JPH10334443A - 垂直磁気記録媒体および記録再生装置 - Google Patents
垂直磁気記録媒体および記録再生装置Info
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- JPH10334443A JPH10334443A JP13965597A JP13965597A JPH10334443A JP H10334443 A JPH10334443 A JP H10334443A JP 13965597 A JP13965597 A JP 13965597A JP 13965597 A JP13965597 A JP 13965597A JP H10334443 A JPH10334443 A JP H10334443A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高密度磁気記録に適するように改良された垂直
磁気記録媒体およびこれを用いた記録再生装置を提供す
る。 【解決手段】主記録層であるＣｏ合金系の垂直磁気記録
媒体の表面に軟磁性膜もしくは面内磁化膜を形成し、垂
直磁気記録層の表面に存在する磁化揺らぎを低減する。
磁気記録媒体およびこれを用いた記録再生装置を提供す
る。 【解決手段】主記録層であるＣｏ合金系の垂直磁気記録
媒体の表面に軟磁性膜もしくは面内磁化膜を形成し、垂
直磁気記録層の表面に存在する磁化揺らぎを低減する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高密度磁気記録に
適する磁性膜を有する磁気記録媒体およびこれを用いた
記録再生装置に関する。
適する磁性膜を有する磁気記録媒体およびこれを用いた
記録再生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在実用化されている磁気ディスク装置
は、面内磁気記録方式が採用されている。ディスク基板
面と平行な方向に磁化し易い面内磁気記録媒体に基板と
平行な面内磁区を高密度に形成することが技術課題とな
っている。この面内磁気記録媒体の記録密度を伸ばす方
式として、面内方向に磁化容易軸を持つ記録媒体表面
に、極薄の軟磁性膜を形成したキーパードメディアを用
いる方法が提案されている。
は、面内磁気記録方式が採用されている。ディスク基板
面と平行な方向に磁化し易い面内磁気記録媒体に基板と
平行な面内磁区を高密度に形成することが技術課題とな
っている。この面内磁気記録媒体の記録密度を伸ばす方
式として、面内方向に磁化容易軸を持つ記録媒体表面
に、極薄の軟磁性膜を形成したキーパードメディアを用
いる方法が提案されている。
【０００３】この技術は例えば、磁気および磁性材料に
関する第４１回年次会議（４１stAnnual Conference on
Magnetism ＆ Magnetic Materials)(November１２−１
５，１９９６）で発行されたアブストラクト集の１１６
ページ（論文番号ＤＱ−１３）および１３３ページ（論
文番号ＥＢ−１２）などに掲載されている。
関する第４１回年次会議（４１stAnnual Conference on
Magnetism ＆ Magnetic Materials)(November１２−１
５，１９９６）で発行されたアブストラクト集の１１６
ページ（論文番号ＤＱ−１３）および１３３ページ（論
文番号ＥＢ−１２）などに掲載されている。
【０００４】このような媒体構造を採用することによ
り、自己記録再生方式の薄膜ヘッドを用いて、磁気記録
の面記録密度を１Ｇｂ／in2 以上に向上できることが述
べられているが、面内記録方式の場合は、このような技
術を用いても本質的に互いに隣接する記録ビットの磁化
が互いに向あっているため、境界に幅をもった磁化遷移
領域が形成されるため、５Ｇｂ／in2 以上の面記録密度
を実現するためには、技術的な困難が予想される。
り、自己記録再生方式の薄膜ヘッドを用いて、磁気記録
の面記録密度を１Ｇｂ／in2 以上に向上できることが述
べられているが、面内記録方式の場合は、このような技
術を用いても本質的に互いに隣接する記録ビットの磁化
が互いに向あっているため、境界に幅をもった磁化遷移
領域が形成されるため、５Ｇｂ／in2 以上の面記録密度
を実現するためには、技術的な困難が予想される。
【０００５】垂直磁気記録方式は薄膜媒体の膜面に垂直
に磁化を形成する方式で、記録原理や媒体ノイズの発現
機構が従来の面内磁気記録媒体の場合とは異なるが、隣
接する磁化が向き合わないために、本質的に高密度磁気
記録に適した方式として注目され、垂直磁気記録に適し
た媒体の構造などが提案されている。
に磁化を形成する方式で、記録原理や媒体ノイズの発現
機構が従来の面内磁気記録媒体の場合とは異なるが、隣
接する磁化が向き合わないために、本質的に高密度磁気
記録に適した方式として注目され、垂直磁気記録に適し
た媒体の構造などが提案されている。
【０００６】Ｃｏ合金材料からなる垂直磁化膜の垂直配
向性を改善するために垂直磁化膜と基板との間に非磁性
材料下地を設ける方法が検討されている。例えば、特開
昭58−77025 号，特開昭58−141435号にはＣｏ−Ｃｒ磁
性膜の下地層としてＴｉ膜を形成する方法が、特開昭60
−214417号には下地層としてＧｅ，Ｓｉ材料を用いる方
法が、特開昭60−064413号にはＣｏＯ，ＮｉＯ等の酸化
物下地層材料が開示されている。また、単磁極型の記録
ヘッドと組み合わせて用いられる垂直磁気記録媒体とし
て基板と垂直磁化膜の間にパーマロイなどの軟磁性膜層
を設けた媒体が検討されている。
向性を改善するために垂直磁化膜と基板との間に非磁性
材料下地を設ける方法が検討されている。例えば、特開
昭58−77025 号，特開昭58−141435号にはＣｏ−Ｃｒ磁
性膜の下地層としてＴｉ膜を形成する方法が、特開昭60
−214417号には下地層としてＧｅ，Ｓｉ材料を用いる方
法が、特開昭60−064413号にはＣｏＯ，ＮｉＯ等の酸化
物下地層材料が開示されている。また、単磁極型の記録
ヘッドと組み合わせて用いられる垂直磁気記録媒体とし
て基板と垂直磁化膜の間にパーマロイなどの軟磁性膜層
を設けた媒体が検討されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】５Ｇｂ／in2 以上の高
密度磁気記録が可能な垂直磁気記録媒体としては、線記
録密度分解能が大きいことに加えて媒体ノイズが小さい
