JPH07220262A - 磁気記録媒体及び該媒体を使用する磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気記録媒体及び該媒体を使用する磁気ディスク装置Info
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- JPH07220262A JPH07220262A JP752594A JP752594A JPH07220262A JP H07220262 A JPH07220262 A JP H07220262A JP 752594 A JP752594 A JP 752594A JP 752594 A JP752594 A JP 752594A JP H07220262 A JPH07220262 A JP H07220262A
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- Japan
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- magnetic
- recording
- recording medium
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は磁気記録媒体及び該媒体を使用する
磁気ディスク装置に関し、超高密度の記録再生が行える
磁気記録媒体及び磁気ディスク装置の提供を目的とす
る。 【構成】 非磁性基板１の上に非強磁性層２と情報記録
面に平行な磁化容易軸を有する強磁性層３とを順に成膜
した磁気記録媒体において、強磁性層３は記録磁化方向
の保磁力が３０００（Ｏｅ）以上で、かつ０．８以上の
角型比を有する。高保磁力により記録磁化の遷移幅は狭
くなる。また高角型比により高密度記録領域においても
記録磁化は低下せず、もって高い再生出力が得られる。
好ましくは強磁性層３は膜厚ｔ（μｍ）と残留磁化Ｂｒ
（Ｇａｕｓｓ）との積が１００以下である。また磁気デ
ィスク装置は、上記の磁気記録媒体と、飽和磁束密度が
１５０００（Ｏｅ）以上の磁極材料よりなる磁気ヘッド
とを備える。従って、磁気記録媒体の高保磁力にも係わ
らず充分な飽和記録が行える。
磁気ディスク装置に関し、超高密度の記録再生が行える
磁気記録媒体及び磁気ディスク装置の提供を目的とす
る。 【構成】 非磁性基板１の上に非強磁性層２と情報記録
面に平行な磁化容易軸を有する強磁性層３とを順に成膜
した磁気記録媒体において、強磁性層３は記録磁化方向
の保磁力が３０００（Ｏｅ）以上で、かつ０．８以上の
角型比を有する。高保磁力により記録磁化の遷移幅は狭
くなる。また高角型比により高密度記録領域においても
記録磁化は低下せず、もって高い再生出力が得られる。
好ましくは強磁性層３は膜厚ｔ（μｍ）と残留磁化Ｂｒ
（Ｇａｕｓｓ）との積が１００以下である。また磁気デ
ィスク装置は、上記の磁気記録媒体と、飽和磁束密度が
１５０００（Ｏｅ）以上の磁極材料よりなる磁気ヘッド
とを備える。従って、磁気記録媒体の高保磁力にも係わ
らず充分な飽和記録が行える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体及び該媒体
を使用する磁気ディスク装置に関し、更に詳しくは非磁
性基板の上に非強磁性層と情報記録面に平行な磁化容易
軸を有する強磁性層とを順に成膜した磁気記録媒体及び
該媒体を使用する磁気ディスク装置に関する。
を使用する磁気ディスク装置に関し、更に詳しくは非磁
性基板の上に非強磁性層と情報記録面に平行な磁化容易
軸を有する強磁性層とを順に成膜した磁気記録媒体及び
該媒体を使用する磁気ディスク装置に関する。
【０００２】近年、コンピュータの外部記憶装置である
