングを行うには、マスクパタ−ンの
形又は大きさ等に関して厳密に設計する必要がある。ま
た、実際のシステムでは、光とマスクとが厳密に位置合
わせされなければならず、検査対象がずれた場合、マス
キングが正確に行われなくなる。光とマスクとを正確に
位置合わせするには、マスキングの範囲を大きくする必
要があり、その結果、検出欠陥像のＳＮ比が十分に得ら
れない。
査において光学的なフィルタリングによる方法を用いる
場合、フィルタリングに用いるマスクを作成する必要が
ある。正確なマスキングを行うには、マスクパタ−ンの
形又は大きさ等に関して厳密に設計する必要がある。ま
た、実際のシステムでは、光とマスクとが厳密に位置合
わせされなければならず、検査対象がずれた場合、マス
キングが正確に行われなくなる。光とマスクとを正確に
位置合わせするには、マスキングの範囲を大きくする必
要があり、その結果、検出欠陥像のＳＮ比が十分に得ら
れない。
【０００６】本発明の目的は、フィルタリングのための
フィルムマスクを必要としない光アドレス型液晶ＳＬＭ
を用いたフィルタリング装置を提供することにある。
フィルムマスクを必要としない光アドレス型液晶ＳＬＭ
を用いたフィルタリング装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、前述の
目的は、偏光板と、偏光板を透過した光を受容すると共
に偏光板に向けて反射させるように配列された光アドレ
ス型の液晶空間光変調器とを備えており、液晶空間光変
調器は、光導電体層と、強誘電性液晶層とからなる、光
アドレス型の液晶空間光変調器を用いたフィルタリング
装置によって達成される。
目的は、偏光板と、偏光板を透過した光を受容すると共
に偏光板に向けて反射させるように配列された光アドレ
ス型の液晶空間光変調器とを備えており、液晶空間光変
調器は、光導電体層と、強誘電性液晶層とからなる、光
アドレス型の液晶空間光変調器を用いたフィルタリング
装置によって達成される。
【０００８】
【作用】本発明によれば、ＩＣのフォトマスク等の欠陥
検査を光演算によって高速に行うことができる。さら
に、フィルタリングに光アドレス型の液晶空間光変調器
を利用することによって、マスクの作成とシステムの中
での厳密な位置合わせを不要とし得，加えて、フィルタ
リングを正確に行い得る。また、フィルムによるマスク
を使用する場合フ−リエ変換と逆フ−リエ変換に夫々個
別のレンズが必要であるが、本発明の装置では、反射光
を使用しているため一枚のレンズを双方向から使用する
ことによって両変換を実現し得る。このため、システム
がコンパクトになり、コストを低減し得る。
検査を光演算によって高速に行うことができる。さら
に、フィルタリングに光アドレス型の液晶空間光変調器
を利用することによって、マスクの作成とシステムの中
での厳密な位置合わせを不要とし得，加えて、フィルタ
リングを正確に行い得る。また、フィルムによるマスク
を使用する場合フ−リエ変換と逆フ−リエ変換に夫々個
別のレンズが必要であるが、本発明の装置では、反射光
を使用しているため一枚のレンズを双方向から使用する
ことによって両変換を実現し得る。このため、システム
がコンパクトになり、コストを低減し得る。
【０００９】本発明の装置においては、強誘電性液晶層
の液晶分子の配向方向が偏光板の偏光方向と同じであっ
てもよい。これにより、ＩＣフォトマスク及び液晶パネ
ル等の周期的な構造をもつパターン中の欠陥を視認し得
る。
の液晶分子の配向方向が偏光板の偏光方向と同じであっ
てもよい。これにより、ＩＣフォトマスク及び液晶パネ
ル等の周期的な構造をもつパターン中の欠陥を視認し得
る。
【００１０】本発明の装置においては、強誘電性液晶層
の液晶分子の配向方向が偏光板の偏光方向と水平に４５
度傾斜していてもよい。これにより、本発明の装置をノ
イズの除去等の閾値処理に利用し得る。
の液晶分子の配向方向が偏光板の偏光方向と水平に４５
度傾斜していてもよい。これにより、本発明の装置をノ
イズの除去等の閾値処理に利用し得る。
【００１１】
【実施例】以下、図１を参照しながら本発明の装置の一
実施例について説明する。
実施例について説明する。
【００１２】Ｈｅ−Ｎｅレ−ザ１はレ−ザ光２を発す
