JPH07193181A - Manufacture of semiconductor package - Google Patents

Manufacture of semiconductor package

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JPH07193181A
JPH07193181A JP6292609A JP29260994A JPH07193181A JP H07193181 A JPH07193181 A JP H07193181A JP 6292609 A JP6292609 A JP 6292609A JP 29260994 A JP29260994 A JP 29260994A JP H07193181 A JPH07193181 A JP H07193181A
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chip
semiconductor
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東 洙 徐
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榮 宰 宋
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    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/831Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
    • H01L2224/83101Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member

Abstract

PURPOSE: To provide a manufacture of the semiconductor package of a lead on-chip type in which the adhering process of a semiconductor chip is improved, the cost is saved, the process is simplified and the reliability of the semiconductor package is enhanced. CONSTITUTION: This manufacturing method of the semiconductor package of a lead on-chip type, where a semiconductor chip 39 is mounted on inner leads 31 of a lead frame 30, includes a process where a polyimide coating material for wafer protection is coated to an adhesion face between the semiconductor chip 39 and the inner leads 31 and bus bars 35 of the lead frame 30, and also includes an attach process where the semiconductor chip 39 is adhered and mounted, by using the polyimide coating material applied onto the inner leads 31 and the bus bars 35 as a medium, and a process where a boding pad of the semiconductor chip 39 and the inner leads 31 are connected by wires and a package body is covered to protect the semiconductor chip 39 and the wires.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体パッケージの
製造方法に関し、さらに詳しくはリードオンチップ(Le
ad On Chip;LOCともいう)形の半導体パッケージに
おいて半導体チップの接着工程を改善し、半導体パッケ
ージの信頼性を向上させることができ、低コスト化が可
能な半導体パッケージの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor package, and more particularly to a lead-on-chip (Le
The present invention relates to a semiconductor package manufacturing method capable of improving the reliability of the semiconductor package by improving the step of adhering the semiconductor chip in a semiconductor package in the form of ad on chip (LOC)) and reducing the cost.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的に、半導体パッケージとは、トラ
ンジスタ、ダイオードICなどの半導体チップのハーメ
チックシール容器を称するものである。
2. Description of the Related Art In general, a semiconductor package refers to a hermetically sealed container for semiconductor chips such as transistors and diode ICs.

【0003】前記半導体チップは、その表面に湿気やご
みなどの不純物が付いていると、特性が劣化するため、
ハーメチックシール容器などに入れて密封する。
If the surface of the semiconductor chip is contaminated with impurities such as moisture or dust, the characteristics of the semiconductor chip will deteriorate.
Place in a hermetically sealed container and seal.

【0004】また、平坦に製作されるプレーナ形のトラ
ンジスタのように表面が安定化されている半導体チップ
は、必ずしもハーメチックシールを形成することができ
るものではないため、エポキシ樹脂などによりモールデ
ィングされるものもあり、この場合にも又半導体パッケ
ージという。
Further, a semiconductor chip whose surface is stabilized like a planar type transistor which is manufactured in a flat manner cannot necessarily form a hermetic seal, and is therefore molded by an epoxy resin or the like. In this case, it is also called a semiconductor package.

【0005】前記半導体パッケージは、半導体チップの
表面を外部の湿気や不純物から保護するだけでなく、内
部の半導体チップや細いリードに外部から直接引張力が
加えられることを防止する。
The semiconductor package not only protects the surface of the semiconductor chip from external moisture and impurities, but also prevents external tensile force from being directly applied to the internal semiconductor chip and the thin leads.

【0006】また、パワートランジスタなどでは、接合
部に発生した熱を効果的に発散させるために、半導体パ
ッケージを適切に設計することが重要である。ところ
で、メサ形やプレーナ形のような拡散形系統のトランジ
スタでは普遍的に半導体チップ自体がコレクタ接続にな
る。
Further, in a power transistor or the like, it is important to properly design the semiconductor package in order to effectively dissipate the heat generated at the junction. By the way, in a diffusion type transistor such as a mesa type or a planar type, the semiconductor chip itself is generally a collector connection.

【0007】一方、近頃の大規模の半導体集積回路VL
SIは、電子機器の軽薄短小化の趨勢による半導体パッ
ケージの小型化追及により、従来構造のプラスチック半
導体パッケージにおける搭載が限度に至っている。
On the other hand, these days large-scale semiconductor integrated circuits VL
Due to the pursuit of miniaturization of semiconductor packages due to the trend of lighter, thinner, shorter, and smaller electronic devices, SI has been limited to being mounted on a plastic semiconductor package having a conventional structure.