磁気ディスク装置の大容量化に伴い超高記録密度の磁気
記録媒体が要求されている。
磁気ディスク装置の大容量化に伴い超高記録密度の磁気
記録媒体が要求されている。
【０００３】
【従来の技術】従来は、垂直異方性の強いコバルト合金
磁性媒体を長手（水平）方向の記録に使用し得るように
し、水平記録における高密度記録の向上を図った磁気記
録媒体が知られている（特開平４−４７５２０）。図３
にその断面図を示す。アルミニウム基板１１の上にニッ
ケルリン層１２を付した後、５０〜２００Åのクロム合
金下層（非強磁性層）１３、コバルト合金磁性層（強磁
性層）１４、保護層１５及び潤滑層１６をスパッタリン
グの手法により順次エピタキシャル成長させている。
磁性媒体を長手（水平）方向の記録に使用し得るように
し、水平記録における高密度記録の向上を図った磁気記
録媒体が知られている（特開平４−４７５２０）。図３
にその断面図を示す。アルミニウム基板１１の上にニッ
ケルリン層１２を付した後、５０〜２００Åのクロム合
金下層（非強磁性層）１３、コバルト合金磁性層（強磁
性層）１４、保護層１５及び潤滑層１６をスパッタリン
グの手法により順次エピタキシャル成長させている。
【０００４】クロム下層形成の際には、１５０℃以上の
下で第２元素（Ｖ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｔａ等）を添加し、第
２元素析出により、クロムの（１００）面を配向させ、
クロム下層における原子の（２００）面を基板１１の記
録面と平行にする。更に、その（１１０）面に沿うクロ
ム構造について、六方最密構造のコバルト合金原子群を
そのＣ軸（磁化容易軸）が記録面に平行となるように付
着させ、もって高記録密度を実現している。
下で第２元素（Ｖ，Ｍｏ，Ｔｉ，Ｔａ等）を添加し、第
２元素析出により、クロムの（１００）面を配向させ、
クロム下層における原子の（２００）面を基板１１の記
録面と平行にする。更に、その（１１０）面に沿うクロ
ム構造について、六方最密構造のコバルト合金原子群を
そのＣ軸（磁化容易軸）が記録面に平行となるように付
着させ、もって高記録密度を実現している。
【０００５】しかし、このような記録媒体でも記録密度
を更に上げようとすると、記録機構によって生じる反磁
界のために記録磁化が低下し、高い再生出力が得られな
かった。一般に記録密度を上げるには記録磁化Ｍｒの遷
移幅ａを小さくする必要がある。記録磁化Ｍｒの遷移幅
ａについては（１）式で近似されることが知られてい
る。詳細は、文献〔M.L.Williams, R.L.Comstock, "An
Analytical Model of theWrite Process in Digital Ma
gnetic Recording", AIP Conf.Magn.Magn.Mater.,5,738
(1971)〕を参照されたい。
を更に上げようとすると、記録機構によって生じる反磁
界のために記録磁化が低下し、高い再生出力が得られな
かった。一般に記録密度を上げるには記録磁化Ｍｒの遷
移幅ａを小さくする必要がある。記録磁化Ｍｒの遷移幅
ａについては（１）式で近似されることが知られてい
る。詳細は、文献〔M.L.Williams, R.L.Comstock, "An
Analytical Model of theWrite Process in Digital Ma
gnetic Recording", AIP Conf.Magn.Magn.Mater.,5,738
(1971)〕を参照されたい。
【０００６】
【数１】
【０００７】ここで、ｔ：磁性層膜厚 Ｂｒ：残留磁束密度（残留磁化） Ｈｃ：保磁力 ｄ：ヘッドと磁性層間のスペーシング 上記（１）式によれば、記録磁化Ｍｒの遷移幅ａは、磁
性層膜厚ｔと残留磁化Ｂｒの積の平方根に略比例し、保
