JPH07220219A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH07220219A JPH07220219A JP6032061A JP3206194A JPH07220219A JP H07220219 A JPH07220219 A JP H07220219A JP 6032061 A JP6032061 A JP 6032061A JP 3206194 A JP3206194 A JP 3206194A JP H07220219 A JPH07220219 A JP H07220219A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気特性のばらつきがなく、しかも記録減磁
及び再生効率の両特性において優れ、例えば、高周波用
で且つ高いＳ／Ｎ比が要求される高密度記録用ヘッド、
主としてビデオヘッド、コンピュータ用ヘッド等に好適
に使用されるＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜などの軟磁性
薄膜を用いた磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。 【構成】 アペックス部８を形成するための、少なくと
も第１面取り部２２の面粗さ（Ｒp-p ）は０．６μｍ以
下である。この第１面取り部２２は、＃２５００或いは
＃１５００の砥石による研削加工にて形成される。
及び再生効率の両特性において優れ、例えば、高周波用
で且つ高いＳ／Ｎ比が要求される高密度記録用ヘッド、
主としてビデオヘッド、コンピュータ用ヘッド等に好適
に使用されるＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜などの軟磁性
薄膜を用いた磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。 【構成】 アペックス部８を形成するための、少なくと
も第１面取り部２２の面粗さ（Ｒp-p ）は０．６μｍ以
下である。この第１面取り部２２は、＃２５００或いは
＃１５００の砥石による研削加工にて形成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁性薄膜を有する二つ
の磁気コア半体、即ち、Ｉコア及びＣコア、又はＣコア
及びＣコアを所定ギャップ長にて突合せて接合すること
により構成される磁気ヘッド及びその製造方法に関する
ものであり、特に、本発明は、高周波用で且つ高いＳ／
Ｎ比が要求される高密度記録用ヘッド、主としてビデオ
ヘッド、コンピュータ用ヘッド等に好適に使用されるＦ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜等の軟磁性薄膜を用いた磁気
ヘッドに好適に具現化され、又、本発明はこのような磁
気ヘッドを製造するのに有効に使用される。
の磁気コア半体、即ち、Ｉコア及びＣコア、又はＣコア
及びＣコアを所定ギャップ長にて突合せて接合すること
により構成される磁気ヘッド及びその製造方法に関する
ものであり、特に、本発明は、高周波用で且つ高いＳ／
Ｎ比が要求される高密度記録用ヘッド、主としてビデオ
ヘッド、コンピュータ用ヘッド等に好適に使用されるＦ
ｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜等の軟磁性薄膜を用いた磁気
ヘッドに好適に具現化され、又、本発明はこのような磁
気ヘッドを製造するのに有効に使用される。
【０００２】
【従来の技術】本特許出願人は、記録減磁及び再生効率
の両特性において優れ、ビデオヘッド、コンピュータ用
ヘッド等に好適に使用されているＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金
磁性膜を用いた薄膜積層型磁気ヘッドを提案した（特願
平５−５１６８８１号）。この磁気ヘッドの構成が図１
に示される。簡単にその構造を説明する。
の両特性において優れ、ビデオヘッド、コンピュータ用
ヘッド等に好適に使用されているＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金
磁性膜を用いた薄膜積層型磁気ヘッドを提案した（特願
平５−５１６８８１号）。この磁気ヘッドの構成が図１
に示される。簡単にその構造を説明する。
【０００３】図１に示すように、薄膜積層型磁気ヘッド
１は、例えばセラミックス基板上にＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合
金薄膜１００を堆積して形成された薄膜積層構造体から
作製される一対の磁気コア半体、即ち、Ｉコア２とＣコ
ア４とを有し、このＩコア２とＣコア４とは、その突合
せ面がギャップ部６を介して一体に接合される。このと
き、一般に、ギャップ部６において、磁束を集中させる
ために、ギャップ部６に隣接して機械加工により面取り
部、即ち、アペックス部８を形成し、さらに接合強度を
増大させるために、この部分にアペックスガラス１０が
充填される。
１は、例えばセラミックス基板上にＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合
金薄膜１００を堆積して形成された薄膜積層構造体から
作製される一対の磁気コア半体、即ち、Ｉコア２とＣコ
ア４とを有し、このＩコア２とＣコア４とは、その突合
せ面がギャップ部６を介して一体に接合される。このと
き、一般に、ギャップ部６において、磁束を集中させる
ために、ギャップ部６に隣接して機械加工により面取り
部、即ち、アペックス部８を形成し、さらに接合強度を
増大させるために、この部分にアペックスガラス１０が