【0008】通常の半導体パッケージでは、半導体チッ
プサイズによるリードフレーム及び半導体パッケージの
設計側面を鑑みるとき、パッケージに搭載が可能な最大
チップのサイズが限度まで到るようになってきており、
パッケージの信頼性でも脆弱性を示すようになった。
In the case of a normal semiconductor package, considering the design aspect of the lead frame and the semiconductor package according to the semiconductor chip size, the maximum chip size that can be mounted on the package has reached the limit,
Package reliability has also started to show vulnerabilities.

【0009】従来のリードオンチップ技術においては、
ポリイミドベースフィルムに接着剤が塗布されたポリイ
ミドテープを用いるダイ接着方法を利用することによっ
て、パッケージ内に搭載が可能なチップのサイズを拡大
できるような可能性をもつようになってきている。した
がって、リードオンチップ技術においては、リードフレ
ーム設計の自由度も増加してきており、デバイスの特性
向上等、多様な長所を与えることができるようになって
きている。
In the conventional lead-on-chip technology,
By using a die bonding method using a polyimide tape in which an adhesive is applied to a polyimide base film, there is a possibility that the size of a chip that can be mounted in a package can be increased. Therefore, in the lead-on-chip technology, the degree of freedom in lead frame design is increasing, and various advantages such as improvement of device characteristics can be provided.

【0010】図3は、従来技術によるリードオンチップ
形半導体パッケージの製造工程を説明するための概略斜
視図である。この図3に示すように、ダイパッドが形成
されていないリードフレーム10は、一定の間隔に形成
されているリード11と、互いに接続されて支持され平
坦な面を持つように形成されているバスバー15とを備
える。
FIG. 3 is a schematic perspective view for explaining a manufacturing process of a conventional lead-on-chip type semiconductor package. As shown in FIG. 3, the lead frame 10 having no die pad formed thereon has leads 11 formed at regular intervals, and a bus bar 15 formed to have a flat surface which is connected to and supported by each other. With.

【0011】前記リード11は、内部リード12と外部
リード13とから構成され、これら内部及び外部リード
12,13の間には縦方向へ形成されているダムバー1
4により接続されている。
The lead 11 is composed of an inner lead 12 and an outer lead 13, and the dam bar 1 is formed vertically between the inner and outer leads 12, 13.
Connected by four.

【0012】このようなリードフレーム10上に、ベー
スフィルムの両面に接着剤が塗布された耐熱性樹脂から
なるポリイミドテープ17を、前記内部リード12及び
バスバー15の下部に付けた後、150℃〜400℃程
度の熱を加えて前記ポリイミドテープ17に塗布されて
いる接着剤を溶解させて接着させる。
A polyimide tape 17 made of a heat-resistant resin having adhesives applied to both sides of a base film is attached on the lead frame 10 on the lower portions of the inner leads 12 and the bus bar 15 and then at 150 ° C. The adhesive applied to the polyimide tape 17 is melted by applying heat of about 400 ° C. and adhered.

【0013】このとき、前記ポリイミドテープ17は、
KAPTON,UPILEXなどのような商標のポリイ
ミドフィルムを使う。次に、前記内部リード12及びバ
スバー15の下部にボンディングパッド(図示せず)が
中央に形成されているセンターパッド形の半導体チップ
19を実装した後、熱を加え、前記ポリイミドテープ1
7と接着させる。
At this time, the polyimide tape 17 is
Use a polyimide film with a trademark such as KAPTON or UPILEX. Next, after mounting a center pad type semiconductor chip 19 in which a bonding pad (not shown) is formed in the center under the inner leads 12 and the bus bar 15, heat is applied to the polyimide tape 1
Bond with 7.

【0014】次に、前記ポリイミドテープ17により露
出されている半導体チップ19のボンディングパッドと
前記内部リード12とをワイヤ(図示せず)で接続した
後、前記内部リード12,ワイヤ及び半導体チップ19
を包みかくして保護するようにパッケージボディ(図示
せず)をエポキシモールディングコンパウンド(Epoxy
Molding Compound;以下EMCという)で形成する。
Next, after connecting the bonding pad of the semiconductor chip 19 exposed by the polyimide tape 17 and the internal lead 12 with a wire (not shown), the internal lead 12, the wire and the semiconductor chip 19 are connected.
Epoxy molding compound (Epoxy compound) to protect the package body (not shown)
Molding Compound; hereinafter referred to as EMC).

