JPH07230972A - Semiconductor wafer fixing adhesive tape - Google Patents

Semiconductor wafer fixing adhesive tape

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JPH07230972A
JPH07230972A JP16070994A JP16070994A JPH07230972A JP H07230972 A JPH07230972 A JP H07230972A JP 16070994 A JP16070994 A JP 16070994A JP 16070994 A JP16070994 A JP 16070994A JP H07230972 A JPH07230972 A JP H07230972A
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adhesive
adhesive tape
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semiconductor wafer
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正三 矢野
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寛 蛭川
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和繁 岩本
Hiroshi Nakayama
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Furukawa Electric Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide a semiconductor wafer fixing adhesive tape which is kept high in rubbery elasticity even to a heavy stress, capable of expanding enough a space between chips as kept free from necking, and furthermore prevents adhesive agent from adhering to pins when a pick-up operation takes place. CONSTITUTION:An adhesive agent layer 2 is formed on a base film 3 for the formation of a semiconductor wafer fixing adhesive tape 1. The base film 3 is made of terpolymer composed of ethylene, methacrylic acid, and (metha) acrylic acid alkyl ester, wherein an ethylene content of a ternary copolymer is more than 60% by weight, and a number of carbons of an alkyl part of (metha) acrylic acid alkyl ester component is larger than 3 but smaller than 8.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体ウエハをチップ状
にダイシングする際に用いられる半導体用粘着シート、
いわゆるダイシングテープに関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductors, which is used when dicing a semiconductor wafer into chips.
The so-called dicing tape.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
回路パターンの形成された半導体ウエハのチップ状への
切断分離、いわゆるダイシング加工を行う際は、ウエハ
の固定に放射線硬化性粘着テープを用いるピックアップ
方式が提案されている。半導体チップはマウント工程に
移される迄に、半導体ウエハを粘着シートに貼着、固定
した状態でチップ状にダイシングされ、洗浄の後エキス
パンド、ピックアップの工程を経る。この方法は、ダイ
シング工程の際にチップの飛散を防止するために粘着剤
はウエハ固定粘着力として強接着性を有し、その後放射
線等を照射し、放射線硬化性化合物を硬化させることで
粘着剤層のウエハ固定粘着力を十分に低下させピックア
ップを行い易くする方法である。この場合ウエハの切残
しの無いフルカット方式が一般に用いられる。その他
に、ダイシング後、放射線を照射せずそのままピックア
ップ工程に移される方式も広く知られており、この方式
では粘着剤は放射線硬化性の性質を有する必要は無い。
この場合、ダイシングの際にはウエハに切残しを持たせ
るセミフルカットやハーフカット方式を用いチップの飛
散を防ぐ。さらに、ダイシングの後、裏面からブレーキ
ングを行いチップ状に完全分離されピックアップ工程に
移される。
2. Description of the Related Art Conventionally, the problems to be solved by the invention
When a semiconductor wafer having a circuit pattern formed thereon is cut and separated into chips, that is, so-called dicing processing, a pickup method using a radiation curable adhesive tape for fixing the wafer has been proposed. Before the semiconductor chip is moved to the mounting step, the semiconductor wafer is attached to the adhesive sheet and fixed in a fixed state and diced into chips, and after cleaning, the steps of expanding and picking up are performed. In this method, in order to prevent the chips from scattering during the dicing process, the adhesive has a strong adhesiveness as a wafer fixing adhesive force, and then is irradiated with radiation or the like to cure the radiation-curable compound and thus the adhesive. This is a method of sufficiently lowering the adhesive strength of the layer for fixing the wafer to facilitate pickup. In this case, a full-cut method that does not leave uncut wafers is generally used. In addition, there is also widely known a method of directly transferring to a pickup step without irradiating radiation after dicing, and in this method, the pressure-sensitive adhesive does not need to have a radiation curable property.
In this case, chips are prevented from scattering by using a semi-full cut method or a half cut method in which a wafer is left uncut during dicing. Further, after dicing, braking is performed from the back surface, and the chips are completely separated and transferred to the pickup process.

【0003】図1に縦断面図として示したように、半導
体ウエハ固定用の粘着テープ1は、基材フィルム3の片
側面上に粘着剤層2を有してなり、図2に示すように粘
着剤層2上にウエハ5が貼着、固定されて以後の工程に
用いられる。エキスパンド工程は、図3に縦断面図を示
したようにダイシング後のウエハ5が接着した粘着テー
プ1の端部を金属状フレーム6で固定し、図4に縦断面
図を示したようにテーブル状の押圧具7で押上げて粘着
テープ1を引き伸ばし、チップ5’の間隔を広げる工程
である。ここで押上げた時の応力が大きいため、基材フ
ィルムが高結晶性を有するような材質の場合、粘着テー
プ1と押圧具7の端部との接触部分8がエキスパンド工
程前には有していたゴム状弾性を失ってしまう。その結
果接触部分8のみが局所的に伸張し基材フィルム厚が非
接触部分に比べ著しく薄くなる現象、すなわちネッキン
グ現象を起こし、チップ間隔を広げるための応力がウエ
ハ(チップ)部に伝達されなくなってしまう。ピックア
ップ工程は、図5に一部縦断面図として示したように、
ダイシングされたウエハチップ5’が貼着されたシート
状の粘着テープ1をエキスパンドすることによりチップ
間隔を広げた状態でピックアップ用のピン9を突き刺し
て行われる。この際、ピックアップが正確に行われるた
めにはチップ間隔が均一でかつ広いことが望ましい。
As shown in a longitudinal sectional view in FIG. 1, an adhesive tape 1 for fixing a semiconductor wafer comprises an adhesive layer 2 on one side of a base film 3, and as shown in FIG. The wafer 5 is attached and fixed on the adhesive layer 2 and used in the subsequent steps. In the expanding step, as shown in the vertical sectional view of FIG. 3, the end of the adhesive tape 1 to which the wafer 5 after dicing is adhered is fixed by the metal-like frame 6, and the table as shown in the vertical sectional view of FIG. In this step, the adhesive tape 1 is stretched by pushing it up with a strip-shaped pressing tool 7 to widen the intervals between the chips 5 '. Since the stress when pushed up is large, if the base film is made of a material having high crystallinity, the contact portion 8 between the adhesive tape 1 and the end portion of the pressing tool 7 has before the expanding step. It loses its rubbery elasticity. As a result, only the contact portion 8 locally expands and the thickness of the base film becomes remarkably thinner than the non-contact portion, that is, a necking phenomenon occurs, and the stress for widening the chip interval is not transmitted to the wafer (chip) portion. Will end up. The pick-up process is as shown in FIG.
This is performed by expanding the sheet-shaped pressure-sensitive adhesive tape 1 to which the diced wafer chips 5'are attached and piercing the pickup pins 9 in a state where the chip interval is widened. At this time, it is desirable that the chip intervals be uniform and wide so that the pickup can be performed accurately.

