JPH07175420A - Light input type organic el element - Google Patents

Light input type organic el element

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JPH07175420A
JPH07175420A JP24998294A JP24998294A JPH07175420A JP H07175420 A JPH07175420 A JP H07175420A JP 24998294 A JP24998294 A JP 24998294A JP 24998294 A JP24998294 A JP 24998294A JP H07175420 A JPH07175420 A JP H07175420A
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light emitting
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emitting display
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Abstract

PURPOSE:To obtain such as EL element that enables input of optical information and has various functions such as switching, memory and multiple input by providing an org. thin film having a light emitting display part and an optical response part, and a pair of electrodes to apply voltage on the org. thin film so that light emitting display is performed according to the input of optical information. CONSTITUTION:This element has an org. thin film having a light emitting display part 17 and an optical response part 13, and a pair of electrodes to apply voltage to the thin film. When the optical response part 13 is irradiated with intense light, the electric conductivity of the optical response part 13 increases and holes are injected from the electrode 12 to inject holes to the optical response part 13. Thereby, about 10V which is almost equal to the voltage applied between the electrodes is applied on the light emitting display part 17. As a result, electrons are injected from the electron injecting electrode 18 to the light emitting layer 15 through an electron injecting layer 16, while holes are injected from the hole injecting electrode 12 to the light emitting layer 15 through the optical response part 13 and a hole injecting layer 14. Thus, electrons and holes are coupled again to emit light in the light emitting layer 15.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は外部情報を光入力方式で
書き込むことができ、その外部情報に応じて発光表示が
可能な光入力型有機EL素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light input type organic EL element capable of writing external information by an optical input method and capable of emitting display according to the external information.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報化システムの急速な進展に伴
い、種々の情報入出力機器が飛躍的に改善されている。
現在、コンピュータとユーザーとの間のインターフェー
ス機器としてのディスプレイデバイスは、液晶デバイス
やCRTが主流になっている。このうち液晶デバイスは
薄型軽量でありしかも駆動消費電力が小さいという特徴
を有し、今後ともディスプレイデバイスとしての発展が
期待されている。
2. Description of the Related Art In recent years, various information input / output devices have been dramatically improved with the rapid progress of information systems.
Currently, liquid crystal devices and CRTs are the mainstream display devices as interface devices between computers and users. Among them, liquid crystal devices are thin and lightweight and have low driving power consumption, and are expected to continue to develop as display devices.

【0003】しかし、液晶デバイスは、その動作特性上
不可避な欠点も有している。例えば、バックライト光源
を必要とする、応答速度が遅い、視野角が狭い、大画面
化が困難である、明光下での表示コントラストが必ずし
もよくないことなどである。このような欠点を克服する
ために、プラズマディスプレイ、無機系ELパネル、真
空マイクロカソード素子などの発光型表示素子が従来よ
り注目されてきた。しかし、これらの発光型表示素子に
は、輝度が不十分である、多色表示が困難である、駆動
電圧が高いなどの問題がある。
However, the liquid crystal device also has an unavoidable drawback in view of its operating characteristics. For example, it requires a backlight light source, has a slow response speed, has a narrow viewing angle, is difficult to have a large screen, and has a poor display contrast under bright light. In order to overcome such drawbacks, light emitting display devices such as plasma displays, inorganic EL panels, vacuum microcathode devices, etc., have been attracting attention. However, these light-emitting display elements have problems such as insufficient brightness, difficulty in multicolor display, and high driving voltage.

【0004】これに対して最近、有機薄膜の積層構造を
有するキャリヤー注入型電界発光素子(有機EL素子)
において、10V前後の低電圧駆動で1000cd/m
2 以上の高輝度発光を実現できることが報告されてい
る。このような有機EL素子では、発光色が使用する有
機色素の蛍光色とほぼ一致することから、有機色素を適
宜選択することにより多色表示も容易に実現できる。ま
た、有機薄膜は蒸着法により簡便に形成できるので、大
面積化にも有利である。このように有機EL素子は、液
晶デバイスの欠点を回避し、表示性能を大幅に向上させ
うるディスプレイデバイスとして大きな期待を寄せられ
ており、実用化に向けた技術開発が精力的に進められつ
つある。
On the other hand, recently, a carrier injection type electroluminescent device (organic EL device) having a laminated structure of organic thin films.
At 1000 cd / m at low voltage drive around 10 V
It has been reported that a high-luminance light emission of 2 or more can be realized. In such an organic EL element, the emission color substantially matches the fluorescent color of the organic dye used, so that multicolor display can be easily realized by appropriately selecting the organic dye. Further, since the organic thin film can be easily formed by the vapor deposition method, it is also advantageous for increasing the area. As described above, the organic EL element is highly expected as a display device capable of avoiding the drawbacks of the liquid crystal device and greatly improving the display performance, and technical development for practical use is being vigorously advanced. .

【0005】一方、情報システムは将来ますます多様化
する傾向にあり、インターフェースに関してもハード及
びソフトウェア技術ともにその重要性が増している。例
えば、現在の入力形式はキーボードやマウスが中心とな
っているが、最近ではペン入力方式のパーソナルコンピ
ュータ及びそのための専用のOSの開発が進んでいる。
このように、コンピュータに対する入力形態は、キーボ
ードやマウスと比較してより人間の感性や行動様式に見
合った形態が求められ、かつシステムの運用状況あるい
はコンピュータなどの使用環境に応じた多様性が求めら
れると考えられる。また、情報の出力形式も従来のよう
な単純な表示機能ばかりでなく、システムに応じた高度
な機能が要求される。したがって、有機EL素子につい
ても単に高性能な表示機器としての特性だけでなく、情
報の入力機能、蓄積機能、記憶機能などを兼ね備えた特
性が要求される。
On the other hand, information systems tend to be more and more diversified in the future, and the importance of both hardware and software technology for interfaces is also increasing. For example, the current input format is mainly a keyboard and a mouse, but recently, a pen input type personal computer and a dedicated OS therefor have been developed.
As described above, the input form to the computer is required to be more suitable for human sensitivity and behavior than the keyboard and mouse, and the variety according to the operating conditions of the system or the use environment of the computer is required. It is thought to be done. Further, the output format of information is required to have not only a simple display function as in the past, but also an advanced function according to the system. Therefore, the organic EL element is required to have not only characteristics as a high-performance display device but also characteristics having an information input function, a storage function, a storage function, and the like.

【0006】さらに、従来用いられている入力可能な表
示機器は、情報入力用の素子と、表示用の素子とが別個
に構成されていたため、情報検知と表示駆動とを全く異
なる回路で行ってきた。これに加えて、入力された情報
に対する表示動作は、情報入力用の機構及び表示用の機
構とは全く異なる、情報処理のための機器によって行う
必要があった。
Further, in the input device which can be input conventionally used, since the information input element and the display element are separately configured, information detection and display driving are performed by completely different circuits. It was In addition to this, the display operation for the input information needs to be performed by a device for information processing, which is completely different from the mechanism for inputting information and the mechanism for display.

【0007】例えば上述したように、近年は人間の使い
やすさを重視した入出力装置として各種のペン入力型液
晶表示素子が普及しはじめている。これらの装置では、
表示機能を持った液晶ディスプレイとは別個にペンによ
る入力を検知する装置が付随している。ペン入力装置に
は、ペンによる筆圧を検知するもの、ペンから発生する
電磁波を検知するもの、ペンによる光入力を検知するも
のなどの様々な手法があるが、いずれにしてもこれらの
入力手法と液晶の表示手法とは機構的に全く異なるもの
である。したがって、入力された情報を表示出力するた
めには、コンピューターによる情報処理が必要となる。
すなわち、ペン入力された情報は、いったんコンピュー
ターによってその入力された座標やパターンを検知し、
これらに処理を施して得た画像情報を液晶表示動作の入
力信号として用いることにより、全体的なシステムとし
てペン入力型の表示素子を構成しているだけにすぎな
い。当然ではあるが、以上のような手順でペン入力情報
を画像表示するためには、相当量のコンピューターによ
る演算が必要とされるため、入力検知能力が遅く、シス
テムのプログラミングが困難であるなどが大きな問題と
なる。その結果、現状のペン入力型液晶表示素子は必ず
しも人間が使いやすい道具とはいえない。
For example, as described above, in recent years, various pen input type liquid crystal display elements have begun to spread as an input / output device that places importance on human usability. With these devices,
A device for detecting input from a pen is attached separately from the liquid crystal display having a display function. There are various types of pen input devices, such as one that detects writing pressure by the pen, one that detects electromagnetic waves generated from the pen, and one that detects light input by the pen. And the liquid crystal display method are mechanically different from each other. Therefore, information processing by a computer is required to display and output the input information.
In other words, the information entered by the pen is detected by the computer once the coordinates and pattern entered,
By using the image information obtained by processing these as the input signal of the liquid crystal display operation, only the pen input type display element is configured as the entire system. Of course, in order to display the pen input information as an image in the above procedure, a considerable amount of computer calculation is required, so the input detection capability is slow and system programming is difficult. It becomes a big problem. As a result, the current pen-input type liquid crystal display device is not always a tool easy for humans to use.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光に
よる情報の入力及びその情報に対応した発光表示が可能
であり、さらに光入力情報の蓄積機能、記憶機能などを
兼ね備えた光入力型有機EL素子を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical input type capable of inputting information by light and emitting display corresponding to the information, and further having a function of accumulating and storing optical input information. It is to provide an organic EL device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の光入力型有機E
L素子は、発光表示部及び光応答部を有する有機薄膜
と、該有機薄膜に電圧を印加する1対の電極とを具備
し、光入力された情報に応じて発光表示が行われること
を特徴とするものである。
A light input type organic E of the present invention
The L element includes an organic thin film having a light emitting display unit and a light response unit, and a pair of electrodes for applying a voltage to the organic thin film, and light emission display is performed according to information optically input. It is what

【0010】本発明の光入力型有機EL素子は一般的に
は、発光表示部を構成する1層又は複数層の有機薄膜と
光応答部を構成する1層又は複数層の有機薄膜とが積層
され、この積層構造の有機薄膜にキャリヤーを注入する
ための電子注入用及び正孔注入用の1対の電極が設けら
れた構造を有している。ここで、発光表示部及び光応答
部の積層順序は特に限定されない。また、発光表示部を
構成する有機薄膜の少なくとも一部が光応答部を構成
し、順方向バイアスで発光表示、逆方向バイアスで入力
された光の検出を行ってもよい。
In general, the light input type organic EL device of the present invention comprises one layer or a plurality of layers of organic thin film constituting the light emitting display section and one layer or a plurality of layers of organic thin film constituting the photoresponsive section. The laminated organic thin film is provided with a pair of electrodes for electron injection and hole injection for injecting carriers. Here, the stacking order of the light emitting display section and the photoresponsive section is not particularly limited. Further, at least a part of the organic thin film forming the light emitting display section may form a light response section, and light emission display may be performed by the forward bias and light input may be detected by the reverse bias.

【0011】本発明においては、光応答部を構成する有
機薄膜がスイッチング応答を示すことが好ましい。ま
た、光応答部を構成する有機薄膜として、異なる複数の
波長の光によって可逆的に変化するものを用いれば、メ
モリ機能を発揮することができる。さらに、例えば複数
の材料を2次元的にパターン化するか又は積層した有機
薄膜で光応答部を構成して、互いに異なる波長の光に対
し応答を示す領域を形成すれば、これらの互いに異なる
波長を有する複数の光による多重入力機能を付与するこ
とが可能となる。なお、光応答部を構成する有機薄膜に
不純物をドープし、その不純物濃度に応じて光に対する
応答性を変化させることもできる。
In the present invention, it is preferable that the organic thin film forming the photoresponsive portion exhibits a switching response. Further, as the organic thin film forming the photoresponsive portion, a thin film that reversibly changes with light of a plurality of different wavelengths is used, whereby a memory function can be exhibited. Furthermore, for example, if the photoresponsive portion is formed by organic thin films in which a plurality of materials are two-dimensionally patterned or laminated to form regions showing a response to lights of different wavelengths, these different wavelengths can be formed. It is possible to add a multiplex input function using a plurality of lights having a. It is also possible to dope the organic thin film forming the photoresponsive portion with impurities and change the responsiveness to light according to the concentration of the impurities.

【0012】以下、本発明をより詳細に説明する。The present invention will be described in more detail below.

【0013】本発明において、基板としては、ガラス;
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリカ
ーボネートなどの樹脂類;鋼シート、ステンレスシート
などの金属シートなどが用いられる。
In the present invention, the substrate is glass;
Resins such as polyethylene, polypropylene, polyester and polycarbonate; metal sheets such as steel sheets and stainless sheets are used.