ことが必要である。今まで報告されている公知例では、
例えば第５回垂直磁気記録シンポジウム会議資料集（１
９９６年１０月２３日−２５日）９５頁から１００頁に
記載されている「単層垂直磁気ディスク媒体の高Ｓ／Ｎ
化」と題する論文に記載されているように、垂直磁化膜
の厚さを小さくする、垂直磁化膜と基板の間に非磁性の
ＣｏＣｒ下地を導入する、あるいはＣｏ合金磁性膜の添
加元素としてＴａ等の非磁性元素を添加する、磁性結晶
粒径を小さくするなどが有効であることが知られてい
る。このような対策を行うことで媒体ノイズをかなり低
減できるが、さらにノイズを低減できれば磁気記録装置
の記録密度をより容易に伸ばすことが可能となる。
密度磁気記録が可能な垂直磁気記録媒体としては、線記
録密度分解能が大きいことに加えて媒体ノイズが小さい
ことが必要である。今まで報告されている公知例では、
例えば第５回垂直磁気記録シンポジウム会議資料集（１
９９６年１０月２３日−２５日）９５頁から１００頁に
記載されている「単層垂直磁気ディスク媒体の高Ｓ／Ｎ
化」と題する論文に記載されているように、垂直磁化膜
の厚さを小さくする、垂直磁化膜と基板の間に非磁性の
ＣｏＣｒ下地を導入する、あるいはＣｏ合金磁性膜の添
加元素としてＴａ等の非磁性元素を添加する、磁性結晶
粒径を小さくするなどが有効であることが知られてい
る。このような対策を行うことで媒体ノイズをかなり低
減できるが、さらにノイズを低減できれば磁気記録装置
の記録密度をより容易に伸ばすことが可能となる。
【０００８】本発明は、５Ｇｂ／in2 以上の高記録密度
を実現するための低ノイズ特性をもつ垂直磁気記録媒体
を提供し、高密度記録再生装置の実現を容易ならしめる
ことを目的とする。
を実現するための低ノイズ特性をもつ垂直磁気記録媒体
を提供し、高密度記録再生装置の実現を容易ならしめる
ことを目的とする。
【０００９】垂直磁気記録媒体の記録磁化状態を磁気力
顕微鏡や走査型スピン電子検出型顕微鏡によって調べた
結果、大部分のノイズは媒体面に存在する逆磁区や磁化
のミクロ的な揺らぎが原因であることが判明した。媒体
ノイズを減らすためには、逆磁区を減らすとともに、媒
体の表面に存在するミクロな磁化の揺らぎを減らさなけ
ればならない。
顕微鏡や走査型スピン電子検出型顕微鏡によって調べた
結果、大部分のノイズは媒体面に存在する逆磁区や磁化
のミクロ的な揺らぎが原因であることが判明した。媒体
ノイズを減らすためには、逆磁区を減らすとともに、媒
体の表面に存在するミクロな磁化の揺らぎを減らさなけ
ればならない。
【００１０】本発明は、５Ｇｂ／in2 以上の高密度磁気
記録を可能とする、低ノイズ特性と高線記録密度特性を
合わせ持つ垂直磁気記録媒体およびこれを用いた記録再
生装置を提供することを目的とする。
記録を可能とする、低ノイズ特性と高線記録密度特性を
合わせ持つ垂直磁気記録媒体およびこれを用いた記録再
生装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するのに
以下の方法を用いれば良いことが本発明者の実験の結果
明かになった。逆磁区の原因は、垂直磁化膜を一方向に
垂直磁化すると媒体表面には強い反磁界が作用する。こ
の反磁界の作用で、垂直磁化した方向とは逆の向きを持
つ、いわゆる逆磁区が形成される。この逆磁区の形成を
妨げるためには、磁気異方性エネルギーを有する垂直磁
化膜を採用する必要がある。磁気異方性エネルギーは、
２.５×１０6erg／cc 以上あることが望ましい。
以下の方法を用いれば良いことが本発明者の実験の結果
明かになった。逆磁区の原因は、垂直磁化膜を一方向に
垂直磁化すると媒体表面には強い反磁界が作用する。こ
の反磁界の作用で、垂直磁化した方向とは逆の向きを持
つ、いわゆる逆磁区が形成される。この逆磁区の形成を
妨げるためには、磁気異方性エネルギーを有する垂直磁
化膜を採用する必要がある。磁気異方性エネルギーは、
２.５×１０6erg／cc 以上あることが望ましい。
【００１２】実用的媒体として扱いやすいＣｏ合金材料
を用いた垂直磁化膜の磁気異方性エネルギーの値は５×
１０6erg／ccである。この値以上の磁気異方性エネルギ
ーを持つＣｏ合金系規則格子材料も存在するが、磁性膜
の面内方向の相互作用が強いことに起因する媒体ノイズ
が大きくなりすぎ、ノイズを低減するのが困難になる等
の問題が生ずる。
を用いた垂直磁化膜の磁気異方性エネルギーの値は５×
１０6erg／ccである。この値以上の磁気異方性エネルギ
ーを持つＣｏ合金系規則格子材料も存在するが、磁性膜
の面内方向の相互作用が強いことに起因する媒体ノイズ
が大きくなりすぎ、ノイズを低減するのが困難になる等
の問題が生ずる。
【００１３】Ｃｏ合金以外のＰｔ／Ｃｏ，Ｐｄ／Ｃｏな
どの多層膜からなる垂直磁化膜、あるいはＴｂＦｅＣｏ
などの希土類元素を含む非晶質構造を持つ垂直磁化膜
は、磁気異方性エネルギーがいずれも２.５×１０6erg
／cc 以上であるため、本課題を達成する材料系として
は望ましいが、そのままでは前記と同様に面内方向の磁
気的相互作用が大きく、これに対応して媒体ノイズが大
きいため媒体ノイズを減らす特別な工夫が必要となる。
また、磁気記録の面密度を５Ｇｂ／in2 以上とするため
には、線記録密度として２５０ｋＦＣＩ以上が必要とな
る。この線記録密度に対応するビット長は１００ｎｍで
ある。記録を担う磁気記録媒体の厚さとしては、最短の
ビット長より小さいことが望ましく、垂直磁化膜の膜厚
を１００ｎｍ以下に設定する必要がある。
どの多層膜からなる垂直磁化膜、あるいはＴｂＦｅＣｏ
などの希土類元素を含む非晶質構造を持つ垂直磁化膜
は、磁気異方性エネルギーがいずれも２.５×１０6erg
／cc 以上であるため、本課題を達成する材料系として
は望ましいが、そのままでは前記と同様に面内方向の磁
気的相互作用が大きく、これに対応して媒体ノイズが大
きいため媒体ノイズを減らす特別な工夫が必要となる。
また、磁気記録の面密度を５Ｇｂ／in2 以上とするため
には、線記録密度として２５０ｋＦＣＩ以上が必要とな
る。この線記録密度に対応するビット長は１００ｎｍで
ある。記録を担う磁気記録媒体の厚さとしては、最短の
ビット長より小さいことが望ましく、垂直磁化膜の膜厚
を１００ｎｍ以下に設定する必要がある。
【００１４】磁気異方性エネルギーの高い垂直磁化膜を
用いることにより、逆磁区の発生を押さえることができ
るので、逆磁区に起因する媒体ノイズの発生を防ぐこと
ができるが、他の原因として、媒体表面に存在する磁化