【0004】従来、半導体用粘着シートの基材フィルム
に用いられる重合体としては、特公平2−58306で
提案されているような重合体構成単位としてカルボキシ
ル基を有する化合物や、あるいはポリエチレン系の2元
共重合体等が広く知られており、エチレン−メタクリル
酸、エチレン−メタクリル酸メチル、エチレン−メタク
リル酸エチル共重合体等の例が挙げられる。これらはカ
ルボキシル基、あるいはメチルエステル基やエチルエス
テル基のようにアルキルエステル基のアルキル部の炭素
数が1又は2である官能基を持つもので、これらの重合
体を用いた基材フィルムは伸張性には富むが、より広い
チップ間隔が要求された場合エキスパンドストロークを
高くすると図4の符号8で示される押圧具との接触部分
においてネッキングが生じ、チップ間隔を広げるための
応力をウエハ部に十分に伝達することができず不十分な
結果となってしまう。また、エキスパンドにより伸張さ
れた時点での応力が小さいと、ネッキングが起きなくて
も、テープの伸張と共にチップを移動させることができ
ず、ウエハ部以外の部分のみが伸張しチップ間隔は十分
には広がらないという問題がある。このような問題を解
決するために、アイオノマー樹脂を採用した層を含む基
材フィルムが提案されているが、架橋部分に存在する金
属が、チップの金属汚染を促進する結果となり好ましく
ない。また、ピックアップ工程では、図5に示すよう
に、ピックアップピン9により、ダイシングされたウエ
ハチップ5’を固定、貼着した粘着テープ1の裏面から
突き刺しチップ5’を突き上げる。しかしながら、従来
の基材フィルムに粘着剤と放射線重合性化合物の構成を
持つ粘着剤層を設けた粘着テープでは、突き刺した際に
ピンの表面に粘着剤が付着し、突き上げの回数を重ねる
毎に粘着剤がピンに堆積していくことが多い。この工程
ではチップの認識はチップ面積の画像認識として行われ
る。従って、ピンへの粘着剤堆積量が多いと突き上げら
れたチップを上方から見た場合にチップ面積から堆積物
がはみ出てしまい、画像認識の際に良品チップを不良品
として誤認してしまうことがあり、誤動作の原因となっ
ていた。本発明の目的は、上記のようなエキスパンド時
の粘着テープのネッキング現象を防止し、チップ間隔を
十分に広げる効果をもたらし、さらにピックアップ時に
おけるピックアップピンへの粘着剤の付着を防止する半
導体ウエハ固定用粘着テープを提供することである。
Conventionally, as a polymer used for a base film of a pressure-sensitive adhesive sheet for a semiconductor, a compound having a carboxyl group as a polymer constitutional unit as proposed in Japanese Patent Publication No. 58306/1990, or a polyethylene type 2 Original copolymers and the like are widely known, and examples thereof include ethylene-methacrylic acid, ethylene-methyl methacrylate, and ethylene-ethyl methacrylate copolymers. These have a functional group in which the carbon number of the alkyl part of the alkyl ester group is 1 or 2 such as a carboxyl group or a methyl ester group or an ethyl ester group. The base film using these polymers is stretched. However, when a wider chip interval is required, increasing the expansion stroke causes necking at the contact portion with the pressing tool shown by reference numeral 8 in FIG. 4, and the stress for expanding the chip interval is applied to the wafer part. It cannot be fully communicated, resulting in insufficient results. Also, if the stress at the time of expansion by expansion is small, the chip cannot be moved with the expansion of the tape even if necking does not occur, and only the part other than the wafer part expands, and the chip interval is sufficient. There is a problem that it does not spread. In order to solve such a problem, a substrate film including a layer employing an ionomer resin has been proposed, but the metal present in the crosslinked portion is not preferable because it promotes metal contamination of the chip. Further, in the pickup step, as shown in FIG. 5, the dicing wafer chip 5 ′ is fixed by the pick-up pin 9 and the piercing chip 5 ′ is pushed up from the back surface of the adhesive tape 1 attached. However, in the conventional adhesive tape having the adhesive layer having the constitution of the adhesive and the radiation-polymerizable compound on the base film, the adhesive adheres to the surface of the pin when pierced, and the number of times of pushing up is increased. Adhesive is often deposited on the pins. In this process, chip recognition is performed as image recognition of the chip area. Therefore, when the amount of adhesive deposited on the pin is large, when the chip that is pushed up is viewed from above, the deposit may overflow from the chip area, and a good chip may be mistakenly recognized as a defective product during image recognition. Yes, it caused a malfunction. An object of the present invention is to fix a semiconductor wafer that prevents the necking phenomenon of the adhesive tape during the expansion as described above, has the effect of sufficiently widening the chip interval, and further prevents the adhesion of the adhesive to the pickup pin at the time of pickup. Is to provide an adhesive tape for use.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成するために鋭意検討を重ねた結果、所定量のエチレ
ン、メタクリル酸、及びアルキル部の炭素数が3以上8
以下である(メタ)アクリル酸アルキルエステルの3成
分を重合体構成単位とする3元共重合体を含む層を有す
る基材フィルムを用いてなる半導体固定用粘着テープ
が、高応力に対してもゴム状弾性を維持しネッキングを
起こさずチップ間隔を十分に広げ、さらにはピックアッ
プ時のピックアップピンへの粘着剤付着を防止する効果
を奏することを見出し、この知見に基づいて本発明を完
成するに至った。すなわち本発明は、基材フィルム上に
粘着剤層を有してなる半導体ウエハ固定用粘着テープに
おいて、前記基材フィルムが、エチレン、メタクリル酸
及び(メタ)アクリル酸アルキルエステルを重合体の構
成単位とし、重合体中のエチレン成分含有量が60重量
%以上で、かつ、(メタ)アクリル酸アルキルエステル
成分のアルキル部の炭素数が3以上8以下である3元共
重合体を含む層を有してなることを特徴とする半導体ウ
エハ固定用粘着テープを提供するものである。なお、本
明細書中において(メタ)アクリル酸アルキルエステル
とは、アクリル酸アルキルエステル及びメタクリル酸ア
ルキルエステルのいずれかを意味するる。また、放射線
とは、紫外線のような光線、又は電子線などの電離性放
射線を意味する。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that a predetermined amount of ethylene, methacrylic acid, and an alkyl moiety has 3 or more carbon atoms.
A semiconductor fixing pressure-sensitive adhesive tape using a base film having a layer containing a terpolymer having the following three components of a (meth) acrylic acid alkyl ester as a polymer constitutional unit is used even for high stress. It was found that the rubber-like elasticity is maintained, the chip interval is sufficiently widened without causing necking, and further, the effect of preventing the adhesion of the adhesive to the pickup pin at the time of pickup is exerted, and based on this finding, the present invention was completed. I arrived. That is, in the present invention, in a pressure-sensitive adhesive tape for fixing a semiconductor wafer, which comprises a pressure-sensitive adhesive layer on a base film, the base film comprises ethylene, methacrylic acid and (meth) acrylic acid alkyl ester as a structural unit of a polymer. And a layer containing a terpolymer in which the content of ethylene in the polymer is 60% by weight or more and the number of carbon atoms in the alkyl part of the (meth) acrylic acid alkyl ester component is 3 or more and 8 or less. An adhesive tape for fixing a semiconductor wafer is provided. In addition, in this specification, (meth) acrylic acid alkyl ester means either acrylic acid alkyl ester or methacrylic acid alkyl ester. Radiation means light rays such as ultraviolet rays or ionizing radiation such as electron beams.