充填される。
【０００４】上記磁気ヘッド１においては、特に、アペ
ックス部８は、Ｃコア４に第１面取り部２２と第２面取
り部２４を形成することによって画成される。Ｉコア２
には、アペックス部８を形成するための特別な機械加工
を必ずしも施す必要はない。
ックス部８は、Ｃコア４に第１面取り部２２と第２面取
り部２４を形成することによって画成される。Ｉコア２
には、アペックス部８を形成するための特別な機械加工
を必ずしも施す必要はない。
【０００５】更に説明すると、アペックス部８の第１面
取り部２２は、所定のギャップ深さ（Ｄ）位置（アペッ
クス）から、Ｃコア部４に、第１の面取り角度、即ち、
第１のアペックス角度（α）にて且つ所定のアペックス
長さ（Ｔ）にわたって面取り加工を行なうことによって
形成される。又、第２面取り部２４は、第１面取り部２
２に連接して、第２の面取り角度、即ち、第２のアペッ
クス角度（β）にて面取りを行なうことによって形成さ
れる。ここで、第１及び第２のアペックス角度（α）、
（β）は、図示されるように、Ｉコア２とＣコア４との
突合せ面に対して平行な面からの開き角度をいい、アペ
ックス長さ（Ｔ）は、ギャップ部６の面からこの面に対
し垂直方向に測った距離をいう。
取り部２２は、所定のギャップ深さ（Ｄ）位置（アペッ
クス）から、Ｃコア部４に、第１の面取り角度、即ち、
第１のアペックス角度（α）にて且つ所定のアペックス
長さ（Ｔ）にわたって面取り加工を行なうことによって
形成される。又、第２面取り部２４は、第１面取り部２
２に連接して、第２の面取り角度、即ち、第２のアペッ
クス角度（β）にて面取りを行なうことによって形成さ
れる。ここで、第１及び第２のアペックス角度（α）、
（β）は、図示されるように、Ｉコア２とＣコア４との
突合せ面に対して平行な面からの開き角度をいい、アペ
ックス長さ（Ｔ）は、ギャップ部６の面からこの面に対
し垂直方向に測った距離をいう。
【０００６】例えば、第１のアペックス角度（α）を８
４°、アペックス長さ（Ｔ）を５０μｍ、そして第２ア
ペックス角度（β）を４５°とすることによって好結果
を得ることができる。
４°、アペックス長さ（Ｔ）を５０μｍ、そして第２ア
ペックス角度（β）を４５°とすることによって好結果
を得ることができる。
【０００７】このようにして作製された磁気ヘッド１
は、その後、更に、コンピュータ用やビデオ用などの用
途に応じた加工が施される。
は、その後、更に、コンピュータ用やビデオ用などの用
途に応じた加工が施される。
【０００８】上記構成の磁気ヘッド１は、記録減磁及び
再生効率の両特性において優れており、ビデオヘッド、
コンピュータ用ヘッド等に好適に使用し得る。
再生効率の両特性において優れており、ビデオヘッド、
コンピュータ用ヘッド等に好適に使用し得る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記構成の磁気ヘッド
１にて再生効率を上げるためにギャップ深さ（Ｄ）を浅
くしていくと、磁気特性がばらつくと言う問題が発生
し、極端な場合には、アペックス部に擬似ギャップが出
現したり、アペックス角度が実質的に変わったものとな
り、所期の磁気ヘッド特性を得ることができないことが
あった。
１にて再生効率を上げるためにギャップ深さ（Ｄ）を浅
くしていくと、磁気特性がばらつくと言う問題が発生
し、極端な場合には、アペックス部に擬似ギャップが出
現したり、アペックス角度が実質的に変わったものとな
り、所期の磁気ヘッド特性を得ることができないことが
あった。
【００１０】尚、本明細書では、前記磁気特性のばらつ
きとしては、「ビット・シフト・ウィグル（Bit Shift
Wiggle) 」を採用した。ビット・シフト・ウィグルと
は、保持力（Ｈｃ）１６００ Ｏｅの記録媒体に、媒体
と磁気ヘッドの相対速度２０ｍ／秒、記録周波数１７Ｍ
Ｈｚで、ランダムパターンを記録再生し、ビット・エラ
ー・レート（ＢＥＲ）１０-7の条件でビットシフト（Ｂ
Ｓ）を２０回繰り返し測定し、得られたデータを基に次
式により算出された相対標準偏差（％）を言う。通常、
この値は、６％以下であることが望ましい。
きとしては、「ビット・シフト・ウィグル（Bit Shift
Wiggle) 」を採用した。ビット・シフト・ウィグルと
は、保持力（Ｈｃ）１６００ Ｏｅの記録媒体に、媒体
と磁気ヘッドの相対速度２０ｍ／秒、記録周波数１７Ｍ
Ｈｚで、ランダムパターンを記録再生し、ビット・エラ
ー・レート（ＢＥＲ）１０-7の条件でビットシフト（Ｂ
Ｓ）を２０回繰り返し測定し、得られたデータを基に次
式により算出された相対標準偏差（％）を言う。通常、
この値は、６％以下であることが望ましい。
【００１１】
【数１】
【００１２】従来の上記構成の磁気ヘッド１のビット・
シフト・ウィグルは、ギャップ深さ（Ｄ）を浅くしてい
くと、６％を超えるものであった。
シフト・ウィグルは、ギャップ深さ（Ｄ）を浅くしてい
くと、６％を超えるものであった。
【００１３】本発明者らは、このような磁気特性のばら
つきを解決するべく、更に検討を行った結果、その原因
は、アペックス部８を画成しているＣコア４の第１面取
り部２２と第２面取り部２４の加工方法に問題があるこ
とを見出した。即ち、従来は、第１面取り部２２と第２
面取り部２４は、＃１０００の砥石を用いて研削加工が
なされており、その面粗さ（Ｒp-p ）は０．５〜１．０
μｍの範囲でばらついていた。これに対して、少なくと
も第１面取り部２２に関しては、＃２５００或いは＃１
５００の砥石を用いて研削加工を行なった場合には、そ
の面粗さ（Ｒp- p ）を０．６μｍ以下とすることがで
き、磁気特性のばらつきをなくすることができた。
つきを解決するべく、更に検討を行った結果、その原因
