JPH07206404A - チタン系水素化物の製造方法およびその装置 - Google Patents

チタン系水素化物の製造方法およびその装置

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JPH07206404A
JPH07206404A JP542594A JP542594A JPH07206404A JP H07206404 A JPH07206404 A JP H07206404A JP 542594 A JP542594 A JP 542594A JP 542594 A JP542594 A JP 542594A JP H07206404 A JPH07206404 A JP H07206404A
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chamber
boxes
titanium
hydrogenation
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JP542594A
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Noboru Takaku
昇 高久
Hideki Fujii
秀樹 藤井
Michio Tamura
道夫 田村
Wataru Kagohashi
亘 籠橋
Hidekazu Fukazawa
英一 深澤
Michiharu Kono
通晴 河野
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Nippon Steel Corp
Toho Titanium Co Ltd
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Nippon Steel Corp
Toho Titanium Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 HDH法によりチタン系粉末を製造する際
の、チタンまたはチタン合金からなるチタン系材料の水
素化処理において、工程を連続化することにより、作業
負担の軽減、合理的な冷却処理による生産性の向上、処
理材の汚染や危険の回避、工程の自動化,および省力化
等を達成する。 【構成】 チタン系材料を原料装入用のボックスに装入
し、該ボックスを、水素雰囲気に維持された加熱室およ
び冷却室に連続的に通過させることを特徴とする製造方
法。原料装入用のボックス、水素化装置、および該装置
に該ボックスを連続的に通過させる搬送機構からなり、
水素化装置は、第1置換室,加熱室,冷却室および第2
置換室を順に配したことを特徴とする製造装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、粉末冶金原料などに用
いられる、純チタン粉末またはチタン合金粉末(本明細
書ではこれらを総称してチタン系粉末という)を、水素
化脱水素法(HDH法)により製造する際の、チタンま
たはチタン合金の水素化物(本明細書ではこれらを総称
してチタン系水素化物という)の製造方法および装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】チタン合金は比強度が高く、耐熱性およ
び耐食性に優れており、航空機等の材料として極めて有
効な特性を具備しているが、溶解、鍛造や圧延等の熱間
加工性および切削加工性に難点がある。このため、加工
費低減や歩留向上の観点から、最終形状に近い半製品を
直接製造する技術として、粉末冶金法が有望になってい
る。粉末冶金によりチタン合金を製造する場合、原料と
して純チタン粉末と合金元素添加用粉末の混合粉末を用
いる方法、およびチタン合金粉末を用いる方法がある。
【0003】純チタン粉末の製造方法としては、スポン
ジチタンを機械的に直接粉砕して粉末とする方法もある
が、スポンジチタンは展延性に富むため、粉砕するのが
困難であり、また得られたとしても、この方法による粉
末は塩素分が多いため、粉末冶金用としては低品質のも
のとなる。一方、チタン系粉末の製造方法として、純チ
タンまたはチタン合金(本明細書ではこれらを総称して
チタン系材料という)の融液をガスで飛散させて粉末と
するアトマイズ法、あるいはチタン電極を回転させ、プ
ラズマ等で溶融し、遠心力で飛散させて粉末とする回転
電極法がある。これらの方法によれば、比較的純度の高
いチタン系粉末が得られるが、粉末個々の形状や粒度、
コスト等に難点がある。
【0004】このため、チタン系材料を水素化処理して
脆弱なチタン系水素化物とし、これを機械的に粉砕して
粉末にした後、真空加熱等により脱水素してチタン系粉
末を得るHDH法が一般的に採用されている。常温で脆
弱なチタン系水素化物はδ相といわれるもので、これを
得るには常温で約3重量%以上の水素を含有させる必要
がある。そして、チタン系材料の水素化は300〜50
0℃の温度域が最も効率が良いとされているが、原料で
あるチタン系材料の表層には、水素侵入のバリヤーとな
る酸化層が存在するため、より高温域に加熱してこの酸
化層を内部拡散して除去することが望ましい。そこで、
原料を600〜700℃に加熱した後、徐々に冷却して