【0006】本発明の半導体ウエハ固定用粘着テープに
おける基材フィルムは、エチレン、メタクリル酸及びア
ルキル部の炭素数が3以上8以下の(メタ)アクリル酸
アルキルエステルを重合体構成単位とする3元共重合体
を含む層を有し、この3元共重合体がエキスパンド時の
チップ間隔を十分に広げ得る作用効果を奏するものと考
えられる。このことは次のようなことと推測される。す
なわち、重合体構成単位が3つの化合物からなる3元体
であるために従来の2元体に比べ非常に柔軟で、伸張性
を要するエキスパンド性に富む。さらに、その3元体に
アルキル部の炭素数が3以上8以下である(メタ)アク
リル酸アルキルエステルが構成単位の1つとして含まれ
ているため、従来のカルボキシル基、あるいはアルキル
部の炭素数が1又は2であるメチルエステル基、エチル
エステル基に比べ官能基部が長い。この長い官能基が立
体障害的にポリエチレン鎖の配列を不規則にし、結晶性
を低下させ、ゴム状弾性を強めるので、ネッキング防止
の効果がより十分に得られるものと考えられる。炭素数
が9以上になると柔軟すぎてしまいエキスパンド時の基
材フィルムの破断などを生じる恐れがあり好ましくな
い。
The substrate film in the pressure-sensitive adhesive tape for fixing a semiconductor wafer according to the present invention is a ternary polymer containing ethylene, methacrylic acid and a (meth) acrylic acid alkyl ester having 3 to 8 carbon atoms in the alkyl portion as a polymer constitutional unit. It is considered that the terpolymer has a layer containing a copolymer, and that this ternary copolymer has the effect of being able to sufficiently widen the chip interval during expansion. This is presumed to be as follows. That is, since the polymer constitutional unit is a ternary compound composed of three compounds, it is much more flexible than the conventional binary compound and rich in expandability which requires extensibility. Furthermore, since the ternary compound contains a (meth) acrylic acid alkyl ester having 3 to 8 carbon atoms in the alkyl portion as one of the constituent units, the number of carbon atoms in the conventional carboxyl group or alkyl portion is increased. Has a longer functional group portion than the methyl ester group or the ethyl ester group having 1 or 2. It is considered that this long functional group sterically hinders the arrangement of polyethylene chains, reduces the crystallinity, and strengthens the rubber-like elasticity, so that the effect of preventing necking can be more sufficiently obtained. When the carbon number is 9 or more, it is not preferable because it may be too soft and the base film may be broken during expansion.

