JPH07192222A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH07192222A JPH07192222A JP34824393A JP34824393A JPH07192222A JP H07192222 A JPH07192222 A JP H07192222A JP 34824393 A JP34824393 A JP 34824393A JP 34824393 A JP34824393 A JP 34824393A JP H07192222 A JPH07192222 A JP H07192222A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高密度記録再生特性と書込時のオーバライト
特性を両立させる。 【構成】 ポール部３８に形成されるギャップ１７のう
ちポール先端部４０は狭ギャップｇ１に形成し、その奥
側は広ギャップｇ２に形成する。
特性を両立させる。 【構成】 ポール部３８に形成されるギャップ１７のう
ちポール先端部４０は狭ギャップｇ１に形成し、その奥
側は広ギャップｇ２に形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、インダクティブタイ
プの薄膜磁気ヘッドに関し、高密度記録再生特性と書込
時のオーバライト特性を両立させたものである。
プの薄膜磁気ヘッドに関し、高密度記録再生特性と書込
時のオーバライト特性を両立させたものである。
【０００２】
【従来の技術】薄膜磁気ヘッドは磁気ディスク装置の記
録および再生手段として用いられている。磁気ディスク
装置に使用されている従来の薄膜磁気ヘッドを図２に示
す。図２において（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＡ
−Ａ矢視図、（ｃ）は（ｂ）のポール部の拡大図であ
る。ここでは導体コイルを３層とした場合について示し
ている。
録および再生手段として用いられている。磁気ディスク
装置に使用されている従来の薄膜磁気ヘッドを図２に示
す。図２において（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＡ
−Ａ矢視図、（ｃ）は（ｂ）のポール部の拡大図であ
る。ここでは導体コイルを３層とした場合について示し
ている。
【０００３】この薄膜磁気ヘッド１は、鏡面研磨された
清浄なスライダ基板１０として、例えばＡｌ2 Ｏ3 −Ｔ
ｉＣ系セラミック板等を有し、この基板１０上にはスパ
ッタ法等によりＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等の保護層１２が
１０数μｍの厚さに付着され、その上に下コア１４が電
気メッキ等により積層されている。下コア１４の上には
磁気ギャップ層１６がスパッタ法等により積層されて、
磁気ギャップ１７を形成している。磁気ギャップ層１６
は保護層１２と同様にＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等で作られ
ている。
清浄なスライダ基板１０として、例えばＡｌ2 Ｏ3 −Ｔ
ｉＣ系セラミック板等を有し、この基板１０上にはスパ
ッタ法等によりＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等の保護層１２が
１０数μｍの厚さに付着され、その上に下コア１４が電
気メッキ等により積層されている。下コア１４の上には
磁気ギャップ層１６がスパッタ法等により積層されて、
磁気ギャップ１７を形成している。磁気ギャップ層１６
は保護層１２と同様にＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等で作られ
ている。
【０００４】磁気ギャップ層１６上には第１絶縁層１８
が積層されている。絶縁層には通常、ポジ型のホトレジ
ストが用いられ、熱処理を加えて安定に硬化されてい
る。第１絶縁層１８の上には、第１コイル層２０がＣｕ
等で電気メッキ等により数μｍの厚さに形成されてい
る。第１コイル層２０の上には、さらに同様の方法で第
２絶縁層２２、第２コイル層２４、第３絶縁層２６、第
３コイル層２８、第４絶縁層３０が順次積層されてい
る。
が積層されている。絶縁層には通常、ポジ型のホトレジ
ストが用いられ、熱処理を加えて安定に硬化されてい
