JPH07176505A - 基板保持具洗浄装置 - Google Patents
基板保持具洗浄装置Info
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- JPH07176505A JPH07176505A JP32241793A JP32241793A JPH07176505A JP H07176505 A JPH07176505 A JP H07176505A JP 32241793 A JP32241793 A JP 32241793A JP 32241793 A JP32241793 A JP 32241793A JP H07176505 A JPH07176505 A JP H07176505A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 短時間で容易に基板保持具の保持溝を洗浄で
きるようにする。 【構成】 基板保持具洗浄装置１３は、基板処理槽２０
内において複数の基板Ｗを整列させて下方から保持する
複数の保持溝を有する基板保持具を洗浄するものであっ
て、洗浄ノズル３５ａ，３５ｂと、洗浄液供給配管３７
とを備えている。洗浄ノズル３５ａ，３５ｂは、基板搬
送ロボットによって搬送されて基板処理槽内に配置さ
れ、基板保持具の保持溝に向けて純水を吐出する。洗浄
液供給配管３７は、洗浄ノズル３５ａ，３５ｂに純水を
供給する。
きるようにする。 【構成】 基板保持具洗浄装置１３は、基板処理槽２０
内において複数の基板Ｗを整列させて下方から保持する
複数の保持溝を有する基板保持具を洗浄するものであっ
て、洗浄ノズル３５ａ，３５ｂと、洗浄液供給配管３７
とを備えている。洗浄ノズル３５ａ，３５ｂは、基板搬
送ロボットによって搬送されて基板処理槽内に配置さ
れ、基板保持具の保持溝に向けて純水を吐出する。洗浄
液供給配管３７は、洗浄ノズル３５ａ，３５ｂに純水を
供給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置、特に、基板
処理槽内において複数の基板保持溝を有する基板保持具
を洗浄する基板保持具洗浄装置に関する。
処理槽内において複数の基板保持溝を有する基板保持具
を洗浄する基板保持具洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体や液晶表示装置の製造工程におい
て、複数枚の基板を一括して処理するバッチ式の基板処
理装置が用いられている。この種の基板処理装置では、
集積度や解像度のアップによる基板サイズの大型化に伴
い、高い製造品質が要求されるため、パーティクルの付
着を極力排除すべく、基板搬送用のキャリアを用いない
キャリアレス方式が採用されている。
て、複数枚の基板を一括して処理するバッチ式の基板処
理装置が用いられている。この種の基板処理装置では、
集積度や解像度のアップによる基板サイズの大型化に伴
い、高い製造品質が要求されるため、パーティクルの付
着を極力排除すべく、基板搬送用のキャリアを用いない
キャリアレス方式が採用されている。
【０００３】キャリアレス方式の基板処理装置は、一般
に、キャリアに対して基板を受け渡す基板移載部と、複
数枚の基板を一括処理する複数の基板処理部と、基板移
載部及び各基板処理部間で基板を搬送する基板搬送ロボ
ットとを備えている。各基板処理部は、基板浸漬槽と、
基板浸漬槽内に配置された基板保持具とを備えている。
基板保持具には、基板搬送ロボットにより搬送されてき
た基板を下方から保持するための多数の保持溝が形成さ
れている。
に、キャリアに対して基板を受け渡す基板移載部と、複
数枚の基板を一括処理する複数の基板処理部と、基板移
載部及び各基板処理部間で基板を搬送する基板搬送ロボ
ットとを備えている。各基板処理部は、基板浸漬槽と、
基板浸漬槽内に配置された基板保持具とを備えている。
基板保持具には、基板搬送ロボットにより搬送されてき
た基板を下方から保持するための多数の保持溝が形成さ
