JPH07191004A - Sample holding device of ultrasonic microscope - Google Patents

Sample holding device of ultrasonic microscope

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Publication number
JPH07191004A
JPH07191004A JP5348495A JP34849593A JPH07191004A JP H07191004 A JPH07191004 A JP H07191004A JP 5348495 A JP5348495 A JP 5348495A JP 34849593 A JP34849593 A JP 34849593A JP H07191004 A JPH07191004 A JP H07191004A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
stage
ultrasonic
sample holding
bonded wafer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5348495A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Omura
泰宏 大村
Katsuyuki Hashimoto
勝行 橋本
Akitsugu Kagayama
明嗣 加賀山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP5348495A priority Critical patent/JPH07191004A/en
Publication of JPH07191004A publication Critical patent/JPH07191004A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To clearly recognize the internal state of a sample even at a part near the boundary between the sample and a sample stage by making the arriving time difference between reflected ultrasonic waves from the surface of the sample stage and those from the surface of the sample caused by the height difference between the surfaces of the sample stage and the sample larger than a prescribed value. CONSTITUTION:The time difference Tx between the time until the reflected signals of ultrasonic waves oscillated at a location above a sample state arrive from the upper surface of the stage and the time until the reflected signals of the waves arrive from the surface of a sample becomes about 2musec when the distance from the upper surface of the sample stage to the surface of the sample is about 1.5mm. A window width Tw of 1.33-1.5musec is set in advance in corresponding to the reflected signals of the ultrasonic waves from the surface of the sample. Therefore, no gate signal is generated even when the level of the waves is higher than an observing base point detecting level Vx at the window width Tw as shown in Fig. B', because the reflected signals from the upper surface of the sample state are positioned on the outside of the window width Tw. In addition, no plotting signal is extracted as shown in Fig. C'. Accordingly, the state of the sample near the sample stage can be clearly recognized and the state can be effectively utilized.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、超音波顕微鏡におい
て試料を保持する超音波顕微鏡試料保持装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultrasonic microscope sample holding device for holding a sample in an ultrasonic microscope.

【0002】[0002]

【従来の技術】試料に高周波の音波を照射し試料から反
射された音波の強度を画像の濃淡として表す超音波顕微
鏡は広く知られている。一般的に、超音波顕微鏡で試料
の内部構造を観察する際には試料は超音波顕微鏡のステ
ージに水平に保持された水槽中に置かれ、超音波顕微鏡
の音響レンズが水槽中で試料の上方を移動して試料を走
査する。
2. Description of the Related Art Ultrasonic microscopes are widely known in which a sample is irradiated with high-frequency sound waves and the intensity of the sound waves reflected from the sample is displayed as the density of an image. Generally, when observing the internal structure of a sample with an ultrasonic microscope, the sample is placed in a water tank held horizontally on the stage of the ultrasonic microscope, and the acoustic lens of the ultrasonic microscope is placed above the sample in the water tank. To scan the sample.

【0003】ここにおいて水槽中で移動される音響レン
ズは水槽中の水に波を生じさせるので、この波により試
料が水槽中で移動しないよう試料は試料保持装置により
水槽中に固定される。
Since the acoustic lens moved in the water tank causes waves in the water in the water tank, the sample is fixed in the water tank by the sample holding device so that the waves do not move the sample in the water tank.

【0004】このような試料保持装置の一例は実願平4
−72325号に開示されており、実願平4−7232
5号の試料保持装置はいわゆる貼り合わせウエハーのよ
うに薄く平坦な試料を保持する。
An example of such a sample holding device is Japanese Patent Application No.
Japanese Patent Application No. 4-73232.
The sample holding device of No. 5 holds a thin and flat sample like a so-called bonded wafer.

【0005】図1の(A)にはこの従来の試料保持装置
の概略的な平面図が示されている。試料保持装置の本体
を構成している試料台10は平坦な略正方形状をしてお
り、中央部に貼り合わせウエハー12が載置される凹所
14が形成されている。
FIG. 1A shows a schematic plan view of this conventional sample holding device. The sample table 10 that constitutes the main body of the sample holding device has a flat, substantially square shape, and has a recess 14 in which the bonded wafer 12 is placed in the center.

【0006】凹所14の平面における面積は貼り合わせ
ウエハー12よりも幾分か大きく、凹所14の内周面
は、凹所14に載置されたウエハー12のオリフラ12
aに沿って延出した直線状の第1の位置決め部分14a
と、第1の位置決め部分14aに対して略直交する方向
に延出した直線状の第2の位置決め部分14bと、第1
及び第2の位置決め部分14a,14bの外端間を凹所
14中の貼り合わせウエハー12の周面の弧状部分に沿
い延出した弧状部分14cと、を有している。
The area of the recess 14 in the plane is somewhat larger than that of the bonded wafer 12, and the inner peripheral surface of the recess 14 has an orientation flat 12 of the wafer 12 placed in the recess 14.
a first linear positioning portion 14a extending along a
A linear second positioning portion 14b extending in a direction substantially orthogonal to the first positioning portion 14a;
And an arc-shaped portion 14c extending between the outer ends of the second positioning portions 14a and 14b along the arc-shaped portion of the peripheral surface of the bonded wafer 12 in the recess 14.

【0007】凹所14の中央部には貼り合わせウエハー
12の直径よりも小さな径の貫通孔14dが形成されて
いて、貫通孔14dの一部14d´は凹所14に連通し
て半径方向外方にまで延出している。
A through hole 14d having a diameter smaller than that of the bonded wafer 12 is formed in the center of the recess 14, and a part 14d 'of the through hole 14d communicates with the recess 14 and is radially outward. It extends to one direction.

【0008】貫通孔14d及びその一部14d´は、貼
り合わせウエハー12を凹所14に載置または凹所14
から取り除く際に使用する図示しない機械のウエハー保
持ハンドルの為に形成されている。
The through hole 14d and a portion 14d 'thereof are placed on the bonded wafer 12 in the recess 14 or the recess 14
It is designed for a wafer-holding handle of a machine (not shown) that is used for removal from the machine.

【0009】第1及び第2の位置決め部分14a,14
bの交差領域に対向した凹所14の内周面において弧状
部分14cの一部14c´もまた弧状部分14cの半径
方向外方に拡大されていて、弧状部分14cの一部14
c´に囲まれた凹所14の底面の半径方向拡大部分には
凹所14中の貼り合わせウエハー12の周面を選択的に
押圧する押圧手段16が配置されている。
First and second positioning portions 14a, 14
A portion 14c 'of the arcuate portion 14c is also enlarged radially outward of the arcuate portion 14c on the inner peripheral surface of the recess 14 facing the intersection region of b, and the part 14c of the arcuate portion 14c is expanded.
A pressing means 16 for selectively pressing the peripheral surface of the bonded wafer 12 in the recess 14 is arranged in the radially enlarged portion of the bottom surface of the recess 14 surrounded by c ′.

【0010】押圧手段16は、貼り合わせウエハー12
の周面に隣接し上記周面に沿い延出した押圧部材18
と、押圧部材18に対して貼り合わせウエハー12とは
反対側に配置されたカム20と、カム20に隣接された
回り止め22と、を備えている。
The pressing means 16 is the bonded wafer 12
The pressing member 18 that is adjacent to the peripheral surface and extends along the peripheral surface.
And a cam 20 disposed on the opposite side of the pressing member 18 from the bonded wafer 12, and a detent 22 adjacent to the cam 20.

【0011】押圧部材18は一端部が回動中心軸18a
により凹所14の底面の半径方向拡大部分に回動自在に
取り付けられており、貼り合わせウエハー12の周面に
隣接した押圧部材18の辺には押圧突起18bが形成さ
れ、さらにカム20に隣接した押圧部材18の辺にはこ
の辺に沿って形成されたスロットにより板ばね18cが
創出されている。
One end of the pressing member 18 is a rotation center shaft 18a.
Is rotatably attached to the radially expanded portion of the bottom surface of the recess 14, and a pressing protrusion 18b is formed on the side of the pressing member 18 adjacent to the peripheral surface of the bonded wafer 12, and further adjacent to the cam 20. On the side of the pressing member 18, a leaf spring 18c is created by a slot formed along this side.

【0012】カム20は回動中心軸20aにより凹所1
4の底面の半径方向拡大部分に回動自在に取り付けられ
ている。
The cam 20 is provided with a recess 1 by a rotation center shaft 20a.
It is rotatably attached to the radially enlarged portion of the bottom surface of the No. 4.

【0013】図1の(A)に示す如く、カム20が押圧
部材18の板ばね18cに押圧されていない時には押圧
部材18の押圧突起18bは凹所14の内周面の弧状部
分14cに引っ込み、凹所14に対する貼り合わせウエ
ハー12の着脱作業を許容する。
As shown in FIG. 1A, when the cam 20 is not pressed by the leaf spring 18c of the pressing member 18, the pressing protrusion 18b of the pressing member 18 is retracted into the arc-shaped portion 14c of the inner peripheral surface of the recess 14. The work of attaching / detaching the bonded wafer 12 to / from the recess 14 is allowed.