水素化を行うことが効率的な操業法である。
【0005】HDH法の従来の装置例を図3に示し、処
理材の温度推移の例を図4に示す。図3のように、チタ
ン系材料のスクラップ、スポンジチタン等の原料1を内
筒41に装入して置き台44に載置し、外筒42を被
せ、排気系47より外筒42内を真空排気する。そして
加熱炉43を被せヒーター13により加熱し、原料1の
外周部が600〜700℃に達した後、水素ボンベ45
から外筒42内に水素ガスを導入する。すると原料1は
水素と反応し、この反応が発熱を伴うため、原料1の温
度は急激に上昇する。
【0006】水素ガスを導入した後、直ちに加熱炉43
を取り外して外筒42を強制的に風冷するが、図4に示
すように原料中心部の温度は1000℃近くまで達す
る。水素ガスを供給しつつ冷却して、原料1に水素を吸
収させ、水素化がほとんど進行しない100℃以下にな
った後、外筒42内をアルゴンガスに置換し、水素化さ
れた原料1すなわちチタン系水素化物を取り出してい
た。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来のHDH法におけ
る水素化処理では、上記のようにバッチ型の炉で、一度
に数百kgの原料が水素化処理されていたが、つぎのよう
な多くの問題点を有していた。 (1)内筒41への原料の装入および取出しが、クレー
ンやホイストを使う作業になるため、最低2〜3人の作
業者が必要であった。 (2)冷却に長時間要する。常温で脆弱なチタン系水素
化物δ相を得るためには、冷却過程の約300℃以下
で、原料に水素を十分に吸収させる必要があるが、図4
に示すように原料中心部では、300℃に達するまでに
長時間要し、100℃以下になるまで合計20時間以上
もかかっていた。 (3)水素化開始時に急激な水素吸収が起きるため、一
時的に炉内が減圧状態になって、リークなどによる原料
の汚染や水素爆発の危険が潜在的に存在した。 (4)処理速度が20〜25kg/hrであり、生産性が低
い。 (5)自動化が困難である。
【0008】本発明は、HDH法によりチタン系粉末を
製造する際の、チタン系材料の水素化処理において、工
程を連続化することにより、作業負担の軽減、合理的な
冷却処理による生産性の向上、処理材の汚染や危険の回
避、工程の自動化、および省力化等を達成することを目
的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、以下の構成の方法および装置である。すな
わち、(1)チタン系材料を原料装入用のボックスに装
入し、該ボックスを、水素雰囲気に維持された加熱室お
よび冷却室に連続的に通過させることを特徴とするチタ
ン系水素化物の製造方法、および(2)原料装入用のボ
ックス、水素化装置、および該装置に該ボックスを連続
的に通過させる搬送機構からなり、水素化装置は、第1
置換室,加熱室,冷却室および第2置換室を順に配した
ことを特徴とするチタン系水素化物の製造装置、であ
る。
【0010】
【作用】本発明法を実施する装置例、および本発明装置
例を図1および図2に示す。図1は平面図であり、水素
化装置3の部分は断面を示している。図2は図1のA−
A矢視断面図である。本装置例は、チタン系材料からな
る原料1を装入したボックス2を、ローラーコンベア2
2上の出発位置Sに載せ、矢印のように搬送して水素化
装置3を通過させ、ローラーコンベア34上の末端にあ
る終了位置Eで取出すように構成されている。原料1は
多数個のボックス2に装入して、つぎつぎと連続的に搬
送できるようにし、水素化装置3は、第1置換室4、加
熱室5、冷却室6および第2置換室7を順に配してな
り、入口、各室の境界および出口には、シャッター8,
9,10,11,12が設けてある。そして各室には、
それぞれ排気管14,15,16,17およびガス導入
管18,19,20,21が設けてあり、加熱室および
冷却室は操業中常に水素雰囲気に維持され、室内の圧力
は常に大気圧以上に保たれている。
【0011】本発明法において、原料1をボックス2に
装入して水素化装置3に通過させると、原料1は、ボッ
クス2内の中心部でも外周部でも短時間に昇温され冷却
されて、ボックス2内の全域にわたって、脆弱なチタン
系水素化物δ相になる。ボックス2の容量は、加熱室5
および冷却室6を所定時間以内に通過させて、内部の全
ての原料がチタン系水素化物δ相になるような容量とす
る。本発明装置においても、このような容量のボックス
2を採用する。
【0012】本発明法では、原料1をこのようなボック
ス2に装入して、ローラーコンベア上を搬送し、まず第
1置換室4に入れて該室内を水素雰囲気に置換し、つい
で水素雰囲気の加熱室5に入れてヒーター13で加熱
し、水素化が開始したら加熱室5内のヒーターのない領
域に移送して500〜900℃に保持し、水素化を進行
させる。つぎに水素雰囲気の冷却室6に移送して、冷却
しつつ更に水素化を進行させ、次に第2置換室7に移送
して該室内を不活性ガス、例えばアルゴン雰囲気に置換
し、原料1の温度が100℃以下になったら、水素化装
置3外のローラーコンベア32上に移送する。なお、ボ
ックス2の搬送は、ローラーコンベアのほかチェーンコ
ンベア、あるいはフックにかけて牽引する方式等、公知