る。第１絶縁層１８の上には、第１コイル層２０がＣｕ
等で電気メッキ等により数μｍの厚さに形成されてい
る。第１コイル層２０の上には、さらに同様の方法で第
２絶縁層２２、第２コイル層２４、第３絶縁層２６、第
３コイル層２８、第４絶縁層３０が順次積層されてい
る。
【０００５】第４絶縁層３０の上には上コア３２が電気
メッキ等により形成されている。上コア３２のポール部
３８と反対側の後部は、下コア１４と密着している。上
コア３２の上には、保護層３０がＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3
等でスパッタ法等により積層されて、全体を覆ってい
る。
メッキ等により形成されている。上コア３２のポール部
３８と反対側の後部は、下コア１４と密着している。上
コア３２の上には、保護層３０がＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3
等でスパッタ法等により積層されて、全体を覆ってい
る。
【０００６】従来の薄膜磁気ヘッドは、図２（ｃ）に示
すように、ギャップ長ｇがスロートハイト（ポール部３
８の長さ）Ｓ全体にわたって均一に形成されていた。
すように、ギャップ長ｇがスロートハイト（ポール部３
８の長さ）Ｓ全体にわたって均一に形成されていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図２のような均一ギャ
ップ長を有する薄膜磁気ヘッドにおいては、書込磁束分
布の大きさはギャップ長ｇに比例する。すなわち、ギャ
ップ長ｇが狭い場合は、図３（ａ）に示すように書込磁
束分布は小さくなり、ギャップ長ｇが広い場合は、図３
（ｂ）に示すように書込磁束分布は大きくなる。したが
って、媒体記録面における磁界の強さもギャップ長ｇに
応じて変化する。すなわち、図４はヘッド先端と媒体記
録面との間のスペースが０．１μｍの場合の媒体記録面
での書込磁界強度の分布を示したもので（ギャップ長方
向をＸ，−Ｘ方向とし、ギャップ長の中央位置をＸ＝０
としている（図２（ｃ）参照））、ギャップ長が狭い場
合は図４（ａ）に示すように、磁界の強さは小さくな
り、ピーク半値幅Ｐｗ50も小さくなる。また、ギャップ
長が広い場合は図４（ｂ）に示すように、磁界の強さは
大きくなり、ピーク半値幅Ｐｗ50も大きくなる。
ップ長を有する薄膜磁気ヘッドにおいては、書込磁束分
布の大きさはギャップ長ｇに比例する。すなわち、ギャ
ップ長ｇが狭い場合は、図３（ａ）に示すように書込磁
束分布は小さくなり、ギャップ長ｇが広い場合は、図３
（ｂ）に示すように書込磁束分布は大きくなる。したが
って、媒体記録面における磁界の強さもギャップ長ｇに
応じて変化する。すなわち、図４はヘッド先端と媒体記
録面との間のスペースが０．１μｍの場合の媒体記録面
での書込磁界強度の分布を示したもので（ギャップ長方
向をＸ，−Ｘ方向とし、ギャップ長の中央位置をＸ＝０
としている（図２（ｃ）参照））、ギャップ長が狭い場
合は図４（ａ）に示すように、磁界の強さは小さくな
り、ピーク半値幅Ｐｗ50も小さくなる。また、ギャップ
長が広い場合は図４（ｂ）に示すように、磁界の強さは
大きくなり、ピーク半値幅Ｐｗ50も大きくなる。
【０００８】ところで、最近高Ｈｃ（保持力）磁気記録
媒体の出現により、高密度記録化が実現されつつある。
この場合、オーバライト（再書込）特性の向上のため、
媒体記録面での書込磁界強度が大きいことが望まれる。
そのためには、図３，４から明らかなように広ギャップ
が適している。しかし、広ギャップにすると、再生時の
分解能が悪くなる。また、前述のように、書込磁界分布
のピーク半値幅Ｐｗ50が大きくなる。このため、従来の
薄膜磁気ヘッドでは高密度記録再生特性とオーバライト
特性を両立させることができなかった。
媒体の出現により、高密度記録化が実現されつつある。
この場合、オーバライト（再書込）特性の向上のため、
媒体記録面での書込磁界強度が大きいことが望まれる。
そのためには、図３，４から明らかなように広ギャップ
が適している。しかし、広ギャップにすると、再生時の
分解能が悪くなる。また、前述のように、書込磁界分布
のピーク半値幅Ｐｗ50が大きくなる。このため、従来の
薄膜磁気ヘッドでは高密度記録再生特性とオーバライト
特性を両立させることができなかった。