磁力Ｈｃの平方根の逆数に略比例している。
性層膜厚ｔと残留磁化Ｂｒの積の平方根に略比例し、保
磁力Ｈｃの平方根の逆数に略比例している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ここで、残留磁化Ｂｒ
を小さくすると再生出力が低下する。またスペーシング
ｄは浮上ヘッドの機構上これ以上小さくすることは困難
である。かかる状況の下で、従来は、専ら磁性層膜厚ｔ
の薄膜化が行われていた。しかし、膜厚ｔの薄膜化によ
る高記録密度化はほぼ限界に達している。
を小さくすると再生出力が低下する。またスペーシング
ｄは浮上ヘッドの機構上これ以上小さくすることは困難
である。かかる状況の下で、従来は、専ら磁性層膜厚ｔ
の薄膜化が行われていた。しかし、膜厚ｔの薄膜化によ
る高記録密度化はほぼ限界に達している。
【０００９】本発明の目的は、超高密度の記録再生が行
える磁気記録媒体及び該媒体を使用する磁気ディスク装
置を提供することにある。
える磁気記録媒体及び該媒体を使用する磁気ディスク装
置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の課題は例えば図１
の構成により解決される。即ち、本発明の磁気記録媒体
は、非磁性基板１の上に非強磁性層２と情報記録面に平
行な磁化容易軸を有する強磁性層３とを順に成膜した磁
気記録媒体において、前記強磁性層３は記録磁化方向の
保磁力が３０００（Ｏｅ）以上でかつ角型比が０．８以
上であるものである。
の構成により解決される。即ち、本発明の磁気記録媒体
は、非磁性基板１の上に非強磁性層２と情報記録面に平
行な磁化容易軸を有する強磁性層３とを順に成膜した磁
気記録媒体において、前記強磁性層３は記録磁化方向の
保磁力が３０００（Ｏｅ）以上でかつ角型比が０．８以
上であるものである。
【００１１】また上記の課題は例えば図２の構成により
解決される。即ち、本発明の磁気ディスク装置は、上記
本発明による磁気記録媒体１０と、飽和磁束密度が１５
０００（Ｏｅ）以上の磁極材料よりなる磁気ヘッド２０
とを備えるものである。
解決される。即ち、本発明の磁気ディスク装置は、上記
本発明による磁気記録媒体１０と、飽和磁束密度が１５
０００（Ｏｅ）以上の磁極材料よりなる磁気ヘッド２０
とを備えるものである。
【００１２】
【作用】本発明の磁気記録媒体によれば、強磁性層３の
記録磁化方向の保磁力を３０００（Ｏｅ）以上と、従来
の１．５倍以上に高めたので、記録磁化Ｍｒの遷移幅ａ
を大幅に小さくできる。しかも、強磁性層３は０．８以
上の角型比を有するので、高密度記録領域においても記
録磁化Ｍｒは低下せず、もって高い再生出力が得られ
る。従って、超高密度の記録再生が行える。
記録磁化方向の保磁力を３０００（Ｏｅ）以上と、従来
の１．５倍以上に高めたので、記録磁化Ｍｒの遷移幅ａ
を大幅に小さくできる。しかも、強磁性層３は０．８以
上の角型比を有するので、高密度記録領域においても記
録磁化Ｍｒは低下せず、もって高い再生出力が得られ
る。従って、超高密度の記録再生が行える。
【００１３】好ましくは、強磁性層３は膜厚ｔ（μｍ）
と残留磁化Ｂｒ（Ｇａｕｓｓ）との積が１００以下であ
る。また本発明の磁気ディスク装置は、飽和磁束密度が
１５０００（Ｏｅ）以上の磁極材料よりなる磁気ヘッド
２０を備えるので、磁気記録媒体１０の高い保磁力にも
係わらず充分な飽和記録を行える。
と残留磁化Ｂｒ（Ｇａｕｓｓ）との積が１００以下であ
る。また本発明の磁気ディスク装置は、飽和磁束密度が
１５０００（Ｏｅ）以上の磁極材料よりなる磁気ヘッド
２０を備えるので、磁気記録媒体１０の高い保磁力にも
係わらず充分な飽和記録を行える。
【００１４】
【実施例】以下、添付図面に従って本発明による実施例
