JPH0718416A - Oxidation and wear resistant hard coating film - Google Patents

Oxidation and wear resistant hard coating film

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JPH0718416A
JPH0718416A JP19081493A JP19081493A JPH0718416A JP H0718416 A JPH0718416 A JP H0718416A JP 19081493 A JP19081493 A JP 19081493A JP 19081493 A JP19081493 A JP 19081493A JP H0718416 A JPH0718416 A JP H0718416A
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JP
Japan
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tialn
film
layer
tin
coating film
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JP19081493A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsuo Kawana
淳雄 川名
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To enhance wear and oxidation resistance and to improve the characteristics of a tool, etc., by imparting a two-layered structure to a TiN layer and a TiAlN layer formed on a steel type metallic material and specifying the thickness percentage of the TiAlN layer. CONSTITUTION:This hard coating film is a coating film having a two-layered structure formed on a steel type metallic material or a cemented carbide and composed of a TiN layer and a TiAlN layer contg. 40-60mol% Al formed on the TiN layer. The thickness percentage of the TiAlN layer in the two- layered coating film is regulated to 5-50%.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は耐摩耗性に優れた硬質被
膜に関し、特に工具などの特性改善のための耐摩耗性お
よび耐酸化性を向上させた硬質被膜に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hard coating having excellent wear resistance, and more particularly to a hard coating having improved wear resistance and oxidation resistance for improving the characteristics of tools and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】工具や金型などの鋼材もしくは超硬合金
材料の表面に、その材料の耐摩耗性を向上させるために
イオンプレーティング法などにより窒化チタンの被膜を
被覆することは知られている。しかしながら、窒化チタ
ンをはじめとする金属窒化物は高温で酸化され易く、生
成した脆い酸化物層により、耐摩耗性が著しく劣化する
という欠点がある。この窒化チタンの酸化の問題を改善
した被膜としてTiAlN膜が提唱されている。例えば
ライボルトヘレウス社のW.D.ミュンツらによる研究
(J. Vac Sci. Tecnol., A4, 2717 (1986)) などでは、
TiAlNが耐酸化性に優れていると報告されている。
2. Description of the Related Art It is known to coat the surface of steel or cemented carbide material such as tools and molds with a titanium nitride film by an ion plating method or the like in order to improve the wear resistance of the material. There is. However, titanium nitride and other metal nitrides are easily oxidized at high temperatures, and the resulting brittle oxide layer has a drawback that wear resistance is significantly deteriorated. A TiAlN film has been proposed as a film that solves the problem of titanium nitride oxidation. For example, W. of Leibold Heraeus. D. In the study by Munts et al. (J. Vac Sci. Tecnol., A4, 2717 (1986)),
TiAlN is reported to have excellent oxidation resistance.

【0003】しかし、上記TiAlN膜は、Alの添加
による耐酸化性は向上するが、Alの量が増えるに従い
被膜の機械的特性の劣化が起こり、工具などへ適用した
場合には後者の欠点により性能が低下するという問題が
ある。本発明者らの研究によれば、TiAlN膜は本質
的には窒化チタン被膜中に一種の欠陥としてアルミニウ
ムを添加しているため、被膜の靱性が劣化し、機械的特
性は窒化チタンよりも劣っている。
However, although the TiAlN film has improved oxidation resistance due to the addition of Al, the mechanical properties of the film deteriorate as the amount of Al increases, and when applied to a tool or the like, the latter causes the drawback. There is a problem of reduced performance. According to the research conducted by the present inventors, since the TiAlN film essentially adds aluminum as a kind of defect in the titanium nitride film, the toughness of the film deteriorates and the mechanical properties are inferior to those of titanium nitride. ing.