れている。
【０００４】この基板処理装置では、キャリアに収納さ
れた基板は基板移載部によって取り出され、基板搬送ロ
ボットによって渡される。そして基板は、基板搬送ロボ
ットにより最初の基板処理部に搬送され、基板処理部内
の基板保持具に渡され、そこで一括処理される。この処
理が終了すると、基板は、基板保持具から再度、基板搬
送ロボットに渡され、次の基板処理部に搬送されて処理
される。各種の処理が繰り返して行われた後に、基板搬
送ロボットによって基板移載部に基板が搬送され、キャ
リア内に収納される。
れた基板は基板移載部によって取り出され、基板搬送ロ
ボットによって渡される。そして基板は、基板搬送ロボ
ットにより最初の基板処理部に搬送され、基板処理部内
の基板保持具に渡され、そこで一括処理される。この処
理が終了すると、基板は、基板保持具から再度、基板搬
送ロボットに渡され、次の基板処理部に搬送されて処理
される。各種の処理が繰り返して行われた後に、基板搬
送ロボットによって基板移載部に基板が搬送され、キャ
リア内に収納される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の構成におい
て、基板処理を繰り返して行うと、基板保持具の保持溝
にパーティクルが蓄積する。保持溝内にパーティクルが
蓄積すると、蓄積したパーティクルが処理済の基板に付
着し、基板を汚染する結果となる。特に、洗浄処理部内
の基板保持具にパーティクルが蓄積すると、そのパーテ
ィクルが洗浄済の基板を汚染してしまう。
て、基板処理を繰り返して行うと、基板保持具の保持溝
にパーティクルが蓄積する。保持溝内にパーティクルが
蓄積すると、蓄積したパーティクルが処理済の基板に付
着し、基板を汚染する結果となる。特に、洗浄処理部内
の基板保持具にパーティクルが蓄積すると、そのパーテ
ィクルが洗浄済の基板を汚染してしまう。
【０００６】これを防止するために、従来、一定期間
（例えば数カ月）毎に保守担当者が歯ブラシ様の道具を
用いて保持溝を１つずつ洗浄している。しかし、保持溝
の数は膨大であるため、保持溝を１つずつ洗浄する方法
では、洗浄に手間がかかり、保持溝洗浄作業に長時間を
要するという問題がある。本発明の目的は、短時間で容
易に基板保持具の保持溝を洗浄できるようにすることに
ある。
（例えば数カ月）毎に保守担当者が歯ブラシ様の道具を
用いて保持溝を１つずつ洗浄している。しかし、保持溝
の数は膨大であるため、保持溝を１つずつ洗浄する方法
では、洗浄に手間がかかり、保持溝洗浄作業に長時間を
要するという問題がある。本発明の目的は、短時間で容
易に基板保持具の保持溝を洗浄できるようにすることに
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る基板保持具
洗浄装置は、基板処理槽内において、複数の基板を整列
させて下方から保持する複数の保持溝を有する基板保持
具を洗浄するものであって、洗浄液吐出部と洗浄液供給
部とを備えている。洗浄液吐出部は、基板処理槽内に配
置可能であり、基板保持具の保持溝に向けて洗浄液を吐
出する。洗浄液供給部は、洗浄液吐出部に洗浄液を供給
する。
洗浄装置は、基板処理槽内において、複数の基板を整列
させて下方から保持する複数の保持溝を有する基板保持
具を洗浄するものであって、洗浄液吐出部と洗浄液供給
部とを備えている。洗浄液吐出部は、基板処理槽内に配
置可能であり、基板保持具の保持溝に向けて洗浄液を吐
出する。洗浄液供給部は、洗浄液吐出部に洗浄液を供給
する。
【０００８】
【作用】本発明に係る基板保持具洗浄装置では、洗浄液
吐出部を基板処理槽内に配置し、洗浄液供給部から洗浄
液吐出部に洗浄液を供給すると、供給された洗浄液が、
保持具の保持溝に向けて吐出される。ここでは、洗浄液
吐出部を処理槽内に配置するだけで、簡単に保持溝を洗
浄できる。このため、短時間で容易に基板保持具の保持
溝を洗浄できるようになる。
吐出部を基板処理槽内に配置し、洗浄液供給部から洗浄