【０００９】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、高密度記録再生特性とオーバライト特性
を両立させた薄膜磁気ヘッドを提供しようとするもので
ある。
点を解決して、高密度記録再生特性とオーバライト特性
を両立させた薄膜磁気ヘッドを提供しようとするもので
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この発明は、ポール部に
形成される磁気ギャップが、ポール部先端部において狭
いギャップ長に形成された狭ギャップ部と、ポール部先
端部から奥に入った部分において前記狭ギャップ部より
も広いギャップ長に形成された広ギャップ部を具えてな
るものである。
形成される磁気ギャップが、ポール部先端部において狭
いギャップ長に形成された狭ギャップ部と、ポール部先
端部から奥に入った部分において前記狭ギャップ部より
も広いギャップ長に形成された広ギャップ部を具えてな
るものである。
【００１１】
【作用】この発明によれば、ギャップ長をポール部先端
部では狭く、その奥側では広くしたので、書込時には磁
束の一部がポール部先端部の上下コア対向面に集中して
この部分を磁気飽和させる。このため、磁束の多くはポ
ール部先端部の飽和部分を徐けて外部空間に漏洩する。
したがって、書込時には実効ギャップ長が広がって広ギ
ャップヘッドとして動作し、書込磁束分布が大きくなっ
て媒体記録面における磁界の強さが大きくなり、良好な
オーバライト特性が得られる。しかも、磁界強度分布は
従来の広ギャップヘッドに比べて急俊になり、書込密度
を高めることができる。また、再生時には媒体からの再
生磁束によっては狭ギャップ部は飽和しないので、狭ギ
ャップ部が有効に機能して狭ギャップヘッドとして動作
し、再生分解能が向上する。したがって、この発明によ
れば、高密度記録再生特性とオーバライト特性を両立さ
せることができる。
部では狭く、その奥側では広くしたので、書込時には磁
束の一部がポール部先端部の上下コア対向面に集中して
この部分を磁気飽和させる。このため、磁束の多くはポ
ール部先端部の飽和部分を徐けて外部空間に漏洩する。
したがって、書込時には実効ギャップ長が広がって広ギ
ャップヘッドとして動作し、書込磁束分布が大きくなっ
て媒体記録面における磁界の強さが大きくなり、良好な
オーバライト特性が得られる。しかも、磁界強度分布は
従来の広ギャップヘッドに比べて急俊になり、書込密度
を高めることができる。また、再生時には媒体からの再
生磁束によっては狭ギャップ部は飽和しないので、狭ギ
ャップ部が有効に機能して狭ギャップヘッドとして動作
し、再生分解能が向上する。したがって、この発明によ
れば、高密度記録再生特性とオーバライト特性を両立さ
せることができる。
【００１２】
【実施例】この発明の一実施例を図１に示す。この薄膜
磁気ヘッド２は、鏡面研磨された清浄なスライダ基板１
０として、例えばＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ系セラミック板等
を有し、この基板１０上にはスパッタ法等によりＳｉＯ
2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等の保護層１２が１０数μｍの厚さに付
着され、その上に下コア１４が電気メッキ等により積層
されている。下コア１４の上には磁気ギャップ層１６が
スパッタ法等により積層されて、磁気ギャップ１７を形
成している。磁気ギャップ層１６は保護層１２と同様に
ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等で作られている。
磁気ヘッド２は、鏡面研磨された清浄なスライダ基板１
０として、例えばＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ系セラミック板等
を有し、この基板１０上にはスパッタ法等によりＳｉＯ
2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等の保護層１２が１０数μｍの厚さに付
着され、その上に下コア１４が電気メッキ等により積層
されている。下コア１４の上には磁気ギャップ層１６が
スパッタ法等により積層されて、磁気ギャップ１７を形
成している。磁気ギャップ層１６は保護層１２と同様に
ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等で作られている。
