JPH07187945A - 化粧料 - Google Patents

化粧料

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JPH07187945A
JPH07187945A JP6318128A JP31812894A JPH07187945A JP H07187945 A JPH07187945 A JP H07187945A JP 6318128 A JP6318128 A JP 6318128A JP 31812894 A JP31812894 A JP 31812894A JP H07187945 A JPH07187945 A JP H07187945A
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Masaru Takeuchi
賢 竹内
Koji Yoshino
浩二 吉野
Yuji Suzuki
裕二 鈴木
Akira Kawamata
章 川俣
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Abstract

(57)【要約】 式(1) 【化1】 (Qは二価の炭化水素基、R13及びR14はH又はC1
5の炭化水素基)で表わされる基であり、残りはC1
30の炭化水素基又は-X-R15(Xはエーテル結合及び/
又はエステル結合を含む二価炭化水素基、R15はC1
30の炭化水素基)で表わされる基である。l、m及び
nは0以上2000以下の数を示し、l+m+n=0の
とき、R1 〜R3 、R10〜R12のうち少なくとも1つは
基(2)である。ただし、R1 〜R12のうち少なくとも
1つが、QがトリメチレンでR13及びR14が共に水素原
子である基(2)であるとき、C1〜C30の炭化水素基
の少なくとも1つは、C6〜C30の炭化水素基〕で表わ
されるシキロサン誘導体を含有する化粧料。 【効果】 乳化安定性に優れたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、乳化剤として有用な、
界面活性作用を有する新規シロキサン誘導体、その製造
方法及びこれを含有する化粧料に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】界面活
性作用を有するシリコーン化合物は、その変性親水基の
種類から、アニオン系親水基を有する化合物、カチオン
系親水基を有する化合物、ベタイン系親水基を有する化
合物及びノニオン系親水基を有する化合物の4種に大別
される。上記のうちノニオン系親水基を有する化合物と
しては、ポリオキシアルキレン基を親水基として有する
ポリオキシアルキレン変性シリコーン系界面活性剤が公
知であるが、このものは乳化安定性に劣るため、化粧料
等の乳化剤として用いた場合、満足な乳化安定性を得る
ためにはシリカ、粘度鉱物等の増粘剤を更に添加する必
要があった。
【0003】一方、ポリオキシアルキレン以外のノニオ
ン系の親水基としては多価アルコール性水酸基が考えら
れるが、多価アルコール性水酸基を親水基として有する
シリコーン系界面活性剤は現在のところほとんど知られ
ておらず、わずかに特公昭62-34039号公報に記載されて
いる(ポリ)グリセリン変性シリコーン及び特開昭57-2
09295号公報に記載されているソルビタン変性シリコー
ンが界面活性作用を有することが知られているのみであ
る。
【0004】また、多価アルコール性水酸基であるグリ
セリル基により変性されたシリコーン化合物は公知であ
り、特開昭62-195389号公報、特開昭64-16793号公報及
び特開昭63-101388号公報に記載されているが、これら
化合物はヒドロキシル基の反応性を利用した合成樹脂の
表面改質剤であり、その界面活性作用については不明で
ある。
【0005】このように、満足な性能を有するノニオン
系のシリコーン系界面活性剤は現在のところ皆無に等し
いものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を重ねた結果、後述のグリセリル基
を有する新規シロキサン誘導体が、化粧料等の乳化剤と
して好適なノニオン系界面活性剤であることを見いだ
し、本発明を完成した。
【0007】すなわち、本発明は、次の一般式(1)
【0008】
【化7】
【0009】(式中、Qは炭素数3〜20の二価炭化水
素基を示し、R13及びR14はそれぞれ水素原子又は炭素
数1〜5の炭化水素基を示し、そのうち少なくとも一方
は水素原子である。)で表わされる基であり、残りが炭
素数1〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状の炭化水素基
又は次式(3):
【0010】
【化8】-X-R15 (3)
【0011】(式中、Xはエーテル結合及び/又はエス
テル結合を含む二価炭化水素基を、R 15は炭素数1〜3
0の直鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表
わされる基であり、l、m及びnは0以上2000以下
の数を示し、l+m+n=0のとき、R1 〜R3 、R10
〜R12のうち少なくとも1つは基(2)である。ただ
し、R1 〜R12のうち1つが、QがトリメチレンでR13
及びR14が共に水素原子である基(2)であり、かつ残
り全てがメチル基である場合を除く。〕で表わされるシ
ロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧
料を提供するものである。
【0012】上記一般式(1)において、Qで示される
炭素数3〜20の二価炭化水素基としては、トリメチレ
ン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレ
ン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、
