JPH07234107A - 位置検出方法 - Google Patents

位置検出方法

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JPH07234107A
JPH07234107A JP6053263A JP5326394A JPH07234107A JP H07234107 A JPH07234107 A JP H07234107A JP 6053263 A JP6053263 A JP 6053263A JP 5326394 A JP5326394 A JP 5326394A JP H07234107 A JPH07234107 A JP H07234107A
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JP
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Application number
JP6053263A
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English (en)
Inventor
Yoshiyuki Katamata
義之 片又
Masamitsu Yanagihara
政光 柳原
Hideki Koitabashi
英樹 小板橋
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は位置検出方法において、パターンマツ
チングにおける位置検出精度を従来に比して一段と向上
させる。 【構成】回転対称な像を撮像して得られた第1の基準画
像とこれを所定角だけ回転して得られた第2の基準画像
とに基づいてパターンマツチング処理する。そして第1
の基準画像及び第2の基準画像のそれぞれに一致した像
が得られる被処理画像内の2つの代表点の位置に基づい
て像の位置を検出する。これによりパターンマツチング
の際に精度不良の原因となつていた映像信号の輝度差や
パターンエツジ形状の相違等の影響を一段と低減させる
ことができる。この結果、位置検出精度は従来に比して
一段と向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は位置検出方法に関し、例
えば大型の液晶表示素子基板等を製造する際に使用され
る露光装置において、感光基板の位置を位置決めする際
に用いる位置検出方法に適用して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶表示素子基板等の製造に用い
られる露光装置では、露光領域周辺に形成されたアライ
メントマークの位置を次の手順によつて求めている。ま
ず基板上に形成されたアライメントマークの撮像画像を
取り込み、その撮像画像の中から予め登録されているテ
ンプレート画像に一致する像をパターンマツチングによ
つて検出する。続いてテンプレート画像に一致する像の
位置を表す代表点の座標に基づいて像の中心座標を求め
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところがこの方法では
実際にはアライメントマークを撮像した映像信号には輝
度差やパターンエツジの状態不良等があるためパターン
マツチングによつて検出されるアライメントマークの位
置に誤差が含まれるおそれを除き得なかつた。そこで実
際に形成されているアライメントマークの撮像画像の映
像をテンプレート画像として登録しておき、このテンプ
レート画像に一致するアライメントマークの位置を検出
することも考えられるが、この場合にはアライメントマ
ークの中心位置を正確に求めることは検出された座標か
ら誤差を除き得なかつた。このようにいずれの手法によ
つてアライメントマークの中心位置を求めてもこれには
誤差が含まれているおそれがあつた。
【0004】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、被処理画像中から検出されたパターンの中心位置を
正確に検出することができる位置検出方法を提案しよう
とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、所定のパターンを含む画像を基準
画像として登録し、被処理画像7Cから基準画像に対応
する画像を検出し、該対応する画像における基準画像内
の任意の代表点の位置に基づいてパターンに対応する被
処理画像7C内の像の位置を検出する位置検出方法にお
いて、パターンとして、該パターンの中心に対して回転
対称な像7Bを第1の基準画像TP1として登録する工
程と、第1の基準画像TP1の代表点P1とパターン7
Bとを、該パターン7Bの中心O’に対して所定角度
(例えば 180°)だけ回転して得られる画像を第2の基
準画像TP2として登録する工程と、被処理画像7Cか