液吐出部に洗浄液を供給すると、供給された洗浄液が、
保持具の保持溝に向けて吐出される。ここでは、洗浄液
吐出部を処理槽内に配置するだけで、簡単に保持溝を洗
浄できる。このため、短時間で容易に基板保持具の保持
溝を洗浄できるようになる。
【０００９】
【実施例】図１において、キャリアレス方式の基板処理
装置１は、キャリアＣから基板Ｗを出し入れするための
基板移載部２と、チャック洗浄部３と、１列に配置され
た６つの処理部４〜９と、処理済の基板Ｗを乾燥させる
基板乾燥部１０と、基板移載部２から基板乾燥部１０ま
での間で基板Ｗを整列保持して搬送する基板搬送ロボッ
ト１１とを有している。そして、本発明の一実施例とし
ての基板保持具洗浄装置１３が、基板移載部２の図１左
方に配置されている。基板保持具洗浄装置１３は、基板
搬送ロボット１１で保持可能な形状である。
装置１は、キャリアＣから基板Ｗを出し入れするための
基板移載部２と、チャック洗浄部３と、１列に配置され
た６つの処理部４〜９と、処理済の基板Ｗを乾燥させる
基板乾燥部１０と、基板移載部２から基板乾燥部１０ま
での間で基板Ｗを整列保持して搬送する基板搬送ロボッ
ト１１とを有している。そして、本発明の一実施例とし
ての基板保持具洗浄装置１３が、基板移載部２の図１左
方に配置されている。基板保持具洗浄装置１３は、基板
搬送ロボット１１で保持可能な形状である。
【００１０】各処理部４〜９は、図２に示すように、基
板処理槽２０と、基板処理槽２０内に配置された基板保
持具２１とを有している。基板保持具２１は、図２及び
図３に示すように、基板処理槽２０に上端が支持された
１対の側板２２と、側板２２に両端が固定された３本の
保持部材２３ａ，２３ｂとから構成されている。側板２
２は、図３に示すように、倒立Ｌ字に下方に延びる垂直
部２４と、垂直部材２４の下端で水平に延びる水平部２
５とからなる略倒立Ｔ字状の部材である。水平部材２５
の下端中央には保持部材２３ｂが、両端には１対の保持
部材２３ａがそれぞれ固定されている。保持部材２３
ａ，２３ｂには、図４に示すように、多数の保持溝２６
ａ，２６ｂがそれぞれ形成されている。この保持溝２６
ａ，２６ｂにより、基板Ｗの下部が３点で保持される。
この保持溝２６ａ，２６ｂの数及び間隔は、基板保持チ
ャック１２の保持溝の数及び間隔と同一である。
板処理槽２０と、基板処理槽２０内に配置された基板保
持具２１とを有している。基板保持具２１は、図２及び
図３に示すように、基板処理槽２０に上端が支持された
１対の側板２２と、側板２２に両端が固定された３本の
保持部材２３ａ，２３ｂとから構成されている。側板２
２は、図３に示すように、倒立Ｌ字に下方に延びる垂直
部２４と、垂直部材２４の下端で水平に延びる水平部２
５とからなる略倒立Ｔ字状の部材である。水平部材２５
の下端中央には保持部材２３ｂが、両端には１対の保持
部材２３ａがそれぞれ固定されている。保持部材２３
ａ，２３ｂには、図４に示すように、多数の保持溝２６
ａ，２６ｂがそれぞれ形成されている。この保持溝２６
ａ，２６ｂにより、基板Ｗの下部が３点で保持される。
この保持溝２６ａ，２６ｂの数及び間隔は、基板保持チ
ャック１２の保持溝の数及び間隔と同一である。
【００１１】基板搬送ロボット１１は、図１に示すよう
に、１対の基板保持チャック１２を有している。基板搬
送ロボット１１は、基板保持チャック１２を昇降させ得
るとともに、図１の左右方向に移動可能である。基板保
持チャック１２には、基板Ｗを保持するための保持溝
（図示せず）が形成された保持部材１６，１７が上下に
配置されている。この保持溝の数及び間隔は、キャリア
Ｃ内に収納された基板Ｗの数及び間隔と同一であり、ま
た、３本の保持部材２３ａ，２３ｂの保持溝２６ａ，２
６ｂの数及び間隔と同一である。
に、１対の基板保持チャック１２を有している。基板搬
送ロボット１１は、基板保持チャック１２を昇降させ得
るとともに、図１の左右方向に移動可能である。基板保
持チャック１２には、基板Ｗを保持するための保持溝