デカメチレン、ウンデカメチレン、ドデカメチレン、テ
トラデカメチレン、ヘキサデカメチレン、オクタデカメ
チレン等の直鎖アルキレン基;プロピレン、2−メチル
トリメチレン、2−メチルテトラメチレン、2−メチル
ペンタメチレン、3−メチルペンタメチレン等の分岐鎖
アルキレン基等が挙げられる。R13又はR14で示される
炭素数1〜5の炭化水素基としては、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、sec−ブ
チル、tert−ブチル、ネオペンチル、シクロペンチル等
の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基等が挙げられる。
またXで示されるエーテル結合及び/又はエステル結合
を含む二価炭化水素基としては-(CH2)r-(OC2H4)p-(OC3H
6)q-O-(ここでp及びqは0以上50以下の数、rは3
以上20以下の整数)、-(CH2) r-O-CO-、-(CH2)r-COO-
等が挙げられる。更に、炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖
又は環状の炭化水素基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル、エイコシル、ドエイコシル、テトラエイコシル、
ヘキサエイコシル、オクタエイコシル、トリアコンチル
等の直鎖アルキル基;イソプロピル、sec−ブチル、ter
t−ブチル、ネオペンチル、1−エチルプロピル、1−
ヘプチルデシル等の分岐鎖アルキル基;シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、アビエチル、コレステリル等の環
状アルキル基などが挙げられる。そして、l、m及びn
は、原料となるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
の入手のしやすさ、製造時の操作性などの点から、0以
上2000以下の範囲とすることが好ましい。
【0013】本発明のシロキサン誘導体(1)は、例え
ば次の反応式に従って製造することができる。 (1) 基(3)を有さないシロキサン誘導体(1a)
の製法:
【0014】
【化9】
【0015】〔式中、R16〜R27は少なくとも1つが水
素原子であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又
は環状の炭化水素基であり、l、m及びnは0以上20
00以下の数を示し、l+m+n=0のとき、R16〜R
18、R25〜R27のうち少なくとも1つは水素原子であ
る。Q′は少なくとも1個の二重結合を有する炭素数3
〜20の炭化水素基を示し、R13及びR14は前記と同じ
意味を有する。R1′〜R12′のうち、少なくとも1つ
は基(2)であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐
鎖又は環状の炭化水素基であり、l+m+n=0のと
き、R1′〜R3′、R10′〜R12′のうち少なくとも1
つは基(2)である。ただし、R1′〜R12′のうち1
つが、QがトリメチレンでR13及びR14が共に水素原子
である基(2)であり、かつ残り全てがメチル基である
場合を除く。〕
【0016】すなわち、少なくとも1個のケイ素−水素
結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
(4)に、アルケニルグリセリルエーテル(2′)を反
応させることにより、基(3)を有さないシロキサン誘
導体(1a)が得られる。
【0017】(2)基(3)を有するシロキサン誘導体
(1b)の製法:
【0018】
【化10】
【0019】〔式中、R16′〜R27′は少なくとも2つ
が水素原子であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐
鎖又は環状の炭化水素基であり、l、m及びnは前記と
同じ意味を示し、l+m+n=0のとき、R16′〜
18′、R25′〜R27′のうち少なくとも2つは水素原
子である。Q′、R13及びR14は前記と同じ意味を示
す。X′は少なくとも1個の二重結合を有し、かつエー
テル結合及び/又はエステル結合を含む炭化水素基を、
15は前記と同じ意味を示す。R1″〜R12″のうち、
少なくとも1つは基(2)であり、残りのうち少なくと
も1つは基(3)であり、残りが炭素数1〜30の直
鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基であり、l+m+n=
0のとき、R1″〜R3″、R10″〜R12″のうち少なく
とも1つは基(2)であり、残りのうち少なくとも1つ
は基(3)である。〕
【0020】すなわち、少なくとも2個のケイ素−水素
結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
(4′)に、アルケニルグリセリルエーテル(2′)及
び化合物(3′)を反応させることにより、基(3)を
有するシロキサン誘導体(1b)が得られる。ここで、
化合物(2′)と化合物(3′)は、どちらを先に化合
物(4′)に反応させても、また同時に化合物(4′)
に反応させてもよい。
【0021】原料であるオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサン(4)又は(4′)は、分子中に少なくとも1
個〔(4)〕又は少なくとも2個〔(4′)〕のケイ素
−水素結合を有することが必須とされるほかは、粘度、
分子構造等に特に制限はなく、公知の種々のものを使用
することができるが、原料の入手のしやすさ、製造時の
操作性などの点からl、m及びnが0以上2000以下
のものが好ましい。
【0022】化合物(2′)としては、一般式(2′)
においてQ′がω−アルケニル基であるものが好まし