る。レーザ１に対向してコリメートレンズ３及び凸レン
ズ４が配列されている。レンズ４に対向して偏光板５及
び光アドレス型の液晶空間光変調器（ＳＬＭ）６が配列
されている。レンズ４はその回折光７をＳＬＭ６上に回
折させ、ＳＬＭ６上で二次元フ−リエ変換を形成する。
レンズ３及びレンズ４の間には、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）８が配列されている。ＬＣＤ８及びレンズ４の間に
はハーフミラー１０が配列されている。ハーフミラー１
０はＬＣＤ１０を通過した光のパターン１１をスクリー
ン１２に向けて反射させる。スクリーン１２はＣＣＤで
あってもよい。
る。レーザ１に対向してコリメートレンズ３及び凸レン
ズ４が配列されている。レンズ４に対向して偏光板５及
び光アドレス型の液晶空間光変調器（ＳＬＭ）６が配列
されている。レンズ４はその回折光７をＳＬＭ６上に回
折させ、ＳＬＭ６上で二次元フ−リエ変換を形成する。
レンズ３及びレンズ４の間には、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）８が配列されている。ＬＣＤ８及びレンズ４の間に
はハーフミラー１０が配列されている。ハーフミラー１
０はＬＣＤ１０を通過した光のパターン１１をスクリー
ン１２に向けて反射させる。スクリーン１２はＣＣＤで
あってもよい。
【００１３】以下、図２を参照しながら実施例で使用さ
れる液晶ＳＬＭ６の構成を説明する。
れる液晶ＳＬＭ６の構成を説明する。
【００１４】ＳＬＭ６は、一対のガラス板２１及び２２
を含む。ガラス２１には透明電極２３が接合されてい
る。ガラス２２には透明電極２４が接合されている。透
明電極２３には水素化アモルファスシリコン（ａ−Ｓ
ｉ：Ｈ）で作られた光導電層２５が接合されている。透
明電極２４には配向膜２６が接合されている。配向膜２
６にはスペーサ２７を介して配向膜２８が接合されてい
る。一対の配向膜２６及び２８の間には強誘電性液晶２
９が封入されている。液晶２９の液晶分子は通常は偏光
板の偏光方向と同じ向きに配向されている。配向膜２８
とアモルファスシリコン層２５との間に誘電体多層ハー
フミラー３０が設けられている。透明電極２３及び２４
には交流電圧が印加されている。
を含む。ガラス２１には透明電極２３が接合されてい
る。ガラス２２には透明電極２４が接合されている。透
明電極２３には水素化アモルファスシリコン（ａ−Ｓ
ｉ：Ｈ）で作られた光導電層２５が接合されている。透
明電極２４には配向膜２６が接合されている。配向膜２
６にはスペーサ２７を介して配向膜２８が接合されてい
る。一対の配向膜２６及び２８の間には強誘電性液晶２
９が封入されている。液晶２９の液晶分子は通常は偏光
板の偏光方向と同じ向きに配向されている。配向膜２８
とアモルファスシリコン層２５との間に誘電体多層ハー
フミラー３０が設けられている。透明電極２３及び２４
には交流電圧が印加されている。
【００１５】以下、本発明の装置の一実施例の作動につ
いて説明する。
いて説明する。
【００１６】Ｈｅ−Ｎｅレ−ザ１が発するレーザ光２は
コリメートレンズ３によって平行光４となり、ＬＣＤ８
に照射される。ＬＣＤ８を経由したパターン１１はハー
フミラー１０を通過した後レンズ４よって回折する。回
折した光７は偏光板５を通過した後、ＳＬＭ６上で二次
元フ−リエ変換面を形成する。光７がＳＬＭ６に入射す
る際、光７はＳＬＭ６の直前に置かれた偏光板５によっ
て偏光される。
コリメートレンズ３によって平行光４となり、ＬＣＤ８
に照射される。ＬＣＤ８を経由したパターン１１はハー
フミラー１０を通過した後レンズ４よって回折する。回
折した光７は偏光板５を通過した後、ＳＬＭ６上で二次
元フ−リエ変換面を形成する。光７がＳＬＭ６に入射す
る際、光７はＳＬＭ６の直前に置かれた偏光板５によっ
て偏光される。
【００１７】偏光板５で偏光された光７は、ＳＬＭ６に
入射する。液晶層２９の分子の配向は偏光板５の偏光方
向と一致しており、光導電層２５に光が到達すると光の
強度に応じて液晶層２９に電圧が印加され、液晶層２９