のミクロレベルでの揺らぎがある。この揺らぎには、磁
性膜の面内方向の磁気的相互作用が大きい場合長周期の
磁化の揺らぎが生ずる。また、垂直磁化膜表面に磁気的
な不均質性が存在すると、短周期の磁化揺らぎが生じ、
いずれも媒体ノイズの原因となることが判明した。
用いることにより、逆磁区の発生を押さえることができ
るので、逆磁区に起因する媒体ノイズの発生を防ぐこと
ができるが、他の原因として、媒体表面に存在する磁化
のミクロレベルでの揺らぎがある。この揺らぎには、磁
性膜の面内方向の磁気的相互作用が大きい場合長周期の
磁化の揺らぎが生ずる。また、垂直磁化膜表面に磁気的
な不均質性が存在すると、短周期の磁化揺らぎが生じ、
いずれも媒体ノイズの原因となることが判明した。
【００１５】このような長周期，短周期の磁化揺らぎを
抑制するためには、垂直磁化膜の表面に軟磁性膜もしく
は面内方向に磁化容易軸を持つ磁性膜を形成すれば良い
ことが、本発明者の実験の結果明らかになった。ただ
し、これらの磁性膜の膜厚は、記録に用いる垂直磁化膜
の厚さに比べ小さく選ぶ必要がある。膜厚が大きくなる
と、垂直磁化膜に記録された記録ビットから発生する磁
束がこれらの膜に吸収された閉磁路を形成するために、
媒体表面から磁束が漏洩しなくなり、磁気ヘッドで記録
信号を再生できなくなる。
抑制するためには、垂直磁化膜の表面に軟磁性膜もしく
は面内方向に磁化容易軸を持つ磁性膜を形成すれば良い
ことが、本発明者の実験の結果明らかになった。ただ
し、これらの磁性膜の膜厚は、記録に用いる垂直磁化膜
の厚さに比べ小さく選ぶ必要がある。膜厚が大きくなる
と、垂直磁化膜に記録された記録ビットから発生する磁
束がこれらの膜に吸収された閉磁路を形成するために、
媒体表面から磁束が漏洩しなくなり、磁気ヘッドで記録
信号を再生できなくなる。
【００１６】これらの磁性膜の膜厚が適当に薄いと垂直
磁化膜表面に存在する長周期，短周期の磁気揺らぎは垂
直磁化膜の表面に形成した磁性膜に吸収されるが、記録
ビットから発生するより強い磁束は吸収しきれない場合
がおこる。この場合、磁気揺らぎに起因する磁束は磁性
膜表面に漏洩しないため、磁気ヘッドで検出されなくな
り、媒体ノイズが減少する。磁気揺らぎに起因する磁束
を吸収し、しかも記録ビットから発生する磁束をあまり
吸収しない垂直磁化膜と表面に設ける磁性膜の厚さ等の
組み合わせは、垂直磁化膜の厚さや飽和磁化，保磁力の
値等に依存して変化するため、それぞれの場合で最適な
組み合わせを選択することが必要となる。
磁化膜表面に存在する長周期，短周期の磁気揺らぎは垂
直磁化膜の表面に形成した磁性膜に吸収されるが、記録
ビットから発生するより強い磁束は吸収しきれない場合
がおこる。この場合、磁気揺らぎに起因する磁束は磁性
膜表面に漏洩しないため、磁気ヘッドで検出されなくな
り、媒体ノイズが減少する。磁気揺らぎに起因する磁束
を吸収し、しかも記録ビットから発生する磁束をあまり
吸収しない垂直磁化膜と表面に設ける磁性膜の厚さ等の
組み合わせは、垂直磁化膜の厚さや飽和磁化，保磁力の
値等に依存して変化するため、それぞれの場合で最適な
組み合わせを選択することが必要となる。
【００１７】一般的に表面に設ける磁性膜の厚さは、製
膜の制御性やディスク表面全域における膜厚分布の制御
性などの要因から考えて、２〜１０ｎｍさらに望ましく
は３〜５ｎｍの範囲が適当である。磁性膜としては、パ
ーマロイ，Ｆｅ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ，CoNbZrなど
の軟磁性膜、あるいはＣｏ，Ｎｉ，Ｆｅ，ＣｏＮｉ，Co
NiCrなどの面内磁化し易い磁性膜が可能である。垂直磁
化膜表面にＣ，Ｂ，Ｎ，Ｐなどの軽元素を拡散もしくは
打ち込みすることにより、表面の一部を軟磁性膜化もし
くは面内磁化膜化しても良い。
膜の制御性やディスク表面全域における膜厚分布の制御
性などの要因から考えて、２〜１０ｎｍさらに望ましく
は３〜５ｎｍの範囲が適当である。磁性膜としては、パ
ーマロイ，Ｆｅ−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ，CoNbZrなど
の軟磁性膜、あるいはＣｏ，Ｎｉ，Ｆｅ，ＣｏＮｉ，Co
NiCrなどの面内磁化し易い磁性膜が可能である。垂直磁
化膜表面にＣ，Ｂ，Ｎ，Ｐなどの軽元素を拡散もしくは
打ち込みすることにより、表面の一部を軟磁性膜化もし
くは面内磁化膜化しても良い。
【００１８】図１は単層型の垂直磁気記録媒体の改良に
本発明を適用した場合の例を示す。単層型の垂直磁気記
録媒体は、通常、非磁性基板１１上に磁性膜の垂直配向
性向上や結晶粒径制御を目的とした下地層１２を介して
垂直磁化膜１３が形成される。通常はこの上にカーボン
等からなる保護膜が形成される。
本発明を適用した場合の例を示す。単層型の垂直磁気記
録媒体は、通常、非磁性基板１１上に磁性膜の垂直配向
性向上や結晶粒径制御を目的とした下地層１２を介して
垂直磁化膜１３が形成される。通常はこの上にカーボン
等からなる保護膜が形成される。
【００１９】磁性膜１３としては、合金元素としてＣ
ｒ，Ｔａ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｓｉ，Ｖ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｈ
ｆ，Ｒｅ，Ｚｒ，Ｂ，Ｐ，Ｒｕなどから選ばれたすくな
くとも１種の元素を含むＣｏ合金が用いられる。この磁
性膜は多結晶膜であり、高い線記録密度特性と低いノイ
ズ特性をもたせるために、結晶粒径は通常２０ｎｍ以下
でしかも結晶粒界面には非磁性元素が優先的に偏析させ
た構造が用いられる。この垂直磁化膜は膜面方向では、
結晶粒界に偏析層が存在するために、磁気結合力は小さ
くしかも媒体表面には組成偏析や起伏等のためにミクロ
レベルの磁気的な揺らぎが存在する。
ｒ，Ｔａ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｓｉ，Ｖ，Ｎｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｈ
ｆ，Ｒｅ，Ｚｒ，Ｂ，Ｐ，Ｒｕなどから選ばれたすくな
くとも１種の元素を含むＣｏ合金が用いられる。この磁
性膜は多結晶膜であり、高い線記録密度特性と低いノイ
ズ特性をもたせるために、結晶粒径は通常２０ｎｍ以下
でしかも結晶粒界面には非磁性元素が優先的に偏析させ
た構造が用いられる。この垂直磁化膜は膜面方向では、