ら第1の基準画像TP1を検出して得られる代表点P1
の位置を第1の位置(x1 、y1 )とする工程と、被処
理画像7Cから第2の基準画像TP2を検出して得られ
る代表点P2の位置を第2の位置(x2 、y2 )とする
工程と、第1及び第2の位置に基づいて像の位置(x、
y)を検出する工程とを設けるようにする。
【0006】
【作用】パターンの中心に対して回転対称な像を第1の
基準画像TP1として登録すると共に、第1の基準画像
TP1と代表点P1とをパターンの中心O’に対して所
定角(例えば 180°)だけ回転して得られた画像を第2
の基準画像TP2として登録する。この後、被処理画像
7Cの中から第1及び第2の基準画像TP1及びTP2
を検出し、各画像が検出された第1及び第2の位置に基
づいて第1及び第2の基準画像TP1及びTP2が検出
された画像の位置を検出する。このように1つの画像を
2つの向きから検出し、2つの方向から得られた第1及
び第2の位置に基づいて画像の位置を検出するようにし
たことにより、パターンマツチングの際に精度不良の原
因となつていた映像信号の輝度差やパターンエツジ形状
の相違等の影響を一段と低減させることができる。これ
により検出精度を従来に比して一段と向上させることが
できる。
【0007】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
【0008】本実施例は、大型の液晶表示素子基板を製
造する図1の露光装置におけるアライメント方法に本発
明を適用するものである。この露光装置1は位置決めの
際に図2に示すガラス基板7上のアライメントマーク7
Bの中心位置を算出し、算出された中心位置に基づいて
ガラス基板の位置決めを行う。まず液晶表示素子基板の
製造に用いられる露光装置1の構成を説明する。
【0009】この露光装置1は露光用光源2から射出さ
れた光束L1を楕円鏡3によつて集光した後、集光され
た光束L1をコンデンサレンズ系4を介してレチクル5
上に結像し、レチクル5を透過した光束L1を投影光学
系6を介して基板7上に結像する。これにより露光装置
1はレチクル5上に形成されているパターンのパターン
像を基板7上に転写するようになされている。
【0010】ところで露光装置1は、この露光動作を開
始する前に、レベリング機構及びアライメント機構を用
いて基板7をレチクル5に対して平行に保つと共に、パ
ターン像の転写位置を正確に位置決めしている。すなわ
ち露光装置1は基板ステージ8上に載置されている基板
7上に複数組のオートフオーカス検出系のそれぞれの送
光部9から射出された光を照射し、その反射光をそれぞ
れの受光部10によつて受光し、受光出力に応じて基板
ステージ8の傾きを制御することによりレベリングを調
整する。
【0011】また露光装置1は位置決めセンサ11から
射出されたアライメント光をミラー12、レチクルマー
クRM、投影光学系6を順次介して基板7上に形成され
たアライメントマーク(図示せず)に導くと共に、その
反射光を逆光路を介して位置決めセンサ11で検出する
ことにより基板7の水平面内における位置を位置決めし
ている。すなわち位置決めセンサ11における受光出力
に基づいてxyステージ13をx方向及びy方向に移動
させることにより基板ステージ8上に載置されている基
板7の位置を所定の位置に位置決めする。
【0012】ここでxyステージ13はモータ14によ
つてx方向へ移動され、また不図示のモータによつてy
方向へ移動される。このときxyステージ13の位置
(又は移動量)はレーザ干渉計15を用いて計測され
る。レーザ干渉計15は反射平面がy方向に伸びるよう
に基板ステージ8上に取り付けられた反射ミラー16に
レーザ光を照射し、その反射光に基づいてx方向の位置
を検出する。また不図示のレーザ干渉計から不図示の反
射ミラーにレーザ光を照射することによりy方向の位置
を検出するようになされている。また基板ステージ8上
には基準となるマークが設けられたフイデユーシヤルマ
ーク板17が設置されている。このフイデユーシヤルマ
ーク板17によつて上記のアライメントセンサ11の検
出基準と後述の光学系18の検出基準との位置関係(い
わゆるベースライン)を測定するようになされている。
【0013】さらにこの露光装置1には、アライメント
マークの位置を正確に検出して位置合わせするための光
学系18と画像処理部19とが設けられている。露光装
置1は光学系18を介して取り込んだ被処理画像を画像
処理部19において画像処理し、図2に示すように露光
領域7Aの周辺に形成された複数のアライメントマーク
7Bそれぞれについてその中心位置を求めている。
【0014】ここで光学系18は対物レンズ20、反射
ミラー21、リレーレンズ23及びCCD(charge cou
pled device )カメラ24によつて構成されている。画
像処理部19はCPU25とメモリ26とによつて構成
されており、CPU26によつてメモリ26中に記憶さ