は、アペックス部８を画成しているＣコア４の第１面取
り部２２と第２面取り部２４の加工方法に問題があるこ
とを見出した。即ち、従来は、第１面取り部２２と第２
面取り部２４は、＃１０００の砥石を用いて研削加工が
なされており、その面粗さ（Ｒp-p ）は０．５〜１．０
μｍの範囲でばらついていた。これに対して、少なくと
も第１面取り部２２に関しては、＃２５００或いは＃１
５００の砥石を用いて研削加工を行なった場合には、そ
の面粗さ（Ｒp- p ）を０．６μｍ以下とすることがで
き、磁気特性のばらつきをなくすることができた。
【００１４】本発明は、斯る本発明者らの新規な知見に
基づきなされたものである。
基づきなされたものである。
【００１５】従って、本発明の目的は、磁気特性のばら
つきがなく、しかも記録減磁及び再生効率の両特性にお
いて優れ、例えば、高周波用で且つ高いＳ／Ｎ比が要求
される高密度記録用ヘッド、主としてビデオヘッド、コ
ンピュータ用ヘッド等に好適に使用されるＦｅ−Ｓｉ−
Ａｌ合金磁性膜などの軟磁性薄膜を用いた磁気ヘッド及
びその製造方法を提供することである。
つきがなく、しかも記録減磁及び再生効率の両特性にお
いて優れ、例えば、高周波用で且つ高いＳ／Ｎ比が要求
される高密度記録用ヘッド、主としてビデオヘッド、コ
ンピュータ用ヘッド等に好適に使用されるＦｅ−Ｓｉ−
Ａｌ合金磁性膜などの軟磁性薄膜を用いた磁気ヘッド及
びその製造方法を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上記目的は本発明に係る
磁気ヘッド及びその製造方法にて達成される。要約すれ
ば、本発明は、一対の磁気コア半体を、その突合せ面に
てギャップ部を介して接合し、しかもこのギャップ部に
隣接してアペックス部が形成された磁気ヘッドにおい
て、前記アペックス部を形成するために磁気コア半体に
形成される面取り部は、その面取り部の面粗さ（Ｒ
p-p ）が０．６μｍ以下であることを特徴とする磁気ヘ
ッドである。面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）は、０．６μ
ｍ以下、好ましくは、０．２μｍ以下とされる。面取り
部の面粗さ（Ｒp-p ）は、＃１５００の砥石を使用して
研削加工を行なうことにより、０．３〜０．６μｍとさ
れ、又、＃２５００の砥石を使用して研削加工を行なう
ことにより、０．１〜０．２μｍとされる。
磁気ヘッド及びその製造方法にて達成される。要約すれ
ば、本発明は、一対の磁気コア半体を、その突合せ面に
てギャップ部を介して接合し、しかもこのギャップ部に
隣接してアペックス部が形成された磁気ヘッドにおい
て、前記アペックス部を形成するために磁気コア半体に
形成される面取り部は、その面取り部の面粗さ（Ｒ
p-p ）が０．６μｍ以下であることを特徴とする磁気ヘ
ッドである。面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）は、０．６μ
ｍ以下、好ましくは、０．２μｍ以下とされる。面取り
部の面粗さ（Ｒp-p ）は、＃１５００の砥石を使用して
研削加工を行なうことにより、０．３〜０．６μｍとさ
れ、又、＃２５００の砥石を使用して研削加工を行なう
ことにより、０．１〜０．２μｍとされる。
【００１７】本発明の他の態様によれば、一対の磁気コ
ア半体を、その突合せ面にてギャップ部を介して接合
し、しかもこのギャップ部に隣接してアペックス部が形
成され、そしてこのアペックス部は、前記磁気コア半体
の少なくとも一方に形成された第１面取り部と第２面取
り部とを有しており、前記第１面取り部は、所定のギャ
ップ深さ位置（Ｄ）から、６５°以上９０°以下の第１
のアペックス角度（α）にて且つ所定のアッペクス長さ
（Ｔ）にわたって面取りを行なうことによって形成し、
又、前記第２面取り部は、前記第１面取り部に連接し
て、第１のアペックス角度（α）より小さい第２のアペ
ックス角度（β）にて面取りを行なうことによって形成
される磁気ヘッドにおいて、少なくとも前記第１面取り
部は、その面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）が０．６μｍ以
下であることを特徴とする磁気ヘッドが提供される。第
１面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）は、０．６μｍ以下、好
ましくは、０．２μｍ以下とされる。第１面取り部の面
粗さ（Ｒp-p ）は、＃１５００の砥石を使用して研削加
工を行なうことにより、０．３〜０．６μｍとされ、
又、＃２５００の砥石を使用して研削加工を行なうこと
により、０．１〜０．２μｍとされる。
ア半体を、その突合せ面にてギャップ部を介して接合
し、しかもこのギャップ部に隣接してアペックス部が形
成され、そしてこのアペックス部は、前記磁気コア半体
の少なくとも一方に形成された第１面取り部と第２面取
り部とを有しており、前記第１面取り部は、所定のギャ
ップ深さ位置（Ｄ）から、６５°以上９０°以下の第１
のアペックス角度（α）にて且つ所定のアッペクス長さ
（Ｔ）にわたって面取りを行なうことによって形成し、
又、前記第２面取り部は、前記第１面取り部に連接し
て、第１のアペックス角度（α）より小さい第２のアペ
ックス角度（β）にて面取りを行なうことによって形成
される磁気ヘッドにおいて、少なくとも前記第１面取り
部は、その面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）が０．６μｍ以
下であることを特徴とする磁気ヘッドが提供される。第
１面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）は、０．６μｍ以下、好