【0014】凹所14に対して貼り合わせウエハー12
は、図1の(A)に示す如く、オリフラ12aを凹所1
4の内周面の第1の位置決め部分14aに対向させた状
態で載置される。
Bonded wafer 12 to recess 14
As shown in FIG. 1A, the orientation flat 12a is formed in the recess 1
4 is placed in a state of facing the first positioning portion 14a on the inner peripheral surface of No. 4.

【0015】カム20を、図1の(B)に示す如く、回
り止め22に当接するまで回動させると、カム20は押
圧部材18の板ばね18cを押圧し、これにより押圧部
材18は板ばね18cの付勢力によって押圧突起18b
を貼り合わせウエハー12の周面に押圧する。
When the cam 20 is rotated until it comes into contact with the detent 22 as shown in FIG. 1B, the cam 20 presses the plate spring 18c of the pressing member 18, which causes the pressing member 18 to plate. The pressing protrusion 18b is generated by the urging force of the spring 18c.
Are pressed against the peripheral surface of the bonded wafer 12.

【0016】押圧部材18に押圧された貼り合わせウエ
ハー12は、図1の(B)に示す如く、オリフラ12a
が対向する第1の位置決め部分14aに当接されるとと
もに第2の位置決め部分14bに対向する周面の一部が
当接されることにより、凹所14の所定の位置に固定さ
れる。
The bonded wafer 12 pressed by the pressing member 18 has an orientation flat 12a as shown in FIG.
Are abutted on the opposing first positioning portion 14a and a portion of the peripheral surface opposing the second positioning portion 14b are abutted, so that the recess 14 is fixed at a predetermined position.

【0017】押圧部材18の押圧突起18bが貼り合わ
せウエハー12の周面を押圧する力は押圧部材18の板
ばね18cの付勢力により生じているので、貼り合わせ
ウエハー12には押圧部材18から過大な力が負荷され
ることはなく、貼り合わせウエハー12の破損を防止し
ている。
The pressing projection 18b of the pressing member 18 presses the peripheral surface of the bonded wafer 12 by the urging force of the leaf spring 18c of the pressing member 18, so that the bonded wafer 12 is excessively pressed from the pressing member 18. Since no force is applied, the bonded wafer 12 is prevented from being damaged.

【0018】なお貼り合わせウエハー12に当接する第
1及び第2の位置決め部分14a,14b及び押圧部材
18の押圧突起18bの夫々の表面は、図1の(C)に
示す如く、凹所14の底面に接近する程拡径されてい
て、試料台10が傾けられた際に凹所14から貼り合わ
せウエハー12が脱落することを防止している。
The surfaces of the first and second positioning portions 14a and 14b that abut the bonded wafer 12 and the pressing protrusion 18b of the pressing member 18 are formed in the recess 14 as shown in FIG. 1C. The diameter is increased so as to approach the bottom surface, and the bonded wafer 12 is prevented from dropping from the recess 14 when the sample table 10 is tilted.

【0019】貼り合わせウエハー12が上述した如く固
定された試料保持装置は超音波顕微鏡のステージに保持
された水槽中の所定の位置に着脱自在に固定され、その
上方の所定の高さを超音波顕微鏡の音響レンズが所定の
パターンに従い移動することにより内部構造を観察され
る。
The sample holding device to which the bonded wafer 12 is fixed as described above is detachably fixed to a predetermined position in a water tank held on the stage of an ultrasonic microscope, and ultrasonic waves are applied to a predetermined height above the ultrasonic wave. The internal structure is observed by moving the acoustic lens of the microscope according to a predetermined pattern.

【0020】超音波顕微鏡は貼り合わせウエハー12の
内部構造において界面(貼り合わせ面)に空洞が生じて
いるかどうかを観察する為に使用される。
The ultrasonic microscope is used for observing whether or not a cavity is formed at the interface (bonding surface) in the internal structure of the bonded wafer 12.

【0021】さて、超音波顕微鏡の水槽中の所定の位置
に着脱自在に固定された試料保持装置に保持された貼り
合わせウエハー12の上方の所定の高さを超音波顕微鏡
の音響レンズが所定のパターンで移動する際に、貼り合
わせウエハー12の上のある座標位置で検知する超音波
反射信号は図2の(A)の如くなる。
Now, the acoustic lens of the ultrasonic microscope has a predetermined height above the bonded wafer 12 held by the sample holding device which is detachably fixed at a predetermined position in the water tank of the ultrasonic microscope. The ultrasonic reflection signal detected at a certain coordinate position on the bonded wafer 12 when moving in a pattern is as shown in FIG.

【0022】図2の(A)において最初に検知される大
きなレベルの波は貼り合わせウエハー12の表面(上
面)に対応し、次に検知される大きなレベルの波は貼り
合わせウエハー12の内部の界面に対応し、3番目に検
知される大きなレベルの波は貼り合わせウエハー12の
裏面(下面)に対応している。
In FIG. 2A, the first detected large level wave corresponds to the surface (upper surface) of the bonded wafer 12, and the next detected larger level wave is inside the bonded wafer 12. Corresponding to the interface, the third level of the detected high-level wave corresponds to the back surface (bottom surface) of the bonded wafer 12.

【0023】超音波顕微鏡の制御回路は、貼り合わせウ
エハー12上の多数の所定の座標位置の夫々で検知した
図2の(A)に示す如き超音波反射信号の中から貼り合
わせウエハー12の内部の界面に対応した波のみを描画
信号として抽出し、これを基に貼り合わせウエハー12
の内部の界面の状態を略全域に渡り表示装置上に表示す
る。
The control circuit of the ultrasonic microscope detects the inside of the bonded wafer 12 from the ultrasonic reflected signals as shown in FIG. 2A detected at each of a number of predetermined coordinate positions on the bonded wafer 12. Only the wave corresponding to the interface of the wafer is extracted as the drawing signal, and based on this, the bonded wafer 12
The state of the interface inside the is displayed on the display device over almost the entire area.

【0024】上記抽出の為に超音波顕微鏡の制御回路に
は、図2の(A)に示す如く、音響レンズから超音波を
発生した後に貼り合わせウエハー12の表面からの超音
波反射信号を検知する予想時刻を中心に所定の時刻幅の
超音波反射信号検知時刻幅(ウィンドウ幅Tw)が設定
されるとともに、貼り合わせウエハー12の表面からの
超音波反射信号の予想される最高レベルよりも幾分低い
観察基点検出レベルVxが設定される。
For the above extraction, the control circuit of the ultrasonic microscope detects an ultrasonic wave reflected signal from the surface of the bonded wafer 12 after the ultrasonic wave is generated from the acoustic lens, as shown in FIG. 2 (A). The ultrasonic reflection signal detection time width (window width Tw) having a predetermined time width is set around the estimated time, and the ultrasonic reflection signal from the surface of the bonded wafer 12 is set at a level higher than the expected maximum level. A slightly lower observation base point detection level Vx is set.

【0025】さらにはウィンドウ幅Twにおいて検知し
た貼り合わせウエハー12の表面からの超音波反射信号
のレベルが観察基点検出レベルVxを越えてから所定の
遅延時間Tdが経過した後に検知する貼り合わせウエハ
ー12の内部の界面からの超音波反射信号をのみを描画
信号として抽出する為のゲート信号の発生時刻幅や所定
の遅延時間Tdが設定される。
Furthermore, the bonded wafer 12 detected after a predetermined delay time Td has elapsed after the level of the ultrasonic reflection signal from the surface of the bonded wafer 12 detected at the window width Tw exceeds the observation reference point detection level Vx. The generation time width of the gate signal and the predetermined delay time Td for extracting only the ultrasonic reflection signal from the internal interface of the as a drawing signal are set.

【0026】即ち、超音波顕微鏡の水槽中の所定の位置
に着脱自在に固定された試料保持装置に保持された貼り
合わせウエハー12の上方の所定の高さを超音波顕微鏡
の音響レンズが所定のパターンで移動する際に、貼り合
わせウエハー12の上のある座標位置で検知する超音波
反射信号からは、以下のようにして上記ある座標位置に
おける貼り合わせウエハー12の内部の界面からの超音
波反射信号が描画信号として抽出される。
That is, the acoustic lens of the ultrasonic microscope has a predetermined height above the bonded wafer 12 held by the sample holding device detachably fixed to a predetermined position in the water tank of the ultrasonic microscope. When moving in a pattern, the ultrasonic reflection signal detected at a certain coordinate position on the bonded wafer 12 causes ultrasonic reflection from the internal interface of the bonded wafer 12 at the certain coordinate position as follows. The signal is extracted as a drawing signal.

【0027】まず、ウィンドウ幅Twにおいて検知する
貼り合わせウエハー12の表面からの超音波反射信号の
レベルが観察基点検出レベルVxを越えた時点から予め
設定しておいた所定の遅延時間Tdの経過後に予め設定
しておいた所定の時刻幅のゲート信号が発生され、ゲー
ト信号発生中に検知される貼り合わせウエハー12の内
部の界面からの超音波反射信号を描画信号として抽出す
る。
First, after a predetermined delay time Td elapses from the time when the level of the ultrasonic reflection signal from the surface of the bonded wafer 12 detected at the window width Tw exceeds the observation reference point detection level Vx. A gate signal having a predetermined time width set in advance is generated, and an ultrasonic wave reflection signal from the internal interface of the bonded wafer 12 detected during the generation of the gate signal is extracted as a drawing signal.