い。また、化合物(3′)としては、一般式(3′)に
おいてX′が、
【0023】
【化11】
【0024】等であるものが好ましい。前記(1)及び
(2)の反応は、触媒の存在下に行われ、触媒としては
一般にヒドロシリル化に用いられるもの、例えば遊離ラ
ジカル開始剤;光開始剤;ルテニウム、ロジウム、パラ
ジウム、オスミウム、イリジウム、白金等の金属の錯体
化合物;これらをシリカゲル又はアルミナに担持させた
ものなどが挙げられる。これらのうち、特に塩化白金
酸、speier試薬(塩化白金酸のイソプロピルアルコール
溶液)等が好ましい。触媒の使用量はオルガノハイドロ
ジェンポリシロキサン(4)又は(4′)とアルケニル
グリセリルエーテル(2′)及び/又は化合物(3′)
との反応を促進するのに充分な量であればよく、特に限
定されないが、使用されるオレフィン1mol に対して1
-6〜10-1mol の範囲が好ましい。
【0025】本反応においては反応溶媒の使用は必須で
はないが、必要に応じて適当な溶媒中で反応を行っても
よい。反応溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定されず、例えばペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン等の炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キ
シレン等のベンゼン系溶媒;ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル等のエーテル系溶媒;メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のア
ルコール系溶媒などが挙げられる。アルコール系溶媒を
使用する場合には、Si-Hと-OH との間における脱水素反
応を防止ないし抑制するために、酢酸カリウム等のpH調
整剤(特開昭57-149290号公報)を用いるのが好まし
い。
【0026】本反応に使用されるオルガノハイドロジェ
ンポリシロキサン(4)又は(4′)に対するアルケニ
ルグリセリルエーテル(2′)及び/又は化合物
(3′)の割合は、得られるシロキサン誘導体(1)が
分子中に少なくとも1個以上のケイ素結合グリセリル基
(2)を有するに充分な量のアルケニルグリセリルエー
テル(2′)があれば、その他の割合は任意でよいが、
得られる化合物(1)を用いて炭素系の油剤を乳化する
場合は、基(2)と基(3)の合計ユニット数が、残存
するジメチルシロキサンユニット数と同じ割合か又はそ
れ以上の範囲とし、シリコン系の油剤を乳化する場合
は、基(2)と基(3)の合計ユニット数が、残存する
ジメチルシロキサンユニット数の1/5以下の範囲とす
るのが好ましい。
【0027】ヒドロシリル化は、0〜200℃で進行す
るが、反応速度や生成物の着色などを考え、0〜100
℃で行うのが好ましい。また、反応時間は0.5〜24
時間程度とするのが好ましい。
【0028】このようにして得られた本発明シロキサン
誘導体(1)は、化粧料用成分、特に乳化剤として好適
に用いることができる。適用し得る化粧料の剤型、種類
等は特に限定されず、例えば乳液、ローション、ファン
デーション等のスキンケア化粧料;シャンプー、リン
ス、トリートメント等のヘアケア化粧料などが挙げられ
る。化粧料中への本発明シロキサン誘導体(1)の配合
量も特に限定されないが、通常、0.001〜90重量
%、特に1〜50重量%の範囲が好ましい。
【0029】
【実施例】以下、実施例を挙げて更に詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0030】実施例1 (1)冷却管及び磁気撹拌子を備えた 100ml2口フラス
コに、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン97
g(0.72mol ) 及び1−ヘキセン30g(0.36
mol )を仕込み、これに塩化白金酸の5%イソプロピル
アルコール溶液0.72g(7.2mmol)を加え、氷水
浴下16時間撹拌した。蒸留により無色透明液体52.8
g(bp55−61℃/4Torr)(収率67%)を得た。
得られた生成物はIR及びNMRスペクトルにより、1
−ヘキシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ンであることを確認した。
【0031】(2)冷却管及び磁気撹拌子を備えた 100
ml2口フラスコに、(1)で合成した1−ヘキシル−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン15g(6
9mmol)、アリルグリセリルエーテル12g(91mmo
l) 、酢酸カリウムの10%エタノール溶液1.8g
(1.8mmol) 及びイソプロピルアルコール24gを仕
込み、これに塩化白金酸の5%イソプロピルアルコール
溶液0.18g (0.017mmol)を加え、40℃で1
7時間撹拌した。溶媒留去後、反応生成物をシリカゲル
カラムにかけて精製し、無色透明液体22g(収率93
%)を得た。得られた生成物はIR及びNMRスペクト
ルにより、3−(3−ヘキシル−1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサニル)プロピルグリセリルエーテル
(A)であることが確認された。
【0032】
【化12】