【0014】本発明において、発光表示部は通常の有機
EL素子と同様の構成を有し、同様の原理で動作する。
図14を参照して発光表示部について説明する。発光表
示部の構成としては、図14に示されるように正孔注入
用電極(MH )1と電子注入用電極(ME )5との間
に、正孔注入層(OH )2、発光層(OL )3及び電子
注入層(OE )4が形成されたものが代表的である。な
お、発光表示部を構成する有機薄膜の積層構造は、上述
したように3層構造に限らず、電子注入層と発光層との
2層構造や正孔注入層と発光層との2層構造などでもよ
い。また、電子注入層、発光層及び正孔注入層のうち少
なくともいずれかが複数層からなる4層以上の多層構造
でもよい。さらに、各有機薄膜は単一の材料で構成され
ていてもよいし、2種以上の材料が混合していてもよ
い。これらの構成は、発光色、動作電圧、輝度、応答速
度など、素子に要求される性能に応じて決定される。
In the present invention, the light emitting display section has the same structure as a normal organic EL element and operates on the same principle.
The light emitting display unit will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 14, the structure of the light emitting display section includes a hole injection layer ( OH ) 2 between a hole injection electrode ( MH ) 1 and an electron injection electrode ( ME ) 5, It is typical that the light emitting layer ( OL ) 3 and the electron injection layer ( OE ) 4 are formed. The laminated structure of the organic thin films forming the light emitting display section is not limited to the three-layer structure as described above, but may be a two-layer structure of an electron injection layer and a light emitting layer or a two layer structure of a hole injection layer and a light emitting layer. And so on. In addition, at least one of the electron injection layer, the light emitting layer, and the hole injection layer may have a multilayer structure of four or more layers including a plurality of layers. Furthermore, each organic thin film may be made of a single material, or two or more kinds of materials may be mixed. These configurations are determined according to the performance required for the device, such as emission color, operating voltage, brightness, and response speed.

【0015】図14の発光表示部について、電圧を印加
していないときの接合状態を図15(a)に、電圧を印
加したときの接合状態を図15(b)に示し、その動作
を説明する。図15(a)における各層の接合状態は以
下の通りである。電子注入用電極(ME )5と電子注入
層(OE )4との間には、電子注入性の接合が形成され
る。電子注入層(OE )4と発光層(OL )3との間に
は、電子注入性かつ正孔ブロッキング性の接合が形成さ
れる。一方、正孔注入用電極(MH )1と正孔注入層
(OH )2との間には、正孔注入性の接合が形成され
る。正孔注入層(OH )2と発光層(OL )3との間に
は、正孔注入性かつ電子ブロッキング性の接合が形成さ
れる。いま、電子注入用電極5に負の電圧(順方向バイ
アス)を印加すると、図15(b)に示すように、電子
が電子注入用電極5から電子注入層4を介して発光層3
へ注入され、一方正孔が正孔注入用電極1から正孔注入
層2を介して発光層3へ注入される。そして、発光層3
中で電子と正孔とが再結合する。このときのエネルギー
がフォトンに変換されて発光する(電界発光)。したが
って、原理的には、発光層3のバンドギャップに相当す
る波長の発光が得られる。
With respect to the light emitting display section of FIG. 14, the bonding state when no voltage is applied is shown in FIG. 15A, and the bonding state when a voltage is applied is shown in FIG. To do. The bonding state of each layer in FIG. 15A is as follows. An electron injecting junction is formed between the electron injecting electrode (M E ) 5 and the electron injecting layer (O E ) 4. A junction having an electron injecting property and a hole blocking property is formed between the electron injecting layer (O E ) 4 and the light emitting layer (O L ) 3. On the other hand, a hole injecting junction is formed between the hole injecting electrode ( MH ) 1 and the hole injecting layer ( OH ) 2. A junction having a hole injecting property and an electron blocking property is formed between the hole injecting layer ( OH ) 2 and the light emitting layer ( OL ) 3. Now, when a negative voltage (forward bias) is applied to the electron injection electrode 5, electrons are emitted from the electron injection electrode 5 via the electron injection layer 4 as shown in FIG.
Meanwhile, holes are injected from the hole injecting electrode 1 through the hole injecting layer 2 into the light emitting layer 3. And the light emitting layer 3
The electrons and holes recombine therein. The energy at this time is converted into photons to emit light (electroluminescence). Therefore, in principle, light emission with a wavelength corresponding to the band gap of the light emitting layer 3 can be obtained.

【0016】この場合、電極間に印加する順方向バイア
スを増加させると、電極から注入される電子及び正孔の
密度が増加し、発光輝度が増加する。したがって、印加
電圧によって発光輝度を制御することができる。印加電
圧の範囲は1〜10Vに設定され、このときの電流密度
は1〜100mA/cm2 である。一方、電極間に逆方
向バイアスを印加した場合には、電極からのキャリヤー
注入が起こらず、素子には電流が流れないため(整流特
性)、発光もしない。
In this case, when the forward bias applied between the electrodes is increased, the density of electrons and holes injected from the electrodes is increased, and the emission brightness is increased. Therefore, the emission brightness can be controlled by the applied voltage. The range of applied voltage is set to 1 to 10 V, and the current density at this time is 1 to 100 mA / cm 2 . On the other hand, when a reverse bias is applied between the electrodes, carrier injection from the electrodes does not occur and no current flows through the element (rectifying characteristic), so that no light is emitted.

【0017】発光表示部に用いられる材料を具体的に説
明する。発光層には、フォトルミネッセンス性の色素誘
導体が用いられる。フォトルミネッセンス性とは、色素
の光吸収が起こる波長の光で色素を励起したとき、その
励起状態から光子が放射される性質のことである。本発
明においては、特にその効率が高いものが選択されるこ
とが好ましい。電子注入層及び正孔注入層には、電極と
接したときに電子注入及び正孔注入が起こる材料が用い
られる。以上のような性質を有する材料は、本発明者ら
が開発した変位電流測定法によって調べることができ
る。
Materials used for the light emitting display section will be specifically described. A photoluminescent dye derivative is used for the light emitting layer. The photoluminescence property is a property in which a photon is emitted from its excited state when the dye is excited with light having a wavelength at which the dye absorbs light. In the present invention, it is preferable to select one having a particularly high efficiency. For the electron injection layer and the hole injection layer, a material that causes electron injection and hole injection when in contact with the electrodes is used. The materials having the above properties can be examined by the displacement current measuring method developed by the present inventors.

【0018】次に、光応答部について説明する。光応答
部を構成する有機薄膜の少なくとも1層には、光を吸収
するとその電気物性が大きく変化する性質を示す材料が
用いられる。ここで、電気物性としては、光による伝導
度変化(光伝導性)、光誘起キャリヤー発生による電流
発生(光起電流)、光による電圧発生(光起電圧)など
が挙げられる。光応答部の電気物性の変化の態様に関し
ては、スイッチング応答のような非線形応答性、光双安
定性に基づくメモリ応答性などが挙げられる。このよう
な性質を示す材料は低分子化合物、高分子化合物のいず
れでもよく、以下のようなものが挙げられる。
Next, the optical response section will be described. At least one layer of the organic thin film forming the photoresponsive portion is made of a material exhibiting a property that its electrical properties change significantly when absorbing light. Here, examples of the electrical properties include change in conductivity due to light (photoconductivity), current generation due to photoinduced carrier generation (photoelectromotive current), voltage generation due to light (photoelectromotive voltage), and the like. Regarding the aspect of the change in the electrical properties of the photoresponsive portion, there can be mentioned non-linear response such as switching response and memory response based on optical bistability. The material exhibiting such properties may be either a low molecular weight compound or a high molecular weight compound, and examples thereof include the following.

【0019】光伝導性を示す材料、すなわち光の照射に
よって電極から注入されたキャリヤーの輸送・注入特性
が変化する材料としては、ペリレンテトラカルボン酸ジ
イミド誘導体、テトラピリジルポルフィリン誘導体、ピ
リリウム色素、ポリアセン誘導体、種々の電荷移動錯体
などが挙げられる。このような材料からなる光応答部に
関しては、光によって発光表示部へのキャリヤー注入性
を制御できる。図16に、このような材料からなる有機
薄膜のキャリヤー注入特性を変位電流測定法によって測
定した結果を示す。このような有機薄膜は、光を照射し
ていない場合には実線で表示されるようにほぼ絶縁体に
近いが、光照射によって破線で表示されるようにキャリ
ヤー輸送・注入性が高くなる。
Materials exhibiting photoconductivity, that is, materials in which the transport / injection characteristics of the carrier injected from the electrode by irradiation of light are changed, are perylenetetracarboxylic acid diimide derivatives, tetrapyridylporphyrin derivatives, pyrylium dyes, polyacene derivatives. , Various charge transfer complexes, and the like. With respect to the photoresponsive section made of such a material, the carrier injection property to the light emitting display section can be controlled by light. FIG. 16 shows the result of measuring the carrier injection characteristics of the organic thin film made of such a material by the displacement current measuring method. When such an organic thin film is not irradiated with light, it is almost close to an insulator as indicated by a solid line, but it is improved in carrier transport / injection property as indicated by a broken line by light irradiation.

【0020】光誘起キャリヤーを発生する材料として
は、以下のようなものが挙げられる。例えば、M・TC
NQ(テトラシアノキノジメタン)、M・TNAP(テ
トラシアノナフトキノジメタン)、M・DCNQI(ジ
シアノキノジイミン)(ここで、MはCu、Ag、Au
などの金属イオン)などの錯体は、適当な波長のレーザ
ー光を照射すると組成が変化する。このうちCu・TC
NQは、光が照射されていない状態では「イオン性」の
錯体でありほぼ絶縁体としてふるまうが、510nmの
波長のレーザー光を照射すると錯体の一部が「中性化」
する。この結果、照射部では非照射部に比較して電気伝
導度が103 〜104 倍に増大し、顕著な非線形電気伝
導性を示す。また、ポリジアセチレン誘導体は、光照射
によってA−B型構造相転移を起こし、光伝導性が大き
く変化する。また、交互積層型TTeC1 TTF−TC
NQは、光照射に伴って、擬一次元系特有の強い電子−
格子相互作用のためドメイン壁を素励起として多数のキ
ャリヤーが発生する。このような材料からなる光応答部
は、光が照射されるとそれ自体がキャリヤー注入層とし
て機能する。
Examples of materials that generate photo-induced carriers include the following. For example, M ・ TC
NQ (tetracyanoquinodimethane), M.TNAP (tetracyanonaphthoquinodimethane), M.DCNQI (dicyanoquinodiimine) (where M is Cu, Ag, Au)
The composition of a complex such as a metal ion) changes when it is irradiated with laser light having an appropriate wavelength. Of these, Cu / TC
NQ is an “ionic” complex that behaves almost as an insulator when it is not irradiated with light, but when irradiated with laser light having a wavelength of 510 nm, part of the complex becomes “neutralized”.
To do. As a result, the electric conductivity in the irradiated portion is increased 10 3 to 10 4 times as compared with that in the non-irradiated portion, and remarkable non-linear electric conductivity is exhibited. In addition, the polydiacetylene derivative undergoes an AB type structural phase transition upon irradiation with light, and the photoconductivity greatly changes. In addition, the alternately laminated type TTeC 1 TTF-TC
NQ is a strong electron peculiar to quasi-one-dimensional system due to light irradiation.
Due to lattice interaction, a large number of carriers are generated with the domain wall as elementary excitation. The photoresponsive portion made of such a material itself functions as a carrier injection layer when irradiated with light.

【0021】本発明の光入力型有機EL素子の一例は、
発光表示部の有機薄膜と上記のような材料からなる光応
答部の有機薄膜とを積層し、これらの上下に1対の電極
を設けた構造を有する。そして、上下の電極間に発光表
示部に対し順方向バイアスを印加していても、光応答部
に光を照射しない場合には全く電流は流れない。一方、
上下の電極間に順方向バイアスを印加しかつ光応答部に
光を照射すると、光応答部が高導電性になって電極から
十分なキャリヤーが注入される。さらに、キャリヤーは
光応答部から隣接する発光表示部へ輸送され、その結果
発光が生じる。なお、光応答部の材料が、いったん光を
吸収すると電気物性の変化が保持される双安定性を有し
ている場合、入力光を消しても発光が持続する。
An example of the light input type organic EL element of the present invention is
It has a structure in which the organic thin film of the light emitting display section and the organic thin film of the photoresponsive section made of the above-mentioned materials are laminated, and a pair of electrodes is provided above and below them. Even if a forward bias is applied to the light emitting display section between the upper and lower electrodes, no current flows if the light responsive section is not irradiated with light. on the other hand,
When a forward bias is applied between the upper and lower electrodes and the photoresponsive portion is irradiated with light, the photoresponsive portion becomes highly conductive and sufficient carriers are injected from the electrodes. Further, the carriers are transported from the photoresponsive portion to the adjacent light emitting display portion, resulting in light emission. When the material of the photoresponsive portion has bistability in which a change in electrical properties is retained once light is absorbed, the light emission continues even if the input light is extinguished.