【0007】また、この強いゴム状弾性によりフィルム
の復元力が高くなり、ピックアップピンを突き刺した後
にピン以上の径の穴は形成されない。従って、ピックア
ップ時に、ピン表面に付着する粘着剤はすべて基材フィ
ルムによりそぎ落されピンに堆積することは無く、画像
認識において良品を不良品と誤認することが無くなる。
3元共重合体の(メタ)アクリル酸アルキルエステルと
して具体的には、(メタ)アクリル酸プロピル、(メ
タ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、
(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−
メチルプロピル、(メタ)アクリル酸2−エチルプロピ
ル、(メタ)アクリル酸2−メチルブチル、(メタ)ア
クリル酸2−エチルブチル、(メタ)アクリル酸2−メ
チルヘキシル、(メタ)アクリル酸3−メチルヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)
アクリル酸1,2−ジメチルブチル等が挙げられる。本
発明において基材フィルムの含有するエチレン−メタク
リル酸−(メタ)アクリル酸アルキルエステルのアルキ
ル部の炭素数が3以上8以下である(メタ)アクリル酸
アルキルエステルの3元共重合体はエチレン成分の含有
量が60重量%以上である。好ましくは、エチレン成分
の含有量が60〜98重量%、メタクリル酸成分の含有
量が1〜20重量%、(メタ)アクリル酸アルキルエス
テル成分の含有量が1〜20重量%である場合に上記の
効果が最も顕著に現れる。すなわち、メタクリル酸成分
と(メタ)アクリル酸アルキルエステル成分の含有量が
これらの範囲内であるときに最も顕著なゴム状弾性を示
す。前記2成分の含有量がこれらの範囲を下回るとゴム
状弾性が徐々に弱まり、逆にこれらの範囲を上回るとゴ
ム状弾性は強まっていくが、強度の低下によりチップ間
隔を十分に広げるだけの応力が徐々に低下していく結果
となる。
Also, due to this strong rubber-like elasticity, the restoring force of the film is increased, so that a hole having a diameter larger than the pin is not formed after the pick-up pin is pierced. Therefore, at the time of picking up, all the adhesive that adheres to the pin surface is not scraped off by the base film and is not deposited on the pin, and it is possible to avoid misidentifying a good product as a defective product in image recognition.
Specific examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester of the terpolymer include propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate,
Octyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 2-
Methylpropyl, 2-ethylpropyl (meth) acrylate, 2-methylbutyl (meth) acrylate, 2-ethylbutyl (meth) acrylate, 2-methylhexyl (meth) acrylate, 3-methylhexyl (meth) acrylate , 2-ethylhexyl (meth) acrylate, (meth)
Examples include 1,2-dimethylbutyl acrylate and the like. In the present invention, the ethylene-methacrylic acid- (meth) acrylic acid alkyl ester contained in the base film has a carbon number of the alkyl part of 3 to 8 and the terpolymer of the (meth) acrylic acid alkyl ester is an ethylene component. Is 60% by weight or more. Preferably, when the content of the ethylene component is 60 to 98% by weight, the content of the methacrylic acid component is 1 to 20% by weight, and the content of the (meth) acrylic acid alkyl ester component is 1 to 20% by weight. The effect of is most prominent. That is, when the contents of the methacrylic acid component and the (meth) acrylic acid alkyl ester component are within these ranges, the most remarkable rubber-like elasticity is exhibited. If the content of the above-mentioned two components falls below these ranges, the rubber-like elasticity gradually weakens, and conversely, if it exceeds these ranges, the rubber-like elasticity increases, but the strength decreases and the chip interval is sufficiently widened. As a result, the stress gradually decreases.