【0028】ここでは観察基点検出レベルVxを伴うウ
ィンドウ幅Twや遅延時間Tdや所定の時刻幅を伴うゲ
ート信号を上述した如く設定することにより、常に貼り
合わせウエハー12の内部の所定の深さ幅の領域からの
超音波反射信号を描画信号として抽出出来るので、水槽
中の所定の位置の試料保持装置に保持された貼り合わせ
ウエハー12が多少水平面から傾いていても上記所定の
深さ幅の中に多少傾斜した貼り合わせウエハー12の内
部の界面全体が含まれ、結局の所、多少傾斜した貼り合
わせウエハー12の内部の界面全体の状態を略全域に渡
り表示装置上に表示することが出来る。
Here, by setting the window width Tw with the observation reference point detection level Vx, the delay time Td, and the gate signal with a predetermined time width as described above, the predetermined depth width inside the bonded wafer 12 is always maintained. Since the ultrasonic wave reflection signal from the region can be extracted as a drawing signal, even if the bonded wafer 12 held by the sample holding device at a predetermined position in the water tank is slightly inclined from the horizontal plane, Includes the entire interface inside the bonded wafer 12 that is slightly inclined, and after all, the state of the entire interface inside the bonded wafer 12 that is slightly inclined can be displayed on the display device over substantially the entire area.

【0029】[0029]

【発明が解決しようとする課題】実願平4−72325
号の試料保持装置の実例では、直径4インチで厚さ1m
mの貼り合わせウエハーを保持するものは、図1の
(C)に示す試料台10の凹所14の深さDが略1.5
mmに設定されていて、試料台10の上面と凹所14中
の貼り合わせウエハー12の上面との間の高さの差異は
略0.5mmに設定されている。
[Problems to be Solved by the Invention] Japanese Patent Application No. 4-72325
No. 4 sample holder, 4 inches in diameter and 1 m thick
In the case of holding the bonded wafer of m, the depth D of the recess 14 of the sample table 10 shown in FIG.
The height difference between the upper surface of the sample table 10 and the upper surface of the bonded wafer 12 in the recess 14 is set to about 0.5 mm.

【0030】そして、直径4インチの貼り合わせウエハ
ー12の内部の全域を観察する場合には音響レンズの走
査幅(超音波顕微鏡の視野幅)は略100mm程度とな
り、ここで貼り合わせウエハー12の傾きの許容値を略
1mmとすると、ウィンドウ幅Twは1.33μsec
〜1.5μsecに設定される。
When observing the entire area inside the bonded wafer 12 having a diameter of 4 inches, the scanning width of the acoustic lens (field width of the ultrasonic microscope) is about 100 mm, and here the tilt of the bonded wafer 12 is obtained. If the allowable value of is about 1 mm, the window width Tw is 1.33 μsec.
It is set to ˜1.5 μsec.

【0031】音響レンズの走査幅には試料台10の上面
も含まれているので、音響レンズに走査を開始させると
その走査領域内では試料台10の上面及び下面からの超
音波信号の反射信号も含まれることになる。
Since the scanning width of the acoustic lens also includes the upper surface of the sample table 10, when the acoustic lens starts scanning, the reflection signals of ultrasonic signals from the upper surface and the lower surface of the sample table 10 within the scanning area. Will also be included.

【0032】図3の(A´)には試料台10の上面の上
方において例えば矢印A´で示す位置で検知された超音
波反射信号が示されており、ここにおいて最初の大きな
レベルの波は試料台10の上面に、そして2番目の大き
なレベルの波は試料台10の下面に対応している。
FIG. 3 (A ') shows an ultrasonic reflection signal detected at a position shown by an arrow A'above the upper surface of the sample table 10, where the first large level wave is The upper surface of the sample table 10 and the second higher level wave correspond to the lower surface of the sample table 10.

【0033】これに対して図3の(A)には試料台10
の凹所14中の貼り合わせウエハー12の上面の上方に
おいて例えば矢印Aで示す位置で検知された超音波反射
信号が示されており、ここにおいて最初の大きな反射信
号レベルは貼り合わせウエハー12の上面に、2番目の
大きな反射信号レベルは貼り合わせウエハー12の内部
の界面に、そして3番目の大きな反射信号レベルは貼り
合わせウエハー12の裏面に対応している。
On the other hand, the sample table 10 is shown in FIG.
The ultrasonic reflection signal detected at the position indicated by arrow A above the upper surface of the bonded wafer 12 in the recess 14 is shown, where the first large reflected signal level is the upper surface of the bonded wafer 12. In addition, the second large reflected signal level corresponds to the internal interface of the bonded wafer 12, and the third large reflected signal level corresponds to the back surface of the bonded wafer 12.

【0034】図3の(A´)の試料台10の上面に対応
した超音波信号の波と図3の(A)の貼り合わせウエハ
ー12の上面に対応した超音波信号の波との時間差Tx
は水中の音速が1500m/secなので略0.67μ
secとなり、図3の(A)の貼り合わせウエハー12
の上面に対応した超音波信号の波に対応して予め設定さ
れるウィンドウ幅Tw(1.33μsec〜1.5μs
ec)の中に図3の(A´)の試料台10の上面に対応
した超音波信号の波も入ってしまっている。
The time difference Tx between the wave of the ultrasonic signal corresponding to the upper surface of the sample table 10 in FIG. 3A 'and the wave of the ultrasonic signal corresponding to the upper surface of the bonded wafer 12 in FIG. 3A.
Is about 0.67μ because the sound velocity in water is 1500m / sec
sec, and the bonded wafer 12 shown in FIG.
Window width Tw (1.33 μsec to 1.5 μs) preset corresponding to the wave of the ultrasonic signal corresponding to the upper surface of the
Waves of ultrasonic signals corresponding to the upper surface of the sample table 10 in FIG. 3A 'are also included in ec).

【0035】この為、試料台10の上面の上方において
図1の(C)の矢印A´で示す位置で検知された図3の
(A´)の試料台10の上面に対応した超音波信号の波
がウィンドウ幅Twにおける予め設定された観察基点検
出レベルVxを越えた時点から予め設定しておいた所定
の遅延時間Tdの経過後に予め設定しておいた所定の時
刻幅のゲート信号が図3の(B´)に示す如く発生さ
れ、ゲート信号発生中に検知される試料台10の内部か
らの超音波反射信号が図3の(C´)に示す如く描画信
号として抽出される。
Therefore, the ultrasonic signal corresponding to the upper surface of the sample table 10 of FIG. 3A ′ detected at the position shown by the arrow A ′ of FIG. 1C above the upper surface of the sample table 10. Of the gate signal of the predetermined time width after the passage of the predetermined delay time Td from the time when the wave exceeds the preset observation base point detection level Vx in the window width Tw. 3B ', the ultrasonic reflection signal from the inside of the sample stage 10 detected during the generation of the gate signal is extracted as a drawing signal as shown in FIG. 3C'.

【0036】そして当然のことながら、貼り合わせウエ
ハー12の上面の上方において図1の(C)の矢印Aで
示す位置で検知された図3の(A)の貼り合わせウエハ
ー12の上面に対応した超音波信号の波がウィンドウ幅
Twにおける予め設定された観察基点検出レベルVxを
越えた時点から予め設定しておいた所定の遅延時間Td
の経過後にも予め設定しておいた所定の時刻幅のゲート
信号が図3の(B)に示す如く発生され、ゲート信号発
生中に検知される試料台10の内部からの超音波反射信
号が図3の(C)に示す如く描画信号として抽出され
る。
As a matter of course, the upper surface of the bonded wafer 12 corresponds to the upper surface of the bonded wafer 12 of FIG. 3A detected at the position indicated by the arrow A of FIG. 1C. A predetermined delay time Td set in advance from the time when the wave of the ultrasonic signal exceeds the preset observation base point detection level Vx in the window width Tw.
3B, a gate signal having a preset time width is generated as shown in FIG. 3B, and the ultrasonic reflection signal from the inside of the sample stage 10 detected during the generation of the gate signal is It is extracted as a drawing signal as shown in FIG.

【0037】このように従来の試料保持装置では、貼り
合わせウエハー12の内部の全域を観察する場合に試料
台10の上面を走査する間に試料台10の内部の状態を
示す超音波反射信号に基づく描画信号も抽出されてしま
うので、貼り合わせウエハー12の上面と試料台10の
上面との境界(図3の(B)における第1及び第2の位
置決め部分14a,14b)近傍では、試料台10の内
部の状態を示す描画信号と貼り合わせウエハー12の内
部の界面の状態を示す描画信号との境界が不明確とな
り、上記近傍における貼り合わせウエハー12の内部の
界面の状態が不明確となる。
As described above, in the conventional sample holding device, when observing the entire area inside the bonded wafer 12, the ultrasonic reflection signal indicating the internal state of the sample table 10 is scanned while scanning the upper surface of the sample table 10. Since the drawing signal based on this is also extracted, in the vicinity of the boundary between the upper surface of the bonded wafer 12 and the upper surface of the sample stand 10 (first and second positioning portions 14a and 14b in FIG. 3B), the sample stand The boundary between the drawing signal indicating the internal state of 10 and the drawing signal indicating the state of the interface inside the bonded wafer 12 becomes unclear, and the state of the interface inside the bonded wafer 12 near the above becomes unclear. .