【0022】本発明の素子において、光入力の電気的な
検出は、例えば発光表示操作にとっての順方向バイアス
印加時に流れる電流を測定することにより実現できる。
すなわち、光応答部に光が照射されないと、電気伝導性
が低いので、キャリヤー注入が起きず発光もしない。一
方、光応答部に光が照射されると、電気伝導性が増加し
て、キャリヤーが注入される結果、発光が起こる。光の
照射を止めると、再び光応答部の電気伝導度が低下して
発光が停止する。したがって、順方向バイアス印加時に
流れる電流量を検出することにより光入力を検出でき
る。
In the device of the present invention, the electrical detection of the light input can be realized, for example, by measuring the current flowing when the forward bias is applied for the light emitting display operation.
That is, when the light responsive portion is not irradiated with light, carrier injection does not occur and light emission does not occur because the electrical conductivity is low. On the other hand, when the light responsive portion is irradiated with light, the electrical conductivity is increased and carriers are injected, resulting in light emission. When the irradiation of light is stopped, the electrical conductivity of the photoresponsive portion is lowered again and the light emission is stopped. Therefore, the light input can be detected by detecting the amount of current flowing when the forward bias is applied.

【0023】本発明の素子においては、発光表示部を構
成する有機薄膜の少なくとも1層が光を吸収することに
よってキャリヤーを発生し、光応答部として作用する性
質を有していてもよい。このとき光応答部として作用す
る有機薄膜は、電子注入層、発光層、正孔注入層のいず
れでもよい。この場合、素子に周波数30Hz以上の交
流バイアスを印加し、逆方向バイアス時に光入力を検出
するのが有利である。すなわち、逆方向バイアス時に素
子に光が照射されると、光応答部の有機薄膜より光起電
流が発生し、電極から素子外へ流れる。この光起電流を
電気的に検出すれば、光が入力されたことを検出でき
る。さらに、適当な検出回路及び駆動回路を設計するこ
とにより、逆方向バイアス時に検出された光入力の信号
に基づいて順方向バイアスを上昇させて発光表示するこ
とができる。以下、このような素子をレフレックス型と
いう。
In the device of the present invention, at least one layer of the organic thin film forming the light emitting display part may have a property of generating carriers by absorbing light and acting as a photoresponsive part. At this time, the organic thin film acting as the photoresponsive portion may be any of an electron injection layer, a light emitting layer, and a hole injection layer. In this case, it is advantageous to apply an AC bias with a frequency of 30 Hz or higher to the device and detect the optical input when the device is reverse biased. That is, when the device is irradiated with light during reverse bias, a photocurrent is generated from the organic thin film of the photoresponsive portion and flows out of the device from the electrode. By electrically detecting this photovoltaic current, it is possible to detect that light is input. Further, by designing an appropriate detection circuit and drive circuit, it is possible to raise the forward bias based on the signal of the optical input detected at the time of the reverse bias and perform light emission display. Hereinafter, such an element is referred to as a reflex type.

【0024】本発明の素子において、光応答部はスイッ
チング応答、すなわち照射される光の強度に応じて発光
表示部へ注入可能なキャリヤー密度のしきい値的変化を
起こすことが好ましい。このようなスイッチング応答
は、強度の強い光を照射することによってはじめて素子
が動作するというように、特に背景光の影響を減少させ
る点で重要である。
In the device of the present invention, it is preferable that the photoresponsive portion cause a switching response, that is, a threshold change of carrier density that can be injected into the light emitting display portion according to the intensity of the irradiated light. Such a switching response is important in that the influence of background light is reduced, such that the device operates only when it is irradiated with intense light.

【0025】本発明の素子においては、光応答部を2層
以上の複数層の有機薄膜で構成することにより多様な機
能を実現できる。ここで以下の説明を簡単にするため
に、光応答部を構成する2層の有機薄膜のうち、発光表
示部に隣接する側の有機薄膜を下層光応答部、光が照射
される側の有機薄膜を上層光応答部とする。
In the device of the present invention, a variety of functions can be realized by forming the photo-responsive portion with a plurality of organic thin films of two or more layers. Here, in order to simplify the following description, among the two layers of organic thin films forming the photoresponsive portion, the organic thin film on the side adjacent to the light emitting display portion is referred to as the lower photoresponsive portion and the organic material on the side irradiated with light. The thin film is used as the upper layer photoresponsive portion.

【0026】まず、光応答部を構成する上層光応答部と
して特定波長の光に選択的に応答する材料を用いれば、
背景光に対するフィルター層として機能させることがで
きる。
First, if a material that selectively responds to light of a specific wavelength is used as the upper layer photoresponsive section that constitutes the photoresponsive section,
It can function as a filter layer for background light.

【0027】また、光応答部を構成する上層光応答部と
して特定波長の光に選択的に応答しかつフォトクロミッ
ク性を示す材料を用いても、背景光に対するフィルター
層として機能させることができる。このような光応答部
の吸収特性について図17を参照して説明する。この場
合、下層光応答部としては前述したように波長λ1 の光
が照射されると光誘起キャリヤー注入特性を示す材料が
用いられる。また、上層光応答部としては、以下のよう
な吸収特性を有する材料が用いられる。すなわち、光を
照射しないときには、λ2mA に吸収極大を有し、下層光
応答部が活性となる波長λ1 の領域に吸収を持つ。一
方、波長λ2Aの光が照射されると、吸収極大がλ2mB
シフトし、λ1 の領域にほとんど吸収を持たなくなる。
いま、λ1の光を照射しても、上層光応答部によって光
が吸収されるため、下層光応答部はキャリヤー注入層と
して機能しない。しかし、上層光応答部にλ2Aの光を照
射してその吸収極大をλ2mB へシフトさせた状態でλ1
の光を照射すると、下層光応答部はキャリヤー注入層と
して機能し、発光が生じる。このような構成では、上層
光応答部がフィルター層として作用するので、本発明の
素子の使用時に背景光などを遮蔽するのに有効である。
このような機能を有する上層光応答部としては、例えば
テトラアルキル−p−フェニレンジアミン誘導体などの
光イオン化を示す有機材料;スピロピラン、フルギドな
どの有機フォトクロミック材料などが挙げられる。
Further, even if a material which selectively responds to light having a specific wavelength and exhibits photochromic properties is used as the upper photoresponsive portion which constitutes the photoresponsive portion, it can function as a filter layer against background light. The absorption characteristics of such a light response portion will be described with reference to FIG. In this case, as the lower layer photoresponsive portion, a material exhibiting photoinduced carrier injection characteristics when irradiated with light of wavelength λ 1 is used as described above. In addition, a material having the following absorption characteristics is used for the upper layer photoresponsive section. That is, when it is not irradiated with light, it has an absorption maximum at λ 2 mA and has an absorption at a region of wavelength λ 1 where the lower layer photoresponsive portion becomes active. On the other hand, when the light of wavelength λ 2A is irradiated, the absorption maximum shifts to λ 2mB and almost no absorption occurs in the region of λ 1 .
Now, even when the light of λ 1 is irradiated, the light is absorbed by the upper layer photoresponsive portion, so the lower layer photoresponsive portion does not function as a carrier injection layer. However, when the upper layer photoresponsive portion is irradiated with light of λ 2A and its absorption maximum is shifted to λ 2mB , λ 1
When irradiating the above-mentioned light, the lower photoresponsive portion functions as a carrier injecting layer to emit light. In such a configuration, the upper photoresponsive portion acts as a filter layer, and is effective in blocking background light when the device of the present invention is used.
Examples of the upper photoresponsive portion having such a function include organic materials exhibiting photoionization such as tetraalkyl-p-phenylenediamine derivatives; organic photochromic materials such as spiropyran and fulgide.

【0028】さらに、2層構造の光応答部を構成する上
層光応答部としてしきい値的光応答性を示す有機非線形
光学材料、例えばSHG(第2高調波発生)材料を用い
る場合について説明する。図18(a)に示すように、
SHG材料は照射光ωの強度の2乗に比例した2ωの光
出力を発生させるという非線形的な出力応答を示す。図
18(b)に示すように、この出力光によって下層光応
答部はスイッチング応答を示す。
Further, a case will be described in which an organic nonlinear optical material exhibiting a threshold photoresponsiveness, for example, an SHG (second harmonic generation) material is used as the upper photoresponsive part constituting the photoresponsive part having a two-layer structure. . As shown in FIG. 18 (a),
The SHG material exhibits a non-linear output response of generating a light output of 2ω that is proportional to the square of the intensity of the irradiation light ω. As shown in FIG. 18B, the lower layer photoresponsive section exhibits a switching response due to this output light.

【0029】以上のような構成を有する本発明の素子に
ついて、発光表示動作および光応答動作を制御するシス
テムについて図19および図20を参照して説明する。
本発明の素子では、発光表示部において注入キャリヤー
密度が実効的な値(ηeff )に達すると発光が生じる。
従来の素子では、ηeff を確保するために、キャリヤー
密度が図19の曲線1に沿って変化するように、電圧・
電流値を制御する回路のみが設けられていた。これに対
して、本発明の素子では、一定のしきい値以上の光エネ
ルギーによってキャリヤー密度を増減させることができ
る。したがって、キャリヤー密度が図19の曲線2に沿
って変化するように、電圧・電流値を制御する回路およ
び照射光強度を制御する回路を設ける。すなわち、図2
0に示すように、電極間の電圧・電流を制御するための
電圧・電流制御系81、照射光強度を制御するための光
入力制御系82、およびこれらの両制御系を制御するた
めの書き込み・表示全制御系83を有する制御システム
が用いられる。
With respect to the device of the present invention having the above structure, a system for controlling the light emitting display operation and the light response operation will be described with reference to FIGS. 19 and 20.
In the device of the present invention, light emission occurs when the injected carrier density reaches an effective value (η eff ) in the light emitting display section.
In the conventional device, in order to secure η eff , the carrier density is changed along the curve 1 in FIG.
Only the circuit for controlling the current value was provided. On the other hand, in the device of the present invention, the carrier density can be increased or decreased by the light energy above a certain threshold. Therefore, a circuit for controlling the voltage / current value and a circuit for controlling the irradiation light intensity are provided so that the carrier density changes along the curve 2 in FIG. That is, FIG.
As shown in 0, a voltage / current control system 81 for controlling voltage / current between electrodes, an optical input control system 82 for controlling irradiation light intensity, and writing for controlling both control systems. A control system having a display control system 83 is used.

【0030】本発明の素子においては、光応答部にメモ
リ機能を持たせることもできる。具体的には、光応答部
を、光誘起キャリヤーを発生する材料からなる有機薄膜
(下層光応答部)とメモリ機能を有する有機薄膜(上層
光応答部)との積層構造とする。メモリ機能を有する上
層光応答部には、例えば2つの異なる波長の光によって
吸収特性が可逆的に変化する材料が用いられる。下層光
応答部は波長λ1 の光が照射されると光誘起キャリヤー
を発生する。上層光応答部は異なる2つの波長の光によ
りその吸収特性が可逆的に変化する。すなわち、図21
(a)に示すように、光が照射されない場合には吸収極
大がλ2mA にありλ1 の領域に吸収を持たないが、波長
λ2Aの光を照射すると吸収極大がλ2mB へ変化してλ1
に重なる領域に吸収を持つようになる。また、図21
(b)に示すように、この状態でλ 2Bの光を照射する
と、吸収極大がλ2mB からλ2mA へ戻る。
In the device of the present invention, a memo is provided in the photoresponsive portion.
It can also be provided with a re-function. Specifically, the optical response unit
Is an organic thin film made of a material that generates photo-induced carriers.
(Lower layer photo-responsive part) and organic thin film with memory function (upper layer
It has a laminated structure with an optical response part). On having memory function
The layer photo-responsive part is, for example, by light of two different wavelengths.
A material whose absorption characteristics change reversibly is used. Lower layer light
Response part has wavelength λ1Of light-induced carriers
To occur. The upper layer photo-responsive part uses two different wavelengths of light.
Its absorption characteristics change reversibly. That is, FIG.
As shown in (a), when no light is emitted, the absorption pole
Large is λ2mAIn λ1Has no absorption in the region of
λ2AThe maximum absorption is λ2mBChanges to λ1
It has absorption in the area that overlaps. In addition, FIG.
As shown in (b), λ 2BThe light of
And the absorption maximum is λ2mBFrom λ2mAReturn to.