ましくは、０．２μｍ以下とされる。第１面取り部の面
粗さ（Ｒp-p ）は、＃１５００の砥石を使用して研削加
工を行なうことにより、０．３〜０．６μｍとされ、
又、＃２５００の砥石を使用して研削加工を行なうこと
により、０．１〜０．２μｍとされる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明に係る磁気ヘッド及びその製造
方法を図面に則して更に詳しく説明する。
方法を図面に則して更に詳しく説明する。
【００１９】本発明は、図１に例示した薄膜積層型磁気
ヘッド１に好適に具現化することができる。従って、本
実施例は、この薄膜積層型磁気ヘッド１に関連して説明
する。
ヘッド１に好適に具現化することができる。従って、本
実施例は、この薄膜積層型磁気ヘッド１に関連して説明
する。
【００２０】つまり、本実施例にて、薄膜積層型磁気ヘ
ッド１は、例えばＣｏＯ３５ｗｔ％−ＮｉＯ６５ｗｔ％
にＡｌ2 Ｏ3 を２ｗｔ％添加したＣｏＯ−ＮｉＯ系のセ
ラミックス基板上にＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金薄膜１００を
堆積して形成された薄膜積層構造体から作製される一対
の磁気コア半体、即ち、Ｉコア２とＣコア４とを有し、
このＩコア２とＣコア４とは、その突合せ面がギャップ
部６を介して一体に接合される。ギャップ部６に隣接し
て機械加工により面取り部、即ち、アペックス部８を形
成し、さらに接合強度を増大させるために、この部分に
アペックスガラス１０が充填される。
ッド１は、例えばＣｏＯ３５ｗｔ％−ＮｉＯ６５ｗｔ％
にＡｌ2 Ｏ3 を２ｗｔ％添加したＣｏＯ−ＮｉＯ系のセ
ラミックス基板上にＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金薄膜１００を
堆積して形成された薄膜積層構造体から作製される一対
の磁気コア半体、即ち、Ｉコア２とＣコア４とを有し、
このＩコア２とＣコア４とは、その突合せ面がギャップ
部６を介して一体に接合される。ギャップ部６に隣接し
て機械加工により面取り部、即ち、アペックス部８を形
成し、さらに接合強度を増大させるために、この部分に
アペックスガラス１０が充填される。
【００２１】本実施例の磁気ヘッド１は、Ｃコア４に第
１面取り部２２と第２面取り部２４を形成することによ
ってアペックス部８を画成する。Ｉコア２には、必要に
応じて面取り加工をすることができる。
１面取り部２２と第２面取り部２４を形成することによ
ってアペックス部８を画成する。Ｉコア２には、必要に
応じて面取り加工をすることができる。
【００２２】更に説明すると、アペックス部８の第１面
取り部２２は、所定のギャップ深さ（Ｄ）位置（アペッ
クス）から、第１の面取り角度、即ち、第１のアペック
ス角度（α）にて且つ所定のアペックス長さ（Ｔ）にわ
たって面取り加工を行なうことによって形成され、又、
第２面取り部２４は、第１面取り部２２に連接して、第
２の面取り角度、即ち、第２のアペックス角度（β）に
て面取りを行なうことによって形成される。第２のアペ
ックス角度（β）は、第１のアペックス角度（α）より
小さくされる。好ましくは、第１のアペックス角度
（α）は、７０°未満となるとロールオフが顕著に発生
するために、７０°以上（好ましくは７５°以上）、９
０°以下とされる。第２のアペックス角度（β）は、４
５°前後において磁気ヘッド１の再生効率が最も良く、
従って、１５°以上（好ましくは３０°以上）、７０°
以下（好ましくは６０°以下）の範囲とされる。
取り部２２は、所定のギャップ深さ（Ｄ）位置（アペッ
クス）から、第１の面取り角度、即ち、第１のアペック
ス角度（α）にて且つ所定のアペックス長さ（Ｔ）にわ
たって面取り加工を行なうことによって形成され、又、
第２面取り部２４は、第１面取り部２２に連接して、第
２の面取り角度、即ち、第２のアペックス角度（β）に
て面取りを行なうことによって形成される。第２のアペ
ックス角度（β）は、第１のアペックス角度（α）より
小さくされる。好ましくは、第１のアペックス角度
（α）は、７０°未満となるとロールオフが顕著に発生
するために、７０°以上（好ましくは７５°以上）、９
０°以下とされる。第２のアペックス角度（β）は、４
５°前後において磁気ヘッド１の再生効率が最も良く、
従って、１５°以上（好ましくは３０°以上）、７０°
以下（好ましくは６０°以下）の範囲とされる。
【００２３】上記第１面取り部２２及び第２面取り部２
４を備えた形状のアペックス部８は、種々の方法にて加
工することができるが、例えば、図２に示すように、第
１及び第２アペックス角度と同じ角度（α）、（β）の
二つの角度を有する外形とされる切削ブレード（砥石）
５０を使用することにより好適に加工することができ
る。
４を備えた形状のアペックス部８は、種々の方法にて加
工することができるが、例えば、図２に示すように、第
１及び第２アペックス角度と同じ角度（α）、（β）の
二つの角度を有する外形とされる切削ブレード（砥石）
５０を使用することにより好適に加工することができ
る。
【００２４】本発明者らは、上記構成の磁気ヘッド１を
作製するに際して、砥石５０として、粗さ（番数）が＃
１０００、＃１５００及び＃２５００とされる３種類の
砥石を使用し、加工条件、即ち、砥石の回転数、加工速
度、圧力などを種々に変えて、多くの加工実験を行なっ
た。砥石の番数（＃）と面粗さ（Ｒp-p ）との関係は、
加工条件で異なり、一概に決めることはできないが、使
用する砥石ごとに最良の結果を得ることのできる加工条
件を選択しながら加工を行なった。また、その時用いた
セラミックス基板はＣｏＯ３５ｗｔ％−ＮｉＯ６５ｗｔ
％にＡｌ2 Ｏ3を２ｗｔ％添加したＣｏＯ−ＮｉＯ系の