【００１３】磁気ギャップ層１６には絶縁層およびコイ
ル導体層１９が順次積層されている。絶縁層およびコイ
ル導体層１９の上には上コア３２が電気メッキ等により
形成されている。上コア３２のポール部３８は磁気ギャ
ップ層１６と密着している。一方、ポール部３８と反対
側の後部（図示せず）は、下コア１４と密着している。
上コア３２の上には、保護層３０がＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ
3 等でスパッタ法により積層されて、全体を覆ってい
る。
ル導体層１９が順次積層されている。絶縁層およびコイ
ル導体層１９の上には上コア３２が電気メッキ等により
形成されている。上コア３２のポール部３８は磁気ギャ
ップ層１６と密着している。一方、ポール部３８と反対
側の後部（図示せず）は、下コア１４と密着している。
上コア３２の上には、保護層３０がＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ
3 等でスパッタ法により積層されて、全体を覆ってい
る。
【００１４】上コア３２のポール部３８は図１（ｂ）に
拡大して示すように２段構造とされており、これにより
ギャップ長がポール部先端部４０とその奥側で異なる２
重ギャップを構成している。すなわち、スロートハイト
（ポール部の長さすなわち磁気ギャップ１７の深さ）Ｓ
のうちポール部先端面４２から距離Ｓ１の区間はポール
幅全体にわたって短いギャップ長ｇ１に形成されて狭ギ
ャップ部１７ａを構成し、その奥の距離Ｓ２（Ｓ＝Ｓ１
＋Ｓ２）の区間はポール幅全体にわたって長いギャップ
長ｇ２に形成されて広ギャップ部１７ｂを構成してい
る。
拡大して示すように２段構造とされており、これにより
ギャップ長がポール部先端部４０とその奥側で異なる２
重ギャップを構成している。すなわち、スロートハイト
（ポール部の長さすなわち磁気ギャップ１７の深さ）Ｓ
のうちポール部先端面４２から距離Ｓ１の区間はポール
幅全体にわたって短いギャップ長ｇ１に形成されて狭ギ
ャップ部１７ａを構成し、その奥の距離Ｓ２（Ｓ＝Ｓ１
＋Ｓ２）の区間はポール幅全体にわたって長いギャップ
長ｇ２に形成されて広ギャップ部１７ｂを構成してい
る。
【００１５】この場合、ギャップ長ｇ１，ｇ２は、ｇ１
＜ｇ２であって、例えば、 ０．１０μｍ＜ｇ１＜０．２５μｍ ０．２５μｍ＜ｇ２＜０．６μｍ に設定するのが好ましい。すなわち、ｇ１は狭ギャップ
による高い再生分解能特性が得られる範囲に設定し、ｇ
２は広ギャップによる良好なオーバライト特性が得られ
る範囲に設定する。また、狭ギャップ部１７ａの奥行Ｓ
１と広ギャップ部１７ｂの奥行Ｓ２は例えば Ｓ１／Ｓ２＜０．５ Ｓ１≧０．５μｍ に設定するのが好ましい。すなわち、Ｓ１が小さすぎる
と、再生時に狭ギャップ部を通る磁束が少なくなって再
生感度が低下して狭ギャップの効果が減少し、またＳ１
がＳ２に比べて大きすぎると書込磁束の多くが狭ギャッ
プ部を通って外部に漏洩する磁束が減って広ギャップの
効果が減少するので、書込時には広ギャップの効果が良
好に得られ、再生時には狭ギャップの効果が良好に得ら
れる範囲にＳ１とＳ２の値を設定する。
＜ｇ２であって、例えば、 ０．１０μｍ＜ｇ１＜０．２５μｍ ０．２５μｍ＜ｇ２＜０．６μｍ に設定するのが好ましい。すなわち、ｇ１は狭ギャップ
による高い再生分解能特性が得られる範囲に設定し、ｇ
２は広ギャップによる良好なオーバライト特性が得られ
る範囲に設定する。また、狭ギャップ部１７ａの奥行Ｓ
１と広ギャップ部１７ｂの奥行Ｓ２は例えば Ｓ１／Ｓ２＜０．５ Ｓ１≧０．５μｍ に設定するのが好ましい。すなわち、Ｓ１が小さすぎる
と、再生時に狭ギャップ部を通る磁束が少なくなって再
生感度が低下して狭ギャップの効果が減少し、またＳ１
がＳ２に比べて大きすぎると書込磁束の多くが狭ギャッ
プ部を通って外部に漏洩する磁束が減って広ギャップの
効果が減少するので、書込時には広ギャップの効果が良
好に得られ、再生時には狭ギャップの効果が良好に得ら
れる範囲にＳ１とＳ２の値を設定する。
【００１６】図１のギャップ構造による磁界メカニズム
を図５を参照して説明する。図５（ａ）は書込時のギャ
ップ１７における磁束分布を示したものである。書込時
には、狭ギャップ部１７ａはギャップ長が狭いので、磁
束の一部がここに集中し、上コア３２のポール部の下方
に突出した部分３２ａが磁気飽和する。このため、磁束