【0031】上述したように波長λ2Aの光の照射によっ
て上層光応答部の吸収極大がλ2mAからλ2mB へ変化す
ると、その照射部下の下層光応答部には波長λ1 の光が
実効的に到達しないので発光は全く起こらない。しか
し、予め波長λ2Aの光を照射しなかった領域では、下層
光応答部へ波長λ1 の光が到達するため発光が起こる。
このように波長λ2Aの光による入力情報が上層光応答部
に記録され、その記録情報に対応してλ1 の光により素
子の動作を制御できる。また、上層光応答部に波長λ2A
の光を照射した後、波長λ2Bの光を照射すると、その吸
収極大がλ2mB からλ2mA へ再変化するので、波長λ2A
の光による入力情報は「消去」される。このように光応
答部を構成する上層光応答部においてλ2Aとλ2Bの光に
よって情報の「書き込み」と「消去」が可能であり、上
層光応答部の吸収特性の変化に応じて下層光応答部にお
ける光誘起キャリヤーの発生を制御できるので、光入力
情報に応じてEL発光動作が起こる。
As described above, when the absorption maximum of the upper layer photo-responsive portion is changed from λ 2 mA to λ 2 mB by the irradiation of the light of the wavelength λ 2A , the light of the wavelength λ 1 is effectively emitted to the lower layer photo-responsive portion under the irradiation portion. No light emission occurs at all. However, in the region where the light of wavelength λ 2A is not previously irradiated, light of wavelength λ 1 reaches the lower photoresponsive portion, so that light emission occurs.
In this way, the input information by the light of the wavelength λ 2A is recorded in the upper layer optical response portion, and the operation of the element can be controlled by the light of the wavelength λ 1 corresponding to the recorded information. In addition, the wavelength λ 2A
When the light of wavelength λ 2B is irradiated after irradiating the light of wavelength λ 2A , the absorption maximum changes again from λ 2mB to λ 2mA .
The input information by the light of "is erased". Information can be “written” and “erased” by the light of λ 2A and λ 2B in the upper layer optical response section that constitutes the optical response section, and the lower layer light Since the generation of photo-induced carriers in the response portion can be controlled, the EL light emission operation occurs according to the light input information.

【0032】メモリ機能を有する上層光応答部の材料と
しては、光イオン化又は光異性化によって可逆的に吸収
特性が変化するような有機色素が用いられる。例えば、
テトラアルキル−p−フェニレンジアミン誘導体及びそ
の類縁体、ベンゾチオピラン系スピロピラン、ベンジル
ビオローゲン誘導体、ピレンチオインジゴ、フルギド誘
導体、スチルベン誘導体などのフォトクロミック化合物
などが挙げられる。また、メモリ機能を有する上層光応
答部の材料として、ポリ−α−シアノアクリル酸エステ
ル中に含有させたビアセチルのように、2つの波長の光
照射いわゆる2光子反応によって吸収特性が変化するも
のを用いてもよい。
As a material for the upper photoresponsive portion having a memory function, an organic dye whose absorption characteristic is reversibly changed by photoionization or photoisomerization is used. For example,
Photochromic compounds such as tetraalkyl-p-phenylenediamine derivatives and analogs thereof, benzothiopyran spiropyrans, benzylviologen derivatives, pyrenethioindigo, fulgide derivatives, stilbene derivatives and the like can be mentioned. Further, as a material for the upper layer photoresponsive portion having a memory function, a material whose absorption characteristics are changed by light irradiation of two wavelengths, that is, a two-photon reaction, such as biacetyl contained in poly-α-cyanoacrylate ester, is used. You may use.

【0033】さらに、メモリ機能を有する上層光応答部
の材料として、光の照射により光透過特性が可逆的に変
化する有機色素を用いてもよい。この場合、図22に示
すように、波長λ2Aの光を照射することにより透過率が
変化し、波長λ2Bの光を照射することにより再び元の状
態に戻るような性質を有する材料が用いられる。
Further, as a material of the upper layer photoresponsive portion having a memory function, an organic dye whose light transmission characteristic reversibly changes upon irradiation with light may be used. In this case, as shown in FIG. 22, a material having a property that the transmittance is changed by irradiating with the light of wavelength λ 2A and is returned to the original state by irradiating with the light of wavelength λ 2B is used. To be

【0034】光透過特性が可逆的に変化する性質を有す
る材料としては、例えば各種色素系液晶材料、高分子系
液晶材料が挙げられる。これらの液晶材料は、光が照射
されるといわゆるヒートモード機構により透過率に顕著
な変化が現れる。液晶材料の具体例としては、例えば、
アルキルアミノビフェニル系、アルコキシアゾベンゼン
系、フェニルシクロヘキサン系液晶;コレステリルメタ
クリレート/アルキルメタクリレート高分子液晶;ベン
ゼンヘキサアルカノエートのようなディスコティック液
晶などが挙げられる。また、光透過特性が可逆的に変化
する性質を有する材料として、ポリチオフェン、ポリピ
ロール誘導体などの導電性高分子に、光誘起ドーパント
としてジフェニルヨードニウムパークロレート、ジフェ
ニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニル
ヨードニウムヘキサフルオロアルセネートなどを含有さ
せた薄膜を用いることもできる。
Examples of the material having the property of reversibly changing the light transmission characteristics include various dye-based liquid crystal materials and polymer-based liquid crystal materials. When these liquid crystal materials are irradiated with light, the transmittance changes remarkably due to a so-called heat mode mechanism. Specific examples of the liquid crystal material include, for example,
Examples thereof include alkylaminobiphenyl-based, alkoxyazobenzene-based, phenylcyclohexane-based liquid crystals; cholesteryl methacrylate / alkyl methacrylate polymer liquid crystals; and discotic liquid crystals such as benzene hexaalkanoate. In addition, as a material having a property of reversibly changing the light transmission characteristics, conductive polymers such as polythiophene and polypyrrole derivatives, and diphenyliodonium perchlorate, diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium hexafluoroarsenate as photoinduced dopants. It is also possible to use a thin film containing, for example.

【0035】本発明の素子においては、光応答部に多重
入力機能を付与することもできる。このような多重入力
機能は、例えば異なる波長に応答する複数の光誘起キャ
リヤー発生材料を二次元パターンをなすように形成した
構造又は積層した構造の光応答部を形成することにより
実現できる。また、単一の光誘起キャリヤー発生材料の
上に、異なる波長に対してフィルター機能を有する複数
の材料を二次元パターンをなすように形成した構造の光
応答部を用いてもよい。このようなフィルター機能を有
する材料としては、メロシアニン色素、スチリル系色
素、アゾメチン系及びアゾ系色素、スピロピラン系色
素、フェノチアジン色素、トリフェニルメタン系色素、
キナクリドン顔料、キノフタロン系色素、ジチオレン錯
体、β−ジケトン錯体、アントラキノン系色素、ナフタ
ルイミド系色素、アゾベンゼン系色素などが挙げられ
る。
In the device of the present invention, the photo-responsive section can be provided with a multiple input function. Such a multiple input function can be realized, for example, by forming a photo-responsive portion having a structure in which a plurality of photo-induced carrier generating materials responsive to different wavelengths are formed in a two-dimensional pattern or a laminated structure. Further, a photo-responsive portion having a structure in which a plurality of materials having a filter function for different wavelengths are formed in a two-dimensional pattern on a single photo-induced carrier generating material may be used. Materials having such a filter function include merocyanine dyes, styryl dyes, azomethine and azo dyes, spiropyran dyes, phenothiazine dyes, triphenylmethane dyes,
Examples thereof include a quinacridone pigment, a quinophthalone dye, a dithiolene complex, a β-diketone complex, an anthraquinone dye, a naphthalimide dye, and an azobenzene dye.

【0036】この場合、複数の波長の書き込み光を用
い、二次元パターンに配置された吸収スペクトルの異な
る複数の有機薄膜のそれぞれについて光励起注入電流を
検知することにより、入力された光の波長(色)を判別
するようにしてもよい。また、発光表示部は1色の光の
みを発光するようにしてもよいし、複数の光応答部に対
応させてそれぞれ異なる波長の光を発光する複数の発光
表示部を設けてもよい。したがって、書き込み光の波長
の種類と発光波長の種類との組み合わせ方によって、様
々な表示動作が考えられる。例えば、赤・緑・青(RG
B)の3色の光を用いて書き込みを行い、R書き込みに
対してR発光というように書き込み光の波長と発光波長
とが対応するように発光表示部を設ければ、フルカラー
の発光表示が可能となる。また、RGの2色の光により
書き込みを行い、発光表示部はG1色のみを発光するよ
うに構成し、G書き込みに対してG発光が起こり、R書
き込みに対してG発光が消去されるという回路構成を採
用すれば、発光表示機能と書き込み・消去機能とを複合
したEL素子を構成することもできる。
In this case, by using the writing light of a plurality of wavelengths and detecting the photoexcited injection current for each of the plurality of organic thin films arranged in a two-dimensional pattern and having different absorption spectra, the wavelength (color) of the input light is detected. ) May be determined. Further, the light emitting display section may emit only one color of light, or a plurality of light emitting display sections that emit light of different wavelengths may be provided in association with the plurality of photoresponsive sections. Therefore, various display operations can be considered depending on the combination of the wavelength type of the writing light and the emission wavelength type. For example, red / green / blue (RG
Writing is performed by using the light of three colors of B), and if a light emitting display unit is provided so that the wavelength of the writing light corresponds to the light emitting wavelength, such as R light emission for R writing, full color light emission display can be performed. It will be possible. In addition, writing is performed by the light of two colors of RG, and the light emitting display section is configured to emit only G1 color. G light emission occurs for G writing, and G light emission is erased for R writing. If the circuit configuration is adopted, it is possible to configure an EL element that combines a light emitting display function and a writing / erasing function.

【0037】本発明においては、光応答部を構成する有
機薄膜に不純物をドープしたものを用いてもよい。例え
ば、光応答部の有機薄膜にアクセプター性の不純物をド
ープした場合、この有機薄膜はp型半導体として振る舞
う。いま、この有機薄膜の動作を理解するために、この
有機薄膜を1対の電極(正孔注入用電極MH および電子
注入用電極ME )で挟んだ構造を考え、図23(a)に
その接合状態を示す。図23(b)に示すように、電極
間に電圧を印加すると、一般の半導体と同様に正孔注入
用電極MH 側から有機薄膜中へ熱励起していた正孔が電
子注入用電極ME 側へ掃き出され、空乏化によりエネル
ギーバンドが曲がる(バンドベンド)。このとき正孔注
入用電極MH 近傍には電圧が印加されるが、電子注入用
電極ME側には電圧は印加されない。すなわち、正孔は
注入されるが、電子は注入されない状態になっている。
なお、正孔注入用電極MH に仕事関数の小さいものを用
いて正孔注入障壁を高めておけば、印加電圧が低い場合
には正孔の注入も起こらず電流が流れないようにでき
る。図23(c)に示すように、この状態でバンドギャ
ップ以上のエネルギーを持つ光を照射すると、バンド間
で電子と正孔とが励起される。励起した正孔は陰イオン
化した不純物準位にトラップされ、不純物準位が中性化
する。この結果、バンドの曲りは軽減し、電子注入用電
極ME 側にも電圧が印加され、電子が注入されるように
なる。すなわち、電子注入に対する光スイッチングが可
能になる。また上記とは逆に、光応答部を構成する有機
薄膜にドナー性不純物をドープしてn型半導体として振
る舞うようにさせれば、正孔注入に対する光スイッチン
グが可能になる。
In the present invention, the organic thin film forming the photoresponsive portion may be doped with impurities. For example, when the organic thin film of the photoresponsive portion is doped with an acceptor impurity, this organic thin film behaves as a p-type semiconductor. Now, in order to understand the operation of this organic thin film, consider a structure in which this organic thin film is sandwiched between a pair of electrodes (hole injection electrode M H and electron injection electrode M E ), and FIG. The joined state is shown. As shown in FIG. 23 (b), when a voltage is applied between the electrodes, holes that have been thermally excited from the hole injecting electrode M H side into the organic thin film are transferred to the electron injecting electrode M as in a general semiconductor. It is swept out to the E side and the energy band bends due to depletion (band bend). At this time, a voltage is applied near the hole injecting electrode M H, but no voltage is applied to the electron injecting electrode M E side. That is, holes are injected but electrons are not injected.
If the hole injection electrode M H having a small work function is used to increase the hole injection barrier, hole injection does not occur and current does not flow when the applied voltage is low. As shown in FIG. 23C, when light having energy higher than the band gap is irradiated in this state, electrons and holes are excited between the bands. The excited holes are trapped by the anionized impurity level, and the impurity level is neutralized. As a result, the bending of the band is reduced, and the voltage is also applied to the electron injection electrode M E side so that electrons are injected. That is, optical switching for electron injection becomes possible. In contrast to the above, if the organic thin film forming the photoresponsive portion is doped with a donor impurity so that it behaves as an n-type semiconductor, optical switching for hole injection becomes possible.