【0038】このことは上記近傍における貼り合わせウ
エハー12の領域の利用を困難にしており、高価な貼り
合わせウエハー12の利用効率を低下させている。
This makes it difficult to use the area of the bonded wafer 12 in the vicinity thereof and reduces the utilization efficiency of the expensive bonded wafer 12.

【0039】また従来の超音波顕微鏡では、試料保持装
置や試料の種類が変わる度に試料の観察の為の走査の開
始基準位置としての試料保持装置上の試料の中心を超音
波顕微鏡の音響レンズの作用中心に合わせる作業を超音
波顕微鏡の操作者が手動でおこなっており、この作業は
煩雑である。
Further, in the conventional ultrasonic microscope, the center of the sample on the sample holding device as the reference position for starting scanning for observing the sample is set at the acoustic lens of the ultrasonic microscope every time the sample holding device or the type of the sample changes. The operator of the ultrasonic microscope manually performs the work of aligning with the action center of the above, and this work is complicated.

【0040】この発明は上記事情に基づいてなされ、こ
の発明の目的は、試料台の所定の位置に載置された試料
の上面と試料台の上面との境界近傍でも試料の内部の所
望の深さ領域の状態を明確に知ることが出来、また試料
外の領域には無用なノイズの無い見易い画像を得ること
が出来る。また試料保持装置をセットした際の走査開始
位置としての試料保持装置上の試料の中心に超音波顕微
鏡の音響レンズの作用中心を合わせる作業を自動的に行
うことが出来る超音波顕微鏡試料保持装置を提供するこ
とである。
The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to obtain a desired depth inside the sample even near the boundary between the upper surface of the sample placed at a predetermined position on the sample table and the upper surface of the sample table. It is possible to clearly know the state of the large area, and to obtain an easy-to-see image without unnecessary noise in the area outside the sample. Also, an ultrasonic microscope sample holding device that can automatically perform the work of aligning the working center of the acoustic lens of the ultrasonic microscope with the center of the sample on the sample holding device as the scanning start position when the sample holding device is set Is to provide.

【0041】[0041]

【課題を解決する為の手段】上述したこの発明の前者の
目的を達成する為に、この発明に従った超音波顕微鏡試
料保持装置は、超音波発振後の所定時間経過後に設定さ
れた所定時間幅のウインドウ中で所定の基準検出レベル
以上の超音波反射信号を検知した後の所定遅延時間経過
後に所定時間幅のゲート信号を発し、ゲート信号が発せ
られている間に検知した超音波反射信号を描画信号とし
て抽出する超音波顕微鏡において試料を保持する為に使
用される試料保持装置であって:試料が載置される凹所
が形成された試料台を備えており、試料台の表面と上記
凹所に載置された試料の高さとの差異による夫々の箇所
からの反射超音波の時間差が上記ウインドウの所定時間
幅よりも大きくなるよう設定されている、ことを特徴と
している。
In order to achieve the former object of the present invention described above, an ultrasonic microscope sample holding device according to the present invention has a predetermined time set after a predetermined time has elapsed after ultrasonic oscillation. The ultrasonic wave reflection signal detected while the gate signal is being emitted by issuing the gate signal of the predetermined time width after the elapse of the predetermined delay time after detecting the ultrasonic wave reflection signal above the predetermined reference detection level in the width window. A sample holding device used for holding a sample in an ultrasonic microscope for extracting as a drawing signal, the sample holding device having a sample stage formed with a recess in which the sample is placed, and a surface of the sample stage. It is characterized in that the time difference of the reflected ultrasonic waves from each position due to the difference from the height of the sample placed in the recess is set to be larger than the predetermined time width of the window.

【0042】上述したこの発明の後者の目的を達成する
為に、この発明に従った別の超音波顕微鏡試料保持装置
は:試料が着脱自在に保持される試料保持台と;試料保
持台が載置され、略水平面内で所定の範囲内を移動自在
なステージと;ステージ上に設けられ、試料保持台を着
脱自在にステージ上の所定の位置に固定する試料保持台
位置決め手段と;試料保持台が試料保持台位置決め手段
によりステージ上の所定の位置に着脱自在に固定された
後にステージの移動を制御して、音響レンズを試料の走
査開始位置に合致させるステージ移動制御手段と;を備
えたことを特徴としている。
In order to achieve the latter object of the present invention described above, another ultrasonic microscope sample holding device according to the present invention is: a sample holding table on which a sample is detachably held; A stage that is placed on the stage and is movable within a predetermined range in a substantially horizontal plane; a sample holder positioning means that is provided on the stage and that detachably fixes the sample holder to a predetermined position on the stage; And a stage movement control means for controlling the movement of the stage after being removably fixed to a predetermined position on the stage by the sample holding table positioning means so that the acoustic lens matches the scanning start position of the sample. Is characterized by.

【0043】上述したこの発明の後者の目的を達成する
為に、この発明に従ったさらに別の超音波顕微鏡試料保
持装置は:試料が着脱自在に保持される試料保持台と;
試料保持台が載置されるステージと;ステージの上方に
設けられ、試料保持台上の試料面に沿って略水平面内で
移動自在な音響レンズと;試料保持台が試料保持台位置
決め手段によりステージ上の所定の位置に着脱自在に固
定された後に音響レンズの移動を制御して、音響レンズ
を試料の走査開始位置に合致させる音響レンズ移動制御
手段と;を備えたことを特徴としている。
In order to achieve the latter object of the present invention described above, still another ultrasonic microscope sample holding device according to the present invention is: a sample holding table on which a sample is detachably held;
A stage on which the sample holder is placed; an acoustic lens which is provided above the stage and is movable in a substantially horizontal plane along the sample surface on the sample holder; Acoustic lens movement control means for controlling the movement of the acoustic lens after being removably fixed to the above predetermined position so as to match the acoustic lens with the scanning start position of the sample.

【0044】[0044]

【作用】上述したこの発明の前者の目的を達成する為の
この発明に従った超音波顕微鏡試料保持装置は、超音波
顕微鏡の音響レンズが試料を載置した試料台を含む所定
の走査領域を走査し、この間に得られた超音波反射信号
の中で試料台の表面に対応した超音波反射信号は所定時
間幅のウインドウ中の外側において生じゲート信号を発
生させることがなく、よってゲート信号により試料台の
内部の所定の深さ領域の状態を示す超音波反射信号が描
画信号として抽出されることがない。
The ultrasonic microscope sample holding device according to the present invention for attaining the former object of the present invention described above has an acoustic lens of an ultrasonic microscope which has a predetermined scanning region including a sample stage on which a sample is placed. Among the ultrasonic wave reflection signals obtained by scanning, the ultrasonic wave reflection signals corresponding to the surface of the sample stage are generated outside the window of the predetermined time width and do not generate a gate signal. The ultrasonic reflection signal indicating the state of the predetermined depth region inside the sample stage is not extracted as the drawing signal.

【0045】上記ウインドウ中には試料の表面に対応し
た超音波反射信号のみが検知され、試料の表面に対応し
た超音波反射信号がウインドウ中で所定の基準検出レベ
ル以上になった後の所定遅延時間経過後に所定時間幅の
ゲート信号が発せられ、ゲート信号が発せられている間
に検知した超音波反射信号が試料の内部の所定の深さ位
置の状態を示す描画信号として抽出される。
Only the ultrasonic reflected signal corresponding to the surface of the sample is detected in the window, and the predetermined delay after the ultrasonic reflected signal corresponding to the surface of the sample exceeds a predetermined reference detection level in the window. After a lapse of time, a gate signal having a predetermined time width is emitted, and the ultrasonic reflection signal detected while the gate signal is being emitted is extracted as a drawing signal indicating the state of a predetermined depth position inside the sample.

【0046】上述したこの発明の後者の目的を達成する
為のこの発明に従った超音波顕微鏡試料保持装置では、
試料を着脱自在に保持した試料保持台がステージ上に載
置され試料保持台位置決め手段によりステージ上の所定
の位置に固定されると、ステージまたは音響レンズの移
動を制御して試料保持台に着脱自在に保持された試料の
所望の位置を音響レンズの走査開始位置に合致させる。
In the ultrasonic microscope sample holding device according to the present invention for achieving the latter object of the present invention described above,
When the sample holder that holds the sample detachably is placed on the stage and fixed at a predetermined position on the stage by the sample holder positioning means, the movement of the stage or the acoustic lens is controlled to attach and detach the sample holder. The desired position of the freely held sample is matched with the scanning start position of the acoustic lens.

【0047】[0047]

【実施例】以下この発明の実施例を添付の図面中の図4
乃至図6を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will now be described with reference to FIG.
It will be described with reference to FIGS.

