JPH07176761A - 電界効果トランジスタ - Google Patents

電界効果トランジスタ

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Publication number
JPH07176761A
JPH07176761A JP32064893A JP32064893A JPH07176761A JP H07176761 A JPH07176761 A JP H07176761A JP 32064893 A JP32064893 A JP 32064893A JP 32064893 A JP32064893 A JP 32064893A JP H07176761 A JPH07176761 A JP H07176761A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
gate electrode
gate
effect transistor
drain
Prior art date
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Pending
Application number
JP32064893A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Okamoto
康宏 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH07176761A publication Critical patent/JPH07176761A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高周波での動作時にドレイン電流の減少が無
く、高い飽和出力が得られる高出力増幅器用の電界効果
トランジスタを提供する。 【構成】 ソース電極3とゲート電極5およびゲート電
極5とドレイン電極4の間にショットキ性の第2ゲート
電極6があり、この第2ゲート電極6を正電圧にバイア
スする事により、表面空乏層8を打ち消し、ゲート下の
空乏層7によってのみドレイン電流の変調が行われるよ
うにする。この結果高周波で動作した際の、表面空乏層
の応答の遅れによるドレイン電流の減少をなくすことが
でき、高い飽和出力を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高周波において増幅器と
して用いる電界効果トランジスタに関するものである。
【0002】
【従来の技術】砒化ガリウム(GaAs)等の化合物半
導体材料を用いた電界効果トランジスタにおいては、素
子表面に表面準位が存在し、ゲート直下の空乏層以外に
ソース電極−ゲート電極間およびゲート電極−ドレイン
電極間にも表面準位に起因する空乏層(表面空乏層)が
存在する。表面空乏層はGaAsチャネルを狭窄し、ソ
ース抵抗、ドレイン抵抗を増大させる。また、表面準位
はゲート電圧の変化に応答して充放電し、表面空乏層厚
を変化させるが、動作周波数が高くなると表面準位の充
放電がゲート電圧の変化に追いつけないため、高周波下
でのドレイン電流が直流動作時のドレイン電流と比べて
低減するという、ドレイン電流周波数分散の問題があ
る。
【0003】従来、ソース抵抗、ドレイン抵抗を減らす
ために、ソース電極−ドレイン電極間を短くする、ある
いは表面空乏層の影響を小さくするためゲートをリセス
するといった方法が採られているが、表面空乏層の影響
を完全に除くことはできなかった。
【0004】一方、近年表面空乏層を取り除くように構
成したものとして特公平2−12016号公報の「電界
効果トランジスタ」が知られている。この電界効果トラ
ンジスタの構成を図3に示す。即ち、ソース電極11、
ゲート電極13、ドレイン電極12の3電極からなる電
界効果トランジスタの、ソース電極11とドレイン電極
12との間の動作層14上に、ゲート電極13も含めて
覆う絶縁膜15を設け、この絶縁膜上に前記動作層全体
を覆う絶縁された第2のゲート電極16を設けている。
この構造においては、第2ゲート電極16を正電圧にバ
イアスする事により、チャネル表面に生じた空乏層を打
ち消すことができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】以上述べた構造におい
ては、表面空乏層を打ち消し、ソース抵抗、ドレイン抵
抗を低減し、周波数分散が抑制できる等、従来の構造と
比べて改善されているものの、ゲート上の絶縁膜および
電極金属のストレスによるドレイン電流の劣化、あるい
は第2ゲート電極とゲート間の寄生容量による高周波特
性の劣化等新たな問題が生じる。さらには、第2絶縁ゲ
ート形成のための工程が必要になる等の課題があった。
【0006】本発明の目的は、このような従来の欠点を
除去して、表面空乏層を打ち消すことができ、かつスト
レスあるいは寄生容量等の新たな問題もなく、通常の工
程で作製が可能な電界効果トランジスタを提供すること
にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の電界効果トラン
ジスタは、ソース−ゲート電極間、ゲート−ドレイン電
極間のGaAs表面にショットキ性の第2ゲート電極を
設けたことを特徴とする。
【0008】
【作用】本発明においては、電極間に設けたショットキ
性の第2ゲート電極を正電圧にバイアスすることによ
り、表面空乏層を打ち消した状態で固定し、ソース抵抗
およびドレイン抵抗を低減し、またドレイン電流周波数
分散の問題も解決できる。
【0009】さらに、この第2ゲート電極は、ゲート電
極と同時に形成できるため、通常のプロセスを変更する
ことなく作製が可能である。
【0010】
【実施例】次に図1および図2を参照して本発明の実施
例について説明する。図1は本発明の一実施例であり、
(a)は断面図、(b)は平面図である。図1(a)に
おいて、GaAs基板1の上に活性層2があり、その上
にオーミック性のソース電極3およびドレイン電極4が
あり、ソース電極とドレイン電極の間にショットキ性の
ゲート電極5があり、ソース電極−ゲート電極間および
ゲート電極−ドレイン電極間にショットキ性の第2ゲー
ト電極6がある。7はゲート下の空乏層、8は第2ゲー
トが存在しない場合の表面空乏層である。図1(b)に
おいて、9はゲート電極パッド、10は第2ゲート電極
のパッドである。
【0011】図2は本発明の電界効果トランジスタを用
いた増幅回路の回路図である。21は本発明のトランジ
スタであり、22はソース電極、23はドレイン電極、
24はゲート電極、25は第2ゲート電極である。ゲー
ト電極24と増幅器入力端子26の間には直流阻止用の
キャパシタ27があり、ゲートバイアス用直流電圧28
が抵抗29を通じてゲート電極24に加えられている。
また、第2ゲート電極25には、第2ゲートバイアス用
正電圧30が加えられている。ソース電極22は接地さ
れている。ドレイン電極23と増幅器出力端子31の間
は直流阻止用キャパシタ32が設けられ、ドレイン電極
23には負荷抵抗33を通じてドレインバイアス用電圧
34が加えられている。
【0012】本発明の電界効果トランジスタにおいて、
第2ゲート電極を正にバイアスすることにより、チャネ
ル表面に生じた空乏層を打ち消すことができ、ソース抵
抗、ドレイン抵抗を低減でき、ドレイン電流の周波数分
散をなくすことができる。
【0013】
【発明の効果】本発明によれば、ソース−ゲート電極
間、ゲート−ドレイン電極間に設けた第2ゲート電極を
正電圧にバイアスし、表面空乏層を打ち消すことによ
り、ソース抵抗およびドレイン抵抗を低減し、ドレイン
電流周波数分散をなくすことができる。その結果、高周
波帯における高出力動作時において、高い飽和出力を得
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示すための図で、(a)は
断面図、(b)は平面図である。
【図2】本発明の電界効果トランジスタを用いた増幅器
の回路図である。
【図3】従来の電界効果トランジスタの断面図である。
【符号の説明】
1 GaAs基板 2 活性層 3 ソース電極 4 ドレイン電極 5 ゲート電極 6 第2ゲート電極 7 空乏層 8 表面空乏層 9 ゲートパッド 10 第2ゲートパッド 11 ソース電極 12 ドレイン電極 13 ゲート電極 14 活性層 15 絶縁膜 16 第2ゲート電極 21 電界効果トランジスタ 22 ソース電極 23 ドレイン電極 24 ゲート電極 25 第2ゲート電極 26 増幅器入力端 27 キャパシタ 28 ゲートバイアス用直流電圧 29 抵抗 30 第2ゲートバイアス用直流電圧 31 増幅器出力端 32 キャパシタ 33 抵抗 34 ドレインバイアス用直流電圧