の分子は４５度水平に回転する。液晶層２９の厚さは、 ｄ＝（２ｋ−１）λ／４Δｎ （式１） λ ： 波長 Δｎ： 複屈折率 ｋ＝１，２，… である。これにより、液晶層２９に入射した光７は液晶
層２９を往復する間に偏光方向が９０度回転し、ＳＬＭ
６で反射した光は偏光板５で遮断される。即ち、強度の
大きい光は偏光板５及びＳＬＭ６で遮断され（図３
（ａ））、強度の小さい光は偏光板５及びＳＬＭ６で反
射する（図３（ｂ））。
入射する。液晶層２９の分子の配向は偏光板５の偏光方
向と一致しており、光導電層２５に光が到達すると光の
強度に応じて液晶層２９に電圧が印加され、液晶層２９
の分子は４５度水平に回転する。液晶層２９の厚さは、 ｄ＝（２ｋ−１）λ／４Δｎ （式１） λ ： 波長 Δｎ： 複屈折率 ｋ＝１，２，… である。これにより、液晶層２９に入射した光７は液晶
層２９を往復する間に偏光方向が９０度回転し、ＳＬＭ
６で反射した光は偏光板５で遮断される。即ち、強度の
大きい光は偏光板５及びＳＬＭ６で遮断され（図３
（ａ））、強度の小さい光は偏光板５及びＳＬＭ６で反
射する（図３（ｂ））。
【００１８】液晶パネルの画素パタ−ンの一次元フ−リ
エ変換像は図４のグラフに示されるように周期的なスポ
ット光として表れる。これに対し欠陥を含む液晶パネル
の一次元フ−リエ変換像は、図５に示されるように周期
的な画素の成分に比べて強度の弱い光が全体に広がる。
エ変換像は図４のグラフに示されるように周期的なスポ
ット光として表れる。これに対し欠陥を含む液晶パネル
の一次元フ−リエ変換像は、図５に示されるように周期
的な画素の成分に比べて強度の弱い光が全体に広がる。
【００１９】図５グラフのａの部分のように欠陥からの
弱い光が照射されている部分では液晶層２９に電圧が印
加されず、光は液晶層２９と光導電層２５との間に形成
されたハーフミラー３０で反射して偏光方向を変えずに
そのまま偏光板５を通過する（図３（ａ））。
弱い光が照射されている部分では液晶層２９に電圧が印
加されず、光は液晶層２９と光導電層２５との間に形成
されたハーフミラー３０で反射して偏光方向を変えずに
そのまま偏光板５を通過する（図３（ａ））。
【００２０】これに対し、図５のグラフのｂの部分のよ
うに周期的な画素の成分である強い光が照射されている
部分では液晶層２９に電圧が印加され、液晶２９の分子
が４５度回転する。例えば、レーザの波長λ＝６３３ｎ
ｍ，複屈折率Δｎ＝０．１５の場合、式１より、ｄ＝
１．０５５μｍとなる（ｋ＝１のとき）。液晶層２９の
厚さがこの値であれば、入射光は液晶層２９を往復する
間に偏光方向が９０度変化するため、反射光は偏光板５
によって遮断される（図３（ｂ））。従って、欠陥から
の弱い光だけが偏光板５を通過できる。マスキングの際
の強度の閾値の決定は液晶画素の周期成分のみ遮断され
るように入射光の強度を調節するように行われる。
うに周期的な画素の成分である強い光が照射されている
部分では液晶層２９に電圧が印加され、液晶２９の分子
が４５度回転する。例えば、レーザの波長λ＝６３３ｎ
ｍ，複屈折率Δｎ＝０．１５の場合、式１より、ｄ＝
１．０５５μｍとなる（ｋ＝１のとき）。液晶層２９の
厚さがこの値であれば、入射光は液晶層２９を往復する
間に偏光方向が９０度変化するため、反射光は偏光板５
によって遮断される（図３（ｂ））。従って、欠陥から
の弱い光だけが偏光板５を通過できる。マスキングの際
の強度の閾値の決定は液晶画素の周期成分のみ遮断され
るように入射光の強度を調節するように行われる。
【００２１】偏光板５を透過した反射光はレンズ４によ
って逆フ−リエ変換され、ハーフーミラー１０によって
スクリーン１２上に取り出される。取り出された像では
画素の周期パターンが取り除かれており、欠陥像だけが
得られる。これにより、欠陥検査が容易となる。
って逆フ−リエ変換され、ハーフーミラー１０によって
スクリーン１２上に取り出される。取り出された像では
画素の周期パターンが取り除かれており、欠陥像だけが
得られる。これにより、欠陥検査が容易となる。
【００２２】強誘電性液晶にはメモリ性があるため、検
査を繰り返す場合は、検査の度に液晶層２９に逆電圧を
印加することによって、液晶分子の向きをもとの状態に
戻す必要がある。
査を繰り返す場合は、検査の度に液晶層２９に逆電圧を