【0015】次に、後続工程を通じて前記リードフレー
ム10のダムバー14などを除去し、各半導体パッケー
ジ毎に分離した後、前記外部リード13を折曲して形成
する。
Next, the dam bar 14 and the like of the lead frame 10 are removed through a subsequent process to separate each semiconductor package, and then the external leads 13 are bent and formed.

【0016】図4は、従来技術によるリードオンチップ
形の半導体パッケージで半導体チップの接着後の断面図
を示す。このような従来のリードオンチップ形の半導体
パッケージのチップ実装工程は、図3と関連して説明す
れば次の通りである。
FIG. 4 is a sectional view of a lead-on-chip type semiconductor package according to the prior art after the semiconductor chips are bonded. The conventional chip mounting process of the lead-on-chip type semiconductor package will be described below with reference to FIG.

【0017】前記チップの実装工程は、インナリード1
2及びバスバー15の下部に取り付けられているポリイ
ミドテープ17により接合する工程と、前記ポリイミド
テープ17の下部に半導体チップ19を接着する工程と
を備えている。
The step of mounting the chip is performed by the inner lead 1
2 and the step of joining with the polyimide tape 17 attached to the lower part of the bus bar 15, and the step of adhering the semiconductor chip 19 to the lower part of the polyimide tape 17.

【0018】前記一連の工程は、ベースフィルム26の
両面に接着剤21,23が塗布された耐熱性樹脂である
ポリイミドテープ17をリードフレーム10の内部リー
ド12及びバスバー15の下部と半導体チップ19の上
部に付けるのに、150℃〜400℃程度の熱を加え、
ポリイミドテープ17に塗布されている接着剤21,2
3を融解させて接着させることにより達成される。
In the above-mentioned series of steps, the polyimide tape 17 which is a heat-resistant resin having the adhesives 21 and 23 applied on both sides of the base film 26 is used to form the inner leads 12 of the lead frame 10 and the lower portion of the bus bar 15 and the semiconductor chip 19. To attach it to the upper part, add heat of about 150 ℃ to 400 ℃,
Adhesives 21 and 2 applied to the polyimide tape 17
This is accomplished by melting and adhering 3 together.

【0019】このような、従来のリードオンチップ形の
半導体パッケージの製造方法においては、ポリイミドテ
ープ17の使用に、パッケージ内部に新しい界面を形成
するので、パッケージのPCB実装のとき、リフロー工
程後に既に吸湿されている水分により気泡が発生してし
まう。このような気泡発生により、ベースフィルム26
に塗布されている接着剤21,23の剥離ないし膨脹が
起き、薄いパッケージから新しい形態のパッケージクラ
ックが発生する恐れがある。
In the conventional method of manufacturing a lead-on-chip type semiconductor package, a new interface is formed inside the package when the polyimide tape 17 is used. Bubbles are generated due to the absorbed moisture. Due to such bubble generation, the base film 26
The adhesives 21 and 23 applied to the tape may peel off or expand, and a new form of package crack may occur from the thin package.

【0020】また、前記ポリイミドテープ17は、吸湿
性が良く多量の水分を含んでしまうため、吸収された水
分を除去するために別に水分除去装置であるプリベーク
装置を使用しなければならない。このため、製造原価を
上昇させるという問題がある。
Further, since the polyimide tape 17 has a good hygroscopic property and contains a large amount of water, it is necessary to use a pre-baking device which is a water removing device in order to remove the absorbed water. Therefore, there is a problem of increasing the manufacturing cost.

【0021】また、前記リードオンチップ技術は、高価
なポリイミドテープ17を使用するため、通常のパッケ
ージに比べて製造原価がかかる。また、ポリイミドテー
プ17の高い吸湿性により、高温から進行されるダイボ
ンディング工程の際に既に吸湿されている水分の蒸発に
よる気泡を発生させて品質及び信頼性の低下を起こすの
で、特にポリイミドテープ17の保管に留意しなければ
ならない。
In addition, the lead-on-chip technology uses an expensive polyimide tape 17, and therefore costs more to manufacture than an ordinary package. In addition, since the polyimide tape 17 has a high hygroscopic property, bubbles are generated due to evaporation of moisture that has already been absorbed during the die bonding process that proceeds from a high temperature, resulting in deterioration of quality and reliability. Care must be taken in the storage of.