【0048】この実施例の超音波顕微鏡試料保持装置の
構造は図1の(A),(B),(C)に示された従来の
超音波顕微鏡試料保持装置の構造と同じであるが、凹所
14の深さDが略2.5mmに設定されていて、試料の
表面と凹所14に載置される貼り合わせウエハー12の
厚さ略1.0mmとの差異は略1.5mmになってい
る。
The structure of the ultrasonic microscope sample holder of this embodiment is the same as the structure of the conventional ultrasonic microscope sample holder shown in FIGS. 1A, 1B and 1C, The depth D of the recess 14 is set to about 2.5 mm, and the difference between the surface of the sample and the thickness of the bonded wafer 12 placed in the recess 14 of about 1.0 mm is about 1.5 mm. Has become.

【0049】この場合、図1の(C)の矢印A´で示さ
れた位置で試料台10を音響レンズにより観察した際に
得られる超音波反射信号が図4の(A´)に示されてお
り、最初の大きなレベルの波は試料台10の表面(上
面)に対応し、また2番目に大きなレベルの波は試料台
10の裏面(下面)に対応している。
In this case, the ultrasonic reflection signal obtained when the sample table 10 is observed by the acoustic lens at the position shown by the arrow A'in FIG. 1C is shown in FIG. The wave of the first large level corresponds to the front surface (upper surface) of the sample table 10, and the wave of the second larger level corresponds to the rear surface (lower surface) of the sample table 10.

【0050】また図1の(C)の矢印Aで示された位置
で試料台10の凹所14に載置された貼り合わせウエハ
ー12を音響レンズにより観察した際に得られる超音波
反射信号が図4の(A)に示されており、最初の大きな
レベルの波は貼り合わせウエハー12の表面(上面)に
対応し、また2番目に大きなレベルの波は貼り合わせウ
エハー12の内部の界面に対応し、さらに3番目に大き
なレベルの波は貼り合わせウエハー12の裏面(下面)
に対応している。
Further, an ultrasonic reflection signal obtained when the bonded wafer 12 placed in the recess 14 of the sample table 10 at the position shown by the arrow A in FIG. As shown in FIG. 4A, the first large level wave corresponds to the surface (upper surface) of the bonded wafer 12, and the second largest level wave is at the interface inside the bonded wafer 12. Correspondingly, the wave of the third largest level is the back surface (bottom surface) of the bonded wafer 12.
It corresponds to.

【0051】この実施例では、試料台10の上方に所定
距離離間された音響レンズから超音波が発振されてから
試料台10の表面(上面)に対応した超音波反射信号を
得るまでの時間と貼り合わせウエハー12の表面(上
面)に対応した超音波反射信号を得るまでの時間との差
Txは、試料台10の表面(上面)から貼り合わせウエ
ハー12の表面(上面)までの距離(即ち、試料台10
の凹所14の深さD略2.5mmと凹所14に載置され
る貼り合わせウエハー12の厚さ略1.0mmとの差
異)略1.5mmを超音波顕微鏡のステージ上の水槽中
で音響レンズから発振される超音波が音速1500m/
secで往復するのに必要な時間略2μsecとなる。
In this embodiment, the time from when the ultrasonic wave is oscillated from the acoustic lens which is separated by a predetermined distance above the sample table 10 until the ultrasonic reflected signal corresponding to the surface (upper surface) of the sample table 10 is obtained. The difference Tx from the time until the ultrasonic reflection signal corresponding to the surface (upper surface) of the bonded wafer 12 is obtained is the distance from the surface (upper surface) of the sample table 10 to the surface (upper surface) of the bonded wafer 12 (that is, , Sample table 10
The difference between the depth D of the recess 14 of approximately 2.5 mm and the thickness of the bonded wafer 12 placed in the recess 14 of approximately 1.0 mm) is approximately 1.5 mm in the water tank on the stage of the ultrasonic microscope. Ultrasonic waves oscillated from the acoustic lens at a sound velocity of 1500 m /
The time required to make a round trip in sec is about 2 μsec.

【0052】前述した如く図4の(A)の貼り合わせウ
エハー12の上面に対応した超音波信号の波に対応して
予め設定されるウィンドウ幅Twは1.33μsec〜
1.5μsecなので、図4の(A)及び(A´)に示
す如く試料台10の表面(上面)に対応した超音波反射
信号は上記ウィンドウ幅Twの外側に位置する。よって
試料台表面に対応した超音波信号の波のレベルがウィン
ドウ幅Twにおける観察基点検出レベルVxよりも大き
いとしても、図4の(B´)に示す如くゲート信号は発
生されず、当然の事ながら図1の(C)の矢印A´で示
された位置で試料台10を音響レンズにより観察した際
に得られる図4の(A´)に示された超音波反射信号か
らは図4の(C´)に示す如く何の描画信号もえること
はない。
As described above, the window width Tw preset corresponding to the wave of the ultrasonic signal corresponding to the upper surface of the bonded wafer 12 shown in FIG. 4A is 1.33 μsec.
Since it is 1.5 μsec, the ultrasonic reflection signal corresponding to the surface (upper surface) of the sample table 10 is located outside the window width Tw as shown in FIGS. 4A and 4A. Therefore, even if the wave level of the ultrasonic signal corresponding to the surface of the sample table is higher than the observation base point detection level Vx in the window width Tw, the gate signal is not generated as shown in FIG. However, from the ultrasonic reflection signal shown in FIG. 4A ′ obtained when the sample stage 10 is observed by the acoustic lens at the position shown by the arrow A ′ in FIG. As shown in (C '), no drawing signal is obtained.

【0053】図4の(B)には、ウィンドウ幅Twにお
いて検知した貼り合わせウエハー12の表面からの超音
波反射信号のレベルが観察基点検出レベルVxを越えて
から所定の遅延時間Tdが経過した後に所定の時刻幅の
ゲート信号が発信される状態が示されており、また図4
の(C)には、ゲート信号発生中に検知される貼り合わ
せウエハー12の内部の界面からの超音波反射信号を基
に抽出される描画信号が示されている。
In FIG. 4B, a predetermined delay time Td elapses after the level of the ultrasonic reflection signal from the surface of the bonded wafer 12 detected at the window width Tw exceeds the observation reference point detection level Vx. After that, a state in which a gate signal having a predetermined time width is transmitted is shown in FIG.
In (C), a drawing signal extracted based on the ultrasonic reflection signal from the internal interface of the bonded wafer 12 detected during the generation of the gate signal is shown.

【0054】このように本願発明の実施例の試料保持装
置では、貼り合わせウエハー12の内部の全域を観察す
る場合に試料台10の上面を走査する間に試料台10の
内部の状態を示す超音波反射信号に基づく描画信号は抽
出されることがない。よって、貼り合わせウエハー12
の上面と試料台10の上面との境界(図3の(B)にお
ける第1及び第2の位置決め部分14a,14b)近傍
でも、貼り合わせウエハー12の内部の界面の状態を示
す描画信号のみが抽出され、上記近傍における貼り合わ
せウエハー12の内部の界面の状態を明確に表示するこ
とが出来る。
As described above, in the sample holding apparatus according to the embodiment of the present invention, when observing the entire area inside the bonded wafer 12, the inside of the sample table 10 is observed while scanning the upper surface of the sample table 10. The drawing signal based on the sound wave reflection signal is not extracted. Therefore, the bonded wafer 12
Even in the vicinity of the boundary between the upper surface of the wafer and the upper surface of the sample table 10 (first and second positioning portions 14a and 14b in FIG. 3B), only the drawing signal indicating the state of the interface inside the bonded wafer 12 is generated. It is possible to clearly display the state of the interface that is extracted and inside the bonded wafer 12 in the vicinity of the above.

【0055】このことは上記近傍における貼り合わせウ
エハー12の領域の利用を可能にしており、高価な貼り
合わせウエハー12の利用効率を向上させている。
This makes it possible to use the area of the bonded wafer 12 in the vicinity of the above, and improves the utilization efficiency of the expensive bonded wafer 12.

【0056】さらにウエハーの無い領域の試料台表面部
では描画信号は“ゼロレベル”となるので無用なノイズ
が無く見易い画像となる。
Furthermore, since the drawing signal is "zero level" on the surface of the sample table in the area where there is no wafer, the image is easy to see without unnecessary noise.

【0057】なお上述した実施例では、試料台10の凹
所14の深さDと凹所14に載置される貼り合わせウエ
ハー12の厚さとの差異を略1.5mmとしたが、本願
発明の要旨に従えば上記差異は、貼り合わせウエハー1
2の表面(上面)に対応した超音波反射信号に対応して
予め設定するウィンドウ幅Twの手前側において試料台
10の表面(上面)に対応した超音波反射信号を得るま
での時間が位置するよう設定して、試料台10の表面
(上面)に対応した超音波反射信号がウィンドウ幅Tw
内に位置しなければ良いのである。
In the embodiment described above, the difference between the depth D of the recess 14 of the sample table 10 and the thickness of the bonded wafer 12 placed in the recess 14 is about 1.5 mm. According to the summary of the above, the difference is that the bonded wafer 1
The time until the ultrasonic reflection signal corresponding to the surface (upper surface) of the sample stage 10 is located on the near side of the window width Tw preset corresponding to the ultrasonic reflection signal corresponding to the second surface (upper surface). The ultrasonic reflection signal corresponding to the surface (upper surface) of the sample table 10 is set to the window width Tw.
It doesn't have to be located inside.