（図示せず）が形成された保持部材１６，１７が上下に
配置されている。この保持溝の数及び間隔は、キャリア
Ｃ内に収納された基板Ｗの数及び間隔と同一であり、ま
た、３本の保持部材２３ａ，２３ｂの保持溝２６ａ，２
６ｂの数及び間隔と同一である。
【００１２】基板搬送ロボット１１には、基板保持具洗
浄装置１３に洗浄液を供給するための洗浄配管１４の先
端が配置されている。洗浄配管１４は、基板処理装置の
図１上部に左右方向配置されたケーブルベア（図示せ
ず）と、基板搬送ロボット１１に上下に配置されたケー
ブルベア（図示せず）とに取り付けられている。この結
果、洗浄配管１４の先端は、基板搬送ロボット１１とと
もに図１の左右方向及び上下方向に移動自在となってい
る。洗浄配管１４の基端側は、純水供給弁１５を介して
図示しない純水源に接続されている。
浄装置１３に洗浄液を供給するための洗浄配管１４の先
端が配置されている。洗浄配管１４は、基板処理装置の
図１上部に左右方向配置されたケーブルベア（図示せ
ず）と、基板搬送ロボット１１に上下に配置されたケー
ブルベア（図示せず）とに取り付けられている。この結
果、洗浄配管１４の先端は、基板搬送ロボット１１とと
もに図１の左右方向及び上下方向に移動自在となってい
る。洗浄配管１４の基端側は、純水供給弁１５を介して
図示しない純水源に接続されている。
【００１３】図５に示すように、基板保持具洗浄装置１
３は、基板搬送ロボット１１の基板保持チャック１２に
保持され得る形状の保持部３０と、保持部３０の下部に
取り付けられた洗浄液吐出部３１とを有している。保持
部３０は、基板Ｗの下部形状よりやや小さい断面を有す
る保持部本体３２と、保持部本体３２の両側外方に延び
るダミー部３３とを有している。ダミー部３３は、基板
Ｗと同厚かつ同外径に構成されている。保持部３２の並
設間隔は、基板保持チャック１２の保持溝の間隔と同一
または当該間隔の整数倍である。
３は、基板搬送ロボット１１の基板保持チャック１２に
保持され得る形状の保持部３０と、保持部３０の下部に
取り付けられた洗浄液吐出部３１とを有している。保持
部３０は、基板Ｗの下部形状よりやや小さい断面を有す
る保持部本体３２と、保持部本体３２の両側外方に延び
るダミー部３３とを有している。ダミー部３３は、基板
Ｗと同厚かつ同外径に構成されている。保持部３２の並
設間隔は、基板保持チャック１２の保持溝の間隔と同一
または当該間隔の整数倍である。
【００１４】洗浄液吐出部３１は、保持部本体３２の下
部から下方に延びる取付金具３９に固定されている。洗
浄液吐出部３１は、円筒状の吐出部本体３４と、吐出部
本体３４の下部において保持溝２６ａ，２６ｂに向けて
配置された洗浄ノズル３５ａ，３５ｂと、吐出部本体３
４の上部に配置された超音波振動子３６と、吐出部本体
３４の図５奥側に配置された洗浄液供給配管３７とを有
している。
部から下方に延びる取付金具３９に固定されている。洗
浄液吐出部３１は、円筒状の吐出部本体３４と、吐出部
本体３４の下部において保持溝２６ａ，２６ｂに向けて
配置された洗浄ノズル３５ａ，３５ｂと、吐出部本体３
４の上部に配置された超音波振動子３６と、吐出部本体
３４の図５奥側に配置された洗浄液供給配管３７とを有
している。
【００１５】吐出部本体３４は、パイプの両端を封止し
た形状である。洗浄ノズル３５ａ，３５ｂは、吐出部本
体３４の下部と両側下部に、長手方向に並べて配置され
ている。洗浄ノズル３５ａ，３５ｂの数及び間隔は、保
持溝２３ａ，２３ｂの数及び間隔と同一である。超音波
振動子３６は、吐出部本体３４内の洗浄液を超音波振動
させるものである。超音波振動を純水に印加することに
より、洗浄液の洗浄エネルギーが高まり、効率良く洗浄
を行える。洗浄液供給配管３７の先端は上方に延びてお
り、ワンタッチカプラ３８が取り付けられている。ワン
タッチカプラ３８は、基板搬送ロボット１１に配置され
た洗浄配管１４の先端に対して着脱可能である。
た形状である。洗浄ノズル３５ａ，３５ｂは、吐出部本