の多くはこの飽和した部分を徐けて外部空間に漏洩す
る。したがって、書込時には実効ギャップ長が広がって
広ギャップヘッドとして動作する。図５（ｂ）はこの時
の媒体記録面での書込磁界強度分布である。ここではヘ
ッド先端（ポール先端面４２）と媒体記録面との間のス
ペースを０．１μｍに設定し、ギャップ長方向をＸ，−
Ｘ方向、ギャップ長の中央位置をＸ＝０としている。点
線はギャップ長をｇ２均一とした場合の広ギャップヘッ
ドの特性（図４（ｂ）に相当）である。これによれば、
広ギャップヘッドと同様の書込磁界強度が得られてお
り、良好なオーバライト特性が得られる。また、図４
（ｂ）よりも強度分布の勾配が急俊であり、ピーク半値
幅Ｐｗ50も狭くなっている。したがって、線記録密度を
高めることができる。
を図５を参照して説明する。図５（ａ）は書込時のギャ
ップ１７における磁束分布を示したものである。書込時
には、狭ギャップ部１７ａはギャップ長が狭いので、磁
束の一部がここに集中し、上コア３２のポール部の下方
に突出した部分３２ａが磁気飽和する。このため、磁束
の多くはこの飽和した部分を徐けて外部空間に漏洩す
る。したがって、書込時には実効ギャップ長が広がって
広ギャップヘッドとして動作する。図５（ｂ）はこの時
の媒体記録面での書込磁界強度分布である。ここではヘ
ッド先端（ポール先端面４２）と媒体記録面との間のス
ペースを０．１μｍに設定し、ギャップ長方向をＸ，−
Ｘ方向、ギャップ長の中央位置をＸ＝０としている。点
線はギャップ長をｇ２均一とした場合の広ギャップヘッ
ドの特性（図４（ｂ）に相当）である。これによれば、
広ギャップヘッドと同様の書込磁界強度が得られてお
り、良好なオーバライト特性が得られる。また、図４
（ｂ）よりも強度分布の勾配が急俊であり、ピーク半値
幅Ｐｗ50も狭くなっている。したがって、線記録密度を
高めることができる。
【００１７】すなわち、書込時、磁束はスローハイトの
先端部の磁気飽和によって、ギャップから発生する磁界
の垂直成分が、ギャップ部全体がほぼギャップ長ｇ２程
度に広がった時のものと同等になると考えられる。一
方、書込磁界の水平成分は狭ギャップ部１７ａのバイパ
ス効果によって小さくなる。従って、これらの組合わせ
として、ギャップ１７の中心から発生する書込磁界は垂
直方向（記録媒体方向）に押し出された（すなわち、磁
界強度分布が急俊になったあるいは半値幅Ｐｗ50が狭く
なった）形になる。磁界強度分布が急俊になると、書込
磁界の反転周期が短くなっても書込磁界のピークどうし
が干渉しにくくなるので（書込磁界の上下ピークの干渉
は、ピークを打ち消しあうように作用するので、ピーク
高さの減少をもたらし、所望の書込状態が得られなくな
る）、書込密度を高めることができる。
先端部の磁気飽和によって、ギャップから発生する磁界
の垂直成分が、ギャップ部全体がほぼギャップ長ｇ２程
度に広がった時のものと同等になると考えられる。一
方、書込磁界の水平成分は狭ギャップ部１７ａのバイパ
ス効果によって小さくなる。従って、これらの組合わせ
として、ギャップ１７の中心から発生する書込磁界は垂
直方向（記録媒体方向）に押し出された（すなわち、磁
界強度分布が急俊になったあるいは半値幅Ｐｗ50が狭く
なった）形になる。磁界強度分布が急俊になると、書込
磁界の反転周期が短くなっても書込磁界のピークどうし
が干渉しにくくなるので（書込磁界の上下ピークの干渉
は、ピークを打ち消しあうように作用するので、ピーク
高さの減少をもたらし、所望の書込状態が得られなくな
る）、書込密度を高めることができる。
【００１８】再生時には、図５（ｃ）に示すように、媒
体からの再生磁束によっては狭ギャップ部１７ａは磁気
飽和しないので、狭ギャップ部１７ａが有効に機能し
て、狭ギャップヘッドとして動作し、再生分解能が向上
する。したがって、高保持力媒体に対しても高密度記録
再生特性とオーバライト特性を両立させることができ
る。
体からの再生磁束によっては狭ギャップ部１７ａは磁気
飽和しないので、狭ギャップ部１７ａが有効に機能し
て、狭ギャップヘッドとして動作し、再生分解能が向上
する。したがって、高保持力媒体に対しても高密度記録
再生特性とオーバライト特性を両立させることができ
る。
【００１９】
【他の実施例】図１の実施例では上コア３２側のポール
部の厚さを先端部と奥側で異ならせることにより２重ギ
ャップ長を構成したが、図６（ａ）に示すように下コア