【0033】IR(液膜,cm-1) 3400(−OH) 2928(C−H) 1256(Si−Me) 1064,842,796(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.04,0.06(s,12H) Si−C 3 0.08−1.02(t,3H) −C 3 1.14−1.46(br,8H) −C 2− 0.40−0.66(m,4H) Si−C 2− 1.48−1.72(m,2H) C 2−CH2−O 3.32−3.59(m,4H) C 2−O 3.79−3.98(m,1H) C−OH 3.59−3.79(m,2H) C 2−OH 2.83−2.93(d,1H) CH−O 2.46−2.59(dd,1H) CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.46,0.53 Si−3 14.3,14.4 −32−CH2CH2O 22.8,23.4,23.6,31.8,33.2
2− 18.5 Si−2− 64.4 2−OH 70.7 H−OH 72.5 CH 22−O 74.6 CH−2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 7.22,7.89
【0034】実施例2 (1)実施例1の(1)と同様の方法により、1−デシ
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを合成
した(収率70%)。 (2)実施例1の(2)と同様の方法により3−(3−
デシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサニ
ル)プロピルグリセリルエーテル(B)を合成した(収
率93%)。
【0035】
【化13】
【0036】IR(液膜,cm-1) 3424(−OH) 2928(C−H) 1254(Si−Me) 1066,840,796(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.04,0.06(s,12H) Si−C 3 0.80−0.95(t,3H) −C 3 1.15−1.42(br,16H) −C 2− 1.48−1.68(m,2H) C 2−CH2−O 3.38−3.53(m,4H) C 2−O 0.38−0.57(m,4H) Si−C 2− 3.77−3.94(m,1H) C−OH 3.53−3.77(m,2H) C 2−OH 3.25−3.32(d,1H) CH−O 2.98−3.08(t,1H) CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.42,0.50 Si−3 14.2,14.3 −32−CH2CH2O 22.8,23.4,29.48,29.53,29.
75,29.81,32.1,33.6 −2− 18.5 Si−2 23.5 2CH2−O 72.4 CH 22−O 74.6 CH−2−O 70.9 H−OH 64.3 2−OH29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 7.22,7.89
【0037】実施例3 (1)実施例1の(1)と同様の方法により、1−ヘキ
サデシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
を合成した(収率70%)。 (2)実施例1の(2)と同様の方法により3−(3−
ヘキサデシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サニル)プロピルグリセリルエーテル(C)を合成した
(収率93%)。
【0038】
【化14】
【0039】IR(液膜,cm-1) 3404(−OH) 2956(C−H) 1254(Si−Me) 1064,840,796(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.04,0.06(s,12H) Si−C 3 0.81−0.96(t,3H) −C 3 1.16−1.41(br,28H) −C 2− 0.41−0.59(m,4H) Si−C 2− 1.53−1.70(m,2H) C 2−CH2−O 3.36−3.59(m,4H) C 2−O 3.59−3.80(m,2H) C 2−OH 2.83−2.93(d,1H) CH−O 2.46−2.59(dd,1H) CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.47,0.54 Si−3 14.3,14.4 −32−CH2CH2O 22.9,23.5,29.5,29.6,29.8
0,29.84,29.9,32.1,33.6 −
2− 18.6 Si−2 23.6 2CH2−O 64.4 2−OH 70.7 H−OH 72.6 CH22−O 74.6 CH−2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 7.22,7.93
【0040】実施例4 冷却管及び磁気攪拌子を備えた100ml2口フラスコに
ノナデカメチルノナシロキサン20g(30mmol)、1
0−ウンデセニルグリセリルエーテル9.5g(39mm
ol)、酢酸カリウムの10%エタノール溶液0.77g
(0.78mmol)及びイソプロピルアルコール18.5
gを仕込み、塩化白金酸の2%イソプロピルアルコール
溶液0.20g(7.7×10-3mmol)を加え、加熱し
昇温した。内容物の温度を40℃に保ち3.5時間攪拌
した。溶媒留去後、得られた反応生成物をヘキサンに溶
解し、濾過を行い溶媒を留去した後、得られた反応生成
物をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色透明オイル
21.7g(収率80%)を得た。得られた生成物は、
IR及びNMRスペクトルにより、ノナデカメチルノナ
シロキサニルウンデシルグリセリルエーテル(D)であ
ることを確認した。
【0041】
【化15】
【0042】1H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHC
3基準(7.28ppm)〕 0.00−0.18(m,57H) Si−C 3 0.48−0.64(m,2H) Si−C 2 1.20−1.42(br,16H) −C 2− 1.50−1.68(m,2H) C 2−CH2−O 3.40−3.58(m,4H) C 2−O 3.78−3.96(m,1H) C−OH 3.58−3.78(m,2H) C 2−OH 2.67−2.72(d,1H) CH−O 2.21−2.35(dd,1H) CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.39,1.26,1.34,1.37,1.98
Si−3 18.5 Si−2− 23.4,26.3,29.6,29.7,29.8,
29.9,33.7 −2− 64.5 2−OH 70.7 H−OH 72.1 CH22−O 72.7 CH−2−O
【0043】
【化16】
【0044】実施例5 実施例4と同様の方法により、ペンタメチルジシロキサ
ニルウンデシルグリセリルエーテル(E)を合成した
(収率56%)。
【0045】
【化17】
【0046】IR(液膜,cm-1) 3394(−OH) 2926,2860(C−H) 1254(Si−Me) 1062,843(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.05,0.07(s,15H) Si−C 3 0.43−0.62(m,2H) Si−C 2 1.14−1.40(br,16H) −C 2− 1.50−1.68(m,2H) C 2−CH2−O 3.38−3.58(m,4H) C 2−O 3.80−3.95(m,1H) C−OH 3.58−3.80(m,2H) C 2−OH 2.72−2.81(d,1H) CH−O 2.31−2.47(br,1H) CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.51,2.14 Si−3 18.6 Si−2 23.4,26.3,29.6,33.6 −2− 64.4 2−OH 70.7 H−OH 72.0 CH−2−O 72.6 CH22−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 6.97,7.61
【0047】実施例6 実施例4と同様の方法により、ウンデカメチルペンタシ
ロキサニルウンデシルグリセリルエーテル(F)を合成
した(収率48%)。この際、原料ウンデカメチルペン
タシロキサン中に1,5−ジヒドロデカメチルペンタシ
ロキサンが含まれていたため、同時に1,5−ビス〔1
1−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウンデシル〕
デカメチルペンタシロキサン(G)が得られた。得られ
た1,5−ビス〔11−(2,3−ジヒドロキシプロポ
キシ)ウンデシル〕デカメチルペンタシロキサン(G)
は、シリカゲルカラムにより単離精製した。その構造は
IR及びNMRスペクトルにより確認された。
【0048】
【化18】
【0049】IR(液膜,cm-1) 3406(−OH) 2962,2926,2860(C−H) 1260(Si−Me) 1035,801(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 −0.02−0.18(m,33H) Si−C 3 0.46−0.63(m,2H) Si−C 2− 1.17−1.42(br,16H) −C 2− 1.48−1.70(m,2H) C 2−CH2−O 3.38−3.59(m,4H) C 2−O 3.77−3.97(m,1H) C−OH 3.59−3.77(m,2H) C 2−OH 2.83−2.98(br,1H) CH−O 2.46−2.64(br,1H) CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.37,1.94,1.24,1.32,1.35
Si−3 18.5 Si−2− 23.4,26.3,29.58,29.66,29.
77, 29.84,33.6 −2− 64.4 2−OH 70.7 H−OH 72.0 CH22−O 72.7 CH−2−O
【0050】
【化19】
【0051】
【化20】
【0052】IR(液膜,cm-1) 3404(−OH) 2924,2856(C−H) 1260(Si−Me) 1080,1034,802(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.03,0.05(s,30H) Si−C 3 0.54(t,4H) Si−C 2− 1.28(br,32H) −C 2− 1.48−1.69(m,4H) C 2−CH2−O 2.92(t,2H) CH2−O 3.20(d,2H) CH−O 3.36−3.57(m,8H) C 2−O 3.57−3.78(m,4H) C 2−OH 3.78−3.96(m,2H) C−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕
【0053】
【化21】
【0054】0.35,1.34 a,b 1.24 c 18.4 Si−2− 23.4,26.2,29.56,29.64,29.
73, 29.76,29.8 −2− 64.4 −2−OH 70.8 −H−OH 72.0 −CH22−O 72.5 −CH−2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 −22.3 C −21.7 B 7.62 A
【0055】実施例7 冷却管及び磁気攪拌子を備えた100ml2口フラスコ
に、α,ω−ジヒドロジメチルポリシロキサン(平均鎖
長20)30g(18.5mmol)、10−ウンデセニル
グリセリルエーテル11.8g(48.3mmol)、酢酸
カリウムの10%エタノール溶液0.95g(0.97
mmol)及びイソプロピルアルコール24gを仕込み、こ
れに塩化白金酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.
