JPH07187945A - 化粧料 - Google Patents
化粧料Info
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- JPH07187945A JPH07187945A JP6318128A JP31812894A JPH07187945A JP H07187945 A JPH07187945 A JP H07187945A JP 6318128 A JP6318128 A JP 6318128A JP 31812894 A JP31812894 A JP 31812894A JP H07187945 A JPH07187945 A JP H07187945A
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- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
C5の炭化水素基)で表わされる基であり、残りはC1〜
C30の炭化水素基又は-X-R15(Xはエーテル結合及び/
又はエステル結合を含む二価炭化水素基、R15はC1〜
C30の炭化水素基)で表わされる基である。l、m及び
nは0以上2000以下の数を示し、l+m+n=0の
とき、R1 〜R3 、R10〜R12のうち少なくとも1つは
基(2)である。ただし、R1 〜R12のうち少なくとも
1つが、QがトリメチレンでR13及びR14が共に水素原
子である基(2)であるとき、C1〜C30の炭化水素基
の少なくとも1つは、C6〜C30の炭化水素基〕で表わ
されるシキロサン誘導体を含有する化粧料。 【効果】 乳化安定性に優れたものである。
Description
界面活性作用を有する新規シロキサン誘導体、その製造
方法及びこれを含有する化粧料に関する。
性作用を有するシリコーン化合物は、その変性親水基の
種類から、アニオン系親水基を有する化合物、カチオン
系親水基を有する化合物、ベタイン系親水基を有する化
合物及びノニオン系親水基を有する化合物の4種に大別
される。上記のうちノニオン系親水基を有する化合物と
しては、ポリオキシアルキレン基を親水基として有する
ポリオキシアルキレン変性シリコーン系界面活性剤が公
知であるが、このものは乳化安定性に劣るため、化粧料
等の乳化剤として用いた場合、満足な乳化安定性を得る
ためにはシリカ、粘度鉱物等の増粘剤を更に添加する必
要があった。
ン系の親水基としては多価アルコール性水酸基が考えら
れるが、多価アルコール性水酸基を親水基として有する
シリコーン系界面活性剤は現在のところほとんど知られ
ておらず、わずかに特公昭62-34039号公報に記載されて
いる(ポリ)グリセリン変性シリコーン及び特開昭57-2
09295号公報に記載されているソルビタン変性シリコー
ンが界面活性作用を有することが知られているのみであ
る。
セリル基により変性されたシリコーン化合物は公知であ
り、特開昭62-195389号公報、特開昭64-16793号公報及
び特開昭63-101388号公報に記載されているが、これら
化合物はヒドロキシル基の反応性を利用した合成樹脂の
表面改質剤であり、その界面活性作用については不明で
ある。
系のシリコーン系界面活性剤は現在のところ皆無に等し
いものである。
発明者らは鋭意研究を重ねた結果、後述のグリセリル基
を有する新規シロキサン誘導体が、化粧料等の乳化剤と
して好適なノニオン系界面活性剤であることを見いだ
し、本発明を完成した。
素基を示し、R13及びR14はそれぞれ水素原子又は炭素
数1〜5の炭化水素基を示し、そのうち少なくとも一方
は水素原子である。)で表わされる基であり、残りが炭
素数1〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状の炭化水素基
又は次式(3):
テル結合を含む二価炭化水素基を、R 15は炭素数1〜3
0の直鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表
わされる基であり、l、m及びnは0以上2000以下
の数を示し、l+m+n=0のとき、R1 〜R3 、R10
〜R12のうち少なくとも1つは基(2)である。ただ
し、R1 〜R12のうち1つが、QがトリメチレンでR13
及びR14が共に水素原子である基(2)であり、かつ残
り全てがメチル基である場合を除く。〕で表わされるシ
ロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧
料を提供するものである。
炭素数3〜20の二価炭化水素基としては、トリメチレ
ン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレ
ン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、
デカメチレン、ウンデカメチレン、ドデカメチレン、テ
トラデカメチレン、ヘキサデカメチレン、オクタデカメ
チレン等の直鎖アルキレン基;プロピレン、2−メチル
トリメチレン、2−メチルテトラメチレン、2−メチル
ペンタメチレン、3−メチルペンタメチレン等の分岐鎖
アルキレン基等が挙げられる。R13又はR14で示される
炭素数1〜5の炭化水素基としては、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、sec−ブ
チル、tert−ブチル、ネオペンチル、シクロペンチル等
の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基等が挙げられる。
またXで示されるエーテル結合及び/又はエステル結合
を含む二価炭化水素基としては-(CH2)r-(OC2H4)p-(OC3H
6)q-O-(ここでp及びqは0以上50以下の数、rは3
以上20以下の整数)、-(CH2) r-O-CO-、-(CH2)r-COO-
等が挙げられる。更に、炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖
又は環状の炭化水素基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデ
シル、エイコシル、ドエイコシル、テトラエイコシル、
ヘキサエイコシル、オクタエイコシル、トリアコンチル
等の直鎖アルキル基;イソプロピル、sec−ブチル、ter
t−ブチル、ネオペンチル、1−エチルプロピル、1−
ヘプチルデシル等の分岐鎖アルキル基;シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、アビエチル、コレステリル等の環
状アルキル基などが挙げられる。そして、l、m及びn
は、原料となるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
の入手のしやすさ、製造時の操作性などの点から、0以
上2000以下の範囲とすることが好ましい。
ば次の反応式に従って製造することができる。 (1) 基(3)を有さないシロキサン誘導体(1a)
の製法:
素原子であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又
は環状の炭化水素基であり、l、m及びnは0以上20
00以下の数を示し、l+m+n=0のとき、R16〜R
18、R25〜R27のうち少なくとも1つは水素原子であ
る。Q′は少なくとも1個の二重結合を有する炭素数3
〜20の炭化水素基を示し、R13及びR14は前記と同じ
意味を有する。R1′〜R12′のうち、少なくとも1つ
は基(2)であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐
鎖又は環状の炭化水素基であり、l+m+n=0のと
き、R1′〜R3′、R10′〜R12′のうち少なくとも1
つは基(2)である。ただし、R1′〜R12′のうち1
つが、QがトリメチレンでR13及びR14が共に水素原子
である基(2)であり、かつ残り全てがメチル基である
場合を除く。〕
結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
(4)に、アルケニルグリセリルエーテル(2′)を反
応させることにより、基(3)を有さないシロキサン誘
導体(1a)が得られる。
(1b)の製法:
が水素原子であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐
鎖又は環状の炭化水素基であり、l、m及びnは前記と
同じ意味を示し、l+m+n=0のとき、R16′〜
R18′、R25′〜R27′のうち少なくとも2つは水素原
子である。Q′、R13及びR14は前記と同じ意味を示
す。X′は少なくとも1個の二重結合を有し、かつエー
テル結合及び/又はエステル結合を含む炭化水素基を、
R15は前記と同じ意味を示す。R1″〜R12″のうち、
少なくとも1つは基(2)であり、残りのうち少なくと
も1つは基(3)であり、残りが炭素数1〜30の直
鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基であり、l+m+n=
0のとき、R1″〜R3″、R10″〜R12″のうち少なく
とも1つは基(2)であり、残りのうち少なくとも1つ
は基(3)である。〕
結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
(4′)に、アルケニルグリセリルエーテル(2′)及
び化合物(3′)を反応させることにより、基(3)を