１４側のポール部の厚さを先端部と奥側で異ならせるこ
とにより、２重ギャップを構成することもできる。ギャ
ップ長ｇ１，ｇ２、スロートハイトＳ１，Ｓ２を図１と
同じにした場合の媒体記録面での磁界強度分布を図６
（ｂ）に示す。この場合は書込時は下コア１４のポール
の上方に突出した部分１４ａが磁気飽和し、広ギャップ
ヘッドとして動作するので、大きな書込磁界強度が得ら
れる。また、再生時には媒体からの再生磁束によっては
下コア１４の突出部１４ａは磁気飽和しないので狭ギャ
ップヘッドとして動作し、再生分解能が向上する。した
がって、高保持力媒体に対しても高密度記録再生特性と
オーバライト特性を両立させることができる。
部の厚さを先端部と奥側で異ならせることにより２重ギ
ャップ長を構成したが、図６（ａ）に示すように下コア
１４側のポール部の厚さを先端部と奥側で異ならせるこ
とにより、２重ギャップを構成することもできる。ギャ
ップ長ｇ１，ｇ２、スロートハイトＳ１，Ｓ２を図１と
同じにした場合の媒体記録面での磁界強度分布を図６
（ｂ）に示す。この場合は書込時は下コア１４のポール
の上方に突出した部分１４ａが磁気飽和し、広ギャップ
ヘッドとして動作するので、大きな書込磁界強度が得ら
れる。また、再生時には媒体からの再生磁束によっては
下コア１４の突出部１４ａは磁気飽和しないので狭ギャ
ップヘッドとして動作し、再生分解能が向上する。した
がって、高保持力媒体に対しても高密度記録再生特性と
オーバライト特性を両立させることができる。
【００２０】図７（ａ）の実施例は、下コア１４および
上コア３２のポール部の厚さをともに先端部と奥側で異
ならせることにより、２重ギャップを構成したものであ
る。ギャップ長ｇ１，ｇ２、スロートハイトＳ１，Ｓ２
を図１と同じにした場合の磁界強度分布を図７（ｂ）に
示す。この場合は書込時は下コア１４のポールの上方に
突出した部分１４ａと上コア３２のポールの下方に突出
した部分３２ａが磁気飽和し、広ギャップヘッドとして
動作するので、大きな書込磁界強度が得られる。また、
再生時には媒体からの再生磁束によっては下コア１４の
突出部１４ａおよび上コア３２の突出部３２ａは磁気飽
和しないので狭ギャップヘッドとして動作し、再生分解
能が向上する。したがって、高保持力媒体に対しても高
密度記録再生特性とオーバライト特性を両立させること
ができる。
上コア３２のポール部の厚さをともに先端部と奥側で異
ならせることにより、２重ギャップを構成したものであ
る。ギャップ長ｇ１，ｇ２、スロートハイトＳ１，Ｓ２
を図１と同じにした場合の磁界強度分布を図７（ｂ）に
示す。この場合は書込時は下コア１４のポールの上方に
突出した部分１４ａと上コア３２のポールの下方に突出
した部分３２ａが磁気飽和し、広ギャップヘッドとして
動作するので、大きな書込磁界強度が得られる。また、
再生時には媒体からの再生磁束によっては下コア１４の
突出部１４ａおよび上コア３２の突出部３２ａは磁気飽
和しないので狭ギャップヘッドとして動作し、再生分解
能が向上する。したがって、高保持力媒体に対しても高
密度記録再生特性とオーバライト特性を両立させること
ができる。
【００２１】また、ピーク半値幅Ｐｗ50は前記図１、図
６のものよりもさらに減少し、線記録密度をさらに高め
ることができる。
６のものよりもさらに減少し、線記録密度をさらに高め
ることができる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ギャップ長をポール部先端部では狭く、その奥側で
は広くしたので、書込時には実効ギャップ長が広がって
広ギャップヘッドとして動作し、書込磁束分布が大きく
なって媒体記録面における磁界の強さが大きくなり、良
好なオーバライト特性が得られる。しかも、磁界強度分
布は従来の広ギャップヘッドに比べて急俊になり、書込
密度を高めることができる。また、再生時には媒体から
の再生磁束によっては狭ギャップ部は飽和しないので、
狭ギャップ部が有効に機能して狭ギャップヘッドとして
動作し、再生分解能が向上する。したがって、この発明
によれば、高密度記録再生特性とオーバライト特性を両
立させることができる。
ば、ギャップ長をポール部先端部では狭く、その奥側で
は広くしたので、書込時には実効ギャップ長が広がって
広ギャップヘッドとして動作し、書込磁束分布が大きく
なって媒体記録面における磁界の強さが大きくなり、良
好なオーバライト特性が得られる。しかも、磁界強度分
