JPH07238375A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
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- JPH07238375A JPH07238375A JP3062594A JP3062594A JPH07238375A JP H07238375 A JPH07238375 A JP H07238375A JP 3062594 A JP3062594 A JP 3062594A JP 3062594 A JP3062594 A JP 3062594A JP H07238375 A JPH07238375 A JP H07238375A
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- JP
- Japan
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- film
- thin film
- roll
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- magnetic
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄膜（例えば金属磁性膜）が良好に形成され
る技術を提供することを目的とする。 【構成】 飛来する粒子が付着・堆積する支持体をガイ
ドするガイド手段と、このガイド手段に沿って設けら
れ、かつ、前記支持体の側部に対応して設けられたマス
ク部材とを具備してなる薄膜形成装置であって、前記マ
スク部材には支持体に接触する導電性ブラシが設けられ
てなる薄膜形成装置。
る技術を提供することを目的とする。 【構成】 飛来する粒子が付着・堆積する支持体をガイ
ドするガイド手段と、このガイド手段に沿って設けら
れ、かつ、前記支持体の側部に対応して設けられたマス
ク部材とを具備してなる薄膜形成装置であって、前記マ
スク部材には支持体に接触する導電性ブラシが設けられ
てなる薄膜形成装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば金属膜（磁性膜
および／またはバックコート膜）が非磁性の支持体上に
設けられた磁気記録媒体を製造するに際して用いられる
装置に関するものである。
および／またはバックコート膜）が非磁性の支持体上に
設けられた磁気記録媒体を製造するに際して用いられる
装置に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】すなわち、無電解メッキと言った湿式メッ
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングと言った乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。特に、電子ビームを照射し
て蒸発・付着させる手段により磁性膜を構成する手段
は、スパッタリングによる場合よりも成膜速度が速いこ
とから好ましいものであると言われている。
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングと言った乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。特に、電子ビームを照射し
て蒸発・付着させる手段により磁性膜を構成する手段
は、スパッタリングによる場合よりも成膜速度が速いこ
とから好ましいものであると言われている。
【０００４】このような蒸着手段による磁気記録媒体の
製造装置は、図４に示す如く構成されているものが一般
的である。尚、図４中、３１は冷却キャンロール、３２
ａはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム３
３の供給側ロール、３２ｂはＰＥＴフィルム３３の巻取
側ロール、３４は遮蔽板、３５はルツボ、３６は磁性合
金、３７は真空容器である。
製造装置は、図４に示す如く構成されているものが一般
的である。尚、図４中、３１は冷却キャンロール、３２
ａはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム３
３の供給側ロール、３２ｂはＰＥＴフィルム３３の巻取
側ロール、３４は遮蔽板、３５はルツボ、３６は磁性合
金、３７は真空容器である。
【０００５】そして、真空容器３７内を所定の真空度と
なるように排気した後、電子銃３８を作動させてルツボ
３５内の磁性合金３６を加熱・蒸発させ、ＰＥＴフィル
ム３３に対して磁性合金３６を堆積（蒸着）させること
によって磁気記録媒体が製造されている。ところで、こ
のような蒸着作業が進むにつれてＰＥＴフィルム３３の
走行性が低下し（乱れ）、酷い場合にはＰＥＴフィルム