26g(0.010mmol)を加え、加熱し昇温した。内
容物の温度を50℃に保ち、2時間攪拌した。溶媒を留
去した後、減圧蒸留により未反応10−ウンデセニルグ
リセリルエーテルを留去することにより、褐色高粘稠物
を得た。この褐色高粘稠物を活性炭で処理し、無色透明
の高粘稠物35.0g(収率89.7%)を得た。得ら
れた生成物はIR及びNMRスペクトルにより、α,ω
−ビス〔11−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウ
ンデシル〕ジメチルポリシロキサン(平均鎖長20)
(H)であることを確認した。
【0056】
【化22】
【0057】IR(液膜,cm-1) 3420(−OH) 2964,2928,2860(C−H) 1262(Si−Me) 1100,1026,802(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.00(br,約132H) Si−C 3 0.57(t,4H) Si−C 2− 1.39(br,32H) −C 2− 1.47−1.70(m,4H) C 2−CH2−O 2.22(br,2H) −CH2−O 2.62(br,2H) −CH−O 3.30−3.59(m,8H) C 2−O 3.59−3.80(m,4H) C 2−OH 3.80−3.96(m,2H) C−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3 基準
(77.2ppm)〕 0.39,1.23,1.36 Si−3 18.5 Si−2− 23.4,26.3,29.6,29.8,33.7
2− 64.7 −2OH 70.6 −H−OH 72.0 −CH22−O 72.7 −CH−2−O
【0058】
【化23】
【0059】実施例8 実施例7と同様の方法によりα,ω−ビス〔11−
(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウンデシル〕ジメ
チルポリシロキサン(平均鎖長50)(I)を合成した
(収率95.3%)。
【0060】
【化24】
【0061】IR(液膜,cm-1) 3420(−OH) 2968,2932(C−H) 1264(Si−Me) 1094,1020,866,802(Si−O−S
i)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.08(br,約312H) Si−C 3 0.57(t,4H) Si−C 2 1.30(br,32H) −C 2− 1.48−1.80(m,4H) C 2−CH−O 2.20(br,2H) CH2−O 2.63(br,2H) CH−O 3.38−3.60(m,8H) C 2−O 3.60−3.81(m,4H) C 2−OH 3.81−3.97(m,2H) C−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3 基準
(77.2ppm)〕 0.38,1.22,1.36,1.96 Si−
3 18.5 Si−2 23.4,26.3,29.6,29.8,33.7
2− 64.7 2OH 70.8 H−OH 72.1 CH 22−O 72.7 CH2−O
【0062】
【化25】
【0063】実施例9 (1)冷却管及び磁気攪拌子を備えた50ml2口フラス
コにα,ω−ジヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサ
ン32.8g(56.6mmol)及び1−デセン4.0g
(28.5mmol)を仕込み、これに塩化白金酸3.0mg
(5.8×10-3mmol)を加え、水浴下6時間攪拌し
た。蒸留により無色透明液体11.0g(bp 160
℃/0.005Torr)(収率54%)を得た。得られた
生成物はIR及びNMRスペクトルにより1−デシル−
15−ヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサンである
ことを確認した。
【0064】(2)冷却管及び磁気攪拌子を備えた50
ml2口フラスコに、(1)で合成した1−デシル−15
−ヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサン10g(1
3.9mmol)、10−ウンデセニルグリセリルエーテル
4.4g(18.0mmol)、酢酸カリウムの10%エタ
ノール溶液0.35g(0.36mmol)及びイソプロピ
ルアルコール10gを仕込み、これに塩化白金酸の2%
イソプロピルアルコール溶液0.093g(3.6×1
-3mmol)を加え加熱し昇温した。内容物の温度を40
℃に保ち、40℃で3時間攪拌した。溶媒留去後、反応
生成物をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色透明オ
イル11.8g(収率88%)を得た。得られた精製物
はIR及びNMRスペクトルにより15−デシルヘキサ
デカメチルオクタシロキサニルウンデシルグリセリルエ
ーテル(J)であることが確認された。
【0065】
【化26】
【0066】IR(液膜,cm-1) 3400(−OH) 2964,2928,2860(C−H) 1262(Si−Me) 1096,1026,840,804(Si−O−S
i)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 −0.02−0.10(m,48H) Si−C 3 0.50(t,4H) Si−C 2− 0.87(t,3H) −C 3 1.24(br,32H) −C 2− 1.47−1.66(m,2H) C 2−CH2−O 2.32(t,1H) CH2−O 2.71(d,1H) CH−O 3.36−3.57(m,4H) −C 2−O 3.57−3.73(m,2H) −C 2−OH 3.73−3.90(m,1H) C−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3 基準
(77.2ppm)〕 0.38,1.25,1.35 Si−3 14.3 −3 18.5 Si−2 22.9,23.4,26.3,29.5,29.6,
29.7, 29.8,29.9,32.1,33.6 −2− 64.5 2OH 70.7 HOH 72.1 CH 22O 72.7 CH2
【0067】実施例10 冷却管及び磁気攪拌子を備えた100ml2口フラスコに
式(K′)
【0068】
【化27】
【0069】で示されるオルガノハイドロジェンシロキ
サン15g(4.4mmol)、10−ウンデセニルグリセ
リルエーテル8.1g(33mmol)、酢酸カリウムの1
0%エタノール溶液0.65g(0.66mmol)及びイ
ソプロピルアルコール50gを仕込み、これに塩化白金
酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.17g(6.