体３４の下部と両側下部に、長手方向に並べて配置され
ている。洗浄ノズル３５ａ，３５ｂの数及び間隔は、保
持溝２３ａ，２３ｂの数及び間隔と同一である。超音波
振動子３６は、吐出部本体３４内の洗浄液を超音波振動
させるものである。超音波振動を純水に印加することに
より、洗浄液の洗浄エネルギーが高まり、効率良く洗浄
を行える。洗浄液供給配管３７の先端は上方に延びてお
り、ワンタッチカプラ３８が取り付けられている。ワン
タッチカプラ３８は、基板搬送ロボット１１に配置され
た洗浄配管１４の先端に対して着脱可能である。
【００１６】基板処理装置１は、図６に示すような制御
部４０を有している。制御部４０は、ＣＰＵ，ＲＡＭ，
ＲＯＭを含むマイクロコンピュータを有している。制御
部４０には、基板搬送ロボット１１、純水供給弁１５及
び他の入出力部が接続されている。次に上述の実施例の
動作について説明する。
部４０を有している。制御部４０は、ＣＰＵ，ＲＡＭ，
ＲＯＭを含むマイクロコンピュータを有している。制御
部４０には、基板搬送ロボット１１、純水供給弁１５及
び他の入出力部が接続されている。次に上述の実施例の
動作について説明する。
【００１７】前工程で処理されたキャリアＣが基板移載
部２に載置されると、基板移載部２内の昇降機構（図示
せず）が基板Ｗを保持して上昇させる。なお、このとき
基板搬送ロボット１１は、基板移載部２上に待機してい
る。上昇した基板Ｗは、基板搬送ロボット１１により整
列状態で一括して保持される。保持された基板Ｗは、基
板搬送ロボット１１のチャック１２により各処理部４〜
９に搬送される。各処理部４〜９での処理が終了する
と、基板Ｗは、基板搬送ロボット１１により基板乾燥部
１０に搬送され、乾燥させられる。乾燥した基板Ｗは、
基板搬送ロボット１１によって基板移載部２上に配置さ
れ、基板移載部２の昇降機構によって受け取られてキャ
リアＣ内に収容される。
部２に載置されると、基板移載部２内の昇降機構（図示
せず）が基板Ｗを保持して上昇させる。なお、このとき
基板搬送ロボット１１は、基板移載部２上に待機してい
る。上昇した基板Ｗは、基板搬送ロボット１１により整
列状態で一括して保持される。保持された基板Ｗは、基
板搬送ロボット１１のチャック１２により各処理部４〜
９に搬送される。各処理部４〜９での処理が終了する
と、基板Ｗは、基板搬送ロボット１１により基板乾燥部
１０に搬送され、乾燥させられる。乾燥した基板Ｗは、
基板搬送ロボット１１によって基板移載部２上に配置さ
れ、基板移載部２の昇降機構によって受け取られてキャ
リアＣ内に収容される。
【００１８】前記基板処理動作を行うと、各処理部４〜
９の基板保持具２１内の保持溝２６ａ，２６ｂにパーテ
ィクルが蓄積する。そこで、一定期間（例えば数カ月）
毎に洗浄処理を実行する。この場合には、制御部４０は
図７に示す洗浄処理を実行する。まずステップＳ１で、
保持具洗浄処理が指定されたか否かを判断する。保持具
洗浄処理が指定されればステップＳ２に移行する。ステ
ップＳ２では、基板搬送ロボット１１を基板保持具洗浄
装置１３の収納位置（基板移載部２の左方の位置）に配
置する。
９の基板保持具２１内の保持溝２６ａ，２６ｂにパーテ
ィクルが蓄積する。そこで、一定期間（例えば数カ月）
毎に洗浄処理を実行する。この場合には、制御部４０は
図７に示す洗浄処理を実行する。まずステップＳ１で、
保持具洗浄処理が指定されたか否かを判断する。保持具
洗浄処理が指定されればステップＳ２に移行する。ステ
ップＳ２では、基板搬送ロボット１１を基板保持具洗浄
装置１３の収納位置（基板移載部２の左方の位置）に配
置する。
【００１９】ステップＳ３では、基板保持チャック１２
を下降させて、基板保持具洗浄装置１３を基板保持チャ
ック１２により保持する。ここでは、チャック１２の保
持部材１６，１７の保持溝に洗浄装置１３のダミー部３
３が嵌まり込むことで、チャック１２に対する洗浄装置
１３の位置決めがなされる。また、この保持の際に、洗
浄配管１４の先端とワンタッチカプラ３８とが接続され