を詳細に説明する。なお、全図を通して同一符号は同一
又は相当部分を示すものとする。図１は実施例の磁気記
録媒体の断面図である。例えばガラスよりなる非磁性基
板１の上に、Ｃｒ（又はＣｒ合金）よりなる非強磁性層
２を１００（ｎｍ）、例えばＣｏ75Ｃｒ13Ｐｔ12よりな
る強磁性層３を１０（ｎｍ）、Ｃよりなる保護層４を２
０（ｎｍ）、夫々スパッタリングの手法により順次エピ
タキシャル成長させ、六方最密構造のコバルト合金原子
群をそのＣ軸（磁化容易軸）が記録面に平行となるよう
に付着させている。表１にそのスパッタリング条件を示
す。
を詳細に説明する。なお、全図を通して同一符号は同一
又は相当部分を示すものとする。図１は実施例の磁気記
録媒体の断面図である。例えばガラスよりなる非磁性基
板１の上に、Ｃｒ（又はＣｒ合金）よりなる非強磁性層
２を１００（ｎｍ）、例えばＣｏ75Ｃｒ13Ｐｔ12よりな
る強磁性層３を１０（ｎｍ）、Ｃよりなる保護層４を２
０（ｎｍ）、夫々スパッタリングの手法により順次エピ
タキシャル成長させ、六方最密構造のコバルト合金原子
群をそのＣ軸（磁化容易軸）が記録面に平行となるよう
に付着させている。表１にそのスパッタリング条件を示
す。
【００１５】
【表１】
【００１６】非強磁性層２及び強磁性層３の成膜時の基
板温度を約４００℃と高くすることにより高い保磁力が
得られた。表２に媒体記録層の静磁気特性を示す。
板温度を約４００℃と高くすることにより高い保磁力が
得られた。表２に媒体記録層の静磁気特性を示す。
【００１７】
【表２】
【００１８】強磁性層３の膜厚ｔ（μｍ）と残留磁化Ｂ
ｒ（Ｇａｕｓｓ）との積は１００以下が実現されてい
る。再生出力はｔとＢｒの積に比例するが、ｔ×Ｂｒ＝
１００以下でも再生信号に十分なＳＮが得られる。図２
は実施例の磁気ディスク装置を説明する図で、図２の
（Ａ）は磁気ヘッド２０の正面詳細を示す図、図２の
（Ｂ）は磁極２２の側断面図である。
ｒ（Ｇａｕｓｓ）との積は１００以下が実現されてい
る。再生出力はｔとＢｒの積に比例するが、ｔ×Ｂｒ＝
１００以下でも再生信号に十分なＳＮが得られる。図２
は実施例の磁気ディスク装置を説明する図で、図２の
（Ａ）は磁気ヘッド２０の正面詳細を示す図、図２の
（Ｂ）は磁極２２の側断面図である。
【００１９】図において、１０は図１の磁気記録媒体に
より形成したディスク板、２０は磁気ヘッド、２１は基
板（ガラス）、２２はヘッドの磁極、２２1 は磁極２２
の例えばＦｅＮによる下部磁性層、２２2 は同ＦｅＮに
よる上部磁性層、２３は下部保護層、２４は非磁性層、
２５は絶縁層、３０はＡｇ，Ａu ，Ｃｕ等によりなる単
層又は多層のスパイラルコイル、５０はデータ読書部、
６０はヘッド駆動部、６１はアーム、７０はスピンドル
モータ、７１はスピンドルシャフトである。
より形成したディスク板、２０は磁気ヘッド、２１は基
板（ガラス）、２２はヘッドの磁極、２２1 は磁極２２
の例えばＦｅＮによる下部磁性層、２２2 は同ＦｅＮに
よる上部磁性層、２３は下部保護層、２４は非磁性層、
２５は絶縁層、３０はＡｇ，Ａu ，Ｃｕ等によりなる単
層又は多層のスパイラルコイル、５０はデータ読書部、
６０はヘッド駆動部、６１はアーム、７０はスピンドル
モータ、７１はスピンドルシャフトである。
【００２０】ディスク板１０はスピンドルシャフト７１
を介してスピンドルモータ７０により一定速度で回転す
る。磁気ヘッド２０は不図示のスライダ、ジンバルスプ
リング等の支持機構部によって記録面からスペーシング
ｄの高さの位置に浮上し、アーム６１を介してヘッド駆
動部６０によりトラッキング制御される。そして、スパ
イラルコイル３０の端子ａ，ｂは信号線を介してデータ
読書部５０に接続し、データの記録／再生が行われる。
なお、記録データの再生は別途に設けた磁気抵抗効果型