れているテンプレート画像に対応する画像を被処理画像
の中から抽出し、テンプレート画像に含まれるパターン
の被処理画像内での中心位置を検出するようになされて
いる。
【0015】この実施例の場合、メモリ26には第1の
テンプレート画像TP1と第2のテンプレート画像TP
2とでなる2つのテンプレート画像が記憶されている。
このうち第1のテンプレート画像TP1は、図3(B)
に示すように、被処理画像の中から抽出されたアライメ
ントマーク7Bの画像でなる。また第2のテンプレート
画像TP2は、図3(C)に示すように、第1のテンプ
レート画像TP1をソフトウエア上でテンプレート画像
の中心に対して 180°回転させた画像でなる。実際には
第1のテンプレート画像TP1のCCDの画素での位置
のデータ列を逆向きに入れ換えることによつて第2のテ
ンプレート画像TP2を得ることができる。
【0016】ところでアライメントマーク7Bは十字形
状であり、中心に対して回転対称の図形である。従つて
第1のテンプレート画像TP1を 180°回転させた後の
第2のテンプレート画像TP2に含まれるアライメント
マーク7Bは回転前の第1のテンプレート画像TP1に
含まれるアライメントマーク7Bの形状に一致してい
る。また第1のテンプレート画像TP1の座標を与える
代表点P1の位置はテンプレート画像における左上の位
置に設定されている。一方、第2のテンプレート画像T
P2の座標を与える代表点P2の位置はテンプレート画
像TP1を 180°回転させる際に同時に回転されるため
テンプレート画像の右下位置に設定されている。
【0017】以上の構成において、露光装置1による位
置決め動作の様子を図4を用いて説明する。まず露光装
置1は基板7の位置合わせ処理を開始すると、処理ルー
チンRT0からステツプSP1に移り、XYステージ1
3を駆動してアライメントマーク7Bのうちの1つを対
物レンズ20の下方位置に移動させる。続いて露光装置
1はCCDカメラ24によつてアライメントマーク7B
を含む画像を撮像する。このときCCDカメラ24の撮
像面に得られるのが図3(A)に示す被処理画像7Cで
あり、この被処理画像7CはCPU25に送られる。
【0018】次にCPU25は被処理画像7Cの中から
アライメントマーク7Bを含む矩形領域を抽出し、この
アライメントマーク7B近傍の画像データを基準画像デ
ータとしてメモリ26に登録する。これが図3(B)に
示す第1のテンプレート画像TP1である。またこのと
き第1のテンプレート画像TP1の左上隅の点を第1の
テンプレートにおける代表点P1として設定する(図中
×印で示す)。因に第1のテンプレート画像TP1は後
に第2のテンプレート画像TP2を得る際に 180°回転
させる都合上、先に述べたように回転対称性のあるもの
とする。
【0019】続くステツプSP2において、CPU25
は第1のテンプレート画像TP1をソフトウエア上で 1
80°回転させ、第1のテンプレート画像TP1に対して
画像データ配列を入れ換える。このように第1のテンプ
レート画像TP1を 180°回転したものが図3(C)に
示す第2のテンプレート画像TP2である。この第2の
テンプレート画像TP2も第1のテンプレート画像TP
1の場合と同様にメモリ26に登録される。このとき第
2のテンプレート画像TP2の代表点P2は第2のテン
プレート画像TP2の右下隅の点に設定される。
【0020】このように第1及び第2のテンプレート画
像TP1及びTP2について画像データの登録が終了す
ると、露光装置1はステツプSP3の処理に移る。すな
わちCPU25はCCDカメラ24から取り込んだ被処
理画像7Cの中から第1のテンプレート画像TP1に一
致する画像をパターンマツチングの手法を用いて検索
し、第1のテンプレート画像TP1の代表点P1の座標
を(x1 、y1 )として検出する。因に代表点P1の座
標は被処理画像7Cの左上隅を原点とする座標系から見
た座標値である。
【0021】次にステツプSP4に移る。CPU25は
CCDカメラ24から取り込んだ被処理画像7Cの中か
ら第2のテンプレート画像TP2に一致する画像をパタ
ーンマツチングの手法を用いて検索し、第2のテンプレ
ート画像TP2の代表点P2の座標を(x2 、y2 )と
して検出する。このとき第2のテンプレート画像TP2
の代表点P2を与える座標系も代表点P1の座標を与え
る座標系と同じである。
【0022】このように被処理画像7Cの中から同一の
パターンに対して2つの代表点P1及びP2を検出する
と、ステツプSP5の処理に移り、次式
【数1】 に基づいてパターンの中心O’の座標(X、Y)を算出
する。
【0023】(1)式によつて中心O’の座標(X、
Y)を算出することができるのは代表点P1と代表点P
2とがパターンの中心O’に対して互いに点対称の位置
関係にあるからである。すなわち図3(D)に示すよう