基板を用い、ヘッドコアはＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金薄膜で
構成した。その実験結果をまとめると、表１に示す通り
であった。
作製するに際して、砥石５０として、粗さ（番数）が＃
１０００、＃１５００及び＃２５００とされる３種類の
砥石を使用し、加工条件、即ち、砥石の回転数、加工速
度、圧力などを種々に変えて、多くの加工実験を行なっ
た。砥石の番数（＃）と面粗さ（Ｒp-p ）との関係は、
加工条件で異なり、一概に決めることはできないが、使
用する砥石ごとに最良の結果を得ることのできる加工条
件を選択しながら加工を行なった。また、その時用いた
セラミックス基板はＣｏＯ３５ｗｔ％−ＮｉＯ６５ｗｔ
％にＡｌ2 Ｏ3を２ｗｔ％添加したＣｏＯ−ＮｉＯ系の
基板を用い、ヘッドコアはＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金薄膜で
構成した。その実験結果をまとめると、表１に示す通り
であった。
【００２５】尚、本実験に使用した磁気ヘッド１におい
て、Ｃコア４のアペックス部８の第１のアペックス角度
（α）は８４°、第２アペックス角度（β）は４５°、
アペックス長さ（Ｔ）は５０μｍ、そしてギャップ深さ
（Ｄ）は４μｍとした。
て、Ｃコア４のアペックス部８の第１のアペックス角度
（α）は８４°、第２アペックス角度（β）は４５°、
アペックス長さ（Ｔ）は５０μｍ、そしてギャップ深さ
（Ｄ）は４μｍとした。
【００２６】又、本発明者らは、砥石５０として、＃１
０００と＃２５００の砥石を使用し、最良となる加工条
件を選択しながら、ギャップ深さ（Ｄ）を種々に変えた
磁気ヘッド１を作製し、ビット・シフト・ウィグルとギ
ャップ深さ（Ｄ）の関係を調べた。その結果を図３に示
す。
０００と＃２５００の砥石を使用し、最良となる加工条
件を選択しながら、ギャップ深さ（Ｄ）を種々に変えた
磁気ヘッド１を作製し、ビット・シフト・ウィグルとギ
ャップ深さ（Ｄ）の関係を調べた。その結果を図３に示
す。
【００２７】
【表１】
【００２８】表１から、アペックス部８の第１面取り部
２２と第２面取り部２４は、その面粗さ（Ｒp-p ）が、
＃２５００の砥石を使用して研削加工を行なうことによ
り０．１〜０．２μｍとなり、又、＃１５００の砥石を
使用して研削加工を行なうことにより０．３〜０．６μ
ｍとなることが分かる。又、＃２５００及び＃１５００
の砥石を使用してアペックス部８の面取り加工を行なっ
た場合には、つまり、アペックス部８の面取り部２２、
２４の面粗さ（Ｒp-p ）が０．６μｍ以下（即ち、０．
１〜０．６μｍ）となるように加工することによって、
より好ましくは、０．２μｍ以下（即ち、０．１〜０．
２μｍ）となるように加工することによって、磁気特性
のばらつきを、即ち、ビット・シフト・ウィグルを小さ
くすることができた。
２２と第２面取り部２４は、その面粗さ（Ｒp-p ）が、
＃２５００の砥石を使用して研削加工を行なうことによ
り０．１〜０．２μｍとなり、又、＃１５００の砥石を
使用して研削加工を行なうことにより０．３〜０．６μ
ｍとなることが分かる。又、＃２５００及び＃１５００
の砥石を使用してアペックス部８の面取り加工を行なっ
た場合には、つまり、アペックス部８の面取り部２２、
２４の面粗さ（Ｒp-p ）が０．６μｍ以下（即ち、０．
１〜０．６μｍ）となるように加工することによって、
より好ましくは、０．２μｍ以下（即ち、０．１〜０．
２μｍ）となるように加工することによって、磁気特性
のばらつきを、即ち、ビット・シフト・ウィグルを小さ
くすることができた。
【００２９】更に、図３から、本発明に従った磁気ヘッ
ドは、ギャップ深さ（Ｄ）が浅くなっても、ビット・シ
フト・ウィグルを６％以下とし得ることが理解される。
ドは、ギャップ深さ（Ｄ）が浅くなっても、ビット・シ
フト・ウィグルを６％以下とし得ることが理解される。
【００３０】これに対して、＃１０００の砥石を使用し
て研削加工を行なった場合には、加工条件をどのように
変えても、面粗さ（Ｒp-p ）は、まれに０．５μｍとな
ることがあったとしても、通常、０．６μｍを超えるも
のであった。又、磁気特性、即ち、ビット・シフト・ウ
ィグルは、ギャップ深さ（Ｄ）が３μｍ以上の場合には
６％以下とすることができるものの、ギャップ深さ
（Ｄ）が３μｍより浅くなると１２％程度にまで増大
し、磁気特性が大きくばらつくことが分かった。
て研削加工を行なった場合には、加工条件をどのように
変えても、面粗さ（Ｒp-p ）は、まれに０．５μｍとな
ることがあったとしても、通常、０．６μｍを超えるも
のであった。又、磁気特性、即ち、ビット・シフト・ウ
ィグルは、ギャップ深さ（Ｄ）が３μｍ以上の場合には
６％以下とすることができるものの、ギャップ深さ
（Ｄ）が３μｍより浅くなると１２％程度にまで増大
し、磁気特性が大きくばらつくことが分かった。
【００３１】従って、本発明はギャップ深さが５μｍ以
下、より好ましくは３μｍ以下の場合に効果があること
が分かる。
下、より好ましくは３μｍ以下の場合に効果があること
が分かる。
【００３２】本発明者らの更なる実験研究の結果による
と、アペックス部８の第２面取り部２４の仕上り具合
は、磁気特性のばらつきに影響を与えるものではなく、
従って、その面粗さ（Ｒp-p ）が０．６μｍ以下となる
ように加工することは必須とはされない。
と、アペックス部８の第２面取り部２４の仕上り具合
は、磁気特性のばらつきに影響を与えるものではなく、
従って、その面粗さ（Ｒp-p ）が０．６μｍ以下となる
ように加工することは必須とはされない。
【００３３】従って、図２に示すような形状の砥石５０
を用いた１回の加工ではなく、例えば、図４に示すよう