ヘッドにより行っても良い。
を介してスピンドルモータ７０により一定速度で回転す
る。磁気ヘッド２０は不図示のスライダ、ジンバルスプ
リング等の支持機構部によって記録面からスペーシング
ｄの高さの位置に浮上し、アーム６１を介してヘッド駆
動部６０によりトラッキング制御される。そして、スパ
イラルコイル３０の端子ａ，ｂは信号線を介してデータ
読書部５０に接続し、データの記録／再生が行われる。
なお、記録データの再生は別途に設けた磁気抵抗効果型
ヘッドにより行っても良い。
【００２１】表３に積分法により磁極２２の飽和磁束密
度に対するヘッドの記録磁界強度を計算した結果を示
す。
度に対するヘッドの記録磁界強度を計算した結果を示
す。
【００２２】
【表３】
【００２３】計算条件は、コイル巻数Ｎ＝３２，磁極の
ギャップ長ｇ1 ＝０．３５μｍ，ギャップデプスｇ2 ＝
１μｍ，先端の磁極幅ｗ1 ＝５μｍ，後部の磁極幅ｗ2
＝９０μｍである。ヘッドの記録磁界強度はギャップ中
央より０．１４μｍ離れた位置（スペーシングｄ＝０．
１３μｍ相当）での値とする。表３より磁極２２の飽和
磁束密度が１００００（Ｇａｕｓｓ）の場合は記録磁界
強度は約４５００（Ｏｅ）、また１５０００（Ｇａｕｓ
ｓ）の場合は約６６００（Ｏｅ）である。記録媒体１０
に対して十分な飽和記録を行うには、記録媒体１０の磁
化曲線にもよるが、一般に保磁力の約２倍の記録磁界が
必要であると考えられる。従って、保磁力３０００（Ｏ
ｅ）の記録媒体１０に記録するには磁極２２の飽和磁束
密度が１５０００（Ｇａｕｓｓ）以上は必要である。こ
のような磁極２２の材料としては、上記のＦｅＮ以外に
も、ＦｅＡｌ，ＦｅＡｌＳｉ等を用いても実現可能であ
る。
ギャップ長ｇ1 ＝０．３５μｍ，ギャップデプスｇ2 ＝
１μｍ，先端の磁極幅ｗ1 ＝５μｍ，後部の磁極幅ｗ2
＝９０μｍである。ヘッドの記録磁界強度はギャップ中
央より０．１４μｍ離れた位置（スペーシングｄ＝０．
１３μｍ相当）での値とする。表３より磁極２２の飽和
磁束密度が１００００（Ｇａｕｓｓ）の場合は記録磁界
強度は約４５００（Ｏｅ）、また１５０００（Ｇａｕｓ
ｓ）の場合は約６６００（Ｏｅ）である。記録媒体１０
に対して十分な飽和記録を行うには、記録媒体１０の磁
化曲線にもよるが、一般に保磁力の約２倍の記録磁界が
必要であると考えられる。従って、保磁力３０００（Ｏ
ｅ）の記録媒体１０に記録するには磁極２２の飽和磁束
密度が１５０００（Ｇａｕｓｓ）以上は必要である。こ
のような磁極２２の材料としては、上記のＦｅＮ以外に
も、ＦｅＡｌ，ＦｅＡｌＳｉ等を用いても実現可能であ
る。
【００２４】なお、上記実施例では非磁性基板１として
絶縁性のガラスを用いたが、他に結晶化ガラス、プラス
チック、セラミックを用いても良い。あるいは、シリコ
ンＳｉ、カーボンＣ、アルミニウムＡｌの基板上にニッ
ケルリンＮｉＰ層をコーティングしたもの等を使用して
も良い。また、上記本発明に好適なる実施例を述べた
が、本発明思想を逸脱しない範囲で、その構成及び組み
合わせの様々な変更が行えることは言うまでもない。
絶縁性のガラスを用いたが、他に結晶化ガラス、プラス
チック、セラミックを用いても良い。あるいは、シリコ
ンＳｉ、カーボンＣ、アルミニウムＡｌの基板上にニッ
ケルリンＮｉＰ層をコーティングしたもの等を使用して
も良い。また、上記本発明に好適なる実施例を述べた
が、本発明思想を逸脱しない範囲で、その構成及び組み
合わせの様々な変更が行えることは言うまでもない。
【００２５】
【発明の効果】以上述べた如く本発明の磁気記録媒体は
高保磁力、高角型比を有するので、記録磁化Ｍｒの遷移
幅ａを小さくできると共に、高密度記録領域においても
記録磁化Ｍｒは低下せず、もって高い再生出力が得られ
る。従って、超高密度の記録再生が行える。