る。
を下降させて、基板保持具洗浄装置１３を基板保持チャ
ック１２により保持する。ここでは、チャック１２の保
持部材１６，１７の保持溝に洗浄装置１３のダミー部３
３が嵌まり込むことで、チャック１２に対する洗浄装置
１３の位置決めがなされる。また、この保持の際に、洗
浄配管１４の先端とワンタッチカプラ３８とが接続され
る。
【００２０】ステップＳ４では、基板搬送ロボット１１
を移動させることで、最初の基板処理部３の基板処理槽
２０内に洗浄装置１３を下降させ、所定位置に配置す
る。この位置は、例えば図８に示す位置であり、洗浄ノ
ズル３５ａ，３５ｂが保持溝２６ａ，２６ｂに対向する
位置である。なお、ダミー部３３と保持部材１６，１７
とによって基板搬送ロボットに対する基板保持具洗浄装
置１３の位置決めが正確になされているので、洗浄ノズ
ル３５ａ，３５ｂは保持溝２６ａ，２６ｂに正確に対向
する。
を移動させることで、最初の基板処理部３の基板処理槽
２０内に洗浄装置１３を下降させ、所定位置に配置す
る。この位置は、例えば図８に示す位置であり、洗浄ノ
ズル３５ａ，３５ｂが保持溝２６ａ，２６ｂに対向する
位置である。なお、ダミー部３３と保持部材１６，１７
とによって基板搬送ロボットに対する基板保持具洗浄装
置１３の位置決めが正確になされているので、洗浄ノズ
ル３５ａ，３５ｂは保持溝２６ａ，２６ｂに正確に対向
する。
【００２１】ステップＳ５では、純水供給弁１５を開い
て、洗浄配管１４を介し洗浄液を供給し、洗浄ノズル３
５ａ，３５ｂから超音波振動した純水を保持溝２６ａ，
２６ｂに向けて吐出する。この結果、保持溝２６ａ，２
６ｂからパーティクルが除去される。ステップＳ６で
は、全ての処理部での洗浄処理が終了したか否かを判断
する。全ての処理部での洗浄が終了していない場合には
ステップＳ４に戻り、基板搬送ロボット１１により次の
処理部の所定位置に基板保持具洗浄装置１３を配置し、
前述した動作を繰り返して洗浄処理を行う。
て、洗浄配管１４を介し洗浄液を供給し、洗浄ノズル３
５ａ，３５ｂから超音波振動した純水を保持溝２６ａ，
２６ｂに向けて吐出する。この結果、保持溝２６ａ，２
６ｂからパーティクルが除去される。ステップＳ６で
は、全ての処理部での洗浄処理が終了したか否かを判断
する。全ての処理部での洗浄が終了していない場合には
ステップＳ４に戻り、基板搬送ロボット１１により次の
処理部の所定位置に基板保持具洗浄装置１３を配置し、
前述した動作を繰り返して洗浄処理を行う。
【００２２】全ての処理部の洗浄が終了するとステップ
Ｓ７に移行する。ステップＳ７では、基板搬送ロボット
１１を基板保持具洗浄装置１３の収納位置に移動させ
る。ステップＳ９では、チャック１２を開くことで、基
板保持具洗浄装置１３を収納位置に戻す。ここでは、基
板保持具洗浄装置１３を基板搬送ロボット１１により搬
送して、各処理部内の基板保持具２１の保持溝２６ａ，
２６ｂを洗浄するので、洗浄時間が短縮するとともに、
洗浄を容易に行える。
Ｓ７に移行する。ステップＳ７では、基板搬送ロボット
１１を基板保持具洗浄装置１３の収納位置に移動させ
る。ステップＳ９では、チャック１２を開くことで、基
板保持具洗浄装置１３を収納位置に戻す。ここでは、基
板保持具洗浄装置１３を基板搬送ロボット１１により搬
送して、各処理部内の基板保持具２１の保持溝２６ａ，
２６ｂを洗浄するので、洗浄時間が短縮するとともに、
洗浄を容易に行える。
【００２３】〔他の実施例〕 （ａ） 図９に示すように、吐出部本体３４を回動する
ような構成にしてもよい。この実施例では、取付金具３
９の下端に回動アーム４３の上端が回動自在に取り付け
られており、回動アーム４３の下端に吐出部本体３４が
固定されている。吐出部本体３４の下部には、洗浄ノズ
ル３５が配置されている。洗浄ノズル３５の内部には、
洗浄ノズル３５の先端から突出する洗浄ブラシ４５が設
けられている。洗浄ブラシ４５は、基板保持具洗浄装置
１３が洗浄処理位置に配置された時に、先端が保持溝２