に、先ず、＃１５００或は＃２５００の砥石５０Ａを使
用してざぐり加工を行い、それによって第１面取り部２
２を形成し、次いで、図５に示すように、より粗い番数
の、例えば＃１０００などとされる砥石５０Ｂを用いて
第２面取り部２４を加工することも可能である。このよ
うな加工法を採用すると、加工工程は増えるが、第２面
取り部２４及びこれに連接した巻線窓溝などまでをも、
＃１５００或は＃２５００の砥石を使用して高精度に仕
上げることがないので、結果的には加工効率を上げるこ
とができる。又、この加工法によれば、図６に示すよう
に、第１面取り部２２と第２面取り部２４との間に、加
工精度上△ｄ＝０〜５０μｍ程度の段差２６ができる
が、本発明者らの実験結果によると、この程度の段差２
６は磁気特性に悪影響を及ぼすことはないことが判明し
た。
を用いた１回の加工ではなく、例えば、図４に示すよう
に、先ず、＃１５００或は＃２５００の砥石５０Ａを使
用してざぐり加工を行い、それによって第１面取り部２
２を形成し、次いで、図５に示すように、より粗い番数
の、例えば＃１０００などとされる砥石５０Ｂを用いて
第２面取り部２４を加工することも可能である。このよ
うな加工法を採用すると、加工工程は増えるが、第２面
取り部２４及びこれに連接した巻線窓溝などまでをも、
＃１５００或は＃２５００の砥石を使用して高精度に仕
上げることがないので、結果的には加工効率を上げるこ
とができる。又、この加工法によれば、図６に示すよう
に、第１面取り部２２と第２面取り部２４との間に、加
工精度上△ｄ＝０〜５０μｍ程度の段差２６ができる
が、本発明者らの実験結果によると、この程度の段差２
６は磁気特性に悪影響を及ぼすことはないことが判明し
た。
【００３４】上記実施例にては、本発明は、図１に示す
ような、アペックス部８が第１面取り部２２と第２面取
り部２４とにて形成された２段面取り形状の磁気ヘッド
１に適用するものとして説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、図７に示すように、所定のギャ
ップ深さ（Ｄ）とされる位置からアペックス角度（α）
が実質的に９０°とされ、アペックス長さ（Ｔ）にて面
取り部２２、２４がＣコアに形成された磁気ヘッド、図
８に示すように、アペックス角度（α）が９０°以外の
所定の角度、例えば８４°などとされ、アペックス長さ
（Ｔ）にて面取り部２２、２４がＣコアに形成された磁
気ヘッド、更には、図９に示すように、一対の磁気コア
半体がＣコア同士を接合するものであって、少なくとも
一方のＣコアのアペックス角度（α1 又はα2 ）が６５
°以上、β＜αとされた磁気ヘッド、などのアペックス
が薄く形成される磁気ヘッドにも同様に適用することが
でき、同様の作用効果を奏し得る。
ような、アペックス部８が第１面取り部２２と第２面取
り部２４とにて形成された２段面取り形状の磁気ヘッド
１に適用するものとして説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、図７に示すように、所定のギャ
ップ深さ（Ｄ）とされる位置からアペックス角度（α）
が実質的に９０°とされ、アペックス長さ（Ｔ）にて面
取り部２２、２４がＣコアに形成された磁気ヘッド、図
８に示すように、アペックス角度（α）が９０°以外の
所定の角度、例えば８４°などとされ、アペックス長さ
（Ｔ）にて面取り部２２、２４がＣコアに形成された磁
気ヘッド、更には、図９に示すように、一対の磁気コア
半体がＣコア同士を接合するものであって、少なくとも
一方のＣコアのアペックス角度（α1 又はα2 ）が６５
°以上、β＜αとされた磁気ヘッド、などのアペックス
が薄く形成される磁気ヘッドにも同様に適用することが
でき、同様の作用効果を奏し得る。
【００３５】上記各実施例にて、本発明の磁気ヘッド１
の磁性膜は、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性体であるとして
説明したが、アモルファス磁性体或いは窒化鉄磁性体な
ども同様に使用することができる。
の磁性膜は、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性体であるとして
説明したが、アモルファス磁性体或いは窒化鉄磁性体な
ども同様に使用することができる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁気
ヘッドによれば、アペックス部を形成する磁気コア半体
の面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）が０．６μｍ以下とされ
るので、磁気特性のばらつきをなくすることができ、記
録減磁及び再生効率の両特性において優れ、例えば、高
周波用で且つ高いＳ／Ｎ比が要求される高密度記録用ヘ
ッド、主としてビデオヘッド、コンピュータ用ヘッド等
に好適に使用されるＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜などの
軟磁性薄膜を用いた磁気ヘッドなどを好適に実現でき
る。又、本発明の製造方法によれば、＃２５００或いは
＃１５００の砥石を使用して磁気コア半体の面取り部の
面粗さ（Ｒp-p ）を０．６μｍ以下に加工する構成とさ
れるので、極めて効率よく磁気ヘッドを製造することが
できる。
ヘッドによれば、アペックス部を形成する磁気コア半体
の面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）が０．６μｍ以下とされ
るので、磁気特性のばらつきをなくすることができ、記
録減磁及び再生効率の両特性において優れ、例えば、高
周波用で且つ高いＳ／Ｎ比が要求される高密度記録用ヘ
ッド、主としてビデオヘッド、コンピュータ用ヘッド等