【0022】一般的にリードオンチップに使われるポリ
イミドテープ17は、機械的強度が維持されるようにポ
リイミドのベースフィルムの表面に、エポキシ,NBR
−フェノール樹脂,ポリイミド,ポリエテルアミド,ポ
リイミドシロキサンなどの接着剤が両面に塗布された3
層構造の形態を持っている。これらの接着剤は、パッケ
ージ信頼性試験中に、水分の吸湿によるガラス転移温度
Tgの低下や、このTgより高いIRリフロー温度での
接着剤の機械的な強度の低下、また急激な膨脹による内
部のストレスに誘発されるパッケージのクラックを発生
させてしまう。
The polyimide tape 17, which is generally used for lead-on-chip, has epoxy, NBR on the surface of the polyimide base film so as to maintain its mechanical strength.
-Adhesive such as phenol resin, polyimide, polyether amide, polyimide siloxane, etc. applied on both sides 3
It has the form of a layered structure. These adhesives have a lower glass transition temperature Tg due to moisture absorption during the package reliability test, a lower mechanical strength of the adhesive at an IR reflow temperature higher than this Tg, and an internal expansion due to a rapid expansion. Will cause the package to crack due to stress.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】従って、この発明の目
的は、リードオンチップ形の半導体パッケージにおい
て、半導体チップの接着工程を改善でき、原価節減や工
程の単純化及び半導体パッケージの信頼性を向上させる
ことができるパッケージの製造方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to improve the bonding process of a semiconductor chip in a lead-on-chip type semiconductor package, reduce the cost, simplify the process and improve the reliability of the semiconductor package. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a package that can be made.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】前記目的のために、この
発明は、リードフレームの内部リード上に半導体チップ
を実装するリードオンチップ形の半導体パッケージの製
造方法において、前記リードフレームの内部リード及び
バスバーと半導体チップとの接着面にウェーハ保護用の
ポリイミドコーティング材を塗布する工程と、前記内部
リード及びバスバー上に塗布されたポリイミドコーティ
ング材を媒介体として半導体チップを接着させて実装す
るアタッチ工程と、前記半導体チップのボンディングパ
ッドと内部リードとをワイヤで接続した後、前記半導体
チップ及びワイヤを被覆して保護するパッケージボディ
を形成する工程とを備えることを特徴とする。
To achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a lead-on-chip type semiconductor package in which a semiconductor chip is mounted on an internal lead of a lead frame, and an internal lead of the lead frame, A step of applying a polyimide coating material for wafer protection to the bonding surface between the bus bar and the semiconductor chip, and an attaching step of bonding and mounting the semiconductor chip using the polyimide coating material applied on the internal leads and the bus bar as a medium. After connecting the bonding pad of the semiconductor chip and the internal lead with a wire, a step of forming a package body that covers and protects the semiconductor chip and the wire is formed.

【0025】前記ポリイミドコーティング材は、ガラス
転移温度Tgが低い特性を有するポリイミドコーティン
グ液を使うことが好ましい。また、前記ポリイミドコー
ティング材の塗布工程は、スピンコーティング方法によ
りポリイミドコーティング液を均一な厚さで塗布するこ
とによりなされることが望ましい。mta,前記ポリイ
ミドコーティング液の厚さは、10〜20μmになるこ
とが好ましい。また、前記アタッチ工程は、均一な厚さ
で塗布されたポリイミドコーティング材に熱を加えて半
導体チップをリードフレームに接着させることが好まし
い。
As the polyimide coating material, it is preferable to use a polyimide coating solution having a low glass transition temperature Tg. In addition, it is preferable that the step of applying the polyimide coating material is performed by applying a polyimide coating solution with a uniform thickness by a spin coating method. The thickness of the polyimide coating solution is preferably 10 to 20 μm. In the attaching step, it is preferable that the semiconductor chip is bonded to the lead frame by applying heat to the polyimide coating material applied with a uniform thickness.

【0026】[0026]

【実施例】以下、添付図面を参照してこの発明による半
導体パッケージの製造方法の望ましい実施例を詳細に説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of a method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

【0027】図1及び図2は、この発明によるリードオ
ンチップ形の半導体パッケージの製造工程を説明するた
めの概略図を示す。
1 and 2 are schematic views for explaining a manufacturing process of a lead-on-chip type semiconductor package according to the present invention.