【0038】上述したようなバンドの曲りを実現するた
めには、光応答部における不純物濃度を制御する。厳密
には、最適な不純物濃度は光応答部の膜厚および印加電
圧に依存するが、おおむね以下のように計算できる。こ
こで、印加電圧をV、有機薄膜が空乏化する厚みをW、
不純物濃度をNA 、真空の誘電率をε0 、有機薄膜の比
誘電率をε、単位電荷量をqとする。Vは通常1ボルト
以上であるので、電極間のビルトイン・ポテンシャルは
無視する。このとき、 W〜(2εε0 V/qNA 1/2 となる。いま、光応答部の厚みを100nm、印加電圧
を10ボルト、εを5とすると、NA は約2×1018
cm3 となる。すなわち、10ボルトの印加電圧を電子
注入用電極ME 側に分配しないようにするには、1018
/cm3 以上の不純物濃度が必要となる。実際には、こ
こまで厳密ではないので、不純物濃度は1017〜1019
/cm3 の範囲に設定される。
In order to realize the band bending as described above, the impurity concentration in the photoresponsive portion is controlled. Strictly speaking, the optimum impurity concentration depends on the film thickness of the photoresponsive portion and the applied voltage, but it can be roughly calculated as follows. Here, the applied voltage is V, the thickness at which the organic thin film is depleted is W,
It is assumed that the impurity concentration is N A , the vacuum dielectric constant is ε 0 , the relative dielectric constant of the organic thin film is ε, and the unit charge amount is q. Since V is typically above 1 volt, the built-in potential between the electrodes is ignored. In this case, the W~ (2εε 0 V / qN A ) 1/2. Now, assuming that the thickness of the photoresponsive portion is 100 nm, the applied voltage is 10 V, and ε is 5, N A is about 2 × 10 18 /
It becomes cm 3 . That is, in order not to distribute the applied voltage of 10 V to the electron injecting electrode M E side, 10 18
An impurity concentration of / cm 3 or more is required. Actually, since it is not so precise, the impurity concentration is 10 17 to 10 19
/ Cm 3 is set.

【0039】次に、図24のように、正孔注入用電極M
H 、正孔注入層OH /発光層OL /電子注入層OE の3
層からなる発光表示部、不純物をドープした有機薄膜か
らなる光応答部、電子注入用電極ME という構成を考え
る。図24(a)に示すように、電極間に電圧を印加す
ると、正孔が正孔注入用電極MH から正孔注入層OH
介して発光層OL へ注入されるが、電子注入層OE との
正孔注入障壁によりブロックされて蓄積される。一方、
図23で説明したように光応答部のバンドの曲りにより
電子注入用電極ME には電圧がほとんど印加されていな
いため、電子が電子注入用電極ME から光応答部へ注入
されることはない。このように発光層OL へ電子が注入
されないので、発光は生じない。図24(b)に示すよ
うに、この状態で光を照射すると、光応答部のバンドの
曲りがなくなり、電子が電子注入用電極ME から光応答
部および電子注入層OE を介して発光層OL へ注入され
る。この結果、発光層OL 中で電子と蓄積されていた正
孔とが再結合して発光する。
Next, as shown in FIG. 24, the hole injection electrode M
H, 3 of the hole injection layer O H / light emitting layer O L / electron injection layer O E
Consider a structure including a light emitting display section made of layers, a photoresponsive section made of an organic thin film doped with impurities, and an electron injection electrode M E. As shown in FIG. 24 (a), when a voltage is applied between the electrodes, but holes are injected into the light emitting layer O L from the hole injection electrode M H through the hole injection layer O H, an electron injection It is blocked and accumulated by the hole injection barrier with the layer O E. on the other hand,
As described with reference to FIG. 23, almost no voltage is applied to the electron injection electrode M E due to the band bending of the photo response unit, so that electrons are not injected from the electron injection electrode M E into the photo response unit. Absent. Since no electrons are injected into the light emitting layer O L in this way, no light emission occurs. As shown in FIG. 24 (b), when light is irradiated in this state, the band bending of the photoresponsive portion disappears, and electrons are emitted from the electron injection electrode M E through the photoresponsive portion and the electron injection layer O E. Implanted in layer O L. As a result, electrons and holes accumulated in the light emitting layer O L are recombined to emit light.

【0040】本発明の素子では、従来の素子と比較し
て、以下のような効果を得ることもできる。従来の素子
においては、発光輝度の経時的な低下が観測されるとい
う問題があった。これは主として金属電極と発光層との
接合部における変質劣化及びそれに伴う注入キャリヤー
密度の低下に起因することが判明している。従来の有機
EL素子では、このような変化が生じるたびに電圧を適
正化して発光特性を安定化させる必要がある。このた
め、例えば発光効率が低くなった場合には、初期駆動時
の数倍の電圧を印加しなければならず、素子寿命をさら
に短くさせる原因となっていた。これに対して本発明の
素子では、金属電極から光応答部を介して発光表示部へ
キャリヤーが注入される。このため、従来の素子のよう
に金属電極と発光層との接合部における変質劣化が起こ
りにくく、発光特性が不安定になりにくい。
The element of the present invention can also obtain the following effects as compared with the conventional element. The conventional device has a problem in that a decrease in emission luminance with time is observed. It has been found that this is mainly due to deterioration and deterioration of the joint portion between the metal electrode and the light emitting layer and a consequent decrease in the injected carrier density. In the conventional organic EL element, it is necessary to optimize the voltage and stabilize the light emission characteristics each time such a change occurs. For this reason, for example, when the light emission efficiency becomes low, it is necessary to apply a voltage that is several times higher than that at the time of initial driving, which causes the life of the element to be further shortened. On the other hand, in the device of the present invention, carriers are injected from the metal electrode to the light emitting display unit via the photoresponsive unit. For this reason, unlike the conventional element, deterioration deterioration is unlikely to occur at the joint between the metal electrode and the light emitting layer, and the light emitting characteristics are less likely to become unstable.

【0041】次に、本発明の素子の利用形態について説
明する。本発明の素子に対する光による情報入力の仕方
は、光源を手に持って入力する方法と、紙などに書かれ
た情報を光を使って一括転写する方法とがある。いずれ
の場合でも、フレキシブルな基板を用いて紙のように薄
くて柔軟に折り曲げることができるディスプレイとして
おくことが好ましい。例えば、ライトペンを手に持って
光入力する場合には、手書きに近い感触が得られ、人間
工学的に適している。また、紙に書かれた情報を転写す
る場合にも、密着性の点で有利である。さらに、本発明
の素子を他の機器の表面に貼り合わせることにより、平
面に限らず、球面などの曲面状のディスプレイとして用
いることもできる。このような曲面状のディスプレイで
は、背景からの反射光が視線に入らなくなる。
Next, the usage of the device of the present invention will be described. There are two methods of inputting information to the device of the present invention using light, that is, a method of holding a light source in hand and a method of collectively transferring information written on paper or the like using light. In any case, it is preferable to use a flexible substrate as a display that is thin and can be flexibly bent like paper. For example, when a light pen is held in the hand for optical input, a feeling similar to handwriting is obtained, which is ergonomically suitable. Also, it is advantageous in terms of adhesion when transferring information written on paper. Furthermore, by sticking the element of the present invention to the surface of another device, it can be used not only as a flat surface but also as a curved surface such as a spherical surface. In such a curved display, the reflected light from the background does not enter the line of sight.

【0042】本発明の素子は、コンピュータ、ワープ
ロ、電子手帳などの情報処理機器とインターフェースを
介して接続することができる。この場合、情報処理機器
のメモリに蓄積されている情報を表示できる。逆に、光
によって入力される情報を、インターフェースを介して
情報処理機器のメモリに蓄積することもできる。
The element of the present invention can be connected to an information processing device such as a computer, a word processor and an electronic notebook via an interface. In this case, the information stored in the memory of the information processing device can be displayed. Conversely, the information input by light can be stored in the memory of the information processing device via the interface.

【0043】また、本発明の素子を上記のような情報処
理機器と接続せずに、例えば光書き込み型ノートとして
使用することもできる。この場合、光応答部には光双安
定性を示す材料が用いられる。このような利用形態で
は、情報を書き込むと持続的に表示され、そのまま記憶
保存される。そして、電源を切るなどリセット状態にす
ると、情報の表示が解消される。
Further, the element of the present invention can be used as, for example, an optical writing type notebook without connecting to the above information processing equipment. In this case, a material exhibiting optical bistability is used for the photoresponsive portion. In such a usage mode, when information is written, it is continuously displayed and stored and stored as it is. Then, when the power is turned off and the reset state is set, the information display is canceled.

【0044】本発明の素子を用いて、静止画や動画情報
などの高度な画像情報を入力・表示する場合には、電極
をマトリックス構成とする。すなわち、下部電極をn本
のストライプ形状にし、上部電極をそれに直交するよう
にm本のストライプ形状とする。下部及び上部の電極が
互いに交差する領域が、n×m個の画素となる。この構
成で、画像情報の入力時には、検出動作をマトリックス
駆動させることによって光が入力されている座標を読み
とる。また、画像情報を表示する際には、駆動回路を下
部電極と上部電極に加える信号を掃引するマトリックス
駆動させることによって画像情報の表示を制御する。こ
の場合、光応答部へ入力された光に関する情報を電圧変
化や電流変化として、光入力検出情報および発光表示駆
動情報に変換できるようにして、光検出機能と発光表示
機能とを一体化することが望ましい。ただし、光検出動
作に用いられる電気信号と発光表示駆動に用いられる電
気信号との干渉を低減させて素子本来の十分な機能を発
揮させることが望ましい。
When the device of the present invention is used to input and display high-level image information such as still image information or moving image information, the electrodes have a matrix configuration. That is, the lower electrode has a stripe shape of n lines, and the upper electrode has a stripe shape of m lines so as to be orthogonal to the stripe shape. The region where the lower and upper electrodes intersect each other is n × m pixels. With this configuration, when image information is input, the detection operation is matrix-driven to read the coordinates at which light is input. Further, when displaying image information, the display of image information is controlled by driving the driving circuit in a matrix mode that sweeps signals applied to the lower electrode and the upper electrode. In this case, it is possible to integrate the light detection function and the light emission display function by converting the information about the light input to the light response unit into a light input detection information and a light emission display drive information as a voltage change or a current change. Is desirable. However, it is desirable to reduce the interference between the electric signal used for the light detection operation and the electric signal used for driving the light emitting display so that the element has a sufficient original function.

【0045】ここで、マトリックス構成の電極を有する
光入力型EL素子の一例を図25に示す。図25におい
て、基板111上には、正孔注入用の走査線電極11
2、光応答部113、正孔注入層114/発光層115
/電子注入層116からなる発光表示部117、および
電子注入用のデータ線電極118が順次形成されてい
る。多数の走査線電極112と多数のデータ線電極11
8とは互いに直交する方向に延びており、いわゆる単純
マトリックスを構成している。
Here, FIG. 25 shows an example of the light input type EL element having the matrix-structured electrodes. In FIG. 25, the scanning line electrode 11 for hole injection is formed on the substrate 111.
2, photoresponsive portion 113, hole injection layer 114 / light emitting layer 115
A light emitting display portion 117 including an electron injection layer 116 and a data line electrode 118 for electron injection are sequentially formed. Many scanning line electrodes 112 and many data line electrodes 11
8 extend in directions orthogonal to each other and form a so-called simple matrix.

【0046】図26にこのようなマトリックス構成の表
示パネルに適用される基本的な制御回路のブロック図を
示す。表示パネル110を平面的に見ると、n本の走査
線電極Xi (i=1〜n)112とm本のデータ線電極
Yj (j=1〜m)118とが互いに直交する方向に延
びている。走査線電極112とデータ線電極118との
交点に対応する領域が1つの画素119となり、n×m
個の画素が集積されている。図26の制御回路は、駆動
制御論理回路120、走査線駆動回路130、画像デー
タレジスタ140、データ線駆動・光検出回路150、
光検出出力回路160、光検出制御回路170を有し、
以下に詳細に説明するように光検出機能と発光表示機能
とが素子レベルで一体化されている。
FIG. 26 shows a block diagram of a basic control circuit applied to a display panel having such a matrix structure. When the display panel 110 is viewed in a plan view, the n scanning line electrodes Xi (i = 1 to n) 112 and the m data line electrodes Yj (j = 1 to m) 118 extend in directions orthogonal to each other. There is. The area corresponding to the intersection of the scanning line electrode 112 and the data line electrode 118 becomes one pixel 119, and n × m
Individual pixels are integrated. The control circuit of FIG. 26 includes a drive control logic circuit 120, a scanning line drive circuit 130, an image data register 140, a data line drive / light detection circuit 150,
A light detection output circuit 160 and a light detection control circuit 170,
As will be described in detail below, the light detection function and the light emission display function are integrated at the element level.