に好適に使用されるＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金磁性膜などの
軟磁性薄膜を用いた磁気ヘッドなどを好適に実現でき
る。又、本発明の製造方法によれば、＃２５００或いは
＃１５００の砥石を使用して磁気コア半体の面取り部の
面粗さ（Ｒp-p ）を０．６μｍ以下に加工する構成とさ
れるので、極めて効率よく磁気ヘッドを製造することが
できる。
【図１】本発明の一実施例に係る磁気ヘッドの構成図で
ある。
ある。
【図２】本発明の製造方法の一実施例を説明する図であ
る。
る。
【図３】本発明の磁気ヘッドと比較例とにおけるビット
・シフト・ウィグルとギャップ深さの関係を示す図であ
る。
・シフト・ウィグルとギャップ深さの関係を示す図であ
る。
【図４】本発明の製造方法の他の実施例を説明する図で
ある。
ある。
【図５】本発明の製造方法の他の実施例を説明する図で
ある。
ある。
【図６】本発明の磁気ヘッドの他の実施例を示す図であ
る。
る。
【図７】本発明の磁気ヘッドの他の実施例を示す図であ
る。
る。
【図８】本発明の磁気ヘッドの他の実施例を示す図であ
る。
る。
【図９】本発明の磁気ヘッドの他の実施例を示す図であ
る。
る。
１ 磁気ヘッド ６ ギャップ部 ８ アペックス部 ２２ 第１面取り部 ２４ 第２面取り部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年６月２１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】尚、本明細書では、前記磁気特性のばらつ
きとしては、「ビット・シフト・ウィグル（Ｂｉｔ Ｓ
ｈｉｆｔ Ｗｉｇｇｌｅ）」を採用した。ビット・シフ
ト・ウィグルとは、数１に示されるようにビット・シフ
トの相対標準偏差（％）を言う。通常、この値は、６％
以下であることが望ましい。本発明者らは、保持力（Ｈ
ｃ）１６００Ｏｅの記録媒体に、媒体と磁気ヘッドの相
対速度２０ｍ／秒、記録周波数１７ＭＨｚで、ランダム
パターンを記録再生し、ビット・エラー・レート（ＢＥ
Ｒ）１０−７の条件でビットシフト（ＢＳ）を２０回繰
り返し測定し、得られたデータを基に算出した。
きとしては、「ビット・シフト・ウィグル（Ｂｉｔ Ｓ
ｈｉｆｔ Ｗｉｇｇｌｅ）」を採用した。ビット・シフ
ト・ウィグルとは、数１に示されるようにビット・シフ
トの相対標準偏差（％）を言う。通常、この値は、６％
以下であることが望ましい。本発明者らは、保持力（Ｈ
ｃ）１６００Ｏｅの記録媒体に、媒体と磁気ヘッドの相
対速度２０ｍ／秒、記録周波数１７ＭＨｚで、ランダム
パターンを記録再生し、ビット・エラー・レート（ＢＥ
Ｒ）１０−７の条件でビットシフト（ＢＳ）を２０回繰
り返し測定し、得られたデータを基に算出した。
フロントページの続き (72)発明者 斎藤 和宏 埼玉県戸田市新曽南３丁目17番35号 株式 会社ジャパンエナジー内
Claims (8)
- 【請求項１】 一対の磁気コア半体を、その突合せ面に
てギャップ部を介して接合し、しかもこのギャップ部に
隣接してアペックス部が形成された磁気ヘッドにおい
て、前記アペックス部を形成するために磁気コア半体に
形成される面取り部は、その面取り部の面粗さ（Ｒ
p-p ）が０．６μｍ以下であることを特徴とする磁気ヘ
ッド。 - 【請求項２】 面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）は、０．２
μｍ以下である請求項１の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 一対の磁気コア半体を、その突合せ面に
てギャップ部を介して接合し、しかもこのギャップ部に
隣接してアペックス部が形成され、そしてこのアペック
ス部は、前記磁気コア半体の少なくとも一方に形成され
た第１面取り部と第２面取り部とを有しており、前記第
１面取り部は、所定のギャップ深さ位置（Ｄ）から、６
５°以上９０°以下の第１のアペックス角度（α）にて
且つ所定のアッペクス長さ（Ｔ）にわたって面取りを行
なうことによって形成し、又、前記第２面取り部は、前
記第１面取り部に連接して、第１のアペックス角度
（α）より小さい第２のアペックス角度（β）にて面取
りを行なうことによって形成される磁気ヘッドにおい
て、少なくとも前記第１面取り部は、その面取り部の面
粗さ（Ｒp-p ）が０．６μｍ以下であることを特徴とす
る磁気ヘッド。 - 【請求項４】 第１面取り部の面粗さ（Ｒp-p ）は、
０．２μｍ以下である請求項３の磁気ヘッド。 - 【請求項５】 請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法
において、前記アペックス部を形成するための、磁気コ
ア半体に形成される面取り部の研削加工は、＃２５００
の砥石を使用して研削加工を行ない、その面取り部の面
粗さ（Ｒp-p）は、０．１〜０．２μｍとされることを
特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】 請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法
において、前記アペックス部を形成するための、磁気コ
ア半体に形成される面取り部の研削加工は、＃１５００
の砥石を使用して研削加工を行ない、その面取り部の面
粗さ（Ｒp-p）は、０．３〜０．６μｍとされることを
特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項７】 請求項３に記載の磁気ヘッドの製造方法
において、前記アペックス部を形成するための、少なく