に、代表点P1と代表点P2はパターンの中心O’に対
して点対称の関係にあるため各代表点P1(又はP2)
と中心O’とのx方向への距離bもy方向への距離aも
互いに等しい関係にあることによる。従つて(1)式に
基づいて2つの代表点P1及びP2の中点座標を求めれ
ばパターンの中心座標が求められていることになる。こ
の座標が得られた段階でステツプSP6に移り、1つ目
のアライメントマーク7Bに対するパターンの中心座標
算出処理が終了する。このように中心座標を2つの検出
座標値に基づいて得ることができるためその精度も一段
と向上する。
【0024】露光装置1は残るアライメントマーク7B
についても順次同様の手順、すなわちステツプSP1〜
ステツプSP6の処理を繰り返すことによつて各パター
ン中心座標をCPU25を用いて算出する。このように
基板7上に形成された全てのアライメントマーク7Bに
ついてその中心座標が得られると、それぞれの位置関係
は予め設計値により決まつているのでずれ量を算出する
ことができる。このずれ量に基づいてアライメントを補
正すれば従来に比して一段と高い精度でパターンを重ね
露光することができる露光装置を実現することができ
る。
【0025】以上の構成によれば、基板7上に実際に形
成されているアライメントマーク7Bを撮像したテンプ
レート画像TP1とこれを 180°回転させてなるテンプ
レート画像TP2に一致する画像を被処理画像7Cの中
から検出し、それぞれについて得られた代表点P1及び
P2の中点座標をアライメントマーク7Bの中心座標と
して算出するようにしたことにより、実際に形成されて
いるパターンをテンプレート画像としてパターンマツチ
ング処理することができ、またパターンの中心位置を正
確に求めることができる。この結果、露光装置1による
アライメント精度を一段と向上させることができる。
【0026】なお上述の実施例においては、テンプレー
ト画像TP1とこれを 180°回転させたテンプレート画
像TP2とによつて十字形状でなるアライメントマーク
7Bの中心位置を検出する場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、回転角は90°であつても良く、また
270°であつても良い。この場合にも1つのアライメン
トマーク7Bについて2つの代表点P1及びP2を得る
ことができ、検出精度を従来に比して一段と向上させる
ことができる。
【0027】また上述の実施例においては、テンプレー
ト画像TP1とこれを 180°回転させたテンプレート画
像TP2との2つのテンプレート画像によつてアライメ
ントマーク7Bの位置を検出する場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、3つ以上のテンプレート画
像を用いてアライメントマーク7Bの中心位置を検出す
るようにしても良い。例えば実施例で説明したテンプレ
ート画像TP1及びTP2の他にテンプレート画像TP
1をそれぞれ90°及び 270°回転した画像を第3及び第
4のテンプレート画像として用いてアライメントマーク
7Bの中心を検出しても良い。このようにすれば4つの
代表点座標値に基づいてその中心座標を求めることがで
きるため精度を一段と向上させることができる。
【0028】さらに上述の実施例においては、アライメ
ントマーク7Bの中心座標を求める場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、被処理画像7C中に存在す
る任意のパターンの中心を求める場合に適用し得る。但
しそのパターン形状は回転対称である図形とする。例え
ば図5(A)や図5(B)に示すように、長方形形状の
パターンや円形のパターンの場合にも適用し得る。
【0029】さらに上述の実施例においては、テンプレ
ート画像TP1及びTP2をそれぞれ被処理画像7C中
から選択し、又は選択された画像に基づいて作成する場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、ソフトフ
エア上で作成したテンプレート画像を用いても良い。こ
の場合にも複数の代表点に基づいてパターンの中心を求
めることができるため従来に比して一段と精度を高める
ことができる。
【0030】さらに上述の実施例においては、実施例で
説明した位置検出機能を有する露光装置について述べた
が、本発明はこれに限らず、画像処理によつて被処理画
像中にある回転対称な図形の中心を求める装置に広く適
用し得る。
【0031】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、回転対称
な像を撮像して得られた第1の基準画像とこれを所定角
だけ回転して得られた第2の基準画像とに基づいてパタ
ーンマツチング処理することにより、パターンマツチン
グの際に精度不良の原因となつていた映像信号の輝度差
やパターンエツジ形状の相違等の影響を一段と低減させ