【0004】このようなアルミニウムの添加による機械
的特性の低下は、TiAlN膜中のアルミニウムの量が
金属成分のモル%にて10%を越えた領域で著しくな
る。アルミニウムの量が10%以下のTiAlN被膜で
は、TiNと同様の機械的特性を示すが、このような低
濃度のAl添加では耐酸化性の効果はほとんど現れな
い。このようなAlの添加による機械的特性の低下と耐
酸化性の向上という相反する現象を補うため、Al濃度
が連続的に変化した構造の膜などが提案されている。例
えば、特開平2−170965号公報では濃度の傾斜し
た構造の被膜として、表面に近づくに従いAl濃度が増
し、最表面で最高のAl濃度となる被膜が提案されてい
る。
The deterioration of mechanical properties due to the addition of aluminum becomes remarkable in a region where the amount of aluminum in the TiAlN film exceeds 10% in terms of mol% of metal component. A TiAlN coating film having an aluminum content of 10% or less exhibits mechanical properties similar to those of TiN, but the addition of such a low concentration of Al shows almost no effect of oxidation resistance. In order to compensate for the contradictory phenomena of deterioration of mechanical properties and improvement of oxidation resistance due to the addition of Al, a film having a structure in which Al concentration is continuously changed has been proposed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-170965 proposes a film having a structure with a sloping concentration, in which the Al concentration increases toward the surface and the highest Al concentration is obtained on the outermost surface.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記Al濃度
の傾斜した構造の被膜でも機械的特性は十分ではなく、
工具などへ適用した場合には大きな効果は得られていな
い。
However, even the above-mentioned coating film having a graded Al concentration does not have sufficient mechanical properties.
When applied to tools, etc., no great effect has been obtained.

【0006】したがって、本発明の目的は、耐摩耗性と
耐酸化性を合わせ持つ硬質被膜を提供することにある。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a hard coating having both wear resistance and oxidation resistance.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、鋼系金属材料あるいは超硬合金の上に形
成されたTiN層とさらにその上にAlのモル%が40
%以上60%以下のTiAlN層が形成された2層構造
の被膜であって、該2層被膜に対するTiAlN層の厚
みの割合が5%以上50%以下であることを特徴とする
耐酸化・耐摩耗性硬質被膜を提供するものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a TiN layer formed on a steel-based metallic material or a cemented carbide, and an Al mole% of 40 on the TiN layer.
% Or more and 60% or less of the TiAlN layer is formed, the ratio of the thickness of the TiAlN layer to the two-layer coating is 5% or more and 50% or less, oxidation resistance It provides an abradable hard coating.

【0008】[0008]

【作用】本発明の方法に用いられる鋼系金属材料として
は、例えば構造用鋼、ばね鋼、軸受鋼、工具鋼、ステン
レス鋼等が挙げられる。また、超硬合金は超硬チップ、
ドリル、エンドミル等の切削工具に使用される超硬合金
である。
The steel-based metal material used in the method of the present invention includes structural steel, spring steel, bearing steel, tool steel, stainless steel and the like. Also, cemented carbide is a cemented carbide chip,
Cemented carbide used for cutting tools such as drills and end mills.

【0009】これらの基材の上に形成する本発明のTi
AlN/TiNの2層膜は、TiAlN層のAl濃度が
40%以上60%以下であり、その膜厚の割合が全体の
5%以上50%以下であることが必要である。
The Ti of the present invention formed on these substrates
In the AlN / TiN two-layer film, it is necessary that the Al concentration of the TiAlN layer is 40% or more and 60% or less and the ratio of the film thickness thereof is 5% or more and 50% or less.

【0010】本発明の被膜は、イオンプレーディング
法、CVD法、スパッタリング法などの公知の方法を用
いて作製して良いが、2ユニット以上の金属イオンを同
時に供給でき2種類以上の被膜の製膜が同一装置内で可
能であり、かつ耐摩耗性の向上に有効な強固な付着力を
示す被膜の作製が可能なイオンプレーティング法を用い
ることが最も望ましい。したがって、ここでは、例とし
てイオンプレーティング法による被膜の形成について以
下に説明する。
The coating film of the present invention may be produced by a known method such as an ion plating method, a CVD method or a sputtering method, but two or more units of metal ions can be simultaneously supplied and two or more kinds of coating films can be produced. It is most desirable to use the ion plating method, which allows the film to be formed in the same apparatus and allows the production of a film exhibiting a strong adhesive force effective for improving the wear resistance. Therefore, here, the formation of the coating film by the ion plating method will be described below as an example.