6×10-3mmol)を加え、加熱し昇温した。内容物の温
度を40℃に保ち2.5時間攪拌した。溶媒を留去し活
性炭処理を行った後、減圧蒸留により、未反応の10−
ウンデセニルグリセリルエーテルを留去し褐色粘稠物を
得た。得られた生成物はIR及びNMRスペクトルによ
り下記の式で示される化合物(K)であることが確認さ
れた。
【0070】
【化28】
【0071】IR(液膜,cm-1) 3400(−OH) 2968,2932,2860(C−H) 1262(Si−Me) 1096,1022,844(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.01(s,約273H) Si−C 3 0.38−0.58(m,10H) Si−C 2− 1.10−1.41(br,80H) −C 2− 1.44−1.86(m,10H) C 2−CH2−O 3.30−3.55(m,20H) C 2−O 3.55−3.77(m,10H) C 2−OH 3.77−3.90(m,5H) C−OH
【0072】実施例11 実施例10と同様の方法により下記の式で示される化合
物(L)を合成した(収率97%)。
【0073】
【化29】
【0074】IR(液膜,cm-1) 3420(−OH) 2968,2932,2860(C−H) 1264(Si−Me) 1096,1026,802(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.00(s,約390H) Si−C 3 0.35−0.50(m,8H) Si−C 2 1.08−1.39(br,64H) −C 2− 1.39−1.62(br,8H) C 2−CH2O 1.96−2.29(br,4H) CH2−O 2.43−2.68(br,4H) CH−O 3.38−3.50(m,16H) C 2−O 3.50−3.70(m,8H) C 2−OH 3.70−3.86(m,4H) C−OH
【0075】実施例12 実施例10と同様の方法により下記の式で示される化合
物(M)を合成した(収率99%)。
【0076】
【化30】
【0077】IR(液膜,cm-1) 3424(−OH) 2964,2928,2860(C−H) 1262(Si−Me) 1090,1034,864,798(Si−O−S
i)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.00(s,約510H) Si−C 3 0.34−0.55(m,8H) Si−C 2 1.02−1.38(br,64H) −C 2− 1.38−1.66(br,8H) C 2−CH2−O 1.98−2.40(br,4H) CH2 2.40−2.78(br,4H) CH−O 3.26−3.53(m,16H) C 2−O 3.53−3.70(m,8H) C 2−OH 3.70−3.88(m,4H) C−OH
【0078】実施例13 冷却管及び磁気攪拌子を備えた100mlフラスコに式
(N′)
【0079】
【化31】
【0080】で示されるオルガノハイドロジェンシロキ
サン10g(7.5mmol)、デセン8.4g(60.2
mmol)を仕込み、これに塩化白金酸の2%イソプロピル
アルコール溶液8.3×10-3mlを加え、40℃に加熱
した。2時間後イソプロピルアルコール20g、アリル
グリセリルエーテル4.6g(35mmol)、酢酸カリウ
ムの10%エタノール溶液0.44g及び塩化白金酸の
2%イソプロピルアルコール溶液0.12mlを加え40
℃に加熱した。2時間後イソプロピルアルコールを留去
し、活性炭処理を行った後、未反応のアリルグリセリル
ーテルを減圧留去すると無色粘稠物22gが得られた。
得られた生成物は、IR及び1H−NMRスペクトルに
より、下式(N)で示される化合物であることが確認さ
れた。
【0081】
【化32】
【0082】IR(液膜,cm-1) 3400(−OH) 2965,2925,2860(C−H) 805,850,1260(Si−Me) 1090,1030(Si−O−Si)
【0083】
【化33】
【0084】実施例14 デセン11.7g(83mmol)、アリルグリセリルエー
テル1.1g(8.3mmol)を用いた以外は実施例13
と同様な方法で反応を行い、下式(O)で示される化合
物23gを得た。
【0085】
【化34】
【0086】IR(液膜,cm-1) 3425(−OH) 2970,2930,2865(O−H) 805,845,1260(Si−Me) 1095,1025(Si−O−Si)
【0087】
【化35】
【0088】試験例1 実施例1〜14で製造された本発明化合物(A)〜
(O)について、シリコーン/水系における乳化安定性
を調べた。
【0089】評価方法 シリコーン/水=1/1に化合物(A)〜(O)を2重
量%添加し、室温においてよく振盪して乳化させた後1
日静置し、乳化安定性を調べた。シリコーンは信越化学
社製KF−96(5cs)及びKF−96(50cs)を使
用した。表1にその結果を示す。
【0090】
【表1】
【0091】表1に示したように、本発明品はシリコー