印加することによって、液晶分子の向きをもとの状態に
戻す必要がある。
【００２３】ＳＬＭ６への光の斜め入射の影響を小さく
するために、レンズ４の焦点距離はなるべく長い方がよ
い。
するために、レンズ４の焦点距離はなるべく長い方がよ
い。
【００２４】本実施例では、液晶層２９に強誘電性液晶
を用いているが、液晶の分子配向等を変えることによ
り、ＴＮ液晶でも本実施例と同様の機能を発揮し得る。
を用いているが、液晶の分子配向等を変えることによ
り、ＴＮ液晶でも本実施例と同様の機能を発揮し得る。
【００２５】本実施例は、液晶パネルだけではなく、Ｉ
Ｃのフォトマスクの検査などにも応用できる。
Ｃのフォトマスクの検査などにも応用できる。
【００２６】以下、本発明の装置の一実施例の変形例に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００２７】液晶層２９の分子の向きを通常は偏光板５
の偏光方向と水平に４５度の角度を持たせたおき、光強
度が大きい領域では液晶層２９に電圧が印加されること
によって分子の向きが４５度回転して偏光板５の偏光方
向と一致させるようにする。これにより、前述の本発明
の装置の一実施例とは逆の強度が大きい光は反射光がそ
のまま偏光板５を透過し、強度の小さい光は反射光の偏
光方向が９０度変化するため、偏光板５で遮断される。
これにより、本変形例をノイズの除去等の閾値処理に利
用し得る。
の偏光方向と水平に４５度の角度を持たせたおき、光強
度が大きい領域では液晶層２９に電圧が印加されること
によって分子の向きが４５度回転して偏光板５の偏光方
向と一致させるようにする。これにより、前述の本発明
の装置の一実施例とは逆の強度が大きい光は反射光がそ
のまま偏光板５を透過し、強度の小さい光は反射光の偏
光方向が９０度変化するため、偏光板５で遮断される。
これにより、本変形例をノイズの除去等の閾値処理に利
用し得る。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、ＩＣのフォトマスク等
のその欠陥検査を光演算によって高速に行うことができ
る。さらに、フィルタリングに光アドレス型の液晶空間
光変調器を利用することによって、マスクの作成とシス
テムの中での厳密な位置合わせを不要とし得，加えて、
フィルタリングを正確に行い得る。また、フィルムによ
るマスクを使用する場合フ−リエ変換と逆フ−リエ変換
に夫々個別のレンズが必要であるが、本発明の装置で
は、反射光を使用しているため一枚のレンズを双方向か
ら使用することによって両変換を実現し得る。このた
め、システムがコンパクトになり、コストを低減し得
る。
のその欠陥検査を光演算によって高速に行うことができ
る。さらに、フィルタリングに光アドレス型の液晶空間
光変調器を利用することによって、マスクの作成とシス
テムの中での厳密な位置合わせを不要とし得，加えて、
フィルタリングを正確に行い得る。また、フィルムによ
るマスクを使用する場合フ−リエ変換と逆フ−リエ変換
に夫々個別のレンズが必要であるが、本発明の装置で
は、反射光を使用しているため一枚のレンズを双方向か
ら使用することによって両変換を実現し得る。このた
め、システムがコンパクトになり、コストを低減し得
る。
【図１】本発明の装置の一実施例の概略図である。
【図２】図１の装置のＳＬＭの断面図である。
【図３】図１の装置の偏光板及びＳＬＭの作動の説明図
である。
である。
【図４】液晶パネルの一次元フ−リエ変換像のグラフで
ある。
ある。
【図５】欠陥を含む液晶パネルの一次元フ−リエ変換像
のグラフである。
のグラフである。
【図６】従来の装置の説明図である。
１ Ｈｅ−Ｎｅレ−ザ ２ レーザ光 ３ コリメートレンズ ４ 凸レンズ ５ 偏光板 ６ 光アドレス型の液晶空間光変調器 ８ 液晶表示装置 １２ スクリーン ２１、２２ ガラス板 ２３、２４ 透明電極 ２５ 光導電層 ２６、２８ 配向膜 ２９ 強誘電性液晶
Claims (3)
- 【請求項１】偏光板と、偏光板を透過した光を受容する
と共に偏光板に向けて反射させるように配列された光ア
ドレス型の液晶空間光変調器とを備えており、前記液晶
空間光変調器は、光導電体層と、強誘電性液晶層とから