結晶粒界に偏析層が存在するために、磁気結合力は小さ
くしかも媒体表面には組成偏析や起伏等のためにミクロ
レベルの磁気的な揺らぎが存在する。
【００２０】媒体ノイズを低減するために、既に述べた
ように、この垂直磁化膜１３の上に垂直磁化膜の膜厚に
比べ薄い軟磁性膜もしくは面内磁化膜１４を形成する。
垂直磁化膜１３としてはＣｏ合金系の材料の代わりに、
Ｃｏ／Ｐｔ，Ｃｏ／Ｐｄ，Ｃｏ合金／Ｐｔ，Ｃｏ合金／
Ｐｄ，Ｃｏ合金／ＰｔもしくはＰｄ合金等からなる多層
膜型の垂直磁化膜、もしくはTbFeCoなどの稀土類元素を
含む非晶質垂直磁化膜を用いても良い。
ように、この垂直磁化膜１３の上に垂直磁化膜の膜厚に
比べ薄い軟磁性膜もしくは面内磁化膜１４を形成する。
垂直磁化膜１３としてはＣｏ合金系の材料の代わりに、
Ｃｏ／Ｐｔ，Ｃｏ／Ｐｄ，Ｃｏ合金／Ｐｔ，Ｃｏ合金／
Ｐｄ，Ｃｏ合金／ＰｔもしくはＰｄ合金等からなる多層
膜型の垂直磁化膜、もしくはTbFeCoなどの稀土類元素を
含む非晶質垂直磁化膜を用いても良い。
【００２１】垂直磁化膜１３上に軟磁性膜１４を設ける
ことにより、垂直磁化膜１３の表面に存在する磁気揺ら
ぎから発生する磁束が磁性膜に吸収され、この結果媒体
ノイズが低減する。また薄い磁性膜が形成されることに
より表面にミクロな起伏や組成偏析が存在しても磁気揺
らぎは容易には形成されなくなる。ここで、１５は保護
膜である。
ことにより、垂直磁化膜１３の表面に存在する磁気揺ら
ぎから発生する磁束が磁性膜に吸収され、この結果媒体
ノイズが低減する。また薄い磁性膜が形成されることに
より表面にミクロな起伏や組成偏析が存在しても磁気揺
らぎは容易には形成されなくなる。ここで、１５は保護
膜である。
【００２２】５Ｇｂ／in2 以上の記録密度を実現するた
めには、垂直磁化膜１３と軟磁性膜１４の合計の膜厚さ
は、１００ｎｍ以下７ｎｍ以上であることが必要であ
る。１００ｎｍ以上では膜を構成する磁性結晶粒子の体
積が大きくなり、この結果磁化反転体積も大きくなり、
媒体ノイズが増大し、５Ｇｂ／in2 以上の記録密度を実
現するための信号／ノイズ比が得られなくなる。膜厚が
７ｎｍ以下では、熱揺らぎによる記録磁化の劣化が顕在
化するので望ましくない。
めには、垂直磁化膜１３と軟磁性膜１４の合計の膜厚さ
は、１００ｎｍ以下７ｎｍ以上であることが必要であ
る。１００ｎｍ以上では膜を構成する磁性結晶粒子の体
積が大きくなり、この結果磁化反転体積も大きくなり、
媒体ノイズが増大し、５Ｇｂ／in2 以上の記録密度を実
現するための信号／ノイズ比が得られなくなる。膜厚が
７ｎｍ以下では、熱揺らぎによる記録磁化の劣化が顕在
化するので望ましくない。
【００２３】図２から図４に示す構成を用いても、目的
を達成することができる。図２に示した媒体構造は、第
１の垂直磁化膜２４と非磁性基板２１の間に六方最密充
填構造を持つ非磁性もしくは飽和磁化が１００emu／cc
以下の弱磁性の六方最密充填構造を持つ下地材料層２３
とこの下地材料層の結晶配向を制御するための下地層２
２を持つ場合である。垂直磁化膜２４の上には薄い軟磁
性膜もしくは面内磁化膜からなる磁性膜２５が形成され
る。このような２層下地構造を採用することにより、垂
直磁化膜の結晶粒径や配向の高度制御が可能になり、さ
らに低ノイズ特性が実現する。
を達成することができる。図２に示した媒体構造は、第
１の垂直磁化膜２４と非磁性基板２１の間に六方最密充
填構造を持つ非磁性もしくは飽和磁化が１００emu／cc
以下の弱磁性の六方最密充填構造を持つ下地材料層２３
とこの下地材料層の結晶配向を制御するための下地層２
２を持つ場合である。垂直磁化膜２４の上には薄い軟磁
性膜もしくは面内磁化膜からなる磁性膜２５が形成され
る。このような２層下地構造を採用することにより、垂
直磁化膜の結晶粒径や配向の高度制御が可能になり、さ
らに低ノイズ特性が実現する。
【００２４】図３および図４に示した媒体の断面構造
は、垂直磁化膜の下部に軟磁性膜層を保有する型の垂直
磁気記録媒体場合の構造を説明したものである。３２，
４２がそれぞれ軟磁性膜層である。この場合も垂直磁化
膜の上部には軟磁性膜もしくは面内磁気異方性を持つ磁
性膜３４，４５がそれぞれ形成されている。
は、垂直磁化膜の下部に軟磁性膜層を保有する型の垂直
磁気記録媒体場合の構造を説明したものである。３２，
４２がそれぞれ軟磁性膜層である。この場合も垂直磁化
膜の上部には軟磁性膜もしくは面内磁気異方性を持つ磁
性膜３４，４５がそれぞれ形成されている。
【００２５】図１から図４において、いずれも垂直磁化
膜の上に形成された磁性膜は垂直磁化膜の表面に存在す
る長周期，短周期の磁気揺らぎから発生する磁束を吸収
し、媒体ノイズを低減する役割を果たす。図１の下地１
２，図２の六方最密充填構造を持つ非磁性もしくは飽和
磁化が１００emu／cc 以下の弱磁性の六方最密充填構造
を持つ下地材料層２３およびその下に設けた下地２２図
４の六方最密充填構造を持つ非磁性もしくは飽和磁化が
１００emu／cc 以下の弱磁性の六方最密充填構造を持つ
下地４３は、いずれもこれらの下地の上に形成される磁
性膜の結晶配向や結晶粒径を制御することを目的に設け
られたものであり、これにより磁性膜の特性の目的に添
った方向での改善が可能となる。
膜の上に形成された磁性膜は垂直磁化膜の表面に存在す
る長周期，短周期の磁気揺らぎから発生する磁束を吸収
し、媒体ノイズを低減する役割を果たす。図１の下地１
２，図２の六方最密充填構造を持つ非磁性もしくは飽和
磁化が１００emu／cc 以下の弱磁性の六方最密充填構造
を持つ下地材料層２３およびその下に設けた下地２２図
４の六方最密充填構造を持つ非磁性もしくは飽和磁化が
１００emu／cc 以下の弱磁性の六方最密充填構造を持つ
下地４３は、いずれもこれらの下地の上に形成される磁
性膜の結晶配向や結晶粒径を制御することを目的に設け
られたものであり、これにより磁性膜の特性の目的に添
った方向での改善が可能となる。
【００２６】ここで各図の２６，３５または４６は保護
膜である。
膜である。
【００２７】
＜実施例１＞直径２.５ インチのガラス基板を用いて、
直流マグネトロンスパッタ法によって、図１に示す断面
構造を持つ磁気記録媒体を作製した。基板１１上に、下
地層１２，垂直磁化膜１３，軟磁性膜１４，保護膜１５
をこの順序で形成した。下地用にはＴｉ−１０at.５Ｃ
ｒターゲット、垂直磁化膜用にＣｏ−１９at.％Ｃｒ−
８at.％Ｐｔターゲット、軟磁性膜用にはCoNbZrのター