ン/水系において良好な乳化性能を示した。
【0092】実施例15 下記表2に示す配合組成の液状ファンデーションを製造
し、その乳化安定性を調べた。この結果を表3に示す。
なお製法は次の通りである。
【0093】(製法)粉体と油脂を混合し、攪拌により
粉体を均一に分散したものを40℃に加熱し、これに攪
拌下で40℃に調整した水相を添加し、乳化を行った。
その後ガラス容器に充填し、室温中放冷した。
【0094】
【表2】
【0095】*化粧料粉体は以下の組成のものを原料粉
体として使用し、該粉体に対し、2%のメチルハイドロ
ジェンポリシロキサン(信越化学社製KF−99)添加
後加熱処理したものを用いた。 酸化チタン 8(重量部) タルク 4 ベンガラ 1.2 黄酸化鉄 2.6 黒酸化鉄 0.2 (結果)
【0096】
【表3】
【0097】表3から明らかな如く、本発明の乳化化粧
料は良好な安定性を示した。また、使用感もべとつか
ず、のびのよい良好なものであった。
【0098】
【発明の効果】以上のように、本発明の新規シロキサン
誘導体(1)は、乳化剤として好適なノニオン系界面活
性剤であり、これを含有する本発明化粧料は乳化安定性
に優れるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 77/38 NUF C08L 83/04 LRR

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の一般式(1) 【化1】 (式中、Qは炭素数3〜20の二価炭化水素基を示し、
    13及びR14はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜5の炭
    化水素基を示し、そのうち少なくとも一方は水素原子で
    ある。)で表わされる基であり、残りは炭素数1〜30
    の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基又は次式(3): 【化2】-X-R15 (3) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
    む二価炭化水素基を、R 15は炭素数1〜30の直鎖又は
    分岐鎖の炭化水素基を示す。)で表わされる基である。
    l、m及びnは0以上2000以下の数を示し、l+m
    +n=0のとき、R1 〜R3 、R10〜R12のうち少なく
    とも1つは基(2)である。ただし、R1 〜R12のうち
    少なくとも1つが、QがトリメチレンでR13及びR14
    共に水素原子である基(2)であるとき、前記炭素数1
    〜30の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基の少なくとも
    1つは、炭素数6〜30の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水
    素基である。〕で表わされるシロキサン誘導体を含有す
    ることを特徴とする化粧料。
  2. 【請求項2】 次の一般式(1b) 【化3】 で表わされる基であり、少なくとも1つは炭素数6〜3
    0の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基又は次式(3): 【化4】-X-R15 (3) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
    む二価炭化水素基を、R 15は炭素数1〜30の直鎖、分
    岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表わされる基で
    あり、残りはすべてメチル基である。l、m及びnは0
    以上2000以下の数を示し、l+m+n=0のとき、
    1 〜R3 、R10〜R12のうち少なくとも1つは基(2
    b)である。〕で表わされるシロキサン誘導体を含有す
    ることを特徴とする化粧料。
  3. 【請求項3】 次の一般式(1c) 【化5】 で表わされる基であり、残りはすべてメチル基である
    か、又は少なくとも1つが炭素数6〜30の直鎖もしく
    は分岐鎖の炭化水素基、次式(3): 【化6】-X-R15 (3) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
    む二価炭化水素基を、R 15は炭素数1〜30の直鎖、分
    岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表わされる基
    で、他はすべてメチル基である。l、m及びnは0以上
    2000以下の数を示し、l+m+n=0のとき、R1
    〜R3 、R10〜R12のうち少なくとも1つは基(2c)
    である。〕で表わされるシロキサン誘導体を含有するこ
    とを特徴とする化粧料。
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