とも前記第１面取り部の研削加工は、＃２５００の砥石
を使用して研削加工を行ない、その面取り部の面粗さ
（Ｒp-p ）は、０．１〜０．２μｍとされることを特徴
とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項８】 請求項３に記載の磁気ヘッドの製造方法
において、前記アペックス部を形成するための、少なく
とも前記第１面取り部の研削加工は、＃１５００の砥石
を使用して研削加工を行ない、その面取り部の面粗さ
（Ｒp-p ）は、０．３〜０．６μｍとされることを特徴
とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6032061A JPH07220219A (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US08/252,497 US5583728A (en) | 1994-02-04 | 1994-06-01 | Improved magnetic head having smoothed chamfered surface for reducing magnetic scattering |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6032061A JPH07220219A (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07220219A true JPH07220219A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=12348371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6032061A Pending JPH07220219A (ja) | 1994-02-04 | 1994-02-04 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5583728A (ja) |
| JP (1) | JPH07220219A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6282056B1 (en) | 1999-04-08 | 2001-08-28 | Read-Rite Corporation | Tapered stitch pole writer for high density magnetic recording |
| US8449752B2 (en) * | 2009-09-30 | 2013-05-28 | HGST Netherlands B.V. | Trailing plated step |
| US8724258B2 (en) * | 2009-09-30 | 2014-05-13 | HGST Netherlands B.V. | Slanted bump design for magnetic shields in perpendicular write heads and method of making same |
| US20110075299A1 (en) * | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Olson Trevor W | Magnetic write heads for hard disk drives and method of forming same |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4188649A (en) * | 1977-12-05 | 1980-02-12 | Ibm Corporation | Magnetic head having a jagged-edged gap, and method for producing such head |
| JPS55117723A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-10 | Sony Corp | Magnetic head |
| JPS63213106A (ja) * | 1987-02-28 | 1988-09-06 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPH0727613B2 (ja) * | 1989-01-10 | 1995-03-29 | 松下電器産業株式会社 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH0827907B2 (ja) * | 1989-01-10 | 1996-03-21 | 松下電器産業株式会社 | 磁器ヘッド及びその製造方法 |
| JPH02254607A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH02304705A (ja) * | 1989-05-19 | 1990-12-18 | Sony Corp | 磁気ヘッド |
-
1994
- 1994-02-04 JP JP6032061A patent/JPH07220219A/ja active Pending
- 1994-06-01 US US08/252,497 patent/US5583728A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5583728A (en) | 1996-12-10 |
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