の手段で行うことができる。
【0013】本発明法によれば、従来のバッチ炉で行う
場合のように、原料が1000℃近くまで過熱されるこ
とがなく、冷却においても、すばやく冷却出来る効果的
な冷却パターンをとることができ、生産性を著しく向上
させることができる。また、原料は連続的に少量ずつ加
熱室内に装入されるので、急激な水素吸収は起こらず、
加熱室および冷却室内の圧力を常時ほぼ一定に保持する
ことができる。
【0014】つぎに、本発明装置について、図1および
図2の装置例の構造および動作を説明する。図1および
図2の状態は、シャッター8を開けて第1置換室4にボ
ックスを1個入れ、シャッター8を閉じて排気管14で
排気し、ガス導入管18で水素ガスを導入して第1置換
室4内を水素雰囲気に置換している。加熱室5内では、
左から右に順次加熱され、冷却室6内では左から右に順
次冷却されている。一方第2置換室7では、水素化処理
が完了したボックスを1個、冷却室6から移送し、排気
管17およびガス導入管21で、室内の雰囲気を水素ガ
スから不活性ガス、例えばアルゴンに置換している。ま
た、水素化装置3から出されたローラーコンベア32上
のボックス1個を、プッシャー36によりローラーコン
ベア33上に移送したところである。
【0015】加熱室5および冷却室6には、ボックスが
連なっていて、1個分ずつローラーコンベアで断続的に
搬送するようになっている。両室5および6の長さや搬
送のタイミングは、ボックス内の原料が、加熱室5内に
てヒーター13で加熱され、水素化が開始すると、加熱
室5内のヒーターのない領域に移送し、該領域で500
〜900℃に保持して水素化を進行させ、ついで冷却室
6内にてすばやく冷却され、100℃以下で第2置換室
7から搬出されるように、設定される。
【0016】加熱室5と冷却室6の間のシャッター10
は、加熱室5内の高温の水素ガスが冷却室6内に流入し
て、冷却室6における冷却速度が低下するのを防止する
ために効果的であるが、ほかの手段、たとえば水素ガス
によるガスカーテンで代替することも可能である。また
両室5および6の排気管15および16は、装置の稼働
開始時および停止時に、室内排気用として作用するが、
第1置換室4および第2置換室7の排気管14および1
7により代行させることもできる。
【0017】つぎに図1および図2の本装置例における
ボックスの搬送機構について説明する。図1において、
出発位置Sでローラーコンベア22上に載せられたボッ
クス2は該コンベア22を回転駆動して矢印の方向に、
ボックス1個分搬送される。駆動ロールはローラーコン
ベア22の全長とする必要はなく、少なくとも出発位置
Sにおいて回転駆動させ、各ボックスを押し出してもよ
い。ローラーコンベア22の末端にきたボックスはプッ
シャー35でローラーコンベア23上を押し出されて、
ローラーコンベア24上に達する。
【0018】そして図2において、シャッター8を開け
ローラーコンベア25および26を回転駆動してボック
スを1個、第1置換室4に入れ、シャッター8を閉じ、
ローラーコンベア24および25を回転駆動してつぎの
ボックス2をローラーコンベア25上に搬送する。第1
置換室4から加熱室5への搬送は、ローラーコンベア2
6および27の回転駆動により行い、加熱室5から冷却
室6への搬送は、ローラーコンベア28および29の回
転駆動により、冷却室6から第2置換室7への搬送は、
ローラーコンベア30および31の回転駆動により、第
2置換室7からの搬出はローラーコンベア31および3
2の回転駆動により、それぞれ行う。つぎに図1におい
て、ローラーコンベア32の末端にきたボックスをプッ
シャー36でローラーコンベア33上を押してローラー
コンベア34上に搬送し、該コンベアを回転駆動して終
了位置Eに到達させる。
【0019】なおローラーコンベア27,29,32,
および34の回転駆動は、ローラーコンベア22と同
様、全長にわたって行う必要はなく、少なくとも入側位
置において駆動し、各ボックスを押し出してもよい。ま
た、プッシャー35および36を設けず、ローラーコン
ベア23および33を22および32の外側に設けて駆
動させてもよい。ローラーコンベア24は駆動させずプ
ッシャーを設けてもよい。さらに、ボックスの搬送機構
として、ローラーコンベアに替えチェーンコンベア、あ
るいはフックにかけて牽引する方式等、公知の手段を採
用することができる。
【0020】
【実施例】
(従来例)図3に示す従来装置において、内筒41に、
直径600mm、高さ2000mmのステンレス容器を採用
し、原料1として切板状の工業用純チタンスクラップを
約500kg装入した。外筒42を被せて内部を10-3To
rr以下に真空排気した後、加熱炉43を被せ、原料1を
約600℃まで加熱して内部に水素ガスを導入した。
【0021】水素ガスを導入するとすぐに発熱を伴う水
素化が急激に進行し、外筒内の圧力が低下したため、大
気圧よりも減圧にならないように水素ガスを圧入した。
水素ガスを導入すると同時に、加熱炉43を取り外し
て、外筒42を強制的に風冷した。この間も外筒42内
の圧が常に1気圧以上に維持されるように注意して水素
ガスを導入した。
【0022】水素ガス導入後、原料1の中心部温度は急
激に上昇し、最高温度は約950℃に達した。その後、