有するシロキサン誘導体(1b)が得られる。ここで、
化合物(2′)と化合物(3′)は、どちらを先に化合
物(4′)に反応させても、また同時に化合物(4′)
に反応させてもよい。
ロキサン(4)又は(4′)は、分子中に少なくとも1
個〔(4)〕又は少なくとも2個〔(4′)〕のケイ素
−水素結合を有することが必須とされるほかは、粘度、
分子構造等に特に制限はなく、公知の種々のものを使用
することができるが、原料の入手のしやすさ、製造時の
操作性などの点からl、m及びnが0以上2000以下
のものが好ましい。
においてQ′がω−アルケニル基であるものが好まし
い。また、化合物(3′)としては、一般式(3′)に
おいてX′が、
(2)の反応は、触媒の存在下に行われ、触媒としては
一般にヒドロシリル化に用いられるもの、例えば遊離ラ
ジカル開始剤;光開始剤;ルテニウム、ロジウム、パラ
ジウム、オスミウム、イリジウム、白金等の金属の錯体
化合物;これらをシリカゲル又はアルミナに担持させた
ものなどが挙げられる。これらのうち、特に塩化白金
酸、speier試薬(塩化白金酸のイソプロピルアルコール
溶液)等が好ましい。触媒の使用量はオルガノハイドロ
ジェンポリシロキサン(4)又は(4′)とアルケニル
グリセリルエーテル(2′)及び/又は化合物(3′)
との反応を促進するのに充分な量であればよく、特に限
定されないが、使用されるオレフィン1mol に対して1
0-6〜10-1mol の範囲が好ましい。
はないが、必要に応じて適当な溶媒中で反応を行っても
よい。反応溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定されず、例えばペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン等の炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キ
シレン等のベンゼン系溶媒;ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル等のエーテル系溶媒;メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のア
ルコール系溶媒などが挙げられる。アルコール系溶媒を
使用する場合には、Si-Hと-OH との間における脱水素反
応を防止ないし抑制するために、酢酸カリウム等のpH調
整剤(特開昭57-149290号公報)を用いるのが好まし
い。
ンポリシロキサン(4)又は(4′)に対するアルケニ
ルグリセリルエーテル(2′)及び/又は化合物
(3′)の割合は、得られるシロキサン誘導体(1)が
分子中に少なくとも1個以上のケイ素結合グリセリル基
(2)を有するに充分な量のアルケニルグリセリルエー
テル(2′)があれば、その他の割合は任意でよいが、
得られる化合物(1)を用いて炭素系の油剤を乳化する
場合は、基(2)と基(3)の合計ユニット数が、残存
するジメチルシロキサンユニット数と同じ割合か又はそ
れ以上の範囲とし、シリコン系の油剤を乳化する場合
は、基(2)と基(3)の合計ユニット数が、残存する
ジメチルシロキサンユニット数の1/5以下の範囲とす
るのが好ましい。
るが、反応速度や生成物の着色などを考え、0〜100
℃で行うのが好ましい。また、反応時間は0.5〜24
時間程度とするのが好ましい。
誘導体(1)は、化粧料用成分、特に乳化剤として好適
に用いることができる。適用し得る化粧料の剤型、種類
等は特に限定されず、例えば乳液、ローション、ファン
デーション等のスキンケア化粧料;シャンプー、リン
ス、トリートメント等のヘアケア化粧料などが挙げられ
る。化粧料中への本発明シロキサン誘導体(1)の配合
量も特に限定されないが、通常、0.001〜90重量
%、特に1〜50重量%の範囲が好ましい。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
コに、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン97
g(0.72mol ) 及び1−ヘキセン30g(0.36
mol )を仕込み、これに塩化白金酸の5%イソプロピル
アルコール溶液0.72g(7.2mmol)を加え、氷水
浴下16時間撹拌した。蒸留により無色透明液体52.8
g(bp55−61℃/4Torr)(収率67%)を得た。
得られた生成物はIR及びNMRスペクトルにより、1
−ヘキシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ンであることを確認した。
ml2口フラスコに、(1)で合成した1−ヘキシル−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン15g(6