ることができる。これにより精度を従来に比して向上さ
せることができる位置検出方法を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による位置検出方法を用いた位置決め機
構を有する露光装置の一実施例を示す光路図である。
【図2】ガラス基板上に配置されるアライメントマーク
の配置例を示す平面図である。
【図3】テンプレート画像の説明及びこれを用いた位置
合わせの様子を示す略線図である。
【図4】位置合わせ手順を示すフローチヤートである。
【図5】他の回転対称図形の一例を示す略線図である。
【符号の説明】
1……露光装置、2……露光用光源、4……コンデンサ
レンズ系、5……レチクル、6……投影光学系、7……
基板、7A……露光領域、7B……アライメントマー
ク、7C……被処理画像、8……基板ステージ、13…
…XYステージ、15……レーザ干渉計、18……光学
系、19……画像処理部、20……対物レンズ、23…
…リレーレンズ、24……CCDカメラ、25……CP
U、26……メモリ、TP1、TP2……テンプレート
画像。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】所定のパターンを含む画像を基準画像とし
    て登録し、被処理画像から前記基準画像に対応する画像
    を検出し、該対応する画像における前記基準画像内の任
    意の代表点の位置に基づいて前記パターンに対応する前
    記被処理画像内の像の位置を検出する位置検出方法にお
    いて、 前記パターンとして、該パターンの中心に対して回転対
    称な像を第1の基準画像として登録する工程と、 前記第1の基準画像の前記代表点と前記パターンとを、
    該パターンの中心に対して所定角度だけ回転して得られ
    る画像を第2の基準画像として登録する工程と、 前記被処理画像から前記第1の基準画像を検出して得ら
    れる前記代表点の位置を第1の位置とする工程と、 前記被処理画像から前記第2の基準画像を検出して得ら
    れる前記代表点の位置を第2の位置とする工程と、 前記第1及び第2の位置に基づいて前記像の位置を検出
    する工程とを具えることを特徴とする位置検出方法。
  2. 【請求項2】上記所定角度は90°、180°又は27
    0°のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載
    の位置検出方法。
  3. 【請求項3】上記所定角度を180°とするとき、 前記第1及び第2の位置の中点を前記像の位置として検
    出することを特徴とする請求項1に記載の位置検出方
    法。
  4. 【請求項4】前記第1及び第2の基準画像に含まれる前
    記パターンは、前記被処理画像内から選択するものであ
    ることを特徴とする請求項1に記載の位置検出方法。
JP6053263A 1994-02-24 1994-02-24 位置検出方法 Pending JPH07234107A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999041904A1 (fr) * 1998-02-10 1999-08-19 Nikon Corporation Procede d'entrainement d'un dispositif d'imagerie a semi-conducteurs, dispositif d'imagerie, dispositif d'alignement et procede d'alignement
JP2001358068A (ja) * 2000-04-20 2001-12-26 Svg Lithography Systems Inc アライメントセンサ、アライメントセンサシステム、イメージ回転形干渉計及びアライメントマーク検出方法

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WO1999041904A1 (fr) * 1998-02-10 1999-08-19 Nikon Corporation Procede d'entrainement d'un dispositif d'imagerie a semi-conducteurs, dispositif d'imagerie, dispositif d'alignement et procede d'alignement
JP2001358068A (ja) * 2000-04-20 2001-12-26 Svg Lithography Systems Inc アライメントセンサ、アライメントセンサシステム、イメージ回転形干渉計及びアライメントマーク検出方法

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