【0011】一般にイオンプレーディング法で被膜を形
成する場合には、金属源を蒸発させ、蒸発した金属をイ
オン化して基材に供給する。本発明の被膜構造をイオン
プレーティング法で作製する場合の金属源としては金属
チタンおよび金属アルミニウムの2種の蒸発源を用いる
必要があるが、上記純金属の代わりにTi−Al合金を
用いてもよい。これらの純金属や組成の異なる合金の蒸
発源を単独にあるいは複数個同時に使用することにより
目的とする比率でTiとAlの蒸気が供給される。
Generally, when a film is formed by an ion plating method, a metal source is evaporated and the evaporated metal is ionized and supplied to a substrate. When the coating structure of the present invention is produced by the ion plating method, it is necessary to use two kinds of evaporation sources of titanium metal and aluminum metal, but a Ti-Al alloy is used instead of the pure metal. Good. Vapors of Ti and Al can be supplied at a target ratio by using the evaporation sources of these pure metals or alloys having different compositions either individually or simultaneously.

【0012】金属のイオン化の方法は特に制限されず、
イオンプレーティング装置に備わった公知の手法が採用
される。すなわち、金属の蒸発は抵抗加熱や電子銃加熱
などのどれでも良く、蒸発した金属のイオン化も公知の
アーク放電、グロー放電、高周波放電などのいずれでも
良い。
The method of ionizing the metal is not particularly limited,
A known method provided in the ion plating device is adopted. That is, the evaporation of the metal may be resistance heating, electron gun heating, or the like, and the evaporated metal may be ionized by known arc discharge, glow discharge, high-frequency discharge, or the like.

【0013】イオンプレーティング法で使用される反応
性ガスは、窒化物を生成させるための反応ガスであり、
窒素あるいはアンモニアまたはこれらの混合ガスまたは
これらを含む他の種類のガスとの混合ガスを用いる。上
記反応性ガスを反応容器中に導入し、上記の金属イオン
と同様の方法でイオン化し、基材に負のバイアス電圧を
印加し、上記方法によりTiとAlの組成比を制御し、
さらにTiNとTiAlNの製膜時間を変えることによ
って、膜厚比を制御して本発明の被膜を製膜する。
The reactive gas used in the ion plating method is a reactive gas for producing a nitride,
A mixed gas with nitrogen or ammonia, a mixed gas thereof, or another kind of gas including these is used. Introducing the reactive gas into the reaction vessel, ionizing in the same manner as the above metal ions, applying a negative bias voltage to the substrate, controlling the composition ratio of Ti and Al by the above method,
Further, by changing the film forming time of TiN and TiAlN, the film thickness ratio is controlled to form the film of the present invention.

【0014】TiNは、B1型結晶構造の物質である
が、TiN中のTiの一部がAlに置換された置換型固
溶体であるTiAlNにおいて、Alのモル%が60%
までは、TiNと同じB1型結晶構造となる。Al濃度
が60%を越えると、結晶構造が変化し、被膜の靱性が
極端に低下して好ましくない。
TiN is a substance having a B1 type crystal structure, but in TiAlN which is a substitutional solid solution in which a part of Ti in TiN is substituted with Al, the mol% of Al is 60%.
Until then, it has the same B1 type crystal structure as TiN. When the Al concentration exceeds 60%, the crystal structure changes, and the toughness of the coating extremely decreases, which is not preferable.

【0015】TiAlNは酸化雰囲気にさらされると固
溶したAlにより被膜表面に酸化物層が形成され、保護
層の役割を果たす。そのため、切削工具などでは摩耗か
ら発生する熱による被膜の酸化劣化を防ぐ機能を持つ。
この特性はAl濃度が多いほど高くなるものであるか
ら、十分な耐酸化性を持たせるためにはAl濃度が40
%以上が好ましい。
When TiAlN is exposed to an oxidizing atmosphere, a solid solution of Al forms an oxide layer on the surface of the film, which serves as a protective layer. Therefore, cutting tools have a function of preventing oxidative deterioration of the coating due to heat generated by wear.
Since this characteristic increases as the Al concentration increases, the Al concentration is 40% in order to provide sufficient oxidation resistance.
% Or more is preferable.