9mmol)、アリルグリセリルエーテル12g(91mmo
l) 、酢酸カリウムの10%エタノール溶液1.8g
(1.8mmol) 及びイソプロピルアルコール24gを仕
込み、これに塩化白金酸の5%イソプロピルアルコール
溶液0.18g (0.017mmol)を加え、40℃で1
7時間撹拌した。溶媒留去後、反応生成物をシリカゲル
カラムにかけて精製し、無色透明液体22g(収率93
%)を得た。得られた生成物はIR及びNMRスペクト
ルにより、3−(3−ヘキシル−1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサニル)プロピルグリセリルエーテル
(A)であることが確認された。
(7.28ppm)〕 0.04,0.06(s,12H) Si−CH 3 0.08−1.02(t,3H) −CH 3 1.14−1.46(br,8H) −CH 2− 0.40−0.66(m,4H) Si−CH 2− 1.48−1.72(m,2H) CH 2−CH2−O 3.32−3.59(m,4H) CH 2−O 3.79−3.98(m,1H) CH−OH 3.59−3.79(m,2H) CH 2−OH 2.83−2.93(d,1H) CH−OH 2.46−2.59(dd,1H) CH2−OH 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.46,0.53 Si−CH3 14.3,14.4 −CH3,CH2−CH2CH2O 22.8,23.4,23.6,31.8,33.2
−CH2− 18.5 Si−CH2− 64.4 CH2−OH 70.7 CH−OH 72.5 CH 2CH2−O 74.6 CH−CH2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 7.22,7.89
ル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを合成
した(収率70%)。 (2)実施例1の(2)と同様の方法により3−(3−
デシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサニ
ル)プロピルグリセリルエーテル(B)を合成した(収
率93%)。
(7.28ppm)〕 0.04,0.06(s,12H) Si−CH 3 0.80−0.95(t,3H) −CH 3 1.15−1.42(br,16H) −CH 2− 1.48−1.68(m,2H) CH 2−CH2−O 3.38−3.53(m,4H) CH 2−O 0.38−0.57(m,4H) Si−CH 2− 3.77−3.94(m,1H) CH−OH 3.53−3.77(m,2H) CH 2−OH 3.25−3.32(d,1H) CH−OH 2.98−3.08(t,1H) CH2−OH 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.42,0.50 Si−CH3 14.2,14.3 −CH3,CH2−CH2CH2O 22.8,23.4,29.48,29.53,29.
75,29.81,32.1,33.6 −CH2− 18.5 Si−CH2 23.5 CH2CH2−O 72.4 CH 2CH2−O 74.6 CH−CH2−O 70.9 CH−OH 64.3 CH2−OH29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 7.22,7.89
サデシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
を合成した(収率70%)。 (2)実施例1の(2)と同様の方法により3−(3−
ヘキサデシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サニル)プロピルグリセリルエーテル(C)を合成した
(収率93%)。
(7.28ppm)〕 0.04,0.06(s,12H) Si−CH 3 0.81−0.96(t,3H) −CH 3 1.16−1.41(br,28H) −CH 2− 0.41−0.59(m,4H) Si−CH 2− 1.53−1.70(m,2H) CH 2−CH2−O 3.36−3.59(m,4H) CH 2−O 3.59−3.80(m,2H) CH 2−OH 2.83−2.93(d,1H) CH−OH 2.46−2.59(dd,1H) CH2−OH 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.47,0.54 Si−CH3 14.3,14.4 −CH3,CH2−CH2CH2O 22.9,23.5,29.5,29.6,29.8