【0047】まず、画像を表示するための動作について
簡単に説明する。表示されるべき画像情報は表示方式に
適するように前処理され、1フレームの画像情報がn本
の走査線上にあるm個のデータ線情報、すなわちn×m
個のマトリックス情報(Xi,Yj )(ここで、i=1
〜n、j=1〜m)に分割される。発光表示は、1本の
走査線上の画素(Xi ,Y 1〜m )を同時に駆動するこ
とにより行われる。走査線をX1 〜Xn まで順次走査す
ることにより、全画面上の発光表示動作が行われ、1フ
レーム分の画像情報が表示される。
First, the operation for displaying an image will be briefly described. The image information to be displayed is preprocessed so as to be suitable for the display method, and the image information of one frame is m data line information on n scanning lines, that is, n × m.
Matrix information (Xi, Yj) (where i = 1
.About.n, j = 1 to m). The light emission display is performed by simultaneously driving the pixels (Xi, Y1 to m) on one scanning line. By sequentially scanning the scanning lines from X1 to Xn, a light emitting display operation on the entire screen is performed and image information for one frame is displayed.

【0048】この動作を図26を参照してより具体的に
説明する。駆動制御論理回路120には、画像情報に関
するデータ処理を行う回路、回路全般を駆動するための
クロック及び素子の発光駆動とシステム駆動のための電
源が接続される。クロック信号は分周されて、装置の各
ブロックに送られる。画像情報は駆動制御論理回路12
0でシリアルなデジタル信号として処理され、画像デー
タレジスタ140に送られる。画像データレジスタ14
0では、送られたシリアルな信号を走査線ごとのパラレ
ルな信号に加工する。ここでは、(Xi ,Yj )という
形で送られた全画面の1つ1つの画素に対応するシリア
ル信号を、(X1 ,Y 1〜m ),(X2,Y 1〜m ),
(X3 ,Y 1〜m ),・・・,(Xn ,Y 1〜m )のよ
うに、1つの走査線上の全画素を1組としたパラレル信
号に加工する。1フレームの全画面に対応する情報は走
査線の本数分、すなわちn組のパラレル信号となる。こ
のようにしてパラレル信号に加工された画像情報は、デ
ータ線駆動・光検出回路150の駆動信号として送られ
る。
This operation will be described more specifically with reference to FIG. The drive control logic circuit 120 is connected to a circuit for performing data processing related to image information, a clock for driving the entire circuit, and a power source for driving light emission of elements and system driving. The clock signal is divided and sent to each block of the device. The image information is the drive control logic circuit 12
At 0, it is processed as a serial digital signal and sent to the image data register 140. Image data register 14
At 0, the sent serial signal is processed into a parallel signal for each scanning line. Here, the serial signals corresponding to each pixel of the entire screen sent in the form of (Xi, Yj) are (X1, Y1 to m), (X2, Y1 to m),
As shown in (X3, Y1 to m), ..., (Xn, Y1 to m), all pixels on one scanning line are processed into a parallel signal as one set. The information corresponding to the entire screen of one frame is the number of scanning lines, that is, n sets of parallel signals. The image information processed into a parallel signal in this way is sent as a drive signal for the data line drive / light detection circuit 150.

【0049】データ線駆動・光検出回路150は、表示
パネル110の発光表示機能を発現させるために電源と
の接続を制御するスイッチング素子と、表示パネル11
0への光入力を検出するための機能を回路的に一体化し
たものである。データ線駆動・光検出回路150では画
像データレジスタ140から送られた各画素に対する画
像信号を並列に出力し、走査線駆動回路130で選択さ
れた1つの走査線上の各画素を同時に駆動する。これに
より、1つの走査線に対応する画素で発光表示が行われ
る。全画面に1つのフレームの画像情報を発現させるた
めには、上述した動作を全ての走査線について行う。す
なわち、シフトレジスタ機能を内蔵した走査線駆動回路
130によってn本の走査線電極112を順次選択し、
選択された走査線上の画素信号に対応するパラレル情報
をデータ線駆動・光検出回路150からm個の画素へ送
ることによって全画面の画像情報を表示することができ
る。以上の動作を続けることによって、連続したフレー
ム情報を随時画面上に表示することができる。
The data line driving / light detecting circuit 150 includes a switching element for controlling connection with a power source in order to realize the light emitting display function of the display panel 110, and the display panel 11.
The function for detecting the optical input to 0 is integrated in a circuit. The data line driving / light detecting circuit 150 outputs the image signal for each pixel sent from the image data register 140 in parallel, and simultaneously drives each pixel on one scanning line selected by the scanning line driving circuit 130. As a result, light emission display is performed in the pixels corresponding to one scanning line. In order to display the image information of one frame on the entire screen, the above-described operation is performed for all scanning lines. That is, the scanning line driving circuit 130 having a shift register function sequentially selects n scanning line electrodes 112,
The image information of the entire screen can be displayed by sending parallel information corresponding to the pixel signal on the selected scanning line from the data line driving / photodetection circuit 150 to the m pixels. By continuing the above operation, continuous frame information can be displayed on the screen at any time.

【0050】次に、光検出動作について説明する。走査
線駆動回路130で選択された1つの走査線電極(Xi
)の各画素(Xi ,Y 1〜m )に光が入力された場合
には、その画素において電気信号(光検出信号)が発生
する。m個の画素に対応する光検出信号は、データ線1
18を介してデータ線駆動・光検出回路150へ送ら
れ、さらにパラレル信号として光検出出力回路160へ
送られる。光検出出力回路160ではパラレルに送られ
てきた光検出信号がシリアル信号に変換され、さらに光
検出制御回路170へ送られる。さらに、走査線駆動回
路130により、表示パネル110上の走査線電極11
2を順次選択することにより、表示パネル110上に入
力された光のパターンに対する情報を取り込むことがで
きる。光検出制御回路170に送られた光検出信号は、
画像情報として駆動制御論理回路120へ送られ、素子
の駆動信号として用いられる。このようにして検出され
た光入力情報を画像情報として出力することができる。
また、必要に応じて、光検出制御回路170から他の情
報処理システムへ、光検出情報として出力することがで
きる。
Next, the light detection operation will be described. One scanning line electrode (Xi selected by the scanning line driving circuit 130
When light is input to each pixel (Xi, Y1 to m) of 1), an electric signal (light detection signal) is generated in that pixel. The light detection signal corresponding to m pixels is the data line 1
It is sent to the data line drive / photodetection circuit 150 via 18, and further sent to the photodetection output circuit 160 as a parallel signal. In the photodetection output circuit 160, the photodetection signals sent in parallel are converted into serial signals and further sent to the photodetection control circuit 170. Further, the scanning line driving circuit 130 causes the scanning line electrodes 11 on the display panel 110
By sequentially selecting 2, it is possible to capture information on the pattern of light input on the display panel 110. The light detection signal sent to the light detection control circuit 170 is
It is sent to the drive control logic circuit 120 as image information and used as a drive signal for the element. The light input information detected in this way can be output as image information.
Further, if necessary, the light detection control circuit 170 can output the light detection information to another information processing system.

【0051】以上のような光検出機能と発光表示機能と
を一体化した制御回路においては、EL素子に用いる光
応答部の特性や、発光表示機能と光検出機能とを発現す
るタイミングに応じて、具体的には様々な回路構成が考
えられる。例えば、光応答部で光起電流や光起電力を検
出するタイプの場合には、発光表示と光検出とが同時に
行われるため、走査線ごとに画素(Xi ,Y 1〜m )の
発光表示動作と光検出動作を行う。また、発光表示機能
と光検出機能とを交互に発現させる場合(レフレックス
型)には、走査線ごとに発光表示と光検出を交互に行っ
てもよいし、1フレームの画像情報を発光表示した後
に、全画素または特定の範囲の画素に対して光検出を行
ってもよい。
In the control circuit in which the light detection function and the light emission display function are integrated as described above, the light response function used in the EL element and the timing at which the light emission display function and the light detection function are expressed are determined according to the characteristics. Specifically, various circuit configurations are possible. For example, in the case of the type in which a photo-responsive portion detects a photo-current or a photo-electromotive force, since light-emission display and light detection are performed simultaneously, light-emission display of pixels (Xi, Y 1 to m) for each scanning line. The operation and the light detection operation are performed. Further, when the light emitting display function and the light detecting function are alternately exhibited (reflex type), the light emitting display and the light detecting may be alternately performed for each scanning line, or one frame of image information is light emitting displayed. After that, light detection may be performed on all pixels or a specific range of pixels.

【0052】なお、EL素子と制御回路とは同一の基板
上に形成してもよいし、別々の基板上に形成してもよ
い。また、制御回路を構成する各種の回路についても同
一の基板上に形成してもよいし、別々の基板上に形成し
てもよい。
The EL element and the control circuit may be formed on the same substrate or may be formed on different substrates. Further, various circuits forming the control circuit may be formed on the same substrate or may be formed on different substrates.

【0053】[0053]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0054】実施例1 図1に本実施例の素子を示す。厚み100μmのポリエ
ステル樹脂基板11上に、ITOからなる膜厚500n
mの正孔注入用電極12、及びトリニトロフルオレノン
(TNF)をドープしたポリビニルカルバゾール(PV
K)からなる膜厚300nmの光応答部13が順次形成
されている。光応答部13上に、テトラキス(ジフェニ
ルアミノフェニル)エタンからなる膜厚100nmの正
孔注入層14、トリス(8−ヒドロキシキノリノ)アル
ミニウム(以下、Alq3 と記す)からなる膜厚30n
mの発光層15、及び1,3,5−トリ(4−t−ブチ
ルフェニルオキサジアゾリル)ベンゼンからなる膜厚1
00nmの電子注入層16が順次形成されている。これ
らの正孔注入層14、発光層15及び電子注入層16に
より発光表示部17が構成されている。発光表示部17
を構成する電子注入層16上にMg−Agからなる膜厚
200nmの電子注入用電極18が形成され、さらにそ
の上にポリエチレン樹脂からなる保護膜19が形成され
ている。
Example 1 FIG. 1 shows an element of this example. On a polyester resin substrate 11 having a thickness of 100 μm, a film thickness of 500 n made of ITO
m hole injecting electrode 12, and trinitrofluorenone (TNF) -doped polyvinylcarbazole (PV
The photoresponsive portion 13 of K) having a film thickness of 300 nm is sequentially formed. On the photo-responsive part 13, a hole injection layer 14 made of tetrakis (diphenylaminophenyl) ethane and having a thickness of 100 nm, and a film thickness of 30 n made of tris (8-hydroxyquinolino) aluminum (hereinafter referred to as Alq 3 ).
m light emitting layer 15 and a film thickness of 1,3,5-tri (4-t-butylphenyloxadiazolyl) benzene 1
The electron injection layer 16 having a thickness of 00 nm is sequentially formed. The hole injection layer 14, the light emitting layer 15, and the electron injection layer 16 form a light emitting display unit 17. Light emitting display unit 17
An electron injection electrode 18 made of Mg—Ag and having a film thickness of 200 nm is formed on the electron injection layer 16 constituting the above, and a protective film 19 made of polyethylene resin is further formed thereon.

【0055】光応答部13に用いられているTNFをド
ープしたPVKは、半導体LEDや半導体レーザーから
照射される所定の波長域の光を吸収すると正孔に対する
抵抗率ρが大きく変化する性質を有する。具体的には、
ρは、暗時には10-10 Ω・cmであるが、光照射時に
は10-5〜10-4Ω・cmに増加する。
The TNF-doped PVK used in the photoresponsive section 13 has a property that the resistivity ρ for holes changes greatly when it absorbs light in a predetermined wavelength range emitted from a semiconductor LED or a semiconductor laser. . In particular,
ρ is 10 −10 Ω · cm in the dark, but increases to 10 −5 to 10 −4 Ω · cm during light irradiation.

【0056】発光表示部17を構成する各層の接合状態
は以下の通りである。電子注入用電極18と電子注入層
16との間には、電子注入性の接合が形成される。電子
注入層16と発光層15との間には、電子注入性かつ正
孔ブロッキング性の接合が形成される。一方、正孔注入
用電極12と正孔注入層14との間には、正孔注入性の
接合が形成される。正孔注入層14と発光層15との間
には、正孔注入性かつ電子ブロッキング性の接合が形成
される。
The bonding state of each layer constituting the light emitting display section 17 is as follows. An electron injecting bond is formed between the electron injecting electrode 18 and the electron injecting layer 16. A junction having an electron injecting property and a hole blocking property is formed between the electron injecting layer 16 and the light emitting layer 15. On the other hand, a hole injecting junction is formed between the hole injecting electrode 12 and the hole injecting layer 14. A junction having a hole injecting property and an electron blocking property is formed between the hole injecting layer 14 and the light emitting layer 15.