【0028】図1に示すように、リードオンチップの半
導体パッケージ用のリードフレーム30は、一定の間隔
に形成されているリード32と、これらのリード32と
ダムバー33とが互いに接続されて支持される形状で形
成されているバスバー35とを備えており、ダイパッド
は形成されていない。
As shown in FIG. 1, in a lead frame 30 for a lead-on-chip semiconductor package, leads 32 formed at regular intervals, and the leads 32 and dam bars 33 are connected to each other and supported. And a bus bar 35 formed in a shape that does not include a die pad.

【0029】前記リード32は、半導体チップ39と接
続される内部リード31と、後続工程で折曲されて外部
と接続される外部リード34とから構成されている。
The lead 32 is composed of an internal lead 31 connected to the semiconductor chip 39 and an external lead 34 that is bent in a subsequent process and connected to the outside.

【0030】前記内部リード31と外部リード34との
境界部分には、ダムバー33が、これらのリードの延設
方向と略直交する方向に延びて形成されている。このダ
ムバー33により前記リード32が互いに接続されてお
り、このダムバー33は後続工程を通じてモールディン
グ工程後、トリム工程で除去される。
At the boundary between the inner lead 31 and the outer lead 34, a dam bar 33 is formed so as to extend in a direction substantially orthogonal to the extending direction of these leads. The leads 32 are connected to each other by the dam bar 33. The dam bar 33 is removed in a trimming process after a molding process through a subsequent process.

【0031】前記内部リード31及びバスバー35の下
面と接着される半導体チップ39は、ボンディングパッ
ド36が半導体チップ39の中央に形成されているセン
ターパッドチップである。
The semiconductor chip 39 bonded to the inner leads 31 and the lower surface of the bus bar 35 is a center pad chip having a bonding pad 36 formed in the center of the semiconductor chip 39.

【0032】前記半導体チップ39の接着後の断面図で
ある図2に示すように、内部リード31及びバスバー3
5の下部にウェーハ保護用のポリイミドコーティング材
48が媒介されており、このポリイミドコーティング材
48の下部に半導体チップ39が接着されている。
As shown in FIG. 2, which is a cross-sectional view after the semiconductor chip 39 is bonded, as shown in FIG.
A polyimide coating material 48 for protecting the wafer is interposed below the polyimide coating material 5, and the semiconductor chip 39 is bonded to the lower portion of the polyimide coating material 48.

【0033】ここで、前記ウェーハ保護用のポリイミド
コーティング材48は、ウェーハの表面を保護できると
ともに、リードフレーム,半導体チップ間を接着させる
機能を有し、ガラス転移温度Tgが低いポリイミドコー
ティング液を使う。
Here, the polyimide coating material 48 for protecting the wafer has a function of protecting the surface of the wafer, has a function of bonding the lead frame and the semiconductor chip together, and uses a polyimide coating liquid having a low glass transition temperature Tg. .

【0034】次に上述の構成に適用される半導体チップ
39の実装工程等を詳述する。
Next, the steps of mounting the semiconductor chip 39 applied to the above-mentioned structure will be described in detail.

【0035】まず、塗布工程により、リードフレーム3
0の内部リード31,バスバー35と半導体チップ39
との接着面にウェーハ保護用のポリイミドコーティング
材48を塗布する。
First, the lead frame 3 is applied by a coating process.
0 internal lead 31, bus bar 35 and semiconductor chip 39
A polyimide coating material 48 for wafer protection is applied to the adhesive surface of the wafer.

【0036】このとき、前記塗布工程は、ウェーハ保護
用のポリイミドコーティング材48を内部リード31及
びバスバー35上及び半導体チップ39上部に塗布し、
スピンコーティング方法により約10〜20μmの厚さ
の均一なコーティング膜を形成することによりなすこと
ができる。
At this time, in the coating step, a polyimide coating material 48 for wafer protection is coated on the inner leads 31, the bus bar 35 and the semiconductor chip 39.
This can be done by forming a uniform coating film having a thickness of about 10 to 20 μm by the spin coating method.

【0037】次に、アタッチ工程により、内部リード3
1,バスバー35及び半導体チップ39上に塗布された
ポリイミドコーティング液を媒介体として、半導体チッ
プ39を内部リード31及びバスバー35に接着させて
実装する。
Next, an internal lead 3 is attached by an attaching process.
1, the semiconductor chip 39 is bonded and mounted on the internal leads 31 and the bus bar 35 using the polyimide coating liquid applied on the bus bar 35 and the semiconductor chip 39 as a medium.