0,29.84,29.9,32.1,33.6 −C
H2− 18.6 Si−CH2 23.6 CH2CH2−O 64.4 CH2−OH 70.7 CH−OH 72.6 CH2−CH2−O 74.6 CH−CH2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 7.22,7.93
ノナデカメチルノナシロキサン20g(30mmol)、1
0−ウンデセニルグリセリルエーテル9.5g(39mm
ol)、酢酸カリウムの10%エタノール溶液0.77g
(0.78mmol)及びイソプロピルアルコール18.5
gを仕込み、塩化白金酸の2%イソプロピルアルコール
溶液0.20g(7.7×10-3mmol)を加え、加熱し
昇温した。内容物の温度を40℃に保ち3.5時間攪拌
した。溶媒留去後、得られた反応生成物をヘキサンに溶
解し、濾過を行い溶媒を留去した後、得られた反応生成
物をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色透明オイル
21.7g(収率80%)を得た。得られた生成物は、
IR及びNMRスペクトルにより、ノナデカメチルノナ
シロキサニルウンデシルグリセリルエーテル(D)であ
ることを確認した。
l3基準(7.28ppm)〕 0.00−0.18(m,57H) Si−CH 3 0.48−0.64(m,2H) Si−CH 2 1.20−1.42(br,16H) −CH 2− 1.50−1.68(m,2H) CH 2−CH2−O 3.40−3.58(m,4H) CH 2−O 3.78−3.96(m,1H) CH−OH 3.58−3.78(m,2H) CH 2−OH 2.67−2.72(d,1H) CH−OH 2.21−2.35(dd,1H) CH2−OH 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.39,1.26,1.34,1.37,1.98
Si−CH3 18.5 Si−CH2− 23.4,26.3,29.6,29.7,29.8,
29.9,33.7 −CH2− 64.5 CH2−OH 70.7 CH−OH 72.1 CH2−CH2−O 72.7 CH−CH2−O
ニルウンデシルグリセリルエーテル(E)を合成した
(収率56%)。
(7.28ppm)〕 0.05,0.07(s,15H) Si−CH 3 0.43−0.62(m,2H) Si−CH 2 1.14−1.40(br,16H) −CH 2− 1.50−1.68(m,2H) CH 2−CH2−O 3.38−3.58(m,4H) CH 2−O 3.80−3.95(m,1H) CH−OH 3.58−3.80(m,2H) CH 2−OH 2.72−2.81(d,1H) CH−OH 2.31−2.47(br,1H) CH2−OH 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.51,2.14 Si−CH3 18.6 Si−CH2 23.4,26.3,29.6,33.6 −CH2− 64.4 CH2−OH 70.7 CH−OH 72.0 CH−CH2−O 72.6 CH2−CH2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 6.97,7.61
ロキサニルウンデシルグリセリルエーテル(F)を合成
した(収率48%)。この際、原料ウンデカメチルペン
タシロキサン中に1,5−ジヒドロデカメチルペンタシ
ロキサンが含まれていたため、同時に1,5−ビス〔1
1−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウンデシル〕
デカメチルペンタシロキサン(G)が得られた。得られ
た1,5−ビス〔11−(2,3−ジヒドロキシプロポ
キシ)ウンデシル〕デカメチルペンタシロキサン(G)
は、シリカゲルカラムにより単離精製した。その構造は
IR及びNMRスペクトルにより確認された。
(7.28ppm)〕 −0.02−0.18(m,33H) Si−CH 3 0.46−0.63(m,2H) Si−CH 2− 1.17−1.42(br,16H) −CH 2− 1.48−1.70(m,2H) CH 2−CH2−O 3.38−3.59(m,4H) CH 2−O 3.77−3.97(m,1H) CH−OH 3.59−3.77(m,2H) CH 2−OH 2.83−2.98(br,1H) CH−OH 2.46−2.64(br,1H) CH2−OH 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕 0.37,1.94,1.24,1.32,1.35
Si−CH3 18.5 Si−CH2− 23.4,26.3,29.58,29.66,29.