ゲット、保護膜用にカーボンターゲットを用いた。スパ
ッタのＡｒガス圧力を３ｍTorr、スパッタパワー１０Ｗ
／cm2 、基板温度２５０Ｃの条件でＣｒＴｉ膜を３０ｎ
ｍ、第１垂直磁化膜を３０ｎｍ、軟磁性膜であるCoNbZr
膜を４ｎｍ、カーボン膜を１０ｎｍの厚さに形成した。
直流マグネトロンスパッタ法によって、図１に示す断面
構造を持つ磁気記録媒体を作製した。基板１１上に、下
地層１２，垂直磁化膜１３，軟磁性膜１４，保護膜１５
をこの順序で形成した。下地用にはＴｉ−１０at.５Ｃ
ｒターゲット、垂直磁化膜用にＣｏ−１９at.％Ｃｒ−
８at.％Ｐｔターゲット、軟磁性膜用にはCoNbZrのター
ゲット、保護膜用にカーボンターゲットを用いた。スパ
ッタのＡｒガス圧力を３ｍTorr、スパッタパワー１０Ｗ
／cm2 、基板温度２５０Ｃの条件でＣｒＴｉ膜を３０ｎ
ｍ、第１垂直磁化膜を３０ｎｍ、軟磁性膜であるCoNbZr
膜を４ｎｍ、カーボン膜を１０ｎｍの厚さに形成した。
【００２８】さらに軟磁性膜１４に、Ｆｅ−Ｎｉ，Ｆｅ
−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌを用いた垂直磁気記録媒体を
作製した。また、軟磁性膜１４の代わりに面内磁気異方
性を持つＣｏ，Ｎｉ−Ｃｒ膜を４ｎｍの厚さに形成した
垂直磁気記録媒体を作成した。
−Ｓｉ，Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌを用いた垂直磁気記録媒体を
作製した。また、軟磁性膜１４の代わりに面内磁気異方
性を持つＣｏ，Ｎｉ−Ｃｒ膜を４ｎｍの厚さに形成した
垂直磁気記録媒体を作成した。
【００２９】比較試料として、垂直磁化膜１３の上に直
接カーボン保護膜１５を形成した垂直磁気記録媒体を作
製した。
接カーボン保護膜１５を形成した垂直磁気記録媒体を作
製した。
【００３０】これらの磁気記録媒体の記録再生特性を、
記録再生分離型の磁気ヘッドを用いて測定した。記録ヘ
ッドのギャップ長は０.２mm 、再生用の磁気抵抗効果型
（ＭＲ）ヘッドのシールド間隔は０.２mm、測定時のス
ペーシングは０.０６mmとした。記録密度は低周波の再
生出力の半分になる出力半減記録密度（Ｄ５０）を測定
し、２０ｋＦＣＩの磁気記録を行った場合のノイズは、
比較試料のノイズに対する相対値で示した。これらの結
果を表１に示す。
記録再生分離型の磁気ヘッドを用いて測定した。記録ヘ
ッドのギャップ長は０.２mm 、再生用の磁気抵抗効果型
（ＭＲ）ヘッドのシールド間隔は０.２mm、測定時のス
ペーシングは０.０６mmとした。記録密度は低周波の再
生出力の半分になる出力半減記録密度（Ｄ５０）を測定
し、２０ｋＦＣＩの磁気記録を行った場合のノイズは、
比較試料のノイズに対する相対値で示した。これらの結
果を表１に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】本実施例の磁気記録媒体は、比較例に比べ
てＤ５０が大幅に向上し、しかも媒体ノイズが低減して
おり、高密度磁気記録媒体として望ましいことがわかっ
た。本実施例で作製した磁気記録媒体を用いて、再生素
子としてＭＲヘッドを用いた２.５インチの磁気記録再
生装置を作製した。面記録密度６Ｇｂ／in2の条件でエ
ラーレート１０-9が確保でき、超高密度記録再生装置と
して動作することを確認した。
てＤ５０が大幅に向上し、しかも媒体ノイズが低減して
おり、高密度磁気記録媒体として望ましいことがわかっ
た。本実施例で作製した磁気記録媒体を用いて、再生素
子としてＭＲヘッドを用いた２.５インチの磁気記録再
生装置を作製した。面記録密度６Ｇｂ／in2の条件でエ
ラーレート１０-9が確保でき、超高密度記録再生装置と
して動作することを確認した。
【００３３】＜実施例２＞直径２.５ インチのシリコン
基板を用いて、直流マグネトロンスパッタ法によって、
図２に示す断面構造を持つ垂直磁気記録媒体を作製し
た。基板２１上に、第１下地層２２，第２下地層２３，
垂直磁化膜２４，磁性膜２５，保護膜２６をこの順序で
形成した。第１下地用にはＴｉ−１０at．５Ｃｒターゲ
ット、第２下地用にはＣｏ−３５at.％Ｃｒターゲッ
ト、垂直磁化膜用にＣｏ−１６at.％Ｃｒ−８at.％Ｐｔ
−３at.％Ｔａターゲット、磁性膜用にＦｅ−８０ａｔ
％Ｎｉのターゲット、保護膜用にカーボンターゲットを
用いた。Ｃｏ−３５ａｔ％Ｃｒの飽和磁化は２０emu／c
c 以下であり、弱磁性膜が得られる。スパッタのＡｒガ
ス圧力を３ｍTorr、スパッタパワー１０Ｗ／cm2 、基板
温度２８０℃の条件でCrTi膜を３０ｎｍ、ＣｏＣｒ膜を
１５ｎｍ、垂直磁化膜を２５ｎｍ、軟磁性膜であるＦｅ
Ｎｉ膜を３ｎｍ、カーボン膜を１０ｎｍの厚さに形成
し、図２に断面構造を示す垂直磁気記録媒体を形成し
た。
基板を用いて、直流マグネトロンスパッタ法によって、
図２に示す断面構造を持つ垂直磁気記録媒体を作製し
た。基板２１上に、第１下地層２２，第２下地層２３，
垂直磁化膜２４，磁性膜２５，保護膜２６をこの順序で
形成した。第１下地用にはＴｉ−１０at．５Ｃｒターゲ
ット、第２下地用にはＣｏ−３５at.％Ｃｒターゲッ
ト、垂直磁化膜用にＣｏ−１６at.％Ｃｒ−８at.％Ｐｔ
−３at.％Ｔａターゲット、磁性膜用にＦｅ−８０ａｔ
％Ｎｉのターゲット、保護膜用にカーボンターゲットを
用いた。Ｃｏ−３５ａｔ％Ｃｒの飽和磁化は２０emu／c
c 以下であり、弱磁性膜が得られる。スパッタのＡｒガ
ス圧力を３ｍTorr、スパッタパワー１０Ｗ／cm2 、基板
温度２８０℃の条件でCrTi膜を３０ｎｍ、ＣｏＣｒ膜を
１５ｎｍ、垂直磁化膜を２５ｎｍ、軟磁性膜であるＦｅ
Ｎｉ膜を３ｎｍ、カーボン膜を１０ｎｍの厚さに形成
し、図２に断面構造を示す垂直磁気記録媒体を形成し
た。
【００３４】比較試料として、垂直磁化膜２４の上に直
接カーボン保護膜２６を形成した垂直磁気記録媒体を作
製した。
接カーボン保護膜２６を形成した垂直磁気記録媒体を作
製した。
【００３５】これらの磁気記録媒体の保磁力（Ｈｃ）と
記録再生特性の評価を、それぞれ振動型磁力計（ＶＳ
Ｍ）、記録再生分離型の磁気ヘッドを用いて行った。記
録ヘッドのギャップ長は０.２mm 、再生用の巨大磁気抵
抗効果型（ＧＭＲ）ヘッドのシールド間隔は０.１５m
m、測定時のスペーシングは０.０４mmとした。記録密度
は低周波の再生出力の半分になる出力半減記録密度（Ｄ
５０）を測定し、20kFCIの磁気記録を行った場合のシグ