【0058】図5には、この発明の別の実施例に従った
超音波顕微鏡試料保持装置が概略的に示されている。
FIG. 5 schematically shows an ultrasonic microscope sample holding device according to another embodiment of the present invention.

【0059】この超音波顕微鏡試料保持装置は、試料が
着脱自在に保持される試料保持台30と、試料保持台3
0が載置され略水平面内で所定の範囲内を移動自在な電
動ステージ32と、を備えている。
This ultrasonic microscope sample holding apparatus comprises a sample holding table 30 on which a sample is detachably held and a sample holding table 3
An electric stage 32, on which 0 is mounted and is movable within a predetermined range in a substantially horizontal plane, is provided.

【0060】電動ステージ32は、床または机上に載置
される固定台座32aと、固定台座32a上でX軸方向
に移動自在な第1の移動台座32bと、第1の移動台座
32b上でY軸方向に移動自在な第2の移動台座32c
と、第2の移動台座32c上に支持された水槽32d
と、を備えている。
The electric stage 32 has a fixed pedestal 32a placed on the floor or a desk, a first movable pedestal 32b movable in the X-axis direction on the fixed pedestal 32a, and a Y movable on the first movable pedestal 32b. A second movable pedestal 32c that is movable in the axial direction
And a water tank 32d supported on the second moving base 32c
And are equipped with.

【0061】第1の移動台座32b及び第2の移動台座
32cの夫々は、図示しないパルスモータと送り捩子と
の組み合わせによりX軸方向またはY軸方向の移動が行
われ、水槽32dをXY方向に移動させて試料保持台3
0上の試料を二次元的に走査する。
Each of the first moving pedestal 32b and the second moving pedestal 32c is moved in the X-axis direction or the Y-axis direction by a combination of a pulse motor (not shown) and a feed screw to move the water tank 32d in the XY directions. To the sample holder 3
The sample on 0 is scanned two-dimensionally.

【0062】試料保持台30としては図1に示した試料
保持装置を使用することが出来、試料保持台30はステ
ージ32の第2の移動台座32c上の水槽32dの底面
の所定の位置に図示しない試料保持台位置決め手段によ
り着脱自在に固定される。
The sample holder 30 shown in FIG. 1 can be used as the sample holder 30, and the sample holder 30 is shown at a predetermined position on the bottom surface of the water tank 32d on the second moving base 32c of the stage 32. Not fixed by the sample holder positioning means.

【0063】なおこの実施例では、試料保持台位置決め
手段として水槽32dの底面の所定の位置に設置された
位置決めピンと試料保持台30の所定の位置に形成され
た位置決めピン挿入孔とで構成されている。
In this embodiment, the sample holding table positioning means is composed of a positioning pin installed at a predetermined position on the bottom surface of the water tank 32d and a positioning pin insertion hole formed at a predetermined position of the sample holding table 30. There is.

【0064】図5には、水槽32d中で試料保持台30
に保持された試料の所望の位置(例えば中心)の上方に
所定距離離間した音響レンズ34を支持している音響レ
ンズ支持フレーム36も示されている。音響レンズ支持
フレーム36は音響レンズ34を略水平な所定の微小な
領域内で例えばX方向に高速振動させたり、上下に移動
させたりする音響レンズ走査部38を含んでいる。
FIG. 5 shows the sample holder 30 in the water tank 32d.
Also shown is an acoustic lens support frame 36 supporting an acoustic lens 34 spaced a predetermined distance above a desired position (e.g., center) of the sample held at. The acoustic lens support frame 36 includes an acoustic lens scanning unit 38 which causes the acoustic lens 34 to vibrate at a high speed in, for example, the X direction in a predetermined substantially horizontal small area, and vertically moves.

【0065】超音波顕微鏡において、試料保持台30に
保持された試料の観察を行うには、まず水槽32dの外
部で試料保持台30に試料を着脱自在に固定した後、図
示しない試料セットスイッチを押すと図示しないステー
ジ制御部により電動ステージ32が駆動され、図6の
(A)に示す如く、音響レンズ34の位置から試料保持
台30が退避されるように水槽32dが右斜め下方に移
動させられる。この状態で試料30aを着脱自在に保持
した試料保持台30を水槽32dの略中央にある所定の
位置に上述した試料保持台位置決め手段(位置決めピン
40a及び位置決めピン挿入孔40b)により着脱自在
に固定される。
In order to observe the sample held on the sample holder 30 in the ultrasonic microscope, first, the sample is detachably fixed to the sample holder 30 outside the water tank 32d, and then a sample set switch (not shown) is used. When pressed, the electric stage 32 is driven by a stage control unit (not shown), and the water tank 32d is moved obliquely downward to the right so that the sample holder 30 is retracted from the position of the acoustic lens 34, as shown in FIG. To be In this state, the sample holder 30 that detachably holds the sample 30a is detachably fixed to a predetermined position in the approximate center of the water tank 32d by the above-described sample holder positioning means (positioning pin 40a and positioning pin insertion hole 40b). To be done.

【0066】その後、図示しない試料セット確認スイッ
チを押すことにより電動ステージ32が動作を開始し
て、図6の(B)に示す如く試料保持台30上に保持さ
れた試料の所望の位置(通常はその略中央)を音響レン
ズ34の光軸に合致させるよう水槽32dを左斜め上方
に移動させる。
Then, by pressing a sample set confirmation switch (not shown), the electric stage 32 starts to operate, and as shown in FIG. 6B, the desired position of the sample held on the sample holder 30 (normally The water tank 32d is moved diagonally upward to the left so that its (approximately its center) coincides with the optical axis of the acoustic lens 34.

【0067】この初期位置設定作業は、図示しないステ
ージ制御部に予め試料保持台30上の試料位置を記憶さ
せておくことにより操作者が試料セット確認スイッチを
押すだけで音響レンズ34の位置に予め記憶された試料
位置が合致するように電動ステージ32が自動的に駆動
制御される。
In this initial position setting operation, the stage controller (not shown) stores the sample position on the sample holder 30 in advance, so that the operator simply presses the sample set confirmation switch to set the position of the acoustic lens 34 in advance. The motorized stage 32 is automatically driven and controlled so that the stored sample positions match.

【0068】そして、超音波顕微鏡の図示しない走査開
始スイッチをオンすることにより移動台座32a,32
bがXY方向に移動して試料上の選択された所定の領域
内が音響レンズ34により所定の走査パターンで走査を
開始される。
Then, by turning on a scanning start switch (not shown) of the ultrasonic microscope, the moving pedestals 32a, 32
As b moves in the XY directions, the acoustic lens 34 starts scanning in a predetermined area on the sample in a predetermined scanning pattern.

【0069】この後、試料保持台30に保持された試料
の全体は超音波で観察され、前述した実施例の説明にあ
った如く、試料の全体の内部の界面の状態のみを示す描
画信号を抽出し、図示しない表示装置上に明確に表示す
る。
After that, the entire sample held on the sample holder 30 is observed by ultrasonic waves, and a drawing signal showing only the state of the internal interface of the entire sample is observed as described in the above embodiment. It is extracted and clearly displayed on a display device (not shown).

【0070】この実施例では、試料保持台30を水槽3
2dにセットする際に音響レンズ34の位置から試料保
持台30の取り付け位置が退避するように水槽32d
(移動台座32a,32b)が自動的に移動するので試
料保持台30の交換作業を容易に行うことが出来るとと
もに、試料保持台30のセットが終わると図示しないス
テージ制御部により電動ステージ32が駆動されて水槽
32dが自動的に復帰されるので試料保持台30を交換
する度に上記合致作業を手動で行う必要がない。
In this embodiment, the sample holder 30 is attached to the water tank 3.
The water tank 32d so that the mounting position of the sample holder 30 is retracted from the position of the acoustic lens 34 when set to 2d.
Since the (movable pedestals 32a, 32b) are automatically moved, the sample holding table 30 can be easily replaced, and when the setting of the sample holding table 30 is completed, the electric stage 32 is driven by the stage controller (not shown). Since the water tank 32d is automatically restored, it is not necessary to manually perform the matching work each time the sample holder 30 is replaced.

【0071】またこの実施例では、複数種類の試料保持
台30及び複数種類の試料の組み合わせについて前もっ
て上記合致作業を行い、その際の夫々の組み合わせにお
ける第1及び第2の移動台座32b及び32cの夫々の
座標位置を第1及び第2の移動台座32b及び32cの
上記図示しないステージ移動制御手段に記憶させておけ
ば、上記組み合わせを変えて水槽32dの略中央にある
所定の位置に対して新たな試料保持台30を設置した時
は、種々の組み合わせに対応して前もって決めておいた
種々の選択スイッチの中から設置された新たな組み合わ
せに対応したものを選択して操作し、その後に上記図示
しない走査開始スイッチをオンにすると、上記合致作業
を手動で行うことなく新たな組み合わせに対する合致作
業が上記図示しないステージ移動制御手段により行わ
れ、引き続いて新たな組み合わせの試料保持台30及び
試料保持台30に保持された試料の全体の走査が行われ
る。
Further, in this embodiment, the matching work is performed in advance for a combination of a plurality of types of sample holders 30 and a plurality of types of samples, and the first and second movable pedestals 32b and 32c in each combination at that time are matched. If the respective coordinate positions are stored in the stage movement control means (not shown) of the first and second moving pedestals 32b and 32c, the above-mentioned combination is changed and a new position is added to a predetermined position substantially in the center of the water tank 32d. When the sample holder 30 is installed, one corresponding to the new combination installed is selected from the various selection switches determined in advance corresponding to the various combinations, and then operated. When a scan start switch (not shown) is turned on, the matching work for a new combination is not shown in the figure without manually performing the matching work. Performed by the stage movement control unit, followed by the entire scan of the sample held by the sample holder 30 and the sample holder 30 of the new combination is performed.