布は従来の広ギャップヘッドに比べて急俊になり、書込
密度を高めることができる。また、再生時には媒体から
の再生磁束によっては狭ギャップ部は飽和しないので、
狭ギャップ部が有効に機能して狭ギャップヘッドとして
動作し、再生分解能が向上する。したがって、この発明
によれば、高密度記録再生特性とオーバライト特性を両
立させることができる。
【図１】 この発明の一実施例を示す薄膜磁気ヘッドの
断面図およびそのポール部分の拡大図である。
断面図およびそのポール部分の拡大図である。
【図２】 従来の薄膜磁気ヘッドを示す平面図、断面図
およびポール部分の拡大図である。
およびポール部分の拡大図である。
【図３】 従来の均一ギャップヘッドにおけるギャップ
長による書込磁束分布の違いを示す図である。
長による書込磁束分布の違いを示す図である。
【図４】 図３（ａ）の狭ギャップヘッドと同（ｂ）の
広ギャップヘッドによる媒体記録面での磁界強度分布を
示す図である。
広ギャップヘッドによる媒体記録面での磁界強度分布を
示す図である。
【図５】 図１の２重ギャップ薄膜磁気ヘッドの書込時
および再生時の動作説明図である。
および再生時の動作説明図である。
【図６】 この発明の他の実施例を示す断面図および媒
体記録面での磁界強度分布を示す図である。
体記録面での磁界強度分布を示す図である。
【図７】 この発明の他の実施例を示す断面図および媒
体記録面での磁界強度分布を示す図である。
体記録面での磁界強度分布を示す図である。
２ 薄膜磁気ヘッド １７ 磁気ギャップ １７ａ 狭ギャップ部 １７ｂ 広ギャップ部 ３８ ポール部 ４０ ポール先端部 ｇ１ 狭いギャップ長 ｇ２ 広いギャップ長
Claims (1)
- 【請求項１】ポール部に形成される磁気ギャップが、ポ
ール部先端部において狭いギャップ長に形成された狭ギ
ャップ部と、ポール部先端部から奥に入った部分におい
て前記狭ギャップ部よりも広いギャップ長に形成された
広ギャップ部を具えてなる薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34824393A JPH07192222A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34824393A JPH07192222A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07192222A true JPH07192222A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18395715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34824393A Pending JPH07192222A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07192222A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6266868B1 (en) | 1998-03-31 | 2001-07-31 | Tdk Corporation | Method of manufacturing a combination thin film magnetic head |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP34824393A patent/JPH07192222A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6266868B1 (en) | 1998-03-31 | 2001-07-31 | Tdk Corporation | Method of manufacturing a combination thin film magnetic head |
| US6404602B2 (en) | 1998-03-31 | 2002-06-11 | Tdk Corporation | Combination type thin film magnetic head having a stepped magnetic layer |
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