ナルとノイズの比率Ｓ／Ｎは、比較試料のＳ／Ｎに対す
る相対値で示した。これらの結果を表２に示す。
記録再生特性の評価を、それぞれ振動型磁力計（ＶＳ
Ｍ）、記録再生分離型の磁気ヘッドを用いて行った。記
録ヘッドのギャップ長は０.２mm 、再生用の巨大磁気抵
抗効果型（ＧＭＲ）ヘッドのシールド間隔は０.１５m
m、測定時のスペーシングは０.０４mmとした。記録密度
は低周波の再生出力の半分になる出力半減記録密度（Ｄ
５０）を測定し、20kFCIの磁気記録を行った場合のシグ
ナルとノイズの比率Ｓ／Ｎは、比較試料のＳ／Ｎに対す
る相対値で示した。これらの結果を表２に示す。
【００３６】
【表２】
【００３７】本実施例の垂直磁気記録媒体は、比較例に
比べてＤ５０，Ｓ／Ｎが大幅に改善されており、高密度
磁気記録媒体として望ましいことがわかった。本実施例
で作製した垂直磁気記録媒体を用いて、再生素子として
ＧＭＲヘッドを用いた２.５インチの磁気記録再生装置
を作製した。面記録密度８Ｇｂ／in2 の条件でエラーレ
ート１０-9が確保でき、超高密度記録再生装置として動
作することを確認した。
比べてＤ５０，Ｓ／Ｎが大幅に改善されており、高密度
磁気記録媒体として望ましいことがわかった。本実施例
で作製した垂直磁気記録媒体を用いて、再生素子として
ＧＭＲヘッドを用いた２.５インチの磁気記録再生装置
を作製した。面記録密度８Ｇｂ／in2 の条件でエラーレ
ート１０-9が確保でき、超高密度記録再生装置として動
作することを確認した。
【００３８】＜実施例３＞直径２.５ インチのガラス基
板を用いて、直流マグネトロンスパッタ法によって、図
３に示す断面構造を持つ垂直磁気記録媒体を作製した。
基板３１上に、軟磁性層３２，多層膜からなる垂直磁化
膜３３，ＣｏＢ合金からなる磁性膜３４，保護膜３５を
この順序で形成した。軟磁性層用にはＦｅ−８０at．％
Ｎｉターゲット、多層膜からなる垂直磁化膜用にＣｏ，
Ｐｔターゲット、ＣｏＢ合金からなる磁性膜用にＣｏ−
６at．％Ｂターゲット、保護膜用にカーボンターゲット
を用いた。スパッタのＡｒガス圧力を３ｍTorr、スパッ
タパワー１０Ｗ／cm2 、基板温度２５０℃の条件でＦｅ
−Ｎｉ膜を３０ｎｍ、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜からなる垂直磁
化膜を３０ｎｍ、ＣｏＢ磁性膜を３ｎｍ、カーボン膜を
１０ｎｍの厚さに形成した。ここで垂直磁化膜３３であ
るＣｏ／Ｐｔ多層膜は、Ｃｏ，Ｐｔターゲットを交互に
用いてそれぞれ１.５ｎｍ の厚さずつ１０サイクル形成
し、合計３０ｎｍ厚の垂直磁化膜を作製した。
板を用いて、直流マグネトロンスパッタ法によって、図
３に示す断面構造を持つ垂直磁気記録媒体を作製した。
基板３１上に、軟磁性層３２，多層膜からなる垂直磁化
膜３３，ＣｏＢ合金からなる磁性膜３４，保護膜３５を
この順序で形成した。軟磁性層用にはＦｅ−８０at．％
Ｎｉターゲット、多層膜からなる垂直磁化膜用にＣｏ，
Ｐｔターゲット、ＣｏＢ合金からなる磁性膜用にＣｏ−
６at．％Ｂターゲット、保護膜用にカーボンターゲット
を用いた。スパッタのＡｒガス圧力を３ｍTorr、スパッ
タパワー１０Ｗ／cm2 、基板温度２５０℃の条件でＦｅ
−Ｎｉ膜を３０ｎｍ、Ｃｏ／Ｐｔ多層膜からなる垂直磁
化膜を３０ｎｍ、ＣｏＢ磁性膜を３ｎｍ、カーボン膜を
１０ｎｍの厚さに形成した。ここで垂直磁化膜３３であ
るＣｏ／Ｐｔ多層膜は、Ｃｏ，Ｐｔターゲットを交互に
用いてそれぞれ１.５ｎｍ の厚さずつ１０サイクル形成
し、合計３０ｎｍ厚の垂直磁化膜を作製した。
【００３９】比較試料として、垂直磁化膜３３の上に直
接カーボン保護膜３５を形成した垂直磁気記録媒体を作
製した。
接カーボン保護膜３５を形成した垂直磁気記録媒体を作
製した。
【００４０】実施例２と同様な方法で記録再生特性を比
較した結果、本実施例の磁気記録媒体は、比較例に比べ
てＤ５０，Ｓ／Ｎが大幅に改善されており、高密度磁気
記録媒体として望ましいことがわかった。本実施例で作
製した磁気記録媒体を用いて、再生素子として磁気トン
ネル現象を応用した高感度再生ヘッドを用いた２.５イ
ンチの磁気記録再生装置を作製した。面記録密度２０Ｇ
ｂ／in2 の条件でエラーレート１０-9が確保でき、超高
密度記録再生装置として動作することを確認した。
較した結果、本実施例の磁気記録媒体は、比較例に比べ
てＤ５０，Ｓ／Ｎが大幅に改善されており、高密度磁気
記録媒体として望ましいことがわかった。本実施例で作
製した磁気記録媒体を用いて、再生素子として磁気トン
ネル現象を応用した高感度再生ヘッドを用いた２.５イ
ンチの磁気記録再生装置を作製した。面記録密度２０Ｇ
ｂ／in2 の条件でエラーレート１０-9が確保でき、超高
密度記録再生装置として動作することを確認した。
【００４１】＜実施例４＞実施例３で試作した垂直磁気
記録媒体において、軟磁性層４２の上に、２０ｎｍ厚さ
のＣｏ３５at．％Ｃｒ膜４３を設けた以外は同様にして
図４に示す断面構造を持つ垂直磁気記録媒体を作製し
た。比較例として、垂直磁化膜４４の上に直接保護膜４
６を形成した垂直磁気記録媒体も作製した。実施例３と
同様な記録再生条件で特性比較を行った結果、本発明の
垂直磁気記録媒体の方が比較例に比べ、Ｄ５０，Ｓ／Ｎ
がそれぞれ２５％，５５％改善されていることを確認し
た。
記録媒体において、軟磁性層４２の上に、２０ｎｍ厚さ
のＣｏ３５at．％Ｃｒ膜４３を設けた以外は同様にして
図４に示す断面構造を持つ垂直磁気記録媒体を作製し
た。比較例として、垂直磁化膜４４の上に直接保護膜４
６を形成した垂直磁気記録媒体も作製した。実施例３と
同様な記録再生条件で特性比較を行った結果、本発明の
垂直磁気記録媒体の方が比較例に比べ、Ｄ５０，Ｓ／Ｎ
がそれぞれ２５％，５５％改善されていることを確認し
た。
【００４２】＜実施例５＞実施例２で試作した垂直磁気
記録媒体と巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を用いた高感度
再生素子を持つ記録再分離ヘッドを用いて図５に示す磁
気記録再生装置を作製した。図において、５１は磁気記
録媒体、５２は磁気記録媒体駆動部、５３は磁気ヘッ
ド、５４は磁気ヘッド駆動部、５５は信号処理部であ
る。記録ヘッドのトラック幅０.４mm ，再生用のＧＭＲ
ヘッド素子のトラック幅０.３２mm 、ヘッドと媒体のス
ペーシング２０ｎｍとした。信号処理としてＰＲ５方式
を採用し、３６Ｇｂ／in2 の面記録密度の条件で装置を