77, 29.84,33.6 −CH2− 64.4 CH2−OH 70.7 CH−OH 72.0 CH2−CH2−O 72.7 CH−CH2−O
(7.28ppm)〕 0.03,0.05(s,30H) Si−CH 3 0.54(t,4H) Si−CH 2− 1.28(br,32H) −CH 2− 1.48−1.69(m,4H) CH 2−CH2−O 2.92(t,2H) CH2−OH 3.20(d,2H) CH−OH 3.36−3.57(m,8H) CH 2−O 3.57−3.78(m,4H) CH 2−OH 3.78−3.96(m,2H) CH−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7
7.2ppm)〕
73, 29.76,29.8 −CH2− 64.4 −CH2−OH 70.8 −CH−OH 72.0 −CH2−CH2−O 72.5 −CH−CH2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0p
pm)〕 −22.3 C −21.7 B 7.62 A
に、α,ω−ジヒドロジメチルポリシロキサン(平均鎖
長20)30g(18.5mmol)、10−ウンデセニル
グリセリルエーテル11.8g(48.3mmol)、酢酸
カリウムの10%エタノール溶液0.95g(0.97
mmol)及びイソプロピルアルコール24gを仕込み、こ
れに塩化白金酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.
26g(0.010mmol)を加え、加熱し昇温した。内
容物の温度を50℃に保ち、2時間攪拌した。溶媒を留
去した後、減圧蒸留により未反応10−ウンデセニルグ
リセリルエーテルを留去することにより、褐色高粘稠物
を得た。この褐色高粘稠物を活性炭で処理し、無色透明
の高粘稠物35.0g(収率89.7%)を得た。得ら
れた生成物はIR及びNMRスペクトルにより、α,ω
−ビス〔11−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウ
ンデシル〕ジメチルポリシロキサン(平均鎖長20)
(H)であることを確認した。
(7.28ppm)〕 0.00(br,約132H) Si−CH 3 0.57(t,4H) Si−CH 2− 1.39(br,32H) −CH 2− 1.47−1.70(m,4H) CH 2−CH2−O 2.22(br,2H) −CH2−OH 2.62(br,2H) −CH−OH 3.30−3.59(m,8H) CH 2−O 3.59−3.80(m,4H) CH 2−OH 3.80−3.96(m,2H) CH−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3 基準
(77.2ppm)〕 0.39,1.23,1.36 Si−CH3 18.5 Si−CH2− 23.4,26.3,29.6,29.8,33.7
−CH2− 64.7 −CH2OH 70.6 −CH−OH 72.0 −CH2−CH2−O 72.7 −CH−CH2−O
(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウンデシル〕ジメ
チルポリシロキサン(平均鎖長50)(I)を合成した
(収率95.3%)。
i)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.08(br,約312H) Si−CH 3 0.57(t,4H) Si−CH 2 1.30(br,32H) −CH 2− 1.48−1.80(m,4H) CH 2−CH−O 2.20(br,2H) CH2−OH 2.63(br,2H) CH−OH 3.38−3.60(m,8H) CH 2−O 3.60−3.81(m,4H) CH 2−OH 3.81−3.97(m,2H) CH−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3 基準
(77.2ppm)〕 0.38,1.22,1.36,1.96 Si−CH
3 18.5 Si−CH2 23.4,26.3,29.6,29.8,33.7
−CH2− 64.7 CH2OH 70.8 CH−OH 72.1 CH 2CH2−O 72.7 CHCH2−O
コにα,ω−ジヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサ
ン32.8g(56.6mmol)及び1−デセン4.0g
(28.5mmol)を仕込み、これに塩化白金酸3.0mg
(5.8×10-3mmol)を加え、水浴下6時間攪拌し
た。蒸留により無色透明液体11.0g(bp 160
℃/0.005Torr)(収率54%)を得た。得られた
生成物はIR及びNMRスペクトルにより1−デシル−
15−ヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサンである
ことを確認した。
ml2口フラスコに、(1)で合成した1−デシル−15
−ヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサン10g(1
3.9mmol)、10−ウンデセニルグリセリルエーテル
4.4g(18.0mmol)、酢酸カリウムの10%エタ
ノール溶液0.35g(0.36mmol)及びイソプロピ
ルアルコール10gを仕込み、これに塩化白金酸の2%
イソプロピルアルコール溶液0.093g(3.6×1
0-3mmol)を加え加熱し昇温した。内容物の温度を40
℃に保ち、40℃で3時間攪拌した。溶媒留去後、反応
生成物をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色透明オ
イル11.8g(収率88%)を得た。得られた精製物
はIR及びNMRスペクトルにより15−デシルヘキサ
デカメチルオクタシロキサニルウンデシルグリセリルエ
ーテル(J)であることが確認された。
i)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 −0.02−0.10(m,48H) Si−CH 3 0.50(t,4H) Si−CH 2− 0.87(t,3H) −CH 3 1.24(br,32H) −CH 2− 1.47−1.66(m,2H) CH 2−CH2−O 2.32(t,1H) CH2−OH 2.71(d,1H) CH−OH 3.36−3.57(m,4H) −CH 2−O 3.57−3.73(m,2H) −CH 2−OH 3.73−3.90(m,1H) CH−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3 基準
(77.2ppm)〕 0.38,1.25,1.35 Si−CH3 14.3 −CH3 18.5 Si−CH2 22.9,23.4,26.3,29.5,29.6,
29.7, 29.8,29.9,32.1,33.6 −CH2− 64.5 CH2OH 70.7 CHOH 72.1 CH 2CH2O 72.7 CHCH2O
式(K′)
サン15g(4.4mmol)、10−ウンデセニルグリセ
リルエーテル8.1g(33mmol)、酢酸カリウムの1
0%エタノール溶液0.65g(0.66mmol)及びイ
ソプロピルアルコール50gを仕込み、これに塩化白金
酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.17g(6.
6×10-3mmol)を加え、加熱し昇温した。内容物の温
度を40℃に保ち2.5時間攪拌した。溶媒を留去し活
性炭処理を行った後、減圧蒸留により、未反応の10−
ウンデセニルグリセリルエーテルを留去し褐色粘稠物を
得た。得られた生成物はIR及びNMRスペクトルによ
り下記の式で示される化合物(K)であることが確認さ
れた。
(7.28ppm)〕 0.01(s,約273H) Si−CH 3 0.38−0.58(m,10H) Si−CH 2− 1.10−1.41(br,80H) −CH 2− 1.44−1.86(m,10H) CH 2−CH2−O 3.30−3.55(m,20H) CH 2−O 3.55−3.77(m,10H) CH 2−OH 3.77−3.90(m,5H) CH−OH
物(L)を合成した(収率97%)。
(7.28ppm)〕 0.00(s,約390H) Si−CH 3 0.35−0.50(m,8H) Si−CH 2 1.08−1.39(br,64H) −CH 2− 1.39−1.62(br,8H) CH 2−CH2O 1.96−2.29(br,4H) CH2−OH 2.43−2.68(br,4H) CH−OH 3.38−3.50(m,16H) CH 2−O 3.50−3.70(m,8H) CH 2−OH 3.70−3.86(m,4H) CH−OH
物(M)を合成した(収率99%)。
i)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕 0.00(s,約510H) Si−CH 3 0.34−0.55(m,8H) Si−CH 2 1.02−1.38(br,64H) −CH 2− 1.38−1.66(br,8H) CH 2−CH2−O 1.98−2.40(br,4H) CH2OH 2.40−2.78(br,4H) CH−OH 3.26−3.53(m,16H) CH 2−O 3.53−3.70(m,8H) CH 2−OH 3.70−3.88(m,4H) CH−OH
(N′)
サン10g(7.5mmol)、デセン8.4g(60.2
mmol)を仕込み、これに塩化白金酸の2%イソプロピル
アルコール溶液8.3×10-3mlを加え、40℃に加熱
した。2時間後イソプロピルアルコール20g、アリル
グリセリルエーテル4.6g(35mmol)、酢酸カリウ
ムの10%エタノール溶液0.44g及び塩化白金酸の