【0016】また、TiAlNはTiNと同一の結晶構
造にあるとはいえ、Tiと原子径の異なるAlが置換固
溶すると、一種の欠陥が導入された状態となるため、T
iNに比して機械的特性は劣ることとなる。したがって
本発明の被膜構造ではTiNとの2層膜にすることによ
って、第1層のTiNで被膜の靱性を向上させ、表面層
のTiAlNで耐酸化性を向上させることができるので
ある。
Although TiAlN has the same crystal structure as TiN, when Ti and Al having a different atomic diameter are substituted and solid-solved, a kind of defect is introduced.
The mechanical properties are inferior to those of iN. Therefore, in the film structure of the present invention, by forming a two-layer film with TiN, the toughness of the film can be improved by TiN of the first layer and the oxidation resistance can be improved by TiAlN of the surface layer.

【0017】この時、TiAlNの膜厚の割合は全体の
5%以上50%以下であることが必要である。TiAl
Nの膜厚比が5%より薄くなると、機械的特性は第1層
であるTiNにより十分目的を達し得るが、TiAlN
層が使用途中に摩耗により磨滅すると耐酸化性が損なわ
れ、本発明の目的を達し得ない。また、膜厚の割合が5
0%より高くなるとTiAlNの靱性の低さが現れるた
め、被膜の機械的特性が劣化して好ましくない。
At this time, the ratio of the film thickness of TiAlN must be 5% or more and 50% or less of the whole. TiAl
When the film thickness ratio of N is thinner than 5%, the mechanical properties can be sufficiently achieved by TiN which is the first layer.
If the layer is worn away during use, the oxidation resistance is impaired and the object of the present invention cannot be achieved. Also, the film thickness ratio is 5
When it is higher than 0%, the toughness of TiAlN appears to be low, and the mechanical properties of the coating deteriorate, which is not preferable.

【0018】[0018]

【実施例】次に、本発明の好ましい実施例を以下に説明
する。
The preferred embodiments of the present invention will be described below.

【0019】(実施例1)6mmφの高速度鋼(SKH
51)製のドリルを基材として用いた。TiNおよびT
iAlN被膜の形成はカソードアーク放電型イオンプレ
ーティング装置で行なった。イオンプレーティングでの
蒸発源としては、チタンターゲットおよびAl濃度がモ
ル%で50%のTi−Al合金ターゲットを用いた。
(Example 1) 6 mmφ high speed steel (SKH
51) drill was used as a substrate. TiN and T
The iAlN coating was formed by a cathode arc discharge type ion plating device. As the evaporation source in the ion plating, a titanium target and a Ti—Al alloy target with an Al concentration of 50% by mol% were used.

【0020】基材のドリルを有機溶剤中で超音波洗浄を
行ない、イオンプレーティング装置内の所定位置にセッ
トし、反応容器内を2×10-5Torrまで排気した
後、基板に−1000Vのバイアス電圧を印加し、Ti
カソードよりアーク放電を生起させた。この時のアーク
放電電流は90Aであった。赤外放射温度計により基板
表面温度を監視しながら、アーク放電を約2分間続け、
Tiを蒸発、イオン化させ、基板表面のスパッタクリー
ニングを行なった。アーク放電中最大500°Cまでド
リル表面温度の上昇が認められた。次に反応ガスとして
窒素ガスを導入し、圧力を3.0×10-2Torrを保
つようにしながら基板に−400Vのバイアス電圧を印
加し、Tiカソードよりアーク放電を生起させた。この
時のアーク放電電流は90Aであった。アーク放電は6
5分間続けた。
After ultrasonically cleaning the drill of the base material in an organic solvent, setting it at a predetermined position in the ion plating apparatus, and evacuating the inside of the reaction vessel to 2 × 10 -5 Torr, the substrate was subjected to -1000V. Applying bias voltage, Ti
Arc discharge was generated from the cathode. The arc discharge current at this time was 90A. While monitoring the substrate surface temperature with an infrared radiation thermometer, continue arc discharge for about 2 minutes,
Ti was evaporated and ionized, and the substrate surface was sputter cleaned. During the arc discharge, a rise in the drill surface temperature was recognized up to a maximum of 500 ° C. Next, nitrogen gas was introduced as a reaction gas, a bias voltage of -400 V was applied to the substrate while maintaining the pressure at 3.0 × 10 -2 Torr, and arc discharge was generated from the Ti cathode. The arc discharge current at this time was 90A. 6 arc discharge
Continued for 5 minutes.