【0038】この接着は、ポリイミドコーティング材4
8に熱を加えることにより行われる。
This adhesion is made with the polyimide coating material 4
8 by applying heat.

【0039】このように、リードフレーム30と半導体
チップ39とは、ポリイミドテープを使用せず、接着力
を有するウェーハ素子保護用のポリイミドコーティング
材48を使用することにより直接接着される。
As described above, the lead frame 30 and the semiconductor chip 39 are directly bonded to each other by using a polyimide coating material 48 for protecting the wafer element, which has an adhesive force, without using a polyimide tape.

【0040】次に、図示しないが、モールディング工程
により前記半導体チップ39及びワイヤを被覆して保護
するパッケージボディを形成する。
Next, although not shown, a package body for covering and protecting the semiconductor chip 39 and the wires is formed by a molding process.

【0041】従って、この発明は、ウェーハ素子の保護
用コーティング材として使われるポリイミドコーティン
グ材を用いて内部リード31,バスバー35と半導体チ
ップ39とを直接接着する工程を行うものである。この
方法により、非クラック性を確保しながらポリイミドテ
ープ使用による工程上の問題点を解決でき、製造費用節
減は勿論、工程を単純化し、信頼性が向上された半導体
パッケージを提供することができる。
Therefore, according to the present invention, the step of directly bonding the internal leads 31, the bus bar 35 and the semiconductor chip 39 using the polyimide coating material used as a protective coating material for the wafer element is performed. By this method, it is possible to solve the problems in the process due to the use of the polyimide tape while ensuring the non-cracking property, and it is possible to provide the semiconductor package which not only saves the manufacturing cost but also simplifies the process and improves the reliability.

【0042】しかし、この発明は、内部リード31,バ
スバー35に半導体チップ39上部を直接接着するた
め、ポリイミドコーティング材48の厚さを適切に管理
し、半導体チップ39の接着のときに内部リード31及
びバスバー35の圧搾により半導体チップ39の内部に
形成された回路素子の損傷を防止するようにすることが
望ましい。また、ポリイミドコーティング材48を塗布
する工程における作業性の確保や、ポリイミドコーティ
ング材48塗布後の安定したエッチング性が要求され
る。
However, according to the present invention, since the upper portion of the semiconductor chip 39 is directly adhered to the internal lead 31 and the bus bar 35, the thickness of the polyimide coating material 48 is properly controlled, and the internal lead 31 is adhered when the semiconductor chip 39 is adhered. Also, it is desirable to prevent damage to the circuit elements formed inside the semiconductor chip 39 by squeezing the bus bar 35. Further, it is required to secure workability in the process of applying the polyimide coating material 48 and stable etching property after the application of the polyimide coating material 48.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上のように、この発明による半導体パ
ッケージの製造方法によれば、既存の接着剤を使用せ
ず、ウェーハ素子の保護及び半導体チップの接着役割を
同時に遂行するポリイミドコーティング材を使用してい
るため、ポリイミドテープ界面の気泡発生、接着剤の剥
離ないし膨脹によるパッケージの損傷を根本的に防ぐこ
とができ、半導体パッケージの信頼性を向上できる。ま
た、従来の半導体パッケージに比べてパッケージの厚さ
をさらに薄く薄形化することができる利点がある。
As described above, according to the method of manufacturing a semiconductor package of the present invention, the existing adhesive is not used, and the polyimide coating material that simultaneously protects the wafer element and adheres the semiconductor chip is used. Therefore, it is possible to fundamentally prevent the generation of bubbles at the interface of the polyimide tape and the damage to the package due to the peeling or expansion of the adhesive, and it is possible to improve the reliability of the semiconductor package. Further, there is an advantage that the thickness of the package can be made thinner and thinner than the conventional semiconductor package.

【0044】また、吸湿性が悪い液状の絶縁接着剤を使
うため、水分吸収が抑制され、根本的に半導体パッケー
ジの内部に発生する気泡を抑制でき、パッケージボディ
の気泡による損傷を防止でき、半導体パッケージの信頼
性を向上させることができる。また、水分除去装置を別
に必要としないので、製造原価を節減することができる
効果がある。
Further, since a liquid insulating adhesive having a low hygroscopic property is used, moisture absorption is suppressed, air bubbles generated inside the semiconductor package can be basically suppressed, and damage to the package body due to air bubbles can be prevented. The reliability of the package can be improved. Further, since a separate water removing device is not required, there is an effect that manufacturing cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明によるリードオンチップ形半導体パッ
ケージの製造工程を説明するための概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a manufacturing process of a lead-on-chip type semiconductor package according to the present invention.