【0008】本発明における粘着テープの基材フィルム
は、上記3元共重合体からなる単層の場合はもちろんの
こと、前記3元共重合体を含む層と汎用重合体の層との
多層構造にしてもよい。多層の場合、要求特性に応じて
3元共重合体を含む層を、どの部分の層に採用するかは
任意に選択可能であるが、強度を重視する場合には中心
層に用いることが最も望ましい。また、この3元共重合
体からなる層は通常1層であるが2層以上にしてもよ
い。この3元共重合体を含有する層以外の層には、ポリ
オレフィン系やエラストマー系等の重合体の層を用いる
ことが可能であり、そのような重合体として具体的に
は、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体等の
エチレン系共重合体、ポリプロピレン、ポリブチレン、
アイオノマー、ポリブタジエン、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルペン
テン、ポリウレタン等の汎用重合体が使用可能で、要求
特性、コスト等の点に応じて樹脂の種類や層比率を任意
に選択することができる。層比率は、エチレン−メタク
リル酸−(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体
層の比率を基材フィルム層全体の厚さの50〜90%と
する場合により大きな効果が得られ、好ましい。また、
強度の違いによる基材フィルムの破断等を防ぐため、各
層を熱融着させて多層にするのが望ましい。さらに、粘
着テープをフレームに貼りつけた後に、フレームからは
み出したテープの余分な部分を例えば押し切りによって
切り落す工程において、前記ゴム状弾性等の性質に加え
て、テープの切れ易さが要求される場合がある。しか
し、基材フィルムのゴム状弾性が大きいと応力を吸収し
てしまい、切れ難くなることが多い。このような際に
は、前記エチレン−メタクリル酸−(メタ)アクリル酸
アルキルエステル3元共重合体を金属イオン(例えば、
アルカリ土類金属、アルカリ金属)でアイオノマー化し
た樹脂を含む層を用いることにより、ゴム状弾性を失う
こと無く、切れ易さも良好とすることが可能となる。こ
れはアイオノマー樹脂が、金属イオンにカルボキシル基
が電気的に配向する構造を持つため、この配向性が切れ
易さを良好にしているものと考えられる。また、この3
元共重合体のアイオノマー樹脂に、比較的、移行し易い
金属イオンが架橋部分に用いられている場合、移行によ
るチップの金属汚染が問題となる場合がある。この場
合、基材フィルムをアイオノマー樹脂を含む層と粘着剤
層との間に汎用重合体の層を設けた多層構造とすること
によりチップへの金属の移行を防止することが可能とな
る。さらに、3元共重合体と比較的結晶性を有する汎用
重合体とのブレンド物を用いても、前記問題は解決可能
である。この時、前記3元共重合体の比率が層全体の7
5重量%以上であればエキスパンド時のゴム状弾性を失
うこともない。この場合の汎用重合体としては、ポリエ
チレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のエチレン系
共重合体等が用いられる。
The base film of the pressure-sensitive adhesive tape in the present invention is not limited to a single layer made of the above terpolymer, but also has a multi-layer structure of a layer containing the terpolymer and a layer of a general-purpose polymer. You may In the case of a multi-layered structure, it is possible to arbitrarily select which part of the layer containing the terpolymer is used according to the required characteristics, but when strength is important, it is most preferable to use it for the central layer. desirable. The layer composed of this terpolymer is usually one layer, but it may be two or more layers. For layers other than the layer containing the terpolymer, it is possible to use a layer of a polymer such as a polyolefin or an elastomer, and specific examples of such a polymer include polyethylene and ethylene- Ethylene copolymers such as vinyl acetate copolymer, polypropylene, polybutylene,
General-purpose polymers such as ionomers, polybutadiene, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polymethylpentene, and polyurethane can be used, and the type and layer ratio of the resin can be arbitrarily selected according to the required properties and cost. . The layer ratio is preferred because a large effect can be obtained when the ratio of the ethylene-methacrylic acid- (meth) acrylic acid alkyl ester copolymer layer is 50 to 90% of the total thickness of the base film layer. Also,
In order to prevent breakage of the base film due to the difference in strength, it is desirable to heat-bond each layer into a multilayer. Furthermore, in the step of cutting off an excessive portion of the tape protruding from the frame by, for example, a push cut after attaching the adhesive tape to the frame, in addition to the properties such as rubber elasticity, the tape is required to be easily cut. There are cases. However, if the base film has a large rubber-like elasticity, it absorbs stress and is difficult to cut. In such a case, the ethylene-methacrylic acid- (meth) acrylic acid alkyl ester terpolymer is added to a metal ion (for example,
By using a layer containing a resin ionized with an alkaline earth metal or an alkali metal), it is possible to improve the easiness of cutting without losing the rubber-like elasticity. It is considered that this is because the ionomer resin has a structure in which a carboxyl group is electrically oriented to a metal ion, and thus the orientation is easily broken. Also, this 3
When the ionomer resin of the original copolymer contains a metal ion which is relatively easy to migrate in the cross-linked portion, metal contamination of the chip due to migration may be a problem. In this case, the transfer of metal to the chip can be prevented by forming the substrate film into a multilayer structure in which a layer of a general-purpose polymer is provided between a layer containing an ionomer resin and a pressure-sensitive adhesive layer. Furthermore, the above problem can be solved by using a blend of a terpolymer and a general-purpose polymer having a relatively crystalline property. At this time, the ratio of the terpolymer is 7 in the entire layer.
If it is 5% by weight or more, the rubber-like elasticity during expansion will not be lost. As the general-purpose polymer in this case, an ethylene-based copolymer such as polyethylene or an ethylene-vinyl acetate copolymer is used.

【0009】本発明における粘着剤層には、放射線照射
により粘着力を低下させピックアップを行う方式の場
合、放射線硬化性化合物が用いられる。この放射線硬化
性化合物には特に制限は無く、通常の粘着剤が使用可能
である。例えば、アクリル系粘着剤100重量部に対
し、炭素−炭素二重結合を有するシアヌレート化合物及
びイソシアヌレート化合物の群の中から選ばれた少なく
とも一種の化合物10〜200重量部と炭素−炭素二重
結合を二個有する直鎖状のポリエステル又はポリオール
系ウレタンアクリレート化合物5〜100重量部とを含
有する粘着剤を用いると、放射線照射後の粘着剤層のゴ
ム状弾性を維持することができるため、放射線照射後に
おける粘着テープのゴム状弾性(柔軟性)を維持する効
果が大きい。さらに、光重合開始剤、例えばイソプロピ
ルベンゾインエーテル、イソブチルベンジンエーテル、
ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、クロロチオキサン
トン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサント
ン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケター
ル、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2
−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等を粘着剤層に添
加すると硬化反応時間又は放射線照射量が少なくても効
率よく硬化反応を進行させ、チップの固定粘着力を低下
させることができる。また、必要に応じて放射線照射後
の固定粘着力を良好に低下させるため放射線硬化性のシ
リコンアクリレート又はシリコンメタアクリレートを、
あるいは被着体であるウエハの表面に金属物質のコーテ
ィングされている特殊処理面に対しても同様に固定粘着
力を低下させるため、イオン封鎖剤等を、またタッキフ
ァイアー、粘着調整剤、界面活性剤等あるいはその他の
改質剤及び慣用成分を配合することができる。
A radiation-curable compound is used for the pressure-sensitive adhesive layer in the present invention in the case of a system in which the pressure-sensitive adhesive force is lowered by irradiation with radiation to perform pickup. This radiation-curable compound is not particularly limited, and a usual pressure-sensitive adhesive can be used. For example, 10 to 200 parts by weight of at least one compound selected from the group consisting of a cyanurate compound having a carbon-carbon double bond and an isocyanurate compound, and 100 parts by weight of a carbon-carbon double bond, relative to 100 parts by weight of an acrylic adhesive. When a pressure-sensitive adhesive containing 5 to 100 parts by weight of a linear polyester or polyol-based urethane acrylate compound having two is used, since the rubber-like elasticity of the pressure-sensitive adhesive layer after irradiation with radiation can be maintained, The effect of maintaining the rubber-like elasticity (flexibility) of the adhesive tape after irradiation is great. Furthermore, a photopolymerization initiator, for example, isopropyl benzoin ether, isobutyl benzin ether,
Benzophenone, Michler's ketone, chlorothioxanthone, dodecylthioxanthone, dimethylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethylketal, α-hydroxycyclohexylphenylketone, 2
When hydroxymethylphenyl propane or the like is added to the pressure-sensitive adhesive layer, the curing reaction can proceed efficiently and the fixing adhesive strength of the chip can be reduced even if the curing reaction time or the irradiation dose is small. In addition, if necessary, a radiation-curable silicone acrylate or silicone methacrylate in order to favorably reduce the fixing adhesive strength after irradiation with radiation,
Alternatively, in order to reduce the fixing adhesive strength also to the specially treated surface where the surface of the adherend wafer is coated with a metallic substance, an ion sequestering agent, tackifier, adhesion control agent, surface active agent, etc. Agents and the like or other modifiers and conventional components can be blended.