６ａ，２６ｂの底部に到達し得る長さである。この吐出
部本体３４は、図示しないモータにより、図９に二点鎖
線で示す範囲内で揺動可能である。
ような構成にしてもよい。この実施例では、取付金具３
９の下端に回動アーム４３の上端が回動自在に取り付け
られており、回動アーム４３の下端に吐出部本体３４が
固定されている。吐出部本体３４の下部には、洗浄ノズ
ル３５が配置されている。洗浄ノズル３５の内部には、
洗浄ノズル３５の先端から突出する洗浄ブラシ４５が設
けられている。洗浄ブラシ４５は、基板保持具洗浄装置
１３が洗浄処理位置に配置された時に、先端が保持溝２
６ａ，２６ｂの底部に到達し得る長さである。この吐出
部本体３４は、図示しないモータにより、図９に二点鎖
線で示す範囲内で揺動可能である。
【００２４】ここでの動作は前述の実施例と基本的に同
様であるが、洗浄動作時に、回動アーム４３を回動させ
て吐出部本体３４を揺動させる点が異なる。この実施例
では、洗浄ブラシ４５が保持溝２６ａ，２６ｂを擦るこ
とで蓄積したパーティクルを除去するとともに、洗浄ノ
ズル３５から吐出する洗浄液が保持溝２６ａ，２６ｂを
洗浄する。
様であるが、洗浄動作時に、回動アーム４３を回動させ
て吐出部本体３４を揺動させる点が異なる。この実施例
では、洗浄ブラシ４５が保持溝２６ａ，２６ｂを擦るこ
とで蓄積したパーティクルを除去するとともに、洗浄ノ
ズル３５から吐出する洗浄液が保持溝２６ａ，２６ｂを
洗浄する。
【００２５】ここでは、洗浄ノズル３５を１列配置する
だけでよいので、洗浄液の吐出量を減少させ得る。また
洗浄ブラシ４５により、保持溝２６ａ，２６ｂを洗浄し
ているので、パーティクル除去効果が高い。 （ｂ） 基板保持具洗浄装置１３を基板搬送ロボット１
１に保持させる構成に代えて、装置１３を単体で各処理
部内に配置できる構成としてもよい。この場合には、例
えば、基板保持具２１の側板２２に係合する形状に保持
部３０を構成すればよい。 （ｃ） 基板搬送ロボット１１を使用する代わりに、別
途、洗浄ロボットを使用する構成としてもよい。
だけでよいので、洗浄液の吐出量を減少させ得る。また
洗浄ブラシ４５により、保持溝２６ａ，２６ｂを洗浄し
ているので、パーティクル除去効果が高い。 （ｂ） 基板保持具洗浄装置１３を基板搬送ロボット１
１に保持させる構成に代えて、装置１３を単体で各処理
部内に配置できる構成としてもよい。この場合には、例
えば、基板保持具２１の側板２２に係合する形状に保持
部３０を構成すればよい。 （ｃ） 基板搬送ロボット１１を使用する代わりに、別
途、洗浄ロボットを使用する構成としてもよい。
【００２６】この洗浄ロボットは、基板処理装置１の図
１手前側を走行し、アーム先端に洗浄液吐出部３１有し
ている。そして、アームを駆動することで、洗浄液吐出
部３１を水平方向及び垂直方向に移動させる。 （ｄ） 洗浄ブラシ４５を省略してもよい。 （ｅ） 洗浄ノズル３５ａ，３５ｂに代えて、スリット
ノズルを採用し、スリットノズルから保持溝２６ａ，２
６ｂに洗浄液を吐出する構成としてもよい。
１手前側を走行し、アーム先端に洗浄液吐出部３１有し
ている。そして、アームを駆動することで、洗浄液吐出
部３１を水平方向及び垂直方向に移動させる。 （ｄ） 洗浄ブラシ４５を省略してもよい。 （ｅ） 洗浄ノズル３５ａ，３５ｂに代えて、スリット
ノズルを採用し、スリットノズルから保持溝２６ａ，２
６ｂに洗浄液を吐出する構成としてもよい。
【００２７】
【発明の効果】本発明に係る基板保持具洗浄装置では、
保持溝に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出部を設けた
ので、短時間で容易に基板保持具の保持溝を洗浄でき
る。
保持溝に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出部を設けた
ので、短時間で容易に基板保持具の保持溝を洗浄でき
る。
【図１】本発明の一実施例を採用した基板処理装置の斜