原料1の温度は徐々に低下したが、中心部温度が100
℃以下なるまでに約20時間を要した。処理後の内筒4
1内の原料は全域にわたって脆弱なチタン水素化物δ相
になっていたが、水素化処理速度は、20〜25kg/hr
であった。
【0023】(本発明例)図1および図2に示すような
本発明装置において、ボックス2として、縦、横、高さ
がそれぞれ200mmのステンレス容器を採用し、原料1
としては従来例と同様、切板状の工業用純チタンスクラ
ップを約10kgずつ各ボックスに装入した。これらボッ
クスを1個ずつ順次連続的に水素化装置3に通過させ
て、原料1の水素化処理を行った。
【0024】加熱室5に搬送されたボックス内の原料
は、ヒーター13により約400℃まで昇温されると、
すぐに自己発熱し、原料中心部の温度は約850℃まで
上昇した。ボックスは順次冷却室6に搬送され、冷却室
6の外部からの水冷により急速に冷却され、約5時間後
には原料中心部が100℃以下となった。冷却されたボ
ックスは順次第2置換室を経て水素化装置3から搬出さ
れた。
【0025】この間、加熱室5および冷却室6内の水素
雰囲気の圧力変動はほとんど認められず、約45Nm3
hrの安定した速度で水素ガスを両室5および6内に連続
的に導入した。水素化装置3から搬出されたボックス内
の原料は、ボックス内の全域にわたって、脆弱なチタン
水素化物δ相になっていた。そして本例における水素化
処理速度は、約100kg/hrであった。なお、チタン合
金からなる原料についても同様に効率良く水素化処理す
ることができた。
【0026】
【発明の効果】本発明によれば、HDH法におけるチタ
ン系材料の水素化処理において、つぎのような優れた効
果が得られる。 (1)処理工程が連続化され、かつ操業の自動化が達成
されるため、大幅な省力化が可能である。 (2)原料を少量ずつ処理していくため、加熱速度、冷
却速度が十分に速く、しかも原料の全領域にわたって効
果的に水素化され、高い生産性が得られる。 (3)原料を少量ずつ処理していくため、従来のような
急激な水素消費に伴う雰囲気の圧力変動がなく、安定的
かつ安全に水素化処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明装置例の一部断面を含む平面図である。
【図2】本発明装置例の断面図を示し、図1のA−A矢
視図である。
【図3】従来装置例の一部切欠断面付き正面図である。
【図4】従来装置例における処理材の温度推移を示すグ
ラフである。
【符号の説明】
1:原料 2:ボックス 3:水素化装置 4:第1置換室 5:加熱室 6:冷却室 7:第2置換室 8〜12:シャッター 13:ヒーター 14〜17:排気管 18〜21:ガス導入管 22〜34:ローラーコンベア 35,36:プッシャー 41:内筒 42:外筒 43:加熱炉 44:置き台 45:水素ボンベ 46:流量計 47:排気系 S:出発位置 E:終了位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 道夫 兵庫県姫路市広畑区富士町1番地 新日本 製鐵株式会社広畑製鐵所内 (72)発明者 籠橋 亘 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3−3−5 東邦 チタニウム株式会社内 (72)発明者 深澤 英一 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3−3−5 東邦 チタニウム株式会社内 (72)発明者 河野 通晴 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3−3−5 東邦 チタニウム株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チタン系材料を原料装入用のボックスに
    装入し、該ボックスを、水素雰囲気に維持された加熱室
    および冷却室に連続的に通過させることを特徴とするチ
    タン系水素化物の製造方法。
  2. 【請求項2】 原料装入用のボックス、水素化装置、お
    よび該装置に該ボックスを連続的に通過させる搬送機構
    からなり、水素化装置は、第1置換室,加熱室,冷却室
    および第2置換室を順に配したことを特徴とするチタン
    系水素化物の製造装置。
JP542594A 1994-01-21 1994-01-21 チタン系水素化物の製造方法およびその装置 Withdrawn JPH07206404A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013053334A (ja) * 2011-09-02 2013-03-21 Toho Titanium Co Ltd チタン合金水素化物
JP2013091588A (ja) * 2011-10-27 2013-05-16 Toho Titanium Co Ltd 水素化チタンの製造方法
JP2022139263A (ja) * 2021-03-11 2022-09-26 積水ハウス株式会社 集塵機付き切断機

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