【図2】図1に示した半導体チップの接着後の断面図で
ある。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the semiconductor chip shown in FIG. 1 after being bonded.

【図3】従来の技術によるリードオンチップ形半導体パ
ッケージの製造工程を説明するための概略図である。
FIG. 3 is a schematic view for explaining a manufacturing process of a lead-on-chip type semiconductor package according to a conventional technique.

【図4】図3に示した半導体チップの接着後の断面図で
ある。
FIG. 4 is a cross-sectional view after the semiconductor chip shown in FIG. 3 is bonded.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

30 リードフレーム 31 内部リード 32 リード 33 ダムバー 34 外部リード 35 バスバー 39 半導体チップ 48 ポリイミドコーティング材 30 lead frame 31 internal lead 32 lead 33 dam bar 34 external lead 35 bus bar 39 semiconductor chip 48 polyimide coating material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/29 23/31 (72)発明者 朴 在 銘 大韓民国ソウル特別市江南区大峙洞美道ア パートメント203−508─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location H01L 23/29 23/31 (72) Inventor Pak Jin Mei Dae-dong Beauty, Gangnam-gu, Seoul, Republic of Korea Road compartment 203-508

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リードフレームの内部リード上に半導体
チップを実装するリードオンチップ形の半導体パッケー
ジの製造方法において、 前記リードフレームの内部リード及びバスバーと半導体
チップとの接着面にウェーハ保護用のポリイミドコーテ
ィング材を塗布する工程と、 前記内部リード及びバスバー上に塗布されたポリイミド
コーティング材を媒介体として半導体チップを接着させ
て実装するアタッチ工程と、 前記半導体チップのボンディングパッドと内部リードと
をワイヤで接続した後、前記半導体チップ及びワイヤを
被覆して保護するパッケージボディを形成する工程とを
備えることを特徴とする半導体パッケージの製造方法。
1. A method of manufacturing a lead-on-chip type semiconductor package in which a semiconductor chip is mounted on an inner lead of a lead frame, wherein a polyimide for wafer protection is provided on the inner lead of the lead frame and a bonding surface between the bus bar and the semiconductor chip. A step of applying a coating material, an attaching step of bonding and mounting a semiconductor chip using the polyimide coating material applied on the internal lead and the bus bar as a medium, and a bonding pad of the semiconductor chip and an internal lead with a wire. A step of forming a package body that covers and protects the semiconductor chip and the wire after connection, and a method of manufacturing a semiconductor package.
【請求項2】 前記ポリイミドコーティング材は、ガラ
ス転移温度Tgが低い特性を有するポリイミドコーティ
ング液を使うことを特徴とする請求項1記載の半導体パ
ッケージの製造方法。
2. The method of manufacturing a semiconductor package according to claim 1, wherein the polyimide coating material is a polyimide coating liquid having a low glass transition temperature Tg.
【請求項3】 前記ポリイミドコーティング材の塗布工
程は、スピンコーティング方法によりポリイミドコーテ
ィング液を均一な厚さで塗布することによりなされるこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージの製造
方法。
3. The method of manufacturing a semiconductor package according to claim 1, wherein the step of applying the polyimide coating material is performed by applying a polyimide coating solution with a uniform thickness by a spin coating method.
【請求項4】 前記ポリイミドコーティング液の厚さ
は、10〜20μmになることを特徴とする請求項3記
載の半導体パッケージの製造方法。
4. The method of manufacturing a semiconductor package according to claim 3, wherein the polyimide coating solution has a thickness of 10 to 20 μm.
【請求項5】 前記アタッチ工程は、均一な厚さで塗布
されたポリイミドコーティング材に熱を加えて半導体チ
ップをリードフレームに接着させることを特徴とする請
求項1記載の半導体パッケージの製造方法。
5. The method of manufacturing a semiconductor package according to claim 1, wherein the attaching step applies heat to the polyimide coating material applied with a uniform thickness to bond the semiconductor chip to the lead frame.
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JPH05112760A (en) * 1991-10-21 1993-05-07 Sumitomo Bakelite Co Ltd Filmy adhesive for use in electronics
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