【0057】この素子の動作を図2(a)〜(c)を参
照して時系列的に説明する。それぞれ、図2(a)は電
極間に印加する電圧の変化、同図(b)は電極間に流れ
る電流の変化、同図(c)は発光輝度の変化を示す図で
ある。
The operation of this element will be described in time series with reference to FIGS. FIG. 2A is a diagram showing changes in voltage applied between electrodes, FIG. 2B is a diagram showing changes in current flowing between electrodes, and FIG. 2C is a diagram showing changes in light emission luminance.

【0058】電子注入用電極18と正孔注入用電極12
との間に電圧を印加していない状態では、発光は生じな
い。ここで、電子注入用電極18と正孔注入用電極12
との間に、電子注入用電極18が負になるように、10
Vのバイアス電圧を印加する(順方向バイアス)。光応
答部13に光を照射していない状態では、光応答部13
の電気伝導度が低いため、正孔注入用電極12から光応
答部13へ正孔がほとんど注入されない。このため、発
光表示部17に有効な電圧が印加されず、発光は生じな
い。一方、光応答部13に強い光を照射すると(光入力
オン)、光応答部13の電気伝導度が増加し、正孔注入
用電極12から光応答部13へ正孔が注入される。この
ため、発光表示部17に電極間の印加電圧にほぼ等しい
約10Vの電圧が印加される。この結果、電子が電子注
入用電極18から電子注入層16を介して発光層15へ
注入され、正孔が正孔注入用電極12から光応答部13
及び正孔注入層14を介して発光層15へ注入され、発
光層15において電子と正孔とが再結合して発光する。
Electron injection electrode 18 and hole injection electrode 12
No light emission occurs when no voltage is applied between and. Here, the electron injection electrode 18 and the hole injection electrode 12
So that the electron injection electrode 18 becomes negative between
A bias voltage of V is applied (forward bias). When the light responsive unit 13 is not irradiated with light, the light responsive unit 13
Since the electric conductivity of is low, holes are hardly injected from the hole injection electrode 12 to the photoresponsive portion 13. Therefore, an effective voltage is not applied to the light emitting display unit 17, and light emission does not occur. On the other hand, when the light responsive portion 13 is irradiated with strong light (light input ON), the electrical conductivity of the light responsive portion 13 increases, and holes are injected from the hole injection electrode 12 into the light responsive portion 13. Therefore, a voltage of about 10 V, which is almost equal to the voltage applied between the electrodes, is applied to the light emitting display section 17. As a result, electrons are injected from the electron injection electrode 18 into the light emitting layer 15 through the electron injection layer 16, and holes are emitted from the hole injection electrode 12 to the photoresponsive portion 13.
And holes are injected into the light emitting layer 15 through the hole injection layer 14, and in the light emitting layer 15, electrons and holes are recombined to emit light.

【0059】また、図3に示すような回路構成を採用す
れば、電極間を流れる電流密度が変化することを利用し
て、光入力の有無を検出することができる。図3に示す
ように、駆動部20は駆動回路21と検出回路22とが
直列に接続された構成となっている。検出回路は、電流
増幅器とレベルコンパレータとからなっている。いま、
発光表示が起こる程度にまで電流密度が増加すると、検
出回路22を構成する電流増幅器の出力電圧が上昇す
る。この出力電圧が、レベルコンパレータにて設定した
しきい値を超えると、レベルコンパレータの出力がオン
になり、光が照射されたことを電気的に検出できる。し
たがって、電極マトリックスを構成しておけば、このよ
うな回路を利用して光が入力された座標位置のアドレス
情報を得ることができる。
Further, if the circuit configuration as shown in FIG. 3 is adopted, it is possible to detect the presence / absence of light input by utilizing the fact that the current density flowing between the electrodes changes. As shown in FIG. 3, the drive unit 20 has a configuration in which a drive circuit 21 and a detection circuit 22 are connected in series. The detection circuit consists of a current amplifier and a level comparator. Now
When the current density increases to such an extent that luminescence display occurs, the output voltage of the current amplifier that constitutes the detection circuit 22 increases. When this output voltage exceeds the threshold value set by the level comparator, the output of the level comparator is turned on, and it can be electrically detected that light is emitted. Therefore, if the electrode matrix is configured, the address information of the coordinate position where the light is input can be obtained using such a circuit.

【0060】実施例2 図4に本実施例の素子を示す。ガラス基板31上にIT
Oからなる正孔注入用電極32がパターン化されて形成
されている。正孔注入用電極32上には、化1で示され
るトリフェニルアミン誘導体(TPA−2)からなる膜
厚50nmの正孔注入層33、化2で示されるテトラフ
ェニルペンタジエン誘導体(TPCyP)からなる膜厚
50nmの発光層34、化3で示されるp−ジフェノキ
ノン誘導体(DPQ−1)からなる膜厚30nmの電子
注入層35が順次積層されている。これらの3層の有機
薄膜により発光表示部36が形成されている。この発光
表示部36上に、真空蒸着法により、Cu・TCNQか
らなる膜厚100nmの光応答部37が形成されてい
る。さらに、光応答部37上に半透明のAlからなる電
子注入用電極38が形成されている。
Example 2 FIG. 4 shows an element of this example. IT on the glass substrate 31
The hole injecting electrode 32 made of O is patterned and formed. On the hole injecting electrode 32, a hole injection layer 33 made of the triphenylamine derivative (TPA-2) shown in Chemical formula 1 and having a film thickness of 50 nm, and a tetraphenylpentadiene derivative (TPCyP) shown in the chemical formula 2 are formed. A light emitting layer 34 with a film thickness of 50 nm and an electron injection layer 35 with a film thickness of 30 nm made of a p-diphenoquinone derivative (DPQ-1) shown in Chemical formula 3 are sequentially laminated. The light emitting display unit 36 is formed by these three layers of organic thin films. On the light emitting display section 36, a photo-responsive section 37 made of Cu / TCNQ and having a film thickness of 100 nm is formed by a vacuum vapor deposition method. Further, an electron injection electrode 38 made of semitransparent Al is formed on the photoresponsive portion 37.

【0061】[0061]

【化1】 [Chemical 1]

【0062】[0062]

【化2】 [Chemical 2]

【0063】[0063]

【化3】 この素子に12Vの直流バイアスを印加したが、発光は
観測されなかった。さらに、この素子に12Vの直流バ
イアスを印加した状態で、Arイオンレーザーから波長
514.5nm、スポットサイズ2μm、強度5μW以
上のレーザー光を照射すると、発光層34から青緑色の
発光が観測された。このようにしきい値以上の強度の光
を入力することによって発光動作が起こることが確認さ
れた。
[Chemical 3] A DC bias of 12 V was applied to this device, but no light emission was observed. Furthermore, when a 12 V DC bias was applied to this device, laser light having a wavelength of 514.5 nm, a spot size of 2 μm, and an intensity of 5 μW or more was irradiated from an Ar ion laser, and emission of bluish green was observed from the light emitting layer 34. . Thus, it was confirmed that the light emitting operation occurs by inputting the light having the intensity higher than the threshold value.

【0064】実施例3 図4に示す実施例2の素子とほぼ同様な構成を有する
が、発光層34がAlq3 (膜厚30nm)からなり、
光応答部37が真空蒸着法により形成された化4で示さ
れるペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸ジ
イミド誘導体(膜厚100nm)からなり、電子注入用
電極38が半透明のMg−Agからなる素子を作製し
た。
Example 3 The structure is almost the same as that of the element of Example 2 shown in FIG. 4, but the light emitting layer 34 is made of Alq 3 (thickness 30 nm),
The photoresponsive portion 37 is made of a perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid diimide derivative (film thickness 100 nm) represented by Chemical Formula 4 formed by a vacuum deposition method, and the electron injection electrode 38 is a semitransparent Mg. A device made of -Ag was produced.

【0065】[0065]

【化4】 光応答部を構成するペリレン−3,4,9,10−テト
ラカルボン酸ジイミド誘導体を用いて、p−Si\Si
2 \有機薄膜\金属電極という構造のMOS型素子を
作製し、三角波電圧を印加して変位電流特性を測定し
た。その結果、450〜580nmの光を照射するとは
じめて、金属電極から有機薄膜への電子注入が起こるこ
とが確認された。
[Chemical 4] Using the perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid diimide derivative that constitutes the photoresponsive part, p-Si \ Si
A MOS type device having a structure of O 2 \ organic thin film \ metal electrode was prepared and a displacement current characteristic was measured by applying a triangular wave voltage. As a result, it was confirmed that electron injection from the metal electrode into the organic thin film occurred only after irradiation with light of 450 to 580 nm.

【0066】この素子に、10Vの直流バイアスを印加
した状態で、Arイオンレーザーから波長488nm、
スポットサイズ2μm、強度5μWのレーザー光を照射
すると、波長530nmにピークを持つ発光が観測され
た。一方、レーザー未照射部からの発光は認められなか
った。
With a direct current bias of 10 V applied to this element, a wavelength of 488 nm was emitted from an Ar ion laser.
When a laser beam having a spot size of 2 μm and an intensity of 5 μW was irradiated, emission having a peak at a wavelength of 530 nm was observed. On the other hand, no light emission was observed from the laser non-irradiated part.

【0067】実施例4 図5に本実施例の素子を示す。ポリカーボネートフィル
ム基板41上にITOからなる正孔注入用電極42がパ
ターン化されて形成されている。正孔注入用電極42上
には、トリフェニルアミン誘導体(TPA−2)からな
る膜厚50nmの正孔注入層43、Alq3 からなる膜
厚30nmの発光層44、p−ジフェノキノン誘導体
(DPQ−1)からなる膜厚30nmの電子注入層45
が順次形成されている。これらの3層の有機薄膜により
発光表示部46が形成されている。この発光表示部46
上に、真空蒸着法により銅・テトラシアノナフトキノジ
メタン錯体(Cu・TNAP)からなる膜厚30nmの
下層光応答部47が形成されている。この下層光応答部
47上に、半透明のAlからなる電子注入用電極48が
パターン化されて形成されている。さらに、真空蒸着法
により有機フォトクロミック材料である化5で示される
p−フェニレンジアミン誘導体からなる膜厚140nm
の上層光応答部49が形成されている。
Example 4 FIG. 5 shows an element of this example. A hole injection electrode 42 made of ITO is patterned and formed on a polycarbonate film substrate 41. On the hole injection electrode 42, a hole injection layer 43 made of a triphenylamine derivative (TPA-2) with a film thickness of 50 nm, a light emitting layer 44 made of Alq 3 with a film thickness of 30 nm, a p-diphenoquinone derivative (DPQ-). The electron injection layer 45 composed of 1) and having a film thickness of 30 nm
Are sequentially formed. The light emitting display section 46 is formed of these three layers of organic thin films. This light emitting display unit 46
A lower photo-responsive portion 47 made of copper / tetracyanonaphthoquinodimethane complex (Cu / TNAP) having a film thickness of 30 nm is formed thereon by a vacuum vapor deposition method. An electron injection electrode 48 made of semitransparent Al is patterned and formed on the lower layer photoresponsive portion 47. Furthermore, a film thickness of 140 nm formed of a p-phenylenediamine derivative represented by Chemical formula 5, which is an organic photochromic material, by a vacuum deposition method.
The upper layer photoresponsive portion 49 is formed.

【0068】[0068]

【化5】 下層光応答部47を構成するCu・TNAPは488n
m付近に吸収ピークを有する。一方、上層光応答部49
を構成するp−フェニレンジアミン誘導体の吸収特性は
以下の通りである。光を照射しないときには、400n
m近傍から500nmまで大きな吸収の裾を示す。40
0nmの光を照射しつづけると、550〜600nmに
大きな吸収ピークを示す吸収特性に変化し、488nm
付近の吸収は著しく小さくなる。
[Chemical 5] The Cu / TNAP forming the lower layer optical response part 47 is 488n.
It has an absorption peak near m. On the other hand, the upper layer optical response section 49
The absorption characteristics of the p-phenylenediamine derivative constituting the above are as follows. 400n when not illuminated
It shows a large absorption tail from near m to 500 nm. 40
When it continues to irradiate with 0 nm light, it changes to an absorption characteristic showing a large absorption peak at 550 to 600 nm and changes to 488 nm.
Absorption in the vicinity is significantly reduced.