【0072】なお上述した実施例では試料保持台30を
載せた水槽32dを移動させて視野選択を行っている
が、これとは逆に水槽を固定とし音響レンズを水槽に対
して移動させることによっても上述した実施例と同じ効
果を得ることが出来る。
In the above-mentioned embodiment, the water tank 32d on which the sample holder 30 is placed is moved to select the field of view. On the contrary, by fixing the water tank and moving the acoustic lens with respect to the water tank. Also, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained.

【0073】図7にそのような構成が概略的に示されて
いる。図7において、略中心位置に図6に示した如き試
料保持台位置決め手段(位置決めピン40a及び位置決
めピン挿入孔40b)が設置されている水槽50はZ軸
モータ52によりタイミングベルト54を介して駆動さ
れるリードスクリュー56により上下方向(Z軸方向)
の所望の位置に移動自在に支持されている。
FIG. 7 schematically shows such an arrangement. In FIG. 7, the water tank 50 in which the sample holder positioning means (positioning pin 40a and positioning pin insertion hole 40b) as shown in FIG. 6 is installed at a substantially central position is driven by a Z-axis motor 52 via a timing belt 54. Vertical direction (Z-axis direction) by the lead screw 56
Is movably supported at the desired position.

【0074】水槽50の上には水槽50の左右方向に略
水平に延出した音響レンズ支持梁51が架け渡されてい
て、音響レンズ支持梁51の左右両端部には水槽50の
両側で前後方向に略水平に延出したボール捩子58及び
ガイド棒60が螺合及び挿入されている。音響レンズ支
持梁51はボール捩子58をY軸モータ62により一方
向または他方向に回動させることにより水槽50上で前
後方向(Y軸方向)の所望の位置に移動自在である。
An acoustic lens support beam 51 extending substantially horizontally in the left-right direction of the water tank 50 is bridged over the water tank 50, and the left and right ends of the acoustic lens support beam 51 are arranged on both sides of the water tank 50 in the front-rear direction. The ball screw 58 and the guide rod 60 extending substantially horizontally in the direction are screwed and inserted. The acoustic lens support beam 51 can be moved to a desired position in the front-rear direction (Y-axis direction) on the water tank 50 by rotating the ball screw 58 in one direction or the other direction by the Y-axis motor 62.

【0075】音響レンズ支持梁51には音響レンズ支持
梁51の移動方向である前後方向(Y軸方向)と水平に
直交する左右方向(X軸方向)に延出したボール捩子6
4が回転自在に支持されており、ボール捩子64上には
音響レンズ66が螺合されている。
The acoustic lens support beam 51 has a ball screw 6 extending in the left-right direction (X-axis direction) which is orthogonal to the front-rear direction (Y-axis direction) which is the moving direction of the acoustic lens support beam 51.
4 is rotatably supported, and an acoustic lens 66 is screwed onto the ball screw 64.

【0076】音響レンズ66はボール捩子64をX軸モ
ータ68により一方向または他方向に回動させることに
より水槽50上で左右方向(X軸方向)の所望の位置に
移動自在である。
The acoustic lens 66 can be moved to a desired position in the left-right direction (X-axis direction) on the water tank 50 by rotating the ball screw 64 in one direction or the other direction by the X-axis motor 68.

【0077】この構成では、水槽50中の試料保持台位
置決め手段に対して試料保持台30を着脱する際には、
図示しない試料セットスイッチを押すと図示しないステ
ージ制御部により音響レンズ支持梁51はその前後方向
移動範囲の後端に移動され、さらに音響レンズ66がボ
ール捩子64上の左右方向移動範囲のいずれか一端に移
動されることにより、上記着脱を容易にしている。
With this configuration, when the sample holder 30 is attached to or detached from the sample holder positioning means in the water tank 50,
When a sample set switch (not shown) is pressed, the acoustic lens support beam 51 is moved to the rear end of its front-rear direction movement range by a stage control section (not shown), and the acoustic lens 66 is moved to either the left-right direction movement range on the ball screw 64. By being moved to one end, the above attachment / detachment is facilitated.

【0078】試料保持台位置決め手段に試料保持台30
がセットされた後に図示しない試料セット確認スイッチ
を押すと、音響レンズ支持梁51はその前後方向移動範
囲の略中央まで移動され、さらに音響レンズ66はボー
ル捩子64上の左右方向移動範囲の略中央まで移動され
ることにより、その観察中心を水槽50中の試料保持台
位置決め手段の試料保持台30上の試料の予め設定され
た所望の位置に合致させる。
The sample holder 30 is used as the sample holder positioning means.
When a sample set confirmation switch (not shown) is pressed after the is set, the acoustic lens support beam 51 is moved to approximately the center of its front-rear movement range, and the acoustic lens 66 is further moved in the left-right movement range on the ball screw 64. By moving to the center, the observation center is matched with the preset desired position of the sample on the sample holder 30 of the sample holder positioning means in the water tank 50.

【0079】また試料セット確認スイッチを押す代わり
にステージ部を覆う開閉式のカバーを付けてその開閉状
態をセンサーにより検知し、カバーを閉めたことが検知
された時にステージを移動させる方式を採用することも
出来る。
Further, instead of pressing the sample set confirmation switch, an openable cover for covering the stage is attached, the open / closed state is detected by a sensor, and the stage is moved when it is detected that the cover is closed. You can also do it.

【0080】さらにステージを移動させて音響レンズが
試料の中心にセットされた後にオートフォーカス機構を
動作させて所望の位置に焦点を自動的に合致させたり、
その後に予めセットされている視野枠に従って試料の観
察を行わせることも可能である。
After moving the stage to set the acoustic lens at the center of the sample, the autofocus mechanism is operated to automatically adjust the focus to a desired position.
After that, it is possible to observe the sample according to the field frame set in advance.

【0081】試料保持装置に一度に複数の試料を保持さ
せることが出来る場合には、各試料の所望の位置に順番
に音響レンズの観察中心位置を合わせ走査を開始して各
試料の超音波反射信号画像を取り、そのデータをハード
ディスクや光磁気ディスクなどの外部記憶装置に保存す
るという一連の動作を制御部にプログラムしておけば、
試料保持装置をセットした後は試料保持装置上の全部の
試料の観察が終了するまで操作者はまったく操作する必
要がなくなり、この間に別の作業を行うことが出来る等
の効果を得ることが出来る。
When a plurality of samples can be held at one time by the sample holding device, the observation center position of the acoustic lens is sequentially aligned with a desired position of each sample and scanning is started to reflect ultrasonic waves of each sample. If you program a series of operations to take a signal image and save the data in an external storage device such as a hard disk or a magneto-optical disk,
After setting the sample holding device, the operator does not need to operate at all until the observation of all the samples on the sample holding device is completed, and it is possible to obtain the effect that another work can be performed during this .

【0082】[0082]

【発明の効果】以上詳述した如く、この発明に従った超
音波顕微鏡試料保持装置では、試料台の所定の位置に載
置された試料の上面と試料台の上面との境界近傍でも試
料の内部の所望の深さ領域の状態を明確に知ることが出
来、また試料外の領域には無用なノイズの無い見易い画
像を得ることが出来る。また試料保持装置をセットした
際の走査開始基準位置としての試料保持装置上の試料の
中心に超音波顕微鏡の音響レンズの作用中心を合わせる
作業を自動的に行うことが出来る。
As described in detail above, in the ultrasonic microscope sample holding device according to the present invention, the sample is held even near the boundary between the upper surface of the sample placed at a predetermined position on the sample table and the upper surface of the sample table. The state of the desired depth region inside can be clearly known, and an easy-to-see image without unnecessary noise can be obtained in the region outside the sample. Further, it is possible to automatically perform the work of aligning the working center of the acoustic lens of the ultrasonic microscope with the center of the sample on the sample holding device as the scanning start reference position when the sample holding device is set.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)は寸法の一部以外は本願発明の実施例に
従った超音波顕微鏡試料保持装置と共通の寸法及び構造
を備えた従来の超音波顕微鏡試料保持装置を試料解放状
態で示す平面図であり、(B)は(A)の超音波顕微鏡
試料保持装置を試料固定状態で示す平面図であり、
(C)は(B)のC−C線に沿った縦断面図である。
FIG. 1A shows a conventional ultrasonic microscope sample holding device having the same size and structure as the ultrasonic microscope sample holding device according to the embodiment of the present invention except for a part of the dimensions in a sample released state. FIG. 4B is a plan view showing the ultrasonic microscope sample holding device of FIG.
(C) is a longitudinal sectional view taken along the line CC of (B).