３３が冷却キャンロール３１に貼り付いてしまい、走行
できなくなることも有る。
なるように排気した後、電子銃３８を作動させてルツボ
３５内の磁性合金３６を加熱・蒸発させ、ＰＥＴフィル
ム３３に対して磁性合金３６を堆積（蒸着）させること
によって磁気記録媒体が製造されている。ところで、こ
のような蒸着作業が進むにつれてＰＥＴフィルム３３の
走行性が低下し（乱れ）、酷い場合にはＰＥＴフィルム
３３が冷却キャンロール３１に貼り付いてしまい、走行
できなくなることも有る。
【０００６】
【発明の開示】上記問題点についての検討が本発明者に
よって鋭意押し進められて行くうちに、ＰＥＴフィルム
３３の走行性の低下は、蒸着手段で金属磁性膜を構成す
るに際して金属溶湯から二次電子が放出・散乱し、又、
電子ビームからの電子が一部散乱し、これがＰＥＴフィ
ルム３３に帯電し、特にＰＥＴフィルム３３の耳部（両
側部）に帯電し、これによってＰＥＴフィルム３３が冷
却キャンロール３１に貼り付いてしまうことが有り、Ｐ
ＥＴフィルム３３の走行性は低下し、金属磁性膜が良好
に形成できなくなるに至ることを究明した。
よって鋭意押し進められて行くうちに、ＰＥＴフィルム
３３の走行性の低下は、蒸着手段で金属磁性膜を構成す
るに際して金属溶湯から二次電子が放出・散乱し、又、
電子ビームからの電子が一部散乱し、これがＰＥＴフィ
ルム３３に帯電し、特にＰＥＴフィルム３３の耳部（両
側部）に帯電し、これによってＰＥＴフィルム３３が冷
却キャンロール３１に貼り付いてしまうことが有り、Ｐ
ＥＴフィルム３３の走行性は低下し、金属磁性膜が良好
に形成できなくなるに至ることを究明した。
【０００７】この知見を基にして更なる検討が鋭意押し
進められて行った結果、放出・散乱した電子が帯電して
も、これが直ちに放電されるようにしておけば、ＰＥＴ
フィルム３３が冷却キャンロール３１に貼り付いてしま
うようなことは起きないであろうとの啓示が得られるに
至ったのである。すなわち、ＰＥＴフィルム３３、特に
ＰＥＴフィルム３３の耳部（両側部）にアースが施さ
れ、放電されるようにしておけば良いとの啓示が得られ
たのである。
進められて行った結果、放出・散乱した電子が帯電して
も、これが直ちに放電されるようにしておけば、ＰＥＴ
フィルム３３が冷却キャンロール３１に貼り付いてしま
うようなことは起きないであろうとの啓示が得られるに
至ったのである。すなわち、ＰＥＴフィルム３３、特に
ＰＥＴフィルム３３の耳部（両側部）にアースが施さ
れ、放電されるようにしておけば良いとの啓示が得られ
たのである。
【０００８】本発明は上記の知見を基にして達成された
ものであり、薄膜（例えば金属磁性膜）が良好に形成さ
れる技術を提供することを目的とする。この本発明の目
的は、飛来する粒子が付着・堆積する支持体をガイドす
るガイド手段と、このガイド手段に沿って設けられ、か
つ、前記支持体の側部に対応して設けられたマスク部材
とを具備してなる薄膜形成装置であって、前記マスク部
材には支持体に接触する導電性ブラシが設けられてなる
ことを特徴とする薄膜形成装置によって達成される。
ものであり、薄膜（例えば金属磁性膜）が良好に形成さ
れる技術を提供することを目的とする。この本発明の目
的は、飛来する粒子が付着・堆積する支持体をガイドす
るガイド手段と、このガイド手段に沿って設けられ、か
つ、前記支持体の側部に対応して設けられたマスク部材
とを具備してなる薄膜形成装置であって、前記マスク部
材には支持体に接触する導電性ブラシが設けられてなる
ことを特徴とする薄膜形成装置によって達成される。
【０００９】又、支持体の供給手段と巻取手段とを具備
し、前記支持体は供給手段からガイド手段（飛来する粒
子が付着・堆積する支持体をガイドするガイド手段）で
ある冷却キャンロールを経て巻取手段に巻き取られるよ
う構成されてなり、前記冷却キャンロールに沿って設け
られ、かつ、前記支持体の側部に対応して設けられたマ
スク部材を具備し、このマスク部材には前記支持体に接
触する導電性ブラシが設けられてなることを特徴とする
薄膜形成装置によって達成される。
し、前記支持体は供給手段からガイド手段（飛来する粒
子が付着・堆積する支持体をガイドするガイド手段）で
ある冷却キャンロールを経て巻取手段に巻き取られるよ
う構成されてなり、前記冷却キャンロールに沿って設け
られ、かつ、前記支持体の側部に対応して設けられたマ
スク部材を具備し、このマスク部材には前記支持体に接
触する導電性ブラシが設けられてなることを特徴とする
薄膜形成装置によって達成される。
【００１０】尚、この薄膜形成装置における導電性ブラ
シは、支持体およびガイド手段の双方に接触するよう、
かつ、アースが施されてなることが好ましい。そして、
支持体は、通常、長手状のものであり、その長手状中央
部に金属系薄膜が設けられるものであるから、その片側
または両側において導電性ブラシが接触（幅方向に５〜
２０ｍｍ程度にわたって接触）するようにしておけば、