視図。
視図。
【図２】基板処理部の断面模式図。
【図３】図２のIII −III 線断面図。
【図４】保持部材の拡大部分図。
【図５】基板保持具洗浄装置の斜視図。
【図６】基板処理装置の制御系の構成を示すブロック模
式図。
式図。
【図７】保持具洗浄処理の制御フローチャート。
【図８】基板保持具洗浄装置の洗浄時の配置を示す縦断
面部分図。
面部分図。
【図９】他の実施例の図８に相当する図。
１ 基板処理装置 １３ 基板保持具洗浄装置 ２０ 基板処理槽 ２１ 基板保持具 ２６ａ，２６ｂ 保持溝 ３４ 吐出部本体 ３５ａ，３５ｂ，３５ 洗浄ノズル ３７ 洗浄液供給配管 Ｗ 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/00 Ｂ 8520−4Ｋ
Claims (1)
- 【請求項１】基板処理槽内において、複数の基板を整列
させて下方から保持する複数の保持溝を有する基板保持
具を洗浄する基板保持具洗浄装置であって、 前記基板処理槽内に配置可能であり、前記基板保持具の
保持溝に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出部と、 前記洗浄液吐出部に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
を備えた基板保持具洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32241793A JP3105722B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 基板保持具洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32241793A JP3105722B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 基板保持具洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07176505A true JPH07176505A (ja) | 1995-07-14 |
| JP3105722B2 JP3105722B2 (ja) | 2000-11-06 |
Family
ID=18143436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32241793A Expired - Fee Related JP3105722B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 基板保持具洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3105722B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101942319B1 (ko) * | 2017-08-16 | 2019-01-25 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 노치 연마 장치 |
-
1993
- 1993-12-21 JP JP32241793A patent/JP3105722B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101942319B1 (ko) * | 2017-08-16 | 2019-01-25 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 노치 연마 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3105722B2 (ja) | 2000-11-06 |
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