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 化合物半導体基板上に、不純物ドーピン
    グした活性層があり、その活性層の上にソース電極、ド
    レイン電極、ゲート電極の3電極がある電界効果トラン
    ジスタにおいて、ソース電極−ゲート電極およびゲート
    電極−ドレイン電極の各電極間にショットキ性の第2の
    ゲート電極を有することを特徴とする電界効果トランジ
    スタ。
  2. 【請求項2】 基板の化合物半導体をGaAsとするこ
    とを特徴とする請求項1記載の電界効果トランジスタ。
  3. 【請求項3】 活性層のドーピングをn型またはP型と
    することを特徴とする請求項2記載の電界効果トランジ
    スタ。
JP32064893A 1993-12-20 1993-12-20 電界効果トランジスタ Pending JPH07176761A (ja)

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JP32064893A JPH07176761A (ja) 1993-12-20 1993-12-20 電界効果トランジスタ

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009218528A (ja) * 2008-03-13 2009-09-24 Furukawa Electric Co Ltd:The GaN系電界効果トランジスタ

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS609172A (ja) * 1983-06-29 1985-01-18 Fujitsu Ltd 半導体装置
JPH022179A (ja) * 1988-06-13 1990-01-08 Fujitsu Ltd メタル・セミコンダクタ・fet
JPH04162433A (ja) * 1990-10-26 1992-06-05 Motorola Inc 電気的長さを制御できる電界効果減衰器デバイス

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19970520