蒸着作業中に帯電する電子を直ちに放電させることが出
来、支持体の走行性が低下するのを防止できるようにな
る。
シは、支持体およびガイド手段の双方に接触するよう、
かつ、アースが施されてなることが好ましい。そして、
支持体は、通常、長手状のものであり、その長手状中央
部に金属系薄膜が設けられるものであるから、その片側
または両側において導電性ブラシが接触（幅方向に５〜
２０ｍｍ程度にわたって接触）するようにしておけば、
蒸着作業中に帯電する電子を直ちに放電させることが出
来、支持体の走行性が低下するのを防止できるようにな
る。
【００１１】本発明が磁気記録媒体に適用された場合に
あっては、支持体は絶縁性で非磁性のものであり、この
ような支持体はＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、
ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリ
プロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹
脂、塩化ビニル系の樹脂といった有機材料、つまり絶縁
性の高分子材料が用いられる。尚、支持体の表面には、
磁性層（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアンダー
コート層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適
度に粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成され
る磁性薄膜の密着性を向上させ、さらに金属磁性薄膜表
面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、
例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５
〜０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコー
ト層が構成されている。
あっては、支持体は絶縁性で非磁性のものであり、この
ような支持体はＰＥＴ等のポリエステル、ポリアミド、
ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、ポリ
プロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系の樹
脂、塩化ビニル系の樹脂といった有機材料、つまり絶縁
性の高分子材料が用いられる。尚、支持体の表面には、
磁性層（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のアンダー
コート層が設けられている。すなわち、表面の粗さを適
度に粗すことにより、例えば斜め蒸着法により構成され
る磁性薄膜の密着性を向上させ、さらに金属磁性薄膜表
面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、
例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５
〜０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコー
ト層が構成されている。
【００１２】この支持体の一面側には、蒸着手段によっ
て磁性薄膜が設けられる。金属磁性薄膜を構成する磁性
粒子の材料としては、例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属
の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆ
ｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等
の金属を含有させたもの等が用いられる。尚、金属磁性
薄膜の成膜時には酸化性ガスが供されていて、金属磁性
薄膜の表面層には酸化膜からなる保護層が形成されるこ
とが好ましい。
て磁性薄膜が設けられる。金属磁性薄膜を構成する磁性
粒子の材料としては、例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属
の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆ
ｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいはこれらにＡｌ等
の金属を含有させたもの等が用いられる。尚、金属磁性
薄膜の成膜時には酸化性ガスが供されていて、金属磁性
薄膜の表面層には酸化膜からなる保護層が形成されるこ
とが好ましい。
【００１３】支持体の他面側には、いわゆるバックコー
ト膜が設けられる。このバックコート膜を蒸着手段によ
って金属薄膜として構成する場合には、本発明が適用で