【0021】次にTiAlN層を被覆するため、Tiカ
ソードのアーク放電を停止し、窒素ガス圧力、バイアス
電圧は変えずにTi−Alカソードにアーク放電を生起
させた。この時のアーク放電電流は90Aであった。ア
ーク放電は5分間続け、TiAlN被膜の被覆を行なっ
た。
Next, in order to coat the TiAlN layer, the arc discharge of the Ti cathode was stopped, and the arc discharge was generated in the Ti-Al cathode without changing the nitrogen gas pressure and the bias voltage. The arc discharge current at this time was 90A. The arc discharge was continued for 5 minutes to apply the TiAlN film.

【0022】以上のように作製した2層膜は、全膜厚と
しては約3μmで、TiAlN膜厚比は7.5%であっ
た。
The two-layer film produced as described above had a total film thickness of about 3 μm and a TiAlN film thickness ratio of 7.5%.

【0023】この2層ドリルについて切削試験を実施し
た。切削試験は、比削材としてSCM440Cを使用
し、回転数は1500rpm、送り速度は0.15mm
/rev.とし、20mmの深さまで切削し、切削不能
になるまでの穴の数で評価した。実施例1のドリルで
は、320回の切削が可能であった。
A cutting test was carried out on this two-layer drill. In the cutting test, SCM440C was used as a specific cutting material, the rotation speed was 1500 rpm, and the feed rate was 0.15 mm.
/ Rev. Was cut to a depth of 20 mm, and the number of holes until cutting became impossible was evaluated. The drill of Example 1 was capable of cutting 320 times.

【0024】(実施例2)実施例1と同様のドリルを用
い、同様の方法でTiNを60分間、TiAlNを10
分間製膜し、TiAlN/TiN2層膜を製膜した。得
られた被膜の全膜厚は約3μmでTiAlN膜厚の割合
は15%であった。このドリルでの切削回数は243回
であった。
Example 2 Using the same drill as in Example 1, TiN was added for 60 minutes and TiAlN was added for 10 minutes in the same manner.
A film was formed for a minute to form a TiAlN / TiN2 layer film. The total film thickness of the obtained film was about 3 μm, and the ratio of the TiAlN film thickness was 15%. The number of times of cutting with this drill was 243.

【0025】(実施例3)実施例1と同様のドリルを用
い、同様の方法でTiNを50分間、TiAlNを20
分間製膜し、TiAlN/TiN2層膜を製膜した。得
られた被膜の全膜厚は約3μmでTiAlN膜厚の割合
は30%であった。このドリルでの切削回数は130回
であった。
Example 3 Using the same drill as in Example 1, TiN was added for 50 minutes and TiAlN was added for 20 minutes by the same method.
A film was formed for a minute to form a TiAlN / TiN2 layer film. The total film thickness of the obtained film was about 3 μm, and the ratio of the TiAlN film thickness was 30%. The number of times of cutting with this drill was 130 times.

【0026】(実施例4)実施例1と同様のドリルを用
い、同様の方法でTiNを40分間、TiAlNを30
分間製膜し、TiAlN/TiN2層膜を製膜した。得
られた被膜の全膜厚は約3μmでTiAlN膜厚の割合
は45%であった。このドリルでの切削回数は199回
であった。
Example 4 Using the same drill as in Example 1, TiN was added for 40 minutes and TiAlN was added for 30 minutes in the same manner.
A film was formed for a minute to form a TiAlN / TiN2 layer film. The total film thickness of the obtained film was about 3 μm, and the ratio of the TiAlN film thickness was 45%. The number of times of cutting with this drill was 199 times.

【0027】(比較例1)実施例1と同様のドリルを用
い、同様の方法でTiNを30分間、TiAlNを40
分間製膜し、TiAlN/TiN2層膜を製膜した。得
られた被膜の全膜厚は約3μmでTiAlN膜厚の割合
は55%であった。このドリルでの切削回数は37回で
あった。
Comparative Example 1 Using the same drill as in Example 1, TiN was added for 30 minutes and TiAlN was added for 40 minutes in the same manner.
A film was formed for a minute to form a TiAlN / TiN2 layer film. The total film thickness of the obtained coating film was about 3 μm, and the ratio of the TiAlN film thickness was 55%. The number of times of cutting with this drill was 37 times.