動作させたところ、１０-9以下の誤り率が得られた。
記録媒体と巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）を用いた高感度
再生素子を持つ記録再分離ヘッドを用いて図５に示す磁
気記録再生装置を作製した。図において、５１は磁気記
録媒体、５２は磁気記録媒体駆動部、５３は磁気ヘッ
ド、５４は磁気ヘッド駆動部、５５は信号処理部であ
る。記録ヘッドのトラック幅０.４mm ，再生用のＧＭＲ
ヘッド素子のトラック幅０.３２mm 、ヘッドと媒体のス
ペーシング２０ｎｍとした。信号処理としてＰＲ５方式
を採用し、３６Ｇｂ／in2 の面記録密度の条件で装置を
動作させたところ、１０-9以下の誤り率が得られた。
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば、垂直磁気記録媒体のノ
イズを低減することができ、この結果高いＳ／Ｎ比が得
られるので、磁気ディスク装置の高密度化が可能とな
る、特に５Ｇｂ／in2 以上の高密度磁気記録が可能とな
り、装置の小型化や大容量化が容易になる。
イズを低減することができ、この結果高いＳ／Ｎ比が得
られるので、磁気ディスク装置の高密度化が可能とな
る、特に５Ｇｂ／in2 以上の高密度磁気記録が可能とな
り、装置の小型化や大容量化が容易になる。
【図１】本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図。
【図２】本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図。
【図３】本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図。
【図４】本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図。
【図５】本発明の一実施例の磁気記録装置の構成を示す
平面図および断面図。
平面図および断面図。
１１…基板、１２…下地層、１３…垂直磁化膜、１４…
軟磁性膜もしくは面内磁化膜、１５…保護膜、２１…基
板、２２…下地層、２３…六方稠密構造を持つ非磁性も
しくは弱磁性下地膜、２４…垂直磁化膜、２５…軟磁性
膜もしくは面内磁化膜、２６…保護膜、３１…基板、３
２…軟磁性層、３３…垂直磁化膜、３４…軟磁性膜もし
くは面内磁化膜、４５…保護膜、４１…基板、４２…軟
磁性層、４３…六方稠密構造を持つ非磁性もしくは弱磁
性下地膜、４４…垂直磁化膜、４５…軟磁性膜もしくは
面内磁化膜、４６…保護膜、５１…磁気記録媒体、５２
…磁気記録媒体駆動部、５３…磁気ヘッド、５４…磁気
ヘッド駆動部、５５…信号処理部。
軟磁性膜もしくは面内磁化膜、１５…保護膜、２１…基
板、２２…下地層、２３…六方稠密構造を持つ非磁性も
しくは弱磁性下地膜、２４…垂直磁化膜、２５…軟磁性
膜もしくは面内磁化膜、２６…保護膜、３１…基板、３
２…軟磁性層、３３…垂直磁化膜、３４…軟磁性膜もし
くは面内磁化膜、４５…保護膜、４１…基板、４２…軟
磁性層、４３…六方稠密構造を持つ非磁性もしくは弱磁
性下地膜、４４…垂直磁化膜、４５…軟磁性膜もしくは
面内磁化膜、４６…保護膜、５１…磁気記録媒体、５２
…磁気記録媒体駆動部、５３…磁気ヘッド、５４…磁気
ヘッド駆動部、５５…信号処理部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本多 幸雄 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 伊藤 研也 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 吉田 和悦 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (10)
- 【請求項１】非磁性基板と該非磁性基板上に設けられた
下地膜を介して形成された垂直磁化膜上に軟磁性膜もし
くは面内磁気異方性を有する磁性膜を形成し、これら２
種類の磁性膜を加えた厚さが１００ｎｍ以下で、かつ垂
直磁化膜の厚さがその上に設けた磁性膜の厚さより大き
いことを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 【請求項２】請求項１記載の磁気記録媒体において、垂
直磁化膜の上に設けた磁性膜の厚さが３ｎｍ以上，１０
ｎｍ以下であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 【請求項３】請求項１または２項記載の磁気記録媒体に
おいて、垂直磁化膜の上に設けた磁性膜の面内方向の保
磁力が２００Ｏｅ以下であることを特徴とする垂直磁気
記録媒体。 - 【請求項４】請求項１から３のいずれかに記載の磁気記
録媒体において、垂直磁化膜が磁気異方性エネルギーが
２.５×１０6erg／ccから５×１０6erg／cc の範囲にあ
るＣｏ合金からなる垂直磁化膜であり、しかもこの垂直
磁化膜と基板側で接する下地膜が、六方最密充填構造を
持つ非磁性もしくは飽和磁化が１００emu／cc 以下の弱
磁性材料からなることを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 【請求項５】請求項１から３のいずれかに記載の磁気記
録媒体において、垂直磁化膜が希土類元素を含む非晶質
磁性材料からなることを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 【請求項６】請求項１から３のいずれかに記載の磁気記
録媒体において、垂直磁化膜がＣｏもしくはＣｏ合金と
Ｐｔ，Ｐｄ、もしくはこれらの金属を主成分とする合金
からなる積層多層膜からなることを特徴とする垂直磁気
記録媒体。 - 【請求項７】請求項１に記載の磁気記録媒体において、
垂直磁化膜に接して基板側に軟磁性膜層を構成したこと
を特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 【請求項８】請求項７に記載の磁気記録媒体において、
垂直磁化膜がＣｏ合金からなり、この膜の基板側に接し
て六方最密充填構造を持つ非磁性もしくは飽和磁化が１
００emu／cc 以下の弱磁性材料からなる中間層を設けた
ことを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 【請求項９】請求項１から８項のいずれかに記載の垂直