高保磁力、高角型比を有するので、記録磁化Ｍｒの遷移
幅ａを小さくできると共に、高密度記録領域においても
記録磁化Ｍｒは低下せず、もって高い再生出力が得られ
る。従って、超高密度の記録再生が行える。
【００２６】また本発明の磁気ディスク装置は、高保磁
力、高角型比の磁気記録媒体と高飽和磁束密度の磁気ヘ
ッドとを組み合わせたので、磁気記録媒体１０の高い保
磁力にも係わらず充分な飽和記録を行える。
力、高角型比の磁気記録媒体と高飽和磁束密度の磁気ヘ
ッドとを組み合わせたので、磁気記録媒体１０の高い保
磁力にも係わらず充分な飽和記録を行える。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は実施例の磁気記録媒体の断面図である。
【図２】図２は実施例の磁気ディスク装置を説明する図
である。
である。
【図３】図３は従来の磁気記録媒体の断面図である。
１ 非磁性基板 ２ 非強磁性層 ３ 強磁性層 ４ 保護層 １０ 磁気記録媒体 ２０ 磁気ヘッド ２２ 磁極 ３０ スパイラルコイル ５０ データ読書部 ６０ ヘッド駆動部 ７０ スピンドルモータ
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性基板（１）の上に非強磁性層
（２）と情報記録面に平行な磁化容易軸を有する強磁性
層（３）とを順に成膜した磁気記録媒体において、前記
強磁性層（３）は記録磁化方向の保磁力が３０００（Ｏ
ｅ）以上でかつ角型比が０．８以上であることを特徴と
する磁気記録媒体。 - 【請求項２】 前記強磁性層（３）は膜厚ｔ（μｍ）と
残留磁化Ｂｒ（Ｇａｕｓｓ）との積が１００以下である
ことを特徴とする請求項１の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 請求項１又は２の磁気記録媒体（１０）
と、 飽和磁束密度が１５０００（Ｏｅ）以上の磁極材料より
なる磁気ヘッド（２０）とを備えることを特徴とする磁
気ディスク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP752594A JPH07220262A (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 磁気記録媒体及び該媒体を使用する磁気ディスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP752594A JPH07220262A (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 磁気記録媒体及び該媒体を使用する磁気ディスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07220262A true JPH07220262A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=11668202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP752594A Pending JPH07220262A (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 磁気記録媒体及び該媒体を使用する磁気ディスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07220262A (ja) |
-
1994
- 1994-01-27 JP JP752594A patent/JPH07220262A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20021022 |