【0028】(比較例2)実施例1と同様のドリルを用
い、同様の方法でTiNを20分間、TiAlNを50
分間製膜し、TiAlN/TiN2層膜を製膜した。得
られた被膜の全膜厚は約3μmでTiAlN膜厚の割合
は70%であった。このドリルでの切削回数は40回で
あった。
(Comparative Example 2) Using the same drill as in Example 1, TiN was added for 20 minutes and TiAlN was added for 50 minutes in the same manner.
A film was formed for a minute to form a TiAlN / TiN2 layer film. The total film thickness of the obtained coating film was about 3 μm and the ratio of the TiAlN film thickness was 70%. The number of times of cutting with this drill was 40 times.

【0029】(比較例3)実施例1と同様のドリルを用
い、同様の方法でTiNを10分間、TiAlNを60
分間製膜し、TiAlN/TiN2層膜を製膜した。得
られた被膜の全膜厚は約3μmでTiAlN膜厚の割合
は85%であった。このドリルでの切削回数は22回で
あった。
Comparative Example 3 Using the same drill as in Example 1, TiN was added for 10 minutes and TiAlN was added for 60 minutes in the same manner.
A film was formed for a minute to form a TiAlN / TiN2 layer film. The total film thickness of the obtained coating film was about 3 μm, and the ratio of the TiAlN film thickness was 85%. The number of times of cutting with this drill was 22 times.

【0030】(比較例4)実施例1と同様のドリルを用
い、同様の方法でTiAlNのみを70分間製膜した。
得られたTiAlNドリルの膜厚は約3μmであった。
このドリルの切削回数は4回であった。
Comparative Example 4 Using the same drill as in Example 1, TiAlN alone was formed into a film by the same method for 70 minutes.
The film thickness of the obtained TiAlN drill was about 3 μm.
This drill was cut 4 times.

【0031】ここで、実施例1〜4および比較例1〜4
におけるTiAlN膜のAl濃度を確認するため、EP
MAにより組成分析を行なったところ、Al濃度は、モ
ル%で40%〜45%の間にあった。
Here, Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4
In order to confirm the Al concentration of the TiAlN film in
When the composition was analyzed by MA, the Al concentration was 40% to 45% in mol%.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
TiNとTiAlNを2層化し、そのTiAlN膜厚の
割合を5%以上50%以下にすることにより、被膜の靱
性を低下させることなく、耐酸化性を付与することがで
き、工具などの特性を格段に向上させることができる。
As described above, according to the present invention,
By making TiN and TiAlN into two layers and setting the ratio of the TiAlN film thickness to 5% or more and 50% or less, it is possible to impart oxidation resistance without lowering the toughness of the coating, and to improve the characteristics of tools and the like. It can be greatly improved.

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─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年9月14日[Submission date] September 14, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0023[Name of item to be corrected] 0023

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0023】この2層ドリルについて切削試験を実施し
た。切削試験は、被削材としてSCM440Cを使用
し、回転数は1500rpm、送り速度は0.15mm
/rev.とし、20mmの深さまで切削し、切削不能
になるまでの穴の数で評価した。実施例1のドリルで
は、320回の切削が可能であった。
A cutting test was carried out on this two-layer drill. In the cutting test, SCM440C was used as the work material, the rotation speed was 1500 rpm, and the feed rate was 0.15 mm.
/ Rev. Was cut to a depth of 20 mm, and the number of holes until cutting became impossible was evaluated. The drill of Example 1 was capable of cutting 320 times.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 鋼系金属材料あるいは超硬合金の上に形
成されたTiN層とさらにその上にAlのモル%が40
%以上60%以下のTiAlN層が形成された2層構造
の被膜であって、該2層被膜中のTiAlN層の厚みの
割合が5%以上50%以下であることを特徴とする耐酸
化・耐摩耗性硬質被膜。
1. A TiN layer formed on a steel-based metallic material or a cemented carbide, and a mole% of Al of 40 on the TiN layer.
% To 60% of the TiAlN layer is formed, the TiAlN layer in the two-layer film has a thickness ratio of 5% to 50%. Abrasion resistant hard coating.
JP19081493A 1993-07-02 1993-07-02 Oxidation and wear resistant hard coating film Pending JPH0718416A (en)

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