2%イソプロピルアルコール溶液0.12mlを加え40
℃に加熱した。2時間後イソプロピルアルコールを留去
し、活性炭処理を行った後、未反応のアリルグリセリル
ーテルを減圧留去すると無色粘稠物22gが得られた。
得られた生成物は、IR及び1H−NMRスペクトルに
より、下式(N)で示される化合物であることが確認さ
れた。
テル1.1g(8.3mmol)を用いた以外は実施例13
と同様な方法で反応を行い、下式(O)で示される化合
物23gを得た。
(O)について、シリコーン/水系における乳化安定性
を調べた。
量%添加し、室温においてよく振盪して乳化させた後1
日静置し、乳化安定性を調べた。シリコーンは信越化学
社製KF−96(5cs)及びKF−96(50cs)を使
用した。表1にその結果を示す。
ン/水系において良好な乳化性能を示した。
し、その乳化安定性を調べた。この結果を表3に示す。
なお製法は次の通りである。
粉体を均一に分散したものを40℃に加熱し、これに攪
拌下で40℃に調整した水相を添加し、乳化を行った。
その後ガラス容器に充填し、室温中放冷した。
体として使用し、該粉体に対し、2%のメチルハイドロ
ジェンポリシロキサン(信越化学社製KF−99)添加
後加熱処理したものを用いた。 酸化チタン 8(重量部) タルク 4 ベンガラ 1.2 黄酸化鉄 2.6 黒酸化鉄 0.2 (結果)
料は良好な安定性を示した。また、使用感もべとつか
ず、のびのよい良好なものであった。
誘導体(1)は、乳化剤として好適なノニオン系界面活
性剤であり、これを含有する本発明化粧料は乳化安定性
に優れるものである。
Claims (3)
- 【請求項1】 次の一般式(1) 【化1】 (式中、Qは炭素数3〜20の二価炭化水素基を示し、
R13及びR14はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜5の炭
化水素基を示し、そのうち少なくとも一方は水素原子で
ある。)で表わされる基であり、残りは炭素数1〜30
の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基又は次式(3): 【化2】-X-R15 (3) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
む二価炭化水素基を、R 15は炭素数1〜30の直鎖又は
分岐鎖の炭化水素基を示す。)で表わされる基である。
l、m及びnは0以上2000以下の数を示し、l+m
+n=0のとき、R1 〜R3 、R10〜R12のうち少なく
とも1つは基(2)である。ただし、R1 〜R12のうち
少なくとも1つが、QがトリメチレンでR13及びR14が
共に水素原子である基(2)であるとき、前記炭素数1
〜30の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基の少なくとも
1つは、炭素数6〜30の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水
素基である。〕で表わされるシロキサン誘導体を含有す
ることを特徴とする化粧料。 - 【請求項2】 次の一般式(1b) 【化3】 で表わされる基であり、少なくとも1つは炭素数6〜3
0の直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基又は次式(3): 【化4】-X-R15 (3) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
む二価炭化水素基を、R 15は炭素数1〜30の直鎖、分
岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表わされる基で
あり、残りはすべてメチル基である。l、m及びnは0
以上2000以下の数を示し、l+m+n=0のとき、
R1 〜R3 、R10〜R12のうち少なくとも1つは基(2
b)である。〕で表わされるシロキサン誘導体を含有す
ることを特徴とする化粧料。 - 【請求項3】 次の一般式(1c) 【化5】 で表わされる基であり、残りはすべてメチル基である
か、又は少なくとも1つが炭素数6〜30の直鎖もしく
は分岐鎖の炭化水素基、次式(3): 【化6】-X-R15 (3) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
む二価炭化水素基を、R 15は炭素数1〜30の直鎖、分
岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表わされる基
で、他はすべてメチル基である。l、m及びnは0以上
2000以下の数を示し、l+m+n=0のとき、R1
〜R3 、R10〜R12のうち少なくとも1つは基(2c)
である。〕で表わされるシロキサン誘導体を含有するこ
とを特徴とする化粧料。
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