きる。尚、金属薄膜系のバックコート膜を構成する金属
粒子の材料としては、例えばＡｌ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｎｉ，
Ａｇ，Ｆｅ，Ｔｉなどの金属が用いられる。又、Ｃｕ−
Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選
ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金、Ａｌ−Ｓｉ系
合金、Ｔｉ合金等が用いられる。尚、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ
（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一
つ、若しくは二つ以上）系合金におけるＣｕ含有量は７
０〜９０ａｔ％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ％、Ｍｎ含
有量が０．５〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が０．４〜５ａ
ｔ％で、Ｎｉ含有量が０．４〜４ａｔ％であり、Ｍｎ，
Ｆｅ，Ｎｉの総含有量が１〜６ａｔ％であることが好ま
しい。又、Ａｌ−Ｓｉ系合金におけるＡｌ含有量は１５
〜７０ａｔ％、Ｓｉ含有量が１５〜７０ａｔ％であるこ
とが好ましい。
ト膜が設けられる。このバックコート膜を蒸着手段によ
って金属薄膜として構成する場合には、本発明が適用で
きる。尚、金属薄膜系のバックコート膜を構成する金属
粒子の材料としては、例えばＡｌ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｎｉ，
Ａｇ，Ｆｅ，Ｔｉなどの金属が用いられる。又、Ｃｕ−
Ａｌ−Ｘ（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選
ばれる一つ、若しくは二つ以上）系合金、Ａｌ−Ｓｉ系
合金、Ｔｉ合金等が用いられる。尚、Ｃｕ−Ａｌ−Ｘ
（但し、ＸはＭｎ，Ｆｅ，Ｎｉの群の中から選ばれる一
つ、若しくは二つ以上）系合金におけるＣｕ含有量は７
０〜９０ａｔ％、Ａｌ含有量は８〜２５ａｔ％、Ｍｎ含
有量が０．５〜４ａｔ％で、Ｆｅ含有量が０．４〜５ａ
ｔ％で、Ｎｉ含有量が０．４〜４ａｔ％であり、Ｍｎ，
Ｆｅ，Ｎｉの総含有量が１〜６ａｔ％であることが好ま
しい。又、Ａｌ−Ｓｉ系合金におけるＡｌ含有量は１５
〜７０ａｔ％、Ｓｉ含有量が１５〜７０ａｔ％であるこ
とが好ましい。
【００１４】又、バックコート膜の成膜時にはＯ元素、
Ｎ元素あるいはＣ元素などの成分を有する反応性ガスな
どが供されていて、金属薄膜は酸化物、窒化物あるいは
炭化物に一部が変成されても良い。すなわち、バックコ
ート膜の形成時（蒸着時）に、蒸発直後の粒子に向けて
酸素などの反応性ガスを照射（供給）し、蒸発直後の粒
子に衝突させると、反応性ガスにより冷却され、粒子同
士の合体が起き、粒子の粗大化が起き、５〜１００ｎｍ
の大きさの粒子が堆積してバックコート膜が構成される
ようになる。この為、バックコート膜の粗さが適度なも
のとなり、すなわち表面粗さＲａ（中心線平均粗さ）が
５〜３０ｎｍ、Ｒｚ（十点平均粗さ）が８０〜４００ｎ
ｍのものとなり、摩擦係数が０．１〜０．３程度のもの
となって、走行性が優れたものになる。
Ｎ元素あるいはＣ元素などの成分を有する反応性ガスな
どが供されていて、金属薄膜は酸化物、窒化物あるいは
炭化物に一部が変成されても良い。すなわち、バックコ
ート膜の形成時（蒸着時）に、蒸発直後の粒子に向けて
酸素などの反応性ガスを照射（供給）し、蒸発直後の粒
子に衝突させると、反応性ガスにより冷却され、粒子同
士の合体が起き、粒子の粗大化が起き、５〜１００ｎｍ
の大きさの粒子が堆積してバックコート膜が構成される
ようになる。この為、バックコート膜の粗さが適度なも
のとなり、すなわち表面粗さＲａ（中心線平均粗さ）が
５〜３０ｎｍ、Ｒｚ（十点平均粗さ）が８０〜４００ｎ
ｍのものとなり、摩擦係数が０．１〜０．３程度のもの
となって、走行性が優れたものになる。
【００１５】そして、上記のように構成させていると、
支持体面上に金属系薄膜を例えば蒸着手段で設ける場合
において、散乱電子が支持体に帯電しようとしても、こ
れはその側部に設けられている導電性ブラシ、そしてア
ース機構によって放電され、支持体に多量の電子が溜ま
って走行性を低下させ、金属系薄膜の形成が上手く行わ
れなくなると言ったことが改善され、高性能な磁気記録
媒体を歩留り良く提供できる。
支持体面上に金属系薄膜を例えば蒸着手段で設ける場合
において、散乱電子が支持体に帯電しようとしても、こ
れはその側部に設けられている導電性ブラシ、そしてア
ース機構によって放電され、支持体に多量の電子が溜ま
って走行性を低下させ、金属系薄膜の形成が上手く行わ