【0010】放射線を照射しないでピックアップ工程に
移される方式の場合、粘着剤層としては従来公知のもの
が広く使用可能で、例えばアクリル系粘着剤等が用いら
れる。具体的には、アクリル酸エステルを重合体構成単
位とする重合体及びアクリル酸エステル系共重合体等の
アクリル系重合体、あるいは官能性単量体との共重合
体、及びこれら重合体の混合物が挙げられる。これらの
重合体の分子量としては50万〜100万程度の高分子
量のものが好ましい。この粘着剤層の厚さは通常5〜2
0μmとする。なお、本発明は以下に示す実施例に限定
されるものではなく、種々に改変することができる。
In the case of the method of transferring to the pickup step without irradiating with radiation, conventionally known adhesive layers can be widely used, for example, acrylic adhesive. Specifically, a polymer having an acrylic ester as a polymer constituent unit and an acrylic polymer such as an acrylic ester copolymer, or a copolymer with a functional monomer, and a mixture of these polymers. Is mentioned. The polymer preferably has a high molecular weight of about 500,000 to 1,000,000. The thickness of this adhesive layer is usually 5 to 2
0 μm. The present invention is not limited to the examples shown below, but can be modified in various ways.

【0011】[0011]

【実施例】以下、実施例を用いて詳細に説明する。 実施例1〜4、比較例1〜6 押出成形加工により下記の組成、層構造の基材フィルム
を得、そのフィルムの片側面にコロナ処理を施し、コロ
ナ処理面にコンマコータを用いて下記の粘着剤A又はB
を塗工し粘着テープを得た。その際、基材フィルムの厚
さはすべて100μmとし、粘着剤の厚みは10μmに
なるように塗布し、粘着テープとしての全厚はそれぞれ
110μmとした。なお、基材フィルムに用いた樹脂の
商品名等は後にまとめて(注)として示した。粘着テー
プの粘着剤層側に大径状のシリコンウエハを貼着け、ダ
イシングソーによりシリコンウエハを5×5mm2 のチ
ップ状にダイシングし、その粘着テープのウエハの貼着
された部分を直径140mmの円状の押圧具で真上に2
0mmのストロークまで押し上げエキスパンドした。ネ
ッキングの判定は、エキスパンド後の粘着テープにおい
て、押圧具の端部との接触部分のシート厚が非接触部の
それより10%以上薄くなったものは×、10%以下の
ものは○とした。さらに、エキスパンドにより広がった
チップ間隔の平均値を判定した。また、チップの縦方向
と横方向の間隔の比率を求め、均一性の評価も行った。
ピンへの粘着剤付着の評価は、ピックアップピンを粘着
テープに50000回、一定速度で突き刺し、その後ピ
ン表面を顕微鏡(×200)により観察した。付着物が
全く観察されない場合は○、付着物が観察され又は堆積
している場合は×とした。切れ易さの評価は、テープマ
ウンタを用いてフレームに粘着テープを貼りつけた後、
テープマウンタに付いているカッターにより切り落とし
を行った。完全に切れた場合は○、切り残しが観察され
た場合は×とした。 (粘着剤) 粘着剤A:アクリル系粘着剤 100重量部 イソシアヌレート化合物 80重量部 ウレタンアクリレート化合物 20重量部 光重合開始剤 1重量部 粘着剤B:アクリル系粘着剤
Embodiments will be described in detail below with reference to embodiments. Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 6 A substrate film having the following composition and layer structure was obtained by extrusion molding, one side of the film was subjected to corona treatment, and the corona treated surface was subjected to the following adhesion using a comma coater. Agent A or B
Was coated to obtain an adhesive tape. At that time, the thickness of the substrate film was 100 μm in all, the thickness of the adhesive was 10 μm, and the total thickness of the adhesive tape was 110 μm. The trade names of the resins used for the base film are collectively shown as (Note) later. A large-diameter silicon wafer is attached to the adhesive layer side of the adhesive tape, and the silicon wafer is diced into 5 × 5 mm 2 chips with a dicing saw. 2 right above with a circular pressing tool
It was pushed up to a stroke of 0 mm and expanded. Necking was judged by using an adhesive tape after expansion in which the sheet thickness of the contact portion with the end portion of the pressing tool was 10% or more thinner than that of the non-contact portion, and × when it was 10% or less. . Furthermore, the average value of the chip intervals expanded by the expansion was determined. In addition, the uniformity of the chips was evaluated by determining the ratio of the vertical and horizontal intervals of the chips.
To evaluate the adhesion of the adhesive to the pin, the pickup pin was pierced into the adhesive tape 50,000 times at a constant speed, and then the pin surface was observed with a microscope (× 200). When no adhered matter was observed, it was evaluated as ◯, and when adhered matter was observed or accumulated, it was evaluated as x. To evaluate the easiness of cutting, after attaching the adhesive tape to the frame using the tape mounter,
It was cut off with a cutter attached to the tape mounter. When it was completely cut, it was marked with O, and when uncut material was observed, it was marked with X. (Adhesive) Adhesive A: Acrylic adhesive 100 parts by weight Isocyanurate compound 80 parts by weight Urethane acrylate compound 20 parts by weight Photopolymerization initiator 1 part by weight Adhesive B: Acrylic adhesive

【0012】(基材フィルム) 実施例1 基材フィルム(単層構造) エチレン−メタクリル酸−(アクリル酸2−メチル−プ
ロピル)3元共重合体1) 粘着剤 粘着剤A
(Base Film) Example 1 Base Film (Single Layer Structure) Ethylene-methacrylic acid- (2-methyl-propyl acrylate) terpolymer 1) Adhesive Adhesive A

【0013】実施例2 基材フィルム(3層構造) 中心層:エチレン−メタクリル酸−(アクリル酸2−メ
チル−プロピル)3元共重合体1) 両側層:低密度ポリエチレン2) 中心層の厚さ比率を層全体の70%とした。 粘着剤 粘着剤B 実施例3 基材フィルム(単層構造) エチレン−メタクリル酸−(アクリル酸2−メチル−プ
ロピル)3元共重合体1)80wt%と低密度ポリエチレ
2)20wt%とのブレンド樹脂 粘着剤 粘着剤A 実施例4 基材フィルム(3層構造) 中心層:エチレン−メタクリル酸−(アクリル酸2−メ
チル−プロピル)3元共重 合体−Zn++アイオ
ノマー樹脂3) 両側層:低密度ポリエチレン2) 中心層の厚さ比率を層全体の80%とした。 粘着剤 粘着剤A
Example 2 Substrate film (three-layer structure) Central layer: ethylene-methacrylic acid- (2-methyl-propyl acrylate) terpolymer 1) Both layers: low-density polyethylene 2) Central layer thickness The thickness ratio was 70% of the entire layer. Adhesive Adhesive B Example 3 Substrate film (single layer structure) Blend of ethylene-methacrylic acid- (2-methyl-propyl acrylate) terpolymer 1) 80 wt% and low density polyethylene 2) 20 wt% Resin Adhesive Adhesive A Example 4 Substrate film (three-layer structure) Central layer: ethylene-methacrylic acid- (2-methyl-propyl acrylate) ternary co-polymer-Zn ++ ionomer resin 3) Both layers: Low-density polyethylene 2) The thickness ratio of the central layer was set to 80% of the whole layer. Adhesive Adhesive A

【0014】比較例1 基材フィルム エチレン−アクリル酸エチル共重合体4) 粘着剤 粘着剤A 比較例2 基材フィルム エチレン−アクリル酸エチル共重合体4) 粘着剤 粘着剤B 比較例3 基材フィルム エチレン−アクリル酸メチル5) 粘着剤 粘着剤A 比較例4 基材フィルム 中心層:エチレン−メタクリル酸−Zn++アイオノマー
樹脂6) 両側層:エチレン−酢酸ビニル共重合体7) 中心層の厚さ比率を層全体の80%とした。 粘着剤 粘着剤A
Comparative Example 1 Substrate film Ethylene-ethyl acrylate copolymer 4) Adhesive Adhesive A Comparative Example 2 Substrate film Ethylene-ethyl acrylate copolymer 4) Adhesive Adhesive B Comparative Example 3 Substrate Film Ethylene-methyl acrylate 5) Adhesive Adhesive A Comparative Example 4 Base film Central layer: ethylene-methacrylic acid-Zn ++ ionomer resin 6) Both layers: Ethylene-vinyl acetate copolymer 7) Thickness of central layer The thickness ratio was 80% of the whole layer. Adhesive Adhesive A

【0015】比較例5 基材フィルム エチレン−メタクリル酸共重合体8) 粘着剤 粘着剤A 比較例6 基材フィルム エチレン−メタクリル酸メチル共重合体9) 粘着剤 粘着剤A (注) 1)三井デュポンポリケミカル社製 ニュクレルAN
42171C 2)日本石油化学社製 レクスロンF3
12 3)三井デュポンポリケミカル社製 ハイミランAM
7316 4)日本石油化学社製 レクスロンA3
050 5)日本石油化学社製 レクスパールR
B3200 6)三井デュポンポリケミカル社製 ハイミラン17
05 7)東ソー社製 ウルトラセンU
E515F 8)三井デュポンポリケミカル社製 ニュクレル09
03HC 9)住友化学工業社製 アクリフトWD
203−1
Comparative Example 5 Base Film Ethylene-Methacrylic Acid Copolymer 8) Adhesive Adhesive A Comparative Example 6 Base Film Ethylene-Methyl Methacrylate Copolymer 9) Adhesive Adhesive A (Note) 1) Mitsui DuPont Polychemical Nucler AN
42171C 2) Lexron F3 manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.
12 3) Himilan AM manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.
7316 4) Nippon Petrochemical Co., Ltd. Lexron A3
050 5) Nippon Petrochemical Co., Ltd. Lex Pearl R
B3200 6) Mimi DuPont Polychemical Co., Ltd., Himilan 17
05 7) Toruso Ultrasen U
E515F 8) Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd. Nucrel 09
03HC 9) Sumitomo Chemical Co., Ltd. Akulift WD
203-1

【0016】[0016]

【表1】 [Table 1]

【0017】[0017]

【発明の効果】本発明の半導体ウエハ固定用粘着テープ
を用いることにより、高応力に対してもゴム状弾性を維
持しエキスパンド時のネッキングを起こさずチップ間隔
を十分に広げ、さらにはピックアップ時のピンへの粘着
剤付着を防止することができる。
EFFECT OF THE INVENTION By using the adhesive tape for fixing a semiconductor wafer of the present invention, the rubber-like elasticity is maintained even under high stress, the chip interval is sufficiently widened without necking at the time of expansion, and further, at the time of pickup. It is possible to prevent the adhesive from adhering to the pins.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】半導体ウエハ固定用の粘着テープの縦断面図で
ある。
FIG. 1 is a vertical sectional view of an adhesive tape for fixing a semiconductor wafer.

【図2】半導体ウエハ固定用の粘着テープにウエハを貼
着した状態を示す縦断面図である。
FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing a state in which a wafer is attached to an adhesive tape for fixing a semiconductor wafer.

【図3】エキスパンド工程において粘着テープをフレー
ムで固定した状態を示す縦断面図である。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing a state in which the adhesive tape is fixed by a frame in the expanding step.

【図4】エキスパンド工程において粘着テープが引き伸
ばされた状態を示す縦断面図である。
FIG. 4 is a vertical cross-sectional view showing a state in which the adhesive tape is stretched in the expanding step.

【図5】ピックアップ工程を示す一部縦断面図である。FIG. 5 is a partial vertical sectional view showing a pickup process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 粘着テープ 2 粘着剤層 3 基材フィルム 5 ウエハ 5’ウエハチップ 6 フレーム 7 押圧具 8 粘着テープと押圧具の端部との接触部分 9 ピックアップピン 1 Adhesive Tape 2 Adhesive Layer 3 Base Film 5 Wafer 5'Wafer Chip 6 Frame 7 Pressing Tool 8 Contact Area between Adhesive Tape and End of Pressing Tool 9 Pickup Pin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 7/02 JLE (72)発明者 中山 宏志 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古 河電気工業株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number in the agency FI Technical indication location C09J 7/02 JLE (72) Inventor Hiroshi Nakayama 2-6-1, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Furukawa Electric Industry Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材フィルム上に粘着剤層を有してなる
半導体ウエハ固定用粘着テープにおいて、前記基材フィ
ルムが、エチレン、メタクリル酸及び(メタ)アクリル
酸アルキルエステルを重合体の構成単位とし、重合体中
のエチレン成分含有量が60重量%以上で、かつ、(メ
タ)アクリル酸アルキルエステル成分のアルキル部の炭
素数が3以上8以下である3元共重合体を含む層を有し
てなることを特徴とする半導体ウエハ固定用粘着テー
プ。
1. A pressure-sensitive adhesive tape for fixing a semiconductor wafer, comprising a pressure-sensitive adhesive layer on a base film, wherein the base film comprises ethylene, methacrylic acid and (meth) acrylic acid alkyl ester as a structural unit of a polymer. And a layer containing a terpolymer in which the content of ethylene in the polymer is 60% by weight or more and the number of carbon atoms in the alkyl part of the (meth) acrylic acid alkyl ester component is 3 or more and 8 or less. An adhesive tape for fixing a semiconductor wafer, which is characterized in that
【請求項2】 基材フィルムが、前記3元共重合体を金
属イオンで架橋したアイオノマー樹脂を含む層を有して
なることを特徴とする請求項1記載の半導体ウエハ固定
用粘着テープ。
2. The adhesive tape for fixing a semiconductor wafer according to claim 1, wherein the base film has a layer containing an ionomer resin obtained by crosslinking the terpolymer with metal ions.
【請求項3】 基材フィルムが、前記3元共重合体を金
属イオンで架橋したアイオノマー樹脂を含む層を有する
多層構造であることを特徴とする請求項1記載の半導体
ウエハ固定用粘着テープ。
3. The adhesive tape for fixing a semiconductor wafer according to claim 1, wherein the base film has a multi-layer structure having a layer containing an ionomer resin obtained by crosslinking the terpolymer with metal ions.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007088240A (en) * 2005-09-22 2007-04-05 Furukawa Electric Co Ltd:The Adhesive tape for dicing semiconductor wafer
JP2008000917A (en) * 2006-06-20 2008-01-10 Denki Kagaku Kogyo Kk Multilayer film and manufacturing method of electronic part using it
JP2008031213A (en) * 2006-07-26 2008-02-14 Furukawa Electric Co Ltd:The Adhesive tape for dicing
JP2009231699A (en) * 2008-03-25 2009-10-08 Furukawa Electric Co Ltd:The Wafer processing tape
JP2009231700A (en) * 2008-03-25 2009-10-08 Furukawa Electric Co Ltd:The Wafer processing tape
JP2010182761A (en) * 2009-02-04 2010-08-19 Furukawa Electric Co Ltd:The Film for processing semiconductor wafer and base film of the same
WO2012053448A1 (en) * 2010-10-21 2012-04-26 アキレス株式会社 Base film of tape for semiconductor production process

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007088240A (en) * 2005-09-22 2007-04-05 Furukawa Electric Co Ltd:The Adhesive tape for dicing semiconductor wafer
JP4609852B2 (en) * 2005-09-22 2011-01-12 古河電気工業株式会社 Adhesive tape for semiconductor wafer dicing
JP2008000917A (en) * 2006-06-20 2008-01-10 Denki Kagaku Kogyo Kk Multilayer film and manufacturing method of electronic part using it
JP2008031213A (en) * 2006-07-26 2008-02-14 Furukawa Electric Co Ltd:The Adhesive tape for dicing
JP4676398B2 (en) * 2006-07-26 2011-04-27 古河電気工業株式会社 Dicing adhesive tape
JP2009231699A (en) * 2008-03-25 2009-10-08 Furukawa Electric Co Ltd:The Wafer processing tape
JP2009231700A (en) * 2008-03-25 2009-10-08 Furukawa Electric Co Ltd:The Wafer processing tape
JP2010182761A (en) * 2009-02-04 2010-08-19 Furukawa Electric Co Ltd:The Film for processing semiconductor wafer and base film of the same
WO2012053448A1 (en) * 2010-10-21 2012-04-26 アキレス株式会社 Base film of tape for semiconductor production process
JP2012089732A (en) * 2010-10-21 2012-05-10 Achilles Corp Base material film of tape for semiconductor manufacturing process
KR20130142136A (en) * 2010-10-21 2013-12-27 아키레스 가부시키가이샤 Base film of tape for semiconductor production process

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