磁気記録媒体を情報記録媒体とし、記録用には薄膜型の
リングヘッド、再生用には磁気抵抗効果素子もしくは巨
大磁気抵抗効果素子を用いた高感度素子を用い、面記録
密度５Ｇｂ／in2 以上で磁気記録再生を行うことを特徴
とする記録再生装置。 - 【請求項１０】請求項１から８項のいずれかに記載の垂
直磁気記録媒体を情報記録媒体とし、記録用には薄膜型
のリングヘッド、再生用には磁気トンネル効果を用いた
素子からなる高感度素子を使用し、面記録密度２０Ｇｂ
／in2 以上で磁気記録再生を行うことを特徴とする記録
再生装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13965597A JPH10334443A (ja) | 1997-05-29 | 1997-05-29 | 垂直磁気記録媒体および記録再生装置 |
| US09/379,462 US6403203B2 (en) | 1997-05-29 | 1999-08-24 | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same |
| US09/594,570 US6447936B1 (en) | 1997-05-29 | 2000-06-15 | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same |
| US09/947,411 US6534164B2 (en) | 1997-05-29 | 2001-09-07 | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same |
| US10/022,435 US6592976B2 (en) | 1997-05-29 | 2001-12-20 | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same |
| US10/126,780 US6607849B2 (en) | 1997-05-29 | 2002-04-22 | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same |
| US10/202,875 US6716516B2 (en) | 1997-05-29 | 2002-07-26 | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13965597A JPH10334443A (ja) | 1997-05-29 | 1997-05-29 | 垂直磁気記録媒体および記録再生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10334443A true JPH10334443A (ja) | 1998-12-18 |
Family
ID=15250332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13965597A Pending JPH10334443A (ja) | 1997-05-29 | 1997-05-29 | 垂直磁気記録媒体および記録再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10334443A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001031645A1 (fr) * | 1999-10-29 | 2001-05-03 | Hitachi Maxell, Ltd. | Support d'enregistrement magnetique, son procede de production et enregistreur magnetique |
| JP2002197635A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-12 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 |
| JP2002358618A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-12-13 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 |
-
1997
- 1997-05-29 JP JP13965597A patent/JPH10334443A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001031645A1 (fr) * | 1999-10-29 | 2001-05-03 | Hitachi Maxell, Ltd. | Support d'enregistrement magnetique, son procede de production et enregistreur magnetique |
| US6893746B1 (en) | 1999-10-29 | 2005-05-17 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium with high thermal stability, method for producing the same, and magnetic recording apparatus |
| JP2002197635A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-12 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 |
| JP2002358618A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-12-13 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 |
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Effective date: 20070130 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 |
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