れなくなると言ったことが改善され、高性能な磁気記録
媒体を歩留り良く提供できる。
【００１６】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説
明する。
明する。
【００１７】
【実施例】図１〜図３は本発明の一実施例を示すもの
で、図１は金属薄膜体の製造装置（磁気記録媒体製造装
置）の概略図、図２は要部の正面図、図３は要部の斜視
図である。各図中、１は金属製の冷却キャンロール、２
ａは供給側ロール、２ｂは巻取側ロールであり、厚さ１
０μｍ、幅２００ｍｍ程度のＰＥＴフィルム３が供給側
ロール２ａから繰り出され、冷却キャンロール１に沿っ
て巻き回され、そして巻取側ロール２ｂに巻き取られて
行くようになっている。
で、図１は金属薄膜体の製造装置（磁気記録媒体製造装
置）の概略図、図２は要部の正面図、図３は要部の斜視
図である。各図中、１は金属製の冷却キャンロール、２
ａは供給側ロール、２ｂは巻取側ロールであり、厚さ１
０μｍ、幅２００ｍｍ程度のＰＥＴフィルム３が供給側
ロール２ａから繰り出され、冷却キャンロール１に沿っ
て巻き回され、そして巻取側ロール２ｂに巻き取られて
行くようになっている。
【００１８】４はルツボであり、このルツボ４内に磁性
金属５が充填されている。６は遮蔽板、７ａ，７ｂは冷
却キャンロール１に沿って、かつ、冷却キャンロール１
の両側部分に設けられた断面が略半円状の金属製のマス
ク部材であり、このマスク部材７ａ，７ｂと冷却キャン
ロール１との間の間隙を通ってＰＥＴフィルム３は供給
側ロール２ａから巻取側ロール２ｂに巻き取られて行く
ようになっている。
金属５が充填されている。６は遮蔽板、７ａ，７ｂは冷
却キャンロール１に沿って、かつ、冷却キャンロール１
の両側部分に設けられた断面が略半円状の金属製のマス
ク部材であり、このマスク部材７ａ，７ｂと冷却キャン
ロール１との間の間隙を通ってＰＥＴフィルム３は供給
側ロール２ａから巻取側ロール２ｂに巻き取られて行く
ようになっている。
【００１９】８は炭素繊維と言った導電性繊維からなる
ブラシであり、この導電性ブラシ８はマスク部材７ａ，
７ｂに取り付けられている。そして、冷却キャンロール
１に沿って供給側ロール２ａから巻取側ロール２ｂに巻
き取られて行くＰＥＴフィルム３の端面に導電性ブラシ
８が接触するようになっている。９は電子銃、１０は真
空容器である。
ブラシであり、この導電性ブラシ８はマスク部材７ａ，
７ｂに取り付けられている。そして、冷却キャンロール
１に沿って供給側ロール２ａから巻取側ロール２ｂに巻
き取られて行くＰＥＴフィルム３の端面に導電性ブラシ
８が接触するようになっている。９は電子銃、１０は真
空容器である。
【００２０】上記のように構成させた装置において、真
空容器１０内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空度の
ものに排気した後、電子銃９からの電子ビーム加熱によ
りルツボ４内の磁性金属５を溶融、蒸発させ、冷却キャ
ンロール１に添接されているＰＥＴフィルム３に対して
０．０４〜１μｍ厚さ磁性金属５を蒸着させることによ
って金属薄膜型の磁気記録媒体が製造される。尚、磁性
薄膜の形成に際して、蒸着部分に酸素供給ノズル１１か
ら酸素を供給し、強制酸化させることによって磁性薄膜
の表層部分を酸化させ、酸化膜による保護層を形成す
る。
空容器１０内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空度の
ものに排気した後、電子銃９からの電子ビーム加熱によ
りルツボ４内の磁性金属５を溶融、蒸発させ、冷却キャ
ンロール１に添接されているＰＥＴフィルム３に対して
０．０４〜１μｍ厚さ磁性金属５を蒸着させることによ
って金属薄膜型の磁気記録媒体が製造される。尚、磁性
薄膜の形成に際して、蒸着部分に酸素供給ノズル１１か
ら酸素を供給し、強制酸化させることによって磁性薄膜
の表層部分を酸化させ、酸化膜による保護層を形成す
る。
【００２１】ところで、これまでの磁性薄膜の形成時に
はＰＥＴフィルム３に皺が発生することが有った。しか
しながら、本発明にあっては、導電性ブラシ８がＰＥＴ
フィルム３の端面に常に接触しており、又、ＰＥＴフィ
ルム３の端面から食み出している部分では導電性ブラシ
８が冷却キャンロール１に常に接触しており、ＰＥＴフ
ィルム３の全表面が導電性ブラシ８によって同電位にな
っているから、磁性薄膜の形成時に散乱電子がＰＥＴフ
ィルム３に付着、帯電するようになっても、この電子は
アース機構（例えば、冷却キャンロール１あるいはマス
ク部材７ａ，７ｂが接地）を介して直ちに放電させら
れ、ＰＥＴフィルム３の走行性の低下は起きず、磁性膜
が良好に構成された。
はＰＥＴフィルム３に皺が発生することが有った。しか
しながら、本発明にあっては、導電性ブラシ８がＰＥＴ
フィルム３の端面に常に接触しており、又、ＰＥＴフィ