【0069】光応答部に用いられた有機化合物につい
て、p−Si\SiO2 \有機薄膜\金属電極という構
造のMOS型素子を作製し、変位電流特性を調べた。有
機薄膜としてCu・TNAPのみを用いた場合、負バイ
アスを印加した状態で488nmの光を照射すると、キ
ャリヤー注入による大きな変位電流変化が起こる。しか
し、有機薄膜としてCu・TNAP及びp−フェニレン
ジアミン誘導体の積層体を用いた場合、正負いずれのバ
イアスを印加した状態でも、488nmの光の照射によ
って変位電流変化は観測されず、有機薄膜とSiO2
との合成容量から見積もられる一定の電流しか流れなか
った。一方、この2層構造の膜に対して、400nmの
第1の光を照射し、かつ第1の光の照射部に488nm
の第2の光を照射した場合には、Cu・TNAP単層の
場合とほぼ同様のキャリヤー注入特性を示した。
With respect to the organic compound used in the photoresponsive portion, a MOS type device having a structure of p-Si \ SiO 2 \ organic thin film \ metal electrode was prepared and the displacement current characteristics were examined. When only Cu.TNAP is used as the organic thin film, when a light of 488 nm is irradiated with a negative bias applied, a large displacement current change due to carrier injection occurs. However, when a laminate of Cu.TNAP and a p-phenylenediamine derivative is used as the organic thin film, a change in displacement current is not observed by irradiation with light of 488 nm even when a positive or negative bias is applied, and the organic thin film and SiO Only the constant current estimated from the combined capacity with the two membranes flowed. On the other hand, the film having the two-layer structure is irradiated with the first light of 400 nm, and the irradiated portion of the first light is 488 nm.
In the case of irradiating the second light of (1), carrier injection characteristics similar to those of the Cu / TNAP single layer were exhibited.

【0070】これらのことから、p−フェニレンジアミ
ン誘導体の膜に第1及び第2の光を同時に照射すると、
第1の光によってその吸収特性が変化して第2の光を吸
収しなくなる結果、第2の光がCu・TNAPまで達
し、Cu・TNAPが活性化されることがわかった。
From these facts, when the film of the p-phenylenediamine derivative is irradiated with the first and second lights at the same time,
It was found that the absorption characteristics of the first light were changed and the second light was not absorbed, and as a result, the second light reached Cu.TNAP and Cu.TNAP was activated.

【0071】本実施例の素子に直流バイアスを印加した
状態で、第1及び第2の光を同時に照射すると、照射部
からのみ黄緑の発光が生じた。一方、580nmの光を
照射すると、第2の光を照射しても、発光は起こらなく
なった。
When the device of this example was irradiated with the first and second lights simultaneously while a DC bias was applied, yellowish green light was emitted only from the irradiation part. On the other hand, when the light having a wavelength of 580 nm was irradiated, the light emission did not occur even when the second light was irradiated.

【0072】実施例5 図6に本実施例の素子を示す。ガラス基板51上にIT
Oからなる正孔注入用電極52が形成されている。この
正孔注入用電極52上に、トリフェニルアミン誘導体か
らなる膜厚50nmの正孔注入層53、及びAlq3
らなる膜厚50nmの発光層54が順次形成されてい
る。これらの2層の有機薄膜により発光表示部55が形
成されている。この発光表示部55上に、Cu・TNA
Pからなる膜厚50nmの下層光応答部56、クロムか
らなる電子注入用電極57、及び有機フォトクロミック
材料であるアゾベンゼンコレステリルからなる膜厚10
0nmの上層光応答部58が順次形成されている。Cu
・TNAPは、光の照射によりキャリヤーを発生する特
性を有する。アゾベンゼンコレステリルは、光の照射に
より透過率が変化する特性を有する。
Example 5 FIG. 6 shows an element of this example. IT on the glass substrate 51
A hole injection electrode 52 made of O is formed. On this hole injecting electrode 52, a hole injecting layer 53 made of a triphenylamine derivative and having a film thickness of 50 nm, and a light emitting layer 54 made of Alq 3 and having a film thickness of 50 nm are sequentially formed. The light emitting display section 55 is formed by these two layers of organic thin films. Cu / TNA is displayed on the light emitting display 55.
A lower photoresponsive portion 56 made of P having a thickness of 50 nm, an electron injection electrode 57 made of chromium, and a thickness of 10 made of azobenzene cholesteryl which is an organic photochromic material.
An upper layer photoresponsive portion 58 of 0 nm is sequentially formed. Cu
-TNAP has the property of generating carriers upon irradiation with light. Azobenzene cholesteryl has the characteristic that the transmittance changes with the irradiation of light.

【0073】この素子に、15Vの直流バイアスを印加
しながら、半導体レーザーから800nmのレーザー光
をパターン状に照射すると、その軌跡の部分で黄緑色の
発光が観測された。一方、光未照射部においては、何ら
発光現象は認められなかった。次に、別の半導体レーザ
ーから730nmのレーザー光を照射した後、800n
mのレーザー光を照射したところ、照射部、未照射部と
もに発光は観測されなかった。さらに、別の半導体レー
ザーから860nmのレーザー光を照射した後、800
nmのレーザー光を照射したところ、再び発光が観測さ
れた。
When a 800-nm laser beam was irradiated in a pattern from a semiconductor laser while applying a DC bias of 15 V to this device, yellow-green light emission was observed at the locus. On the other hand, no light emission phenomenon was observed in the non-irradiated area. Next, after irradiating a laser beam of 730 nm from another semiconductor laser, 800 n
When irradiated with m laser light, no light emission was observed in both the irradiated and unirradiated parts. Furthermore, after irradiating laser light of 860 nm from another semiconductor laser, 800
When irradiated with a laser beam of nm, emission was observed again.

【0074】すなわち、本実施例の素子では、860n
mのレーザー光で情報を書き込み、800nmのレーザ
ー光を用いて入力情報に対応する動作を起こさせること
ができる。一方、730nmの光を照射することによ
り、入力情報を消去することができる。
That is, in the device of this embodiment, 860n
Information can be written with a laser beam of m, and an operation corresponding to input information can be caused by using a laser beam of 800 nm. On the other hand, the input information can be erased by irradiating with light of 730 nm.

【0075】実施例6 図7に本実施例の素子を示す。ガラス基板61上に、I
TOからなる正孔注入用電極62がパターン化されて形
成されている。この上に、トリフェニルアミン誘導体
(TPA−2)からなる膜厚50nmの正孔注入層6
3、Alq3 からなる膜厚50nmの発光層64、p−
ジフェノキノン誘導体(DPQ−1)からなる膜厚30
nmの電子注入層65が順次形成されている。これらの
3層の有機薄膜により発光表示部66が形成されてい
る。この発光表示部66上に、それぞれ50nmの膜厚
で、Cu・TCNQからなる第1の光応答部67、テト
ラ(4−ピリジル)ポルフィリンからなる第2の光応答
部68、及びペリレン−3,4,9,10−テトラカル
ボン酸ジイミド誘導体からなる第3の光応答部69が、
400μm×400μmの画素としてパターン化されて
形成されている。図8に示すように、各画素の上に半透
明のAlからなる電子注入用電極70が形成されてい
る。
Example 6 FIG. 7 shows an element of this example. I on the glass substrate 61
A hole injecting electrode 62 made of TO is patterned and formed. On top of this, a hole injection layer 6 made of a triphenylamine derivative (TPA-2) and having a film thickness of 50 nm.
3, a light emitting layer 64 made of Alq 3 and having a thickness of 50 nm, p−
Film thickness 30 made of diphenoquinone derivative (DPQ-1)
nm electron injection layer 65 is sequentially formed. The light emitting display section 66 is formed by these three layers of organic thin films. On the light emitting display section 66, a first photoresponsive section 67 made of Cu.TCNQ, a second photoresponsive section 68 made of tetra (4-pyridyl) porphyrin, and a perylene-3, each having a film thickness of 50 nm, were formed. The third photoresponsive portion 69 made of a 4,9,10-tetracarboxylic acid diimide derivative is
It is formed by patterning as a pixel of 400 μm × 400 μm. As shown in FIG. 8, an electron injection electrode 70 made of semitransparent Al is formed on each pixel.

【0076】この素子に、20Vの直流電圧を印加した
状態で、それぞれ異なる波長を有する3つの光(λ1
510nm、λ2 =650nm、λ3 =900nm)を
照射した。λ1 の光を照射した場合には、第1及び第3
の光応答部67、69の画素パターンの下で発光が観測
された。λ2 の光を照射した場合には、第1及び第2の
光応答部67、68の画素パターンの下で発光が観測さ
れた。λ3 の光を照射した場合には、第1の光応答部6
7の画素パターンの下でのみ発光が観測された。このよ
うに多重入力が実現できることが確認された。
When a direct current voltage of 20 V was applied to this element, three lights (λ 1 =
Irradiation at 510 nm, λ 2 = 650 nm, λ 3 = 900 nm). When irradiated with light of λ 1 , the first and third
Light emission was observed under the pixel patterns of the photo-responsive parts 67 and 69. When the light of λ 2 was irradiated, light emission was observed under the pixel patterns of the first and second photoresponsive parts 67 and 68. When the light of λ 3 is irradiated, the first light response unit 6
Light emission was observed only under the 7 pixel pattern. Thus, it was confirmed that multiple inputs can be realized.

【0077】実施例7 図9に本実施例におけるレフレックス型の素子を示す。
厚み100μmのポリエステル樹脂基板71上に、IT
Oからなる膜厚500nmの正孔注入用電極72が形成
されている。この正孔注入用電極72上に、Cuフタロ
シアニンからなる膜厚50nmの光応答部を兼ねる正孔
注入層73が形成されている。Cuフタロシアニンは、
光を吸収すると、電子と正孔とを発生する性質を有す
る。さらに、テトラキス(ジフェニルアミノフェニル)
エタンからなる膜厚100nmの正孔注入層74、Al
3 からなる膜厚30nmの発光層75、及び1,3,
5−トリ(4−t−ブチルフェニルオキサジアゾリル)
ベンゼンからなる膜厚100nmの電子注入層76が順
次形成されている。これらの光応答部を兼ねる正孔注入
層73、正孔注入層74、発光層75及び電子注入層7
6により発光表示部77が構成されている。発光表示部
77を構成する電子注入層76上に、Mg−Agからな
る膜厚200nmの電子注入用電極78が形成されてい
る。さらに、電子注入用電極78上に、ポリエチレンか
らなる保護膜79が形成されている。
Embodiment 7 FIG. 9 shows a reflex type element in this embodiment.
IT on the polyester resin substrate 71 with a thickness of 100 μm
A hole injection electrode 72 made of O and having a film thickness of 500 nm is formed. On the hole injecting electrode 72, a hole injecting layer 73 made of Cu phthalocyanine and having a film thickness of 50 nm and also serving as a photoresponsive portion is formed. Cu phthalocyanine is
It has a property of generating electrons and holes when absorbing light. Furthermore, tetrakis (diphenylaminophenyl)
100 nm thick hole injection layer 74 made of ethane, Al
a light emitting layer 75 made of q 3 and having a film thickness of 30 nm;
5-tri (4-t-butylphenyloxadiazolyl)
An electron injection layer 76 made of benzene and having a thickness of 100 nm is sequentially formed. The hole injection layer 73, the hole injection layer 74, the light emitting layer 75, and the electron injection layer 7 which also serve as these photoresponsive parts.
6 constitutes a light emitting display section 77. An electron injection electrode 78 made of Mg—Ag and having a film thickness of 200 nm is formed on the electron injection layer 76 which constitutes the light emitting display unit 77. Further, a protective film 79 made of polyethylene is formed on the electron injection electrode 78.

【0078】発光表示部77を構成する各層の接合状態
は以下の通りである。電子注入用電極78と電子注入層
76との間には、電子注入性の接合が形成される。電子
注入層76と発光層75との間には、電子注入性かつ正
孔ブロッキング性の接合が形成される。一方、正孔注入
用電極72と正孔注入層74との間には、正孔注入性の
接合が形成される。正孔注入層74と発光層75との間
には、正孔注入性かつ電子ブロッキング性の接合が形成
される。
The bonding state of each layer constituting the light emitting display section 77 is as follows. An electron injecting junction is formed between the electron injecting electrode 78 and the electron injecting layer 76. A junction having an electron injection property and a hole blocking property is formed between the electron injection layer 76 and the light emitting layer 75. On the other hand, a hole injecting junction is formed between the hole injecting electrode 72 and the hole injecting layer 74. A junction having a hole injecting property and an electron blocking property is formed between the hole injecting layer 74 and the light emitting layer 75.

【0079】この素子に電子注入用電極78が負になる
ようなある値以上の電圧を印加すると電流が流れ、その
ときの電流に比例する強度の発光が生じる。このような
順方向バイアスで電流が流れる電圧をVON、電流が流れ
ない電圧をVOFF とする。V ONとVOFF との間で印