【図2】試料としての貼り合わせウエハーの内部の界面
の状態を観察する為に超音波顕微鏡を使用した場合にお
ける上記界面に対応した超音波反射信号のみを表示手段
に表示する為の描画信号として抽出する工程を示す図で
ある。
FIG. 2 is a drawing signal for displaying only an ultrasonic reflection signal corresponding to the interface when an ultrasonic microscope is used to observe the state of the interface inside the bonded wafer as a sample. It is a figure which shows the process to extract.

【図3】従来の図1の超音波顕微鏡試料保持装置に保持
された試料としての貼り合わせウエハーの内部の界面の
状態を観察する為に超音波顕微鏡を使用した場合に、超
音波顕微鏡試料保持装置の試料台の上面に対応した超音
波反射信号により上記界面に対応した超音波反射信号の
みを表示手段に表示する為の描画信号として抽出する工
程が妨害される工程を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an example of holding an ultrasonic microscope sample when an ultrasonic microscope is used to observe a state of an interface inside a bonded wafer as a sample held by the conventional ultrasonic microscope sample holding device of FIG. It is a figure which shows the process in which the process of extracting as a drawing signal for displaying only the ultrasonic reflection signal corresponding to the said interface on a display means by the ultrasonic reflection signal corresponding to the upper surface of the sample stand of an apparatus.

【図4】本願発明の実施例に従った図1の超音波顕微鏡
試料保持装置に保持された試料としての貼り合わせウエ
ハーの内部の界面の状態を観察する為に超音波顕微鏡を
使用した場合に、超音波顕微鏡試料保持装置の試料台の
上面に対応した超音波反射信号により上記界面に対応し
た超音波反射信号のみを表示手段に表示する為の描画信
号として抽出する工程が妨害されない工程を示す図であ
る。
4 shows a case where an ultrasonic microscope is used to observe the state of an interface inside a bonded wafer as a sample held by the ultrasonic microscope sample holding device of FIG. 1 according to an embodiment of the present invention. , A step of not interfering with the step of extracting as a drawing signal for displaying only the ultrasonic reflection signal corresponding to the above interface on the display means by the ultrasonic reflection signal corresponding to the upper surface of the sample stage of the ultrasonic microscope sample holding device It is a figure.

【図5】本願発明の別の実施例に従った超音波顕微鏡試
料保持装置の外観を概略的に示す図である。
FIG. 5 is a diagram schematically showing an appearance of an ultrasonic microscope sample holding device according to another embodiment of the present invention.

【図6】図5の超音波顕微鏡試料保持装置によって所定
の位置に着脱自在に固定された試料の所望の位置を超音
波顕微鏡の音響レンズの走査開始初期位置に合致させる
工程を概略的に示す図である。
FIG. 6 schematically shows a step of aligning a desired position of a sample detachably fixed at a predetermined position by the ultrasonic microscope sample holding device of FIG. 5 with a scanning start initial position of an acoustic lens of the ultrasonic microscope. It is a figure.

【図7】本願発明のさらに別の実施例に従った超音波顕
微鏡試料保持装置の外観を概略的に示す図である。
FIG. 7 is a diagram schematically showing an external appearance of an ultrasonic microscope sample holding device according to yet another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…試料台、12…貼り合わせウエハー(試料)、1
2a…オリフラ、14…凹所、14a…第1の位置決め
部分、14b…第2の位置決め部分、14c…弧状部
分、14c´…一部、14d…貫通孔、14d´…一
部、16…押圧手段、18…押圧部材、18a…回動中
心軸、18b…押圧突起、18c…板ばね、20…カ
ム、20a…回動中心軸、22…回り止め、30…試料
保持台、32…ステージ、32a…固定台座、32b…
第1の移動台座、32c…第2の移動台座、32d…水
槽、34…音響レンズ、36…音響レンズ支持フレー
ム、38…音響レンズ走査部、40a…位置決めピン、
40b…位置決めピン挿入孔、50…水槽、52…Z軸
モータ、54…タイミングベルト、56…リードスクリ
ュー、58…ボール捩子、60…ガイド棒、62…Y軸
モータ、64…ボール捩子、66…音響レンズ、68…
X軸モータ。
10 ... Sample stand, 12 ... Bonded wafer (sample), 1
2a ... Orifla, 14 ... Recess, 14a ... 1st positioning part, 14b ... 2nd positioning part, 14c ... Arc part, 14c '... Part, 14d ... Through hole, 14d' ... Part, 16 ... Pressing Means, 18 ... Pressing member, 18a ... Rotation center axis, 18b ... Pressing protrusion, 18c ... Leaf spring, 20 ... Cam, 20a ... Rotation center axis, 22 ... Rotation stop, 30 ... Sample holder, 32 ... Stage, 32a ... Fixed base, 32b ...
1st movable pedestal, 32c ... 2nd movable pedestal, 32d ... Water tank, 34 ... Acoustic lens, 36 ... Acoustic lens support frame, 38 ... Acoustic lens scanning part, 40a ... Positioning pin,
40b ... Locating pin insertion hole, 50 ... Water tank, 52 ... Z-axis motor, 54 ... Timing belt, 56 ... Lead screw, 58 ... Ball screw, 60 ... Guide rod, 62 ... Y-axis motor, 64 ... Ball screw, 66 ... Acoustic lens, 68 ...
X-axis motor.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 超音波発振後の所定時間経過後に設定さ
れた所定時間幅のウインドウ中で所定の基準検出レベル
以上の超音波反射信号を検知した後の所定遅延時間経過
後に所定時間幅のゲート信号を発し、ゲート信号が発せ
られている間に検知した超音波反射信号を描画信号とし
て抽出する超音波顕微鏡において試料を保持する為に使
用される試料保持装置であって、 試料が載置される凹所が形成された試料台を備えてお
り、 試料台の表面と上記凹所に載置された試料の高さとの差
異による夫々の箇所からの反射超音波の時間差が上記ウ
インドウの所定時間幅よりも大きくなるよう設定されて
いる、 ことを特徴とする超音波顕微鏡試料保持装置。
1. A gate having a predetermined time width after a lapse of a predetermined delay time after detecting an ultrasonic reflection signal having a predetermined reference detection level or higher in a window having a predetermined time width set after a predetermined time has elapsed after ultrasonic oscillation. A sample holding device used to hold a sample in an ultrasonic microscope that emits a signal and extracts the ultrasonic reflection signal detected while the gate signal is being emitted as a drawing signal. It is equipped with a sample table with a recess formed in it, and the time difference of the reflected ultrasonic waves from each point due to the difference between the surface of the sample table and the height of the sample placed in the above-mentioned recess is the predetermined time of the above window. An ultrasonic microscope sample holding device, which is set to be larger than the width.
【請求項2】 上記試料台の表面と上記凹所に載置され
た試料の高さとの差異が略1.5mm以上である、こと
を特徴とする請求項1に記載の超音波顕微鏡試料保持装
置。
2. The ultrasonic microscope sample holder according to claim 1, wherein the difference between the surface of the sample table and the height of the sample placed in the recess is about 1.5 mm or more. apparatus.
【請求項3】 試料が着脱自在に保持される試料保持台
と;試料保持台が載置され、略水平面内で所定の範囲内
を移動自在なステージと;ステージ上に設けられ、試料
保持台を着脱自在にステージ上の所定の位置に固定する
試料保持台位置決め手段と;試料保持台が試料保持台位
置決め手段によりステージ上の所定の位置に着脱自在に
固定された後にステージの移動を制御して、音響レンズ
を試料の走査開始位置に合致させるステージ移動制御手
段と;を備えたことを特徴とする超音波顕微鏡試料保持
装置。
3. A sample holding table on which a sample is detachably held; a stage on which the sample holding table is placed and which is movable within a predetermined range in a substantially horizontal plane; and a sample holding table provided on the stage. A sample holding table positioning means for detachably fixing the sample holding table to a predetermined position on the stage; and a movement of the stage is controlled after the sample holding table is detachably fixed to the predetermined position on the stage by the sample holding table positioning means. And a stage movement control means for aligning the acoustic lens with the scanning start position of the sample;
【請求項4】 試料が着脱自在に保持される試料保持台
と;試料保持台が載置されるステージと;ステージの上
方に設けられ、試料保持台上の試料面に沿って略水平面
内で移動自在な音響レンズと;試料保持台が試料保持台
位置決め手段によりステージ上の所定の位置に着脱自在
に固定された後に音響レンズの移動を制御して、音響レ
ンズを試料の走査開始位置に合致させる音響レンズ移動
制御手段と;を備えたことを特徴とする超音波顕微鏡試
料保持装置。
4. A sample holding table on which a sample is detachably held; a stage on which the sample holding table is mounted; provided above the stage and along a sample surface on the sample holding table within a substantially horizontal plane. A movable acoustic lens; after the sample holder is detachably fixed to a predetermined position on the stage by the sample holder positioning means, the movement of the acoustic lens is controlled so that the acoustic lens matches the scanning start position of the sample. An acoustic microscope sample holding device comprising:
JP5348495A 1993-12-27 1993-12-27 Sample holding device of ultrasonic microscope Withdrawn JPH07191004A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008233048A (en) * 2007-03-23 2008-10-02 Railway Technical Res Inst Ultrasonic flaw inspection method and apparatus

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