ルム３の端面から食み出している部分では導電性ブラシ
８が冷却キャンロール１に常に接触しており、ＰＥＴフ
ィルム３の全表面が導電性ブラシ８によって同電位にな
っているから、磁性薄膜の形成時に散乱電子がＰＥＴフ
ィルム３に付着、帯電するようになっても、この電子は
アース機構（例えば、冷却キャンロール１あるいはマス
ク部材７ａ，７ｂが接地）を介して直ちに放電させら
れ、ＰＥＴフィルム３の走行性の低下は起きず、磁性膜
が良好に構成された。
【００２２】尚、上記実施例では金属磁性膜を設ける場
合で説明したが、いわゆるバックコート膜の場合にも適
用される技術であり、さらには一般的な金属膜を設ける
場合に適用でき、同じような効果が奏される。
合で説明したが、いわゆるバックコート膜の場合にも適
用される技術であり、さらには一般的な金属膜を設ける
場合に適用でき、同じような効果が奏される。
【００２３】
【効果】本発明によれば、支持体の走行性が良く、金属
系薄膜が良好に設けられる。
系薄膜が良好に設けられる。
【図１】金属薄膜体の製造装置（磁気記録媒体製造装
置）の概略図
置）の概略図
【図２】金属薄膜体の製造装置（磁気記録媒体製造装
置）の要部の正面図
置）の要部の正面図
【図３】金属薄膜体の製造装置（磁気記録媒体製造装
置）の要部の斜視図
置）の要部の斜視図
【図４】従来の磁気記録媒体製造装置の概略図
１ 冷却キャンロール ２ａ 供給側ロール ２ｂ 巻取側ロール ３ ＰＥＴフィルム ４ ルツボ ５ 磁性金属 ７ａ，７ｂ 金属製のマスク部材 ８ 導電性ブラシ ９ 電子銃
フロントページの続き (72)発明者 若林 繁美 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 飛来する粒子が付着・堆積する支持体を
ガイドするガイド手段と、このガイド手段に沿って設け
られ、かつ、前記支持体の側部に対応して設けられたマ
スク部材とを具備してなる薄膜形成装置であって、前記
マスク部材には支持体に接触する導電性ブラシが設けら
れてなることを特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項２】 支持体の供給手段と巻取手段とを具備
し、前記支持体は供給手段からガイド手段である冷却キ
ャンロールを経て巻取手段に巻き取られるよう構成され
てなり、前記冷却キャンロールに沿って設けられ、か
つ、前記支持体の側部に対応して設けられたマスク部材
を具備し、このマスク部材には前記支持体に接触する導
電性ブラシが設けられてなることを特徴とする請求項１
の薄膜形成装置。 - 【請求項３】 導電性ブラシは、支持体およびガイド手
段の双方に接触するよう、かつ、アースが施されてなる
ことを特徴とする請求項１または請求項２の薄膜形成装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3062594A JPH07238375A (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3062594A JPH07238375A (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07238375A true JPH07238375A (ja) | 1995-09-12 |
Family
ID=12309040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3062594A Pending JPH07238375A (ja) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07238375A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100362333B1 (ko) * | 2000-05-26 | 2002-11-23 | 주식회사 켐트로닉 | 유기발광소자 제조용 박막 증착장치 |
| JP2018178226A (ja) * | 2017-04-19 | 2018-11-15 | ムラテック工業株式会社 | 表面処理用治具 |
-
1994
- 1994-02-28 JP JP3062594A patent/JPH07238375A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100362333B1 (ko) * | 2000-05-26 | 2002-11-23 | 주식회사 켐트로닉 | 유기발광소자 제조용 박막 증착장치 |
| JP2018178226A (ja) * | 2017-04-19 | 2018-11-15 | ムラテック工業株式会社 | 表面処理用治具 |
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