なる、光アドレス型の液晶空間光変調器を用いたフィル
タリング装置。 - 【請求項２】強誘電性液晶層の液晶分子の配向方向が偏
光板の偏光方向と同じである請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】強誘電性液晶層の液晶分子の配向方向が偏
光板の偏光方向と水平に４５度傾斜している請求項１に
記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3266994A JPH07244257A (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | 光アドレス型の液晶空間光変調器を用いたフィルタリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3266994A JPH07244257A (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | 光アドレス型の液晶空間光変調器を用いたフィルタリング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07244257A true JPH07244257A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=12365286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3266994A Pending JPH07244257A (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | 光アドレス型の液晶空間光変調器を用いたフィルタリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07244257A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6424449B1 (en) * | 1999-04-19 | 2002-07-23 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical information processing apparatus for image processing using a reflection type spatial light modulator |
| CZ304816B6 (cs) * | 2013-11-21 | 2014-11-12 | ÄŚeskĂ© vysokĂ© uÄŤenĂ technickĂ© v Praze - fakulta stavebnĂ | Optické zařízení pro barevnou diskriminaci struktur |
-
1994
- 1994-03-02 JP JP3266994A patent/JPH07244257A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6424449B1 (en) * | 1999-04-19 | 2002-07-23 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical information processing apparatus for image processing using a reflection type spatial light modulator |
| CZ304816B6 (cs) * | 2013-11-21 | 2014-11-12 | ÄŚeskĂ© vysokĂ© uÄŤenĂ technickĂ© v Praze - fakulta stavebnĂ | Optické zařízení pro barevnou diskriminaci struktur |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040106 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |