JPH07225196A - 欠陥検出方法および装置 - Google Patents
欠陥検出方法および装置Info
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- JPH07225196A JPH07225196A JP6016803A JP1680394A JPH07225196A JP H07225196 A JPH07225196 A JP H07225196A JP 6016803 A JP6016803 A JP 6016803A JP 1680394 A JP1680394 A JP 1680394A JP H07225196 A JPH07225196 A JP H07225196A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被検査物中の微小な欠陥を正確に検出するこ
とが可能な欠陥検出方法および装置を提供する。 【構成】 被検査物中の欠陥を検出する欠陥検出装置に
おいて、前記被検査物を撮像して二次元に整列配置され
た複数の画素毎の輝度情報を得るエリアセンサ３と、前
記各輝度情報間での各変化量を水平方向および垂直方向
について求める変化量演算部５と、前記水平方向および
垂直方向の変化量を前記画素毎に加算する変化量加算部
７と、前記加算された変化量を前記画素毎に平均化する
平均算出部９と、前記平均化された変化量が所定より多
い場合、欠陥とする検出部１１とから構成される。
とが可能な欠陥検出方法および装置を提供する。 【構成】 被検査物中の欠陥を検出する欠陥検出装置に
おいて、前記被検査物を撮像して二次元に整列配置され
た複数の画素毎の輝度情報を得るエリアセンサ３と、前
記各輝度情報間での各変化量を水平方向および垂直方向
について求める変化量演算部５と、前記水平方向および
垂直方向の変化量を前記画素毎に加算する変化量加算部
７と、前記加算された変化量を前記画素毎に平均化する
平均算出部９と、前記平均化された変化量が所定より多
い場合、欠陥とする検出部１１とから構成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、無地のシート状の被検
査物中の欠陥を検出する欠陥検出方法および装置に係わ
り、特に、微小な欠陥を検出可能な欠陥検出方法および
装置に関する。
査物中の欠陥を検出する欠陥検出方法および装置に係わ
り、特に、微小な欠陥を検出可能な欠陥検出方法および
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、無地のシート状のフィルムや
缶の材料となるアルミニウムの薄板では、微小の異物、
キズ等の微小な欠陥が生じる場合がある。
缶の材料となるアルミニウムの薄板では、微小の異物、
キズ等の微小な欠陥が生じる場合がある。
【０００３】この微小な欠陥は、ラインセンサまたはエ
リアセンサと画像処理装置等を備える欠陥検出装置によ
って検出されている。この欠陥検出装置では、検査対象
を前記ラインセンサまたはエリアセンサにより撮像する
ことによって得られた画素毎の輝度情報が所定の範囲内
にあるか否かを判定し、範囲外の場合は欠陥と判断して
いる。
リアセンサと画像処理装置等を備える欠陥検出装置によ
って検出されている。この欠陥検出装置では、検査対象
を前記ラインセンサまたはエリアセンサにより撮像する
ことによって得られた画素毎の輝度情報が所定の範囲内
にあるか否かを判定し、範囲外の場合は欠陥と判断して
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
欠陥検出装置では、欠陥が前記ラインセンサまたはエリ
アセンサの輝度情報検出画素に対して微小な物（画素面
積前後の微小な物、以下微小欠陥と記す）である場合、
前記画素毎の輝度情報が所定の範囲内にあるか否かを判
定するのみでは図１２に示すようにシェーディングや高
周波ノイズにより、微小欠陥を検出することはできな
い。そのため前記画素毎の輝度情報に対し、微分処理等
の強調処理を行うことが考えられるが、前記画素毎の輝
度情報は、図１２に示すように周波数空間で見るとシェ
ーディングによる低周波ノイズやラインセンサまたはエ
リアセンサ自体による高周波ノイズを含んでいる。その
ため、微分処理等の強調処理を行うと前記低周波ノイ
ズ、高周波ノイズも強調され、微小欠陥を正確に検出す
ることはできないという問題がある。
欠陥検出装置では、欠陥が前記ラインセンサまたはエリ
アセンサの輝度情報検出画素に対して微小な物（画素面
積前後の微小な物、以下微小欠陥と記す）である場合、
前記画素毎の輝度情報が所定の範囲内にあるか否かを判
定するのみでは図１２に示すようにシェーディングや高
周波ノイズにより、微小欠陥を検出することはできな
い。そのため前記画素毎の輝度情報に対し、微分処理等
の強調処理を行うことが考えられるが、前記画素毎の輝
度情報は、図１２に示すように周波数空間で見るとシェ
ーディングによる低周波ノイズやラインセンサまたはエ
リアセンサ自体による高周波ノイズを含んでいる。その
ため、微分処理等の強調処理を行うと前記低周波ノイ
ズ、高周波ノイズも強調され、微小欠陥を正確に検出す
ることはできないという問題がある。
【０００５】本発明は上記事情に鑑みて成されたもので
あり、その目的は、被検査物中の微小な欠陥を正確に検
出することが可能な欠陥検出方法および装置を提供する
ことにある。
あり、その目的は、被検査物中の微小な欠陥を正確に検
出することが可能な欠陥検出方法および装置を提供する
ことにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、被検査物中の欠陥を検出する欠陥検出装
置であって、前記被検査物を撮像して二次元に整列配置
された複数の画素毎の輝度情報を得るセンサ例えばライ
ンセンサもしくはエリアセンサと、前記各輝度情報間で
の各変化量を水平方向および垂直方向ついて求める変化
量演算手段と、前記水平方向および垂直方向の変化量を
前記画素毎に加算する変化量加算手段と、前記加算され
た変化量を前記画素毎に平均化する平均算出手段と、前
記平均化された変化量が所定より多い場合、欠陥として
検出する検出手段と、を具備することを特徴としてい
る。
めに本発明は、被検査物中の欠陥を検出する欠陥検出装
置であって、前記被検査物を撮像して二次元に整列配置
された複数の画素毎の輝度情報を得るセンサ例えばライ
ンセンサもしくはエリアセンサと、前記各輝度情報間で
の各変化量を水平方向および垂直方向ついて求める変化
量演算手段と、前記水平方向および垂直方向の変化量を
前記画素毎に加算する変化量加算手段と、前記加算され
た変化量を前記画素毎に平均化する平均算出手段と、前
記平均化された変化量が所定より多い場合、欠陥として
検出する検出手段と、を具備することを特徴としてい
る。
【０００７】また、前記変化量演算手段は、任意の画素
の輝度情報を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ個）の
輝度情報を基に、水平方向の輪郭を強調する第１の係数
テーブルと垂直方向の輪郭を強調する第２の係数テーブ
ルを用いて、水平方向と垂直方向の変化量を求めること
を特徴としている。
の輝度情報を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ個）の
輝度情報を基に、水平方向の輪郭を強調する第１の係数
テーブルと垂直方向の輪郭を強調する第２の係数テーブ
ルを用いて、水平方向と垂直方向の変化量を求めること
を特徴としている。
【０００８】さらに、前記平均算出手段は、任意の画素
に対応する変化量を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ
個）の各変化量を基に、前記各変化量の平均化を行うｍ
行ｎ列のテーブルを用いて平均化することを特徴として
いる。
に対応する変化量を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ
個）の各変化量を基に、前記各変化量の平均化を行うｍ
行ｎ列のテーブルを用いて平均化することを特徴として
いる。
【０００９】
【作用】上記構成によれば、変化量演算手段は、被検査
物をセンサにより撮像して得られる二次元に整列配置さ
れた複数の画素毎の輝度情報間での各変化量を水平方向
および垂直方向ついて求め、変化量加算手段は、前記水
平方向および垂直方向の変化量を前記画素毎に加算し、
平均算出手段は、前記加算された変化量を前記画素毎に
平均化する。そして、検出手段では、前記平均化された
変化量が所定より多い場合、欠陥として検出する。これ
により、被検査物中の微小な欠陥を正確に検出する。
物をセンサにより撮像して得られる二次元に整列配置さ
れた複数の画素毎の輝度情報間での各変化量を水平方向
および垂直方向ついて求め、変化量加算手段は、前記水
平方向および垂直方向の変化量を前記画素毎に加算し、
平均算出手段は、前記加算された変化量を前記画素毎に
平均化する。そして、検出手段では、前記平均化された
変化量が所定より多い場合、欠陥として検出する。これ
により、被検査物中の微小な欠陥を正確に検出する。
【００１０】また、前記変化量演算手段は、任意の画素
の輝度情報を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ個）の
輝度情報を基に、水平方向の輪郭を強調する第１の係数
テーブルと垂直方向の輪郭を強調する第２の係数テーブ
ルを用いて、水平方向と垂直方向の変化量を求める。
の輝度情報を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ個）の
輝度情報を基に、水平方向の輪郭を強調する第１の係数
テーブルと垂直方向の輪郭を強調する第２の係数テーブ
ルを用いて、水平方向と垂直方向の変化量を求める。
【００１１】さらに、前記平均算出手段は、任意の画素
に対応する変化量を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ
個）の各変化量を基に、前記各変化量の平均化を行うｍ
行ｎ列のテーブルを用いて平均化する。
に対応する変化量を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ
個）の各変化量を基に、前記各変化量の平均化を行うｍ
行ｎ列のテーブルを用いて平均化する。
【００１２】
【実施例】図１は、本発明の欠陥検出装置の一実施例を
示すブロック図であり、センサにエリアセンサを用いた
ときの実施例である。
示すブロック図であり、センサにエリアセンサを用いた
ときの実施例である。
【００１３】図１に示すように、欠陥検出装置１は、エ
リアセンサ３と、変化量演算部５と、変化量加算部７
と、平均算出部９と、検出部１１と、表示部１３とから
構成されている。
リアセンサ３と、変化量演算部５と、変化量加算部７
と、平均算出部９と、検出部１１と、表示部１３とから
構成されている。
【００１４】エリアセンサ３は、白いシート状のフィル
ムや缶の材料となるアルミニウムの薄板等の被検査物を
撮像して二次元に整列配置された複数の画素毎の輝度情
報を得る。なお、本実施例では、エリアセンサ３を用い
ているがこれに限らず、ラインセンサを用いて走査する
ようにしても良い。
ムや缶の材料となるアルミニウムの薄板等の被検査物を
撮像して二次元に整列配置された複数の画素毎の輝度情
報を得る。なお、本実施例では、エリアセンサ３を用い
ているがこれに限らず、ラインセンサを用いて走査する
ようにしても良い。
【００１５】変化量演算部５は、エリアセンサ３により
得られた輝度情報の水平方向の変化量および垂直方向の
変化量を縦横複数の行列、例えば水平方向の輪郭を強調
する図２に示す水平方向のＳｏｂｅｌフィルタ（第１の
係数テーブル）と、垂直方向の輪郭を強調する図３に示
す垂直方向のＳｏｂｅｌフィルタ（第２の係数テーブ
ル）によって求める。なお、本実施例の変化量は、Ｓｏ
ｂｅｌフィルターを用いて求めているがこれに限らず、
他の係数のフィルタや他のマトリクス（２行２列、３行
１列等）のフィルタを用いても良い。
得られた輝度情報の水平方向の変化量および垂直方向の
変化量を縦横複数の行列、例えば水平方向の輪郭を強調
する図２に示す水平方向のＳｏｂｅｌフィルタ（第１の
係数テーブル）と、垂直方向の輪郭を強調する図３に示
す垂直方向のＳｏｂｅｌフィルタ（第２の係数テーブ
ル）によって求める。なお、本実施例の変化量は、Ｓｏ
ｂｅｌフィルターを用いて求めているがこれに限らず、
他の係数のフィルタや他のマトリクス（２行２列、３行
１列等）のフィルタを用いても良い。
【００１６】変化量加算部７は、変化量演算部５により
求められた水平方向と垂直方向の変化量を画素毎に加算
する。
求められた水平方向と垂直方向の変化量を画素毎に加算
する。
【００１７】平均算出部９は、前記変化量演算部５によ
って加算された変化量を、例えば３行３列の９つの変化
量の平均値を中心画素の変化量の平均とする図４に示す
フィルタを用いて平均化し、平均変化量として画素毎に
求める。なお、本実施例の平均算出部９は、図４に示す
ようなフィルタを用いているがこれに限らず、他の係数
のフィルタ例えば中心画素の係数を２／１０，周囲画素
の係数を１／１０にしたフィルタ（中心画素に重み増や
したフィルタ）や、他のマトリクスのフィルタを用いて
も良い。
って加算された変化量を、例えば３行３列の９つの変化
量の平均値を中心画素の変化量の平均とする図４に示す
フィルタを用いて平均化し、平均変化量として画素毎に
求める。なお、本実施例の平均算出部９は、図４に示す
ようなフィルタを用いているがこれに限らず、他の係数
のフィルタ例えば中心画素の係数を２／１０，周囲画素
の係数を１／１０にしたフィルタ（中心画素に重み増や
したフィルタ）や、他のマトリクスのフィルタを用いて
も良い。
【００１８】検出部１１は、平均算出部９によって求め
られた平均変化量が、予め設定されている欠陥判定しき
い値より大きい場合、それを欠陥として検出する。
られた平均変化量が、予め設定されている欠陥判定しき
い値より大きい場合、それを欠陥として検出する。
【００１９】表示部１３は、平均算出部９により求めら
れた平均変化量を表示する。また、エリアセンサ３によ
り得られた画素毎の輝度情報や、変化量演算部５により
求められた水平方向の変化量と垂直方向の変化量や、変
化量加算部７により水平方向と垂直方向の加算された変
化量を表示する。
れた平均変化量を表示する。また、エリアセンサ３によ
り得られた画素毎の輝度情報や、変化量演算部５により
求められた水平方向の変化量と垂直方向の変化量や、変
化量加算部７により水平方向と垂直方向の加算された変
化量を表示する。
【００２０】次に、本実施例の作用を図５に示す白いシ
ート状のフィルム上に存在する微小な異物やキズ等の微
小な欠陥（エリアセンサ３の画素面積前後の大きさ）を
検出する場合を例に図６のフローチャートを用いて説明
する。
ート状のフィルム上に存在する微小な異物やキズ等の微
小な欠陥（エリアセンサ３の画素面積前後の大きさ）を
検出する場合を例に図６のフローチャートを用いて説明
する。
【００２１】まず、検査対象をエリアセンサ３により撮
像し、輝度を０〜２５５の２５６階調で表した画素毎の
輝度情報を得る（ステップＳＴ１）。図５に示された線
上の画素の輝度情報を表示部１３により表示させると図
７に示すようになる。
像し、輝度を０〜２５５の２５６階調で表した画素毎の
輝度情報を得る（ステップＳＴ１）。図５に示された線
上の画素の輝度情報を表示部１３により表示させると図
７に示すようになる。
【００２２】画素毎の輝度情報が得られると変化量演算
部５は、各輝度情報間での水平方向の変化量Ｈijおよび
垂直方向の変化量Ｖijを３行３列の行列内で求める（ス
テップＳＴ３）。
部５は、各輝度情報間での水平方向の変化量Ｈijおよび
垂直方向の変化量Ｖijを３行３列の行列内で求める（ス
テップＳＴ３）。
【００２３】例えば、任意の画素Ｌijの水平方向の変化
量Ｈijと垂直方向の変化量Ｖijは、図８に示すように画
素Ｌijを中心とした３行３列の９つの格子の輝度情報を
基に、図２に示す水平方向のＳｏｂｅｌフィルター（第
１の係数テーブル）と図３に示す垂直方向のＳｏｂｅｌ
フィルター（第２の係数テーブル）を用いて以下に示す
式（１）と式（２）によって求める。
量Ｈijと垂直方向の変化量Ｖijは、図８に示すように画
素Ｌijを中心とした３行３列の９つの格子の輝度情報を
基に、図２に示す水平方向のＳｏｂｅｌフィルター（第
１の係数テーブル）と図３に示す垂直方向のＳｏｂｅｌ
フィルター（第２の係数テーブル）を用いて以下に示す
式（１）と式（２）によって求める。
【００２４】
【数１】 Ｈij＝｜−Ｌi-1,j-1 −２Ｌi,j-1 −Ｌi+1,j-1 ＋Ｌi-1,j+1 ＋２Ｌi,j+1 ＋Ｌi+1,j+1 ｜…式（１）
【数２】 Ｖij＝｜−Ｌi-1,j-1 ＋Ｌi+1,j-1 −２Ｌi-1,j ＋２Ｌi+1,j −Ｌi-1,j+1 ＋Ｌi+1,j+1 ｜…式（２） 水平方向の変化量Ｈijと垂直方向の変化量Ｖijが求めら
れると、変化量加算部７では、その水平方向の変化量Ｈ
ijと垂直方向の変化量Ｖijを加算してその画素の変化量
Ｔijを求める（ステップＳＴ５）。
れると、変化量加算部７では、その水平方向の変化量Ｈ
ijと垂直方向の変化量Ｖijを加算してその画素の変化量
Ｔijを求める（ステップＳＴ５）。
【００２５】このとき、図５に示された線上の変化量を
表示部１３に表示すると図９に示すようになる。ここで
は、実際の欠陥位置の両隣にノイズ（ピーク）が出てお
り、まだ欠陥検出は正確にできない。
表示部１３に表示すると図９に示すようになる。ここで
は、実際の欠陥位置の両隣にノイズ（ピーク）が出てお
り、まだ欠陥検出は正確にできない。
【００２６】画素毎の変化量が求められると、平均算出
部９では、求められた各変化量を、３行３列の９つの変
化量の平均値を中心画素の変化量の平均とする図４に示
すフィルタを用いて平均化し、それを平均変化量として
画素毎に求める（ステップＳＴ７）。
部９では、求められた各変化量を、３行３列の９つの変
化量の平均値を中心画素の変化量の平均とする図４に示
すフィルタを用いて平均化し、それを平均変化量として
画素毎に求める（ステップＳＴ７）。
【００２７】例えば、画素Ｌi-1,j-1 の変化量をＴ
i-1,j-1 ，画素Ｌi,j-1 の変化量をＴi, j-1 ，画素Ｌ
i+1,j-1 の変化量をＴi+1,j-1 ，画素Ｌi-1,j の変化量
をＴi-1,j，画素Ｌijの変化量をＴij，画素Ｌi+1,j の
変化量をＴi+1,j ，画素Ｌi-1,j+1の変化量をＴ
i-1,j+1 ，画素Ｌi,j+1 の変化量をＴi,j+1 ，画素Ｌ
i+1,j+1 の変化量をＴi+1,j+1 とすると、画素Ｌijの平
均変化量Ａijは、以下に示す式（３）によって求められ
る。
i-1,j-1 ，画素Ｌi,j-1 の変化量をＴi, j-1 ，画素Ｌ
i+1,j-1 の変化量をＴi+1,j-1 ，画素Ｌi-1,j の変化量
をＴi-1,j，画素Ｌijの変化量をＴij，画素Ｌi+1,j の
変化量をＴi+1,j ，画素Ｌi-1,j+1の変化量をＴ
i-1,j+1 ，画素Ｌi,j+1 の変化量をＴi,j+1 ，画素Ｌ
i+1,j+1 の変化量をＴi+1,j+1 とすると、画素Ｌijの平
均変化量Ａijは、以下に示す式（３）によって求められ
る。
【００２８】
【数３】 Ａij＝（Ｔi-1,j-1 ＋Ｔi,j-1 ＋Ｔi+1,j-1 ＋Ｔi-1,j ＋Ｔij＋Ｔi+1,j ＋Ｔi-1,j+1 ＋Ｔi,j+1 ＋i+1,j+1 ）×1/9 …式（３） そして検出部１１では、求められた各平均変化量と予め
設定されている欠陥判定しきい値とを比較し、求められ
た平均変化量が予め設定されている欠陥判定しきい値よ
り大きい場合、欠陥と判定する。
設定されている欠陥判定しきい値とを比較し、求められ
た平均変化量が予め設定されている欠陥判定しきい値よ
り大きい場合、欠陥と判定する。
【００２９】このとき、図５に示された線上の画素の平
均変化量を表示部１３に表示すると図１０に示すように
なり、また、各平均変化量を表示すると図１１のように
なる（ステップＳＴ９）。ここで、図９に示された変化
量と図１０に示された平均変化量とを比較すると、図１
０に示された平均変化量は、高周波ノイズが減少し、さ
らに、図９で実際の欠陥の位置の両隣に出ていたノイズ
もほぼ無くなっている。これより、図９に示された水平
方向のＳｏｂｅｌフィルター（第１の係数テーブル）と
垂直方向のＳｏｂｅｌフィルター（第２の係数テーブ
ル）のみにより求められる変化量を用いた場合に比べ、
図１０に示された平均変化量を用いた場合では、より正
確に欠陥を検出できることが分かる。
均変化量を表示部１３に表示すると図１０に示すように
なり、また、各平均変化量を表示すると図１１のように
なる（ステップＳＴ９）。ここで、図９に示された変化
量と図１０に示された平均変化量とを比較すると、図１
０に示された平均変化量は、高周波ノイズが減少し、さ
らに、図９で実際の欠陥の位置の両隣に出ていたノイズ
もほぼ無くなっている。これより、図９に示された水平
方向のＳｏｂｅｌフィルター（第１の係数テーブル）と
垂直方向のＳｏｂｅｌフィルター（第２の係数テーブ
ル）のみにより求められる変化量を用いた場合に比べ、
図１０に示された平均変化量を用いた場合では、より正
確に欠陥を検出できることが分かる。
【００３０】また、図１２に示すように、被検査物を撮
像して得られた輝度情報にシェーディングや高周波ノイ
ズが多く含まれる場合であっても、本実施例の欠陥検出
装置１を用いれば、前記平均変化量を求めることにより
前記シェーディングと高周波ノイズはともに図１３のよ
うに減少され、エリアセンサ３の画素面積前後の微小な
欠陥であっても正確に検出することができる。この場
合、図１３に示すように輪郭部分も強調されてしまう
が、輪郭部分は予め検出対象から除外するように検出部
１１に設定しておけば、欠陥のみを正確に検出すること
ができる。
像して得られた輝度情報にシェーディングや高周波ノイ
ズが多く含まれる場合であっても、本実施例の欠陥検出
装置１を用いれば、前記平均変化量を求めることにより
前記シェーディングと高周波ノイズはともに図１３のよ
うに減少され、エリアセンサ３の画素面積前後の微小な
欠陥であっても正確に検出することができる。この場
合、図１３に示すように輪郭部分も強調されてしまう
が、輪郭部分は予め検出対象から除外するように検出部
１１に設定しておけば、欠陥のみを正確に検出すること
ができる。
【００３１】このように、エリアセンサ３によって得ら
れた輝度情報の水平方向の変化量および垂直方向の変化
量を縦横複数の行列、例えば水平方向のＳｏｂｅｌフィ
ルタ（第１の係数テーブル）と、垂直方向の輪郭を強調
する垂直方向のＳｏｂｅｌフィルタ（第２の係数テーブ
ル）によって求め、求められた水平方向と垂直方向の変
化量を画素毎に加算し、さらに、加算された変化量を例
えば３行３列の９つの変化量の平均値を中心画素の変化
量の平均とするフィルタを用いて平均化し、その平均変
化量により欠陥を検出しているので、エリアセンサ３の
画素に対して微小（画素面積前後）である欠陥でも正確
に検出することが可能となる。
れた輝度情報の水平方向の変化量および垂直方向の変化
量を縦横複数の行列、例えば水平方向のＳｏｂｅｌフィ
ルタ（第１の係数テーブル）と、垂直方向の輪郭を強調
する垂直方向のＳｏｂｅｌフィルタ（第２の係数テーブ
ル）によって求め、求められた水平方向と垂直方向の変
化量を画素毎に加算し、さらに、加算された変化量を例
えば３行３列の９つの変化量の平均値を中心画素の変化
量の平均とするフィルタを用いて平均化し、その平均変
化量により欠陥を検出しているので、エリアセンサ３の
画素に対して微小（画素面積前後）である欠陥でも正確
に検出することが可能となる。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、被
検査物をセンサで撮像することによって得られた画素毎
の輝度情報の各変化量を例えばｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ
個）の輝度情報を基に、水平方向の輪郭を強調する第１
の係数テーブルと垂直方向の輪郭を強調する第２の係数
テーブルを用いて水平方向および垂直方向について求
め、その水平方向および垂直方向の変化量を前記画素毎
に加算し、加算された変化量を例えばｍ行ｎ列のＮ個
（ｍ×ｎ個）の各加算された変化量を基に、前記各加算
された変化量の平均化を行うｍ行ｎ列のテーブルを用い
て平均化し、その平均された変化量により欠陥を検出し
ているので、微小な欠陥であっても正確に検出すること
が可能となる。
検査物をセンサで撮像することによって得られた画素毎
の輝度情報の各変化量を例えばｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ
個）の輝度情報を基に、水平方向の輪郭を強調する第１
の係数テーブルと垂直方向の輪郭を強調する第２の係数
テーブルを用いて水平方向および垂直方向について求
め、その水平方向および垂直方向の変化量を前記画素毎
に加算し、加算された変化量を例えばｍ行ｎ列のＮ個
（ｍ×ｎ個）の各加算された変化量を基に、前記各加算
された変化量の平均化を行うｍ行ｎ列のテーブルを用い
て平均化し、その平均された変化量により欠陥を検出し
ているので、微小な欠陥であっても正確に検出すること
が可能となる。
【図１】本発明に係る欠陥検出装置の一実施例を示すブ
ロック図である。
ロック図である。
【図２】水平方向のＳｏｂｅｌフィルターを示す説明図
である。
である。
【図３】垂直方向のＳｏｂｅｌフィルターを示す説明図
である。
である。
【図４】平均変化量を求める３行３列のフィルターを示
す説明図である。
す説明図である。
【図５】中心に微小な異物のある白いシート状のフィル
ムを示す説明図である。
ムを示す説明図である。
【図６】図１に示した実施例の作用を示すフローチャー
トである。
トである。
【図７】図５に示された線上の画素の輝度情報を示す図
である。
である。
【図８】任意の画素の輝度情報の水平方向の変化量と垂
直方向の変化量を求める場合の説明図である。
直方向の変化量を求める場合の説明図である。
【図９】図５に示された線上の画素の変化量を示す図で
ある。
ある。
【図１０】図５に示された線上の画素の平均変化量を示
す図である。
す図である。
【図１１】各平均変化量を正規化して示す図である。
【図１２】中心の微小欠陥部分を交差する線上の画素の
輝度情報（シェーディングや高周波ノイズを含む）を示
す説明図である。
輝度情報（シェーディングや高周波ノイズを含む）を示
す説明図である。
【図１３】図１２に示す輝度情報の水平方向と垂直方向
の変化量を加算したものから求められた平均変化量を示
す図である。
の変化量を加算したものから求められた平均変化量を示
す図である。
１ 欠陥検出装置 ３ エリアセンサ ５ 変化量演算部 ７ 変化量加算部 ９ 平均算出部 １１ 検出部 １３ 表示部
Claims (7)
- 【請求項１】 被検査物中の欠陥を検出する欠陥検出方
法であって、 前記被検査物を撮像して二次元に整列配置された複数の
画素毎の輝度情報をセンサで得る工程と、 前記各輝度情報間での各変化量を水平方向および垂直方
向について求める変化量演算工程と、 前記水平方向および垂直方向の変化量を前記画素毎に加
算する変化量加算工程と、 前記加算された変化量を前記画素毎に平均化する平均算
出工程と、 前記平均化された変化量が所定より多い場合、欠陥とし
て検出する検出工程と、 から成ることを特徴とする欠陥検出方法。 - 【請求項２】 前記変化量演算工程は、任意の画素の輝
度情報を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ個）の輝度
情報を基に、水平方向の輪郭を強調する第１の係数テー
ブルと垂直方向の輪郭を強調する第２の係数テーブルを
用いて、水平方向と垂直方向の変化量を求めることを特
徴とする請求項１記載の欠陥検出方法。 - 【請求項３】 前記平均算出工程は、任意の画素に対応
する変化量を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ個）の
各変化量を基に、前記各変化量の平均化を行うｍ行ｎ列
のテーブルを用いて平均化することを特徴とする請求項
１または２記載の欠陥検出方法。 - 【請求項４】 被検査物中の欠陥を検出する欠陥検出装
置であって、 前記被検査物を撮像して二次元に整列配置された複数の
画素毎の輝度情報を得るセンサと、 前記各輝度情報間での各変化量を水平方向および垂直方
向ついて求める変化量演算手段と、 前記水平方向および垂直方向の変化量を前記画素毎に加
算する変化量加算手段と、 前記加算された変化量を前記画素毎に平均化する平均算
出手段と、 前記平均化された変化量が所定より多い場合、欠陥とし
て検出する検出手段と、 を具備することを特徴とする欠陥検出装置。 - 【請求項５】 前記センサが、ラインセンサ若しくはエ
リアセンサであることを特徴とする請求項４記載の欠陥
検出装置。 - 【請求項６】 前記変化量演算手段は、任意の画素の輝
度情報を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ個）の輝度
情報を基に、水平方向の輪郭を強調する第１の係数テー
ブルと垂直方向の輪郭を強調する第２の係数テーブルを
用いて、水平方向と垂直方向の変化量を求めることを特
徴とする請求項４または５記載の欠陥検出装置。 - 【請求項７】 前記平均算出手段は、任意の画素に対応
する変化量を中心としたｍ行ｎ列のＮ個（ｍ×ｎ個）の
各変化量を基に、前記各変化量の平均化を行うｍ行ｎ列
のテーブルを用いて平均化することを特徴とする請求項
４，５または６記載の欠陥検出装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6016803A JPH07225196A (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | 欠陥検出方法および装置 |
| KR1019940027545A KR100235476B1 (ko) | 1993-10-27 | 1994-10-27 | 피검사체의 표면검사방법 및 장치 |
| EP03023001A EP1383084A3 (en) | 1993-10-27 | 1994-10-27 | Method and apparatus of inspecting surface irregularity of an object article |
| EP94307920A EP0651352A1 (en) | 1993-10-27 | 1994-10-27 | Method and apparatus of inspecting surface irregularity of an object article |
| US08/743,799 US5929996A (en) | 1993-10-27 | 1996-11-05 | Method and apparatus for detecting minute irregularities on the surface of an object |
| US09/299,762 US6023334A (en) | 1993-10-27 | 1999-04-27 | Method and apparatus for detecting minute irregularities on the surface of an object |
| US09/450,949 US6208417B1 (en) | 1993-10-27 | 1999-11-29 | Method and apparatus for detecting minute irregularities on the surface of an object |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6016803A JPH07225196A (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | 欠陥検出方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07225196A true JPH07225196A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=11926322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6016803A Pending JPH07225196A (ja) | 1993-10-27 | 1994-02-10 | 欠陥検出方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07225196A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2003006968A1 (ja) * | 2001-07-09 | 2004-11-04 | 吉郎 山田 | 表面検査装置及び方法 |
| KR100464253B1 (ko) * | 1998-03-17 | 2005-05-03 | 엘지산전 주식회사 | 모니터링기기의영상경계치검출장치 |
| US6959118B2 (en) * | 2001-03-26 | 2005-10-25 | Dynapel Systems, Inc. | Method and system for the estimation and compensation of brightness changes for optical flow calculations |
| KR101024598B1 (ko) * | 2009-04-07 | 2011-03-31 | 부산대학교 산학협력단 | 표면 밝기 분포의 분산 산출 알고리즘을 이용한 대상물 표면의 영상 검사방법 |
-
1994
- 1994-02-10 JP JP6016803A patent/JPH07225196A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100464253B1 (ko) * | 1998-03-17 | 2005-05-03 | 엘지산전 주식회사 | 모니터링기기의영상경계치검출장치 |
| US6959118B2 (en) * | 2001-03-26 | 2005-10-25 | Dynapel Systems, Inc. | Method and system for the estimation and compensation of brightness changes for optical flow calculations |
| JPWO2003006968A1 (ja) * | 2001-07-09 | 2004-11-04 | 吉郎 山田 | 表面検査装置及び方法 |
| JP2009063592A (ja) * | 2001-07-09 | 2009-03-26 | Yoshiro Yamada | 表面検査装置及び方法 |
| KR101024598B1 (ko) * | 2009-04-07 | 2011-03-31 | 부산대학교 산학협력단 | 표면 밝기 분포의 분산 산출 알고리즘을 이용한 대상물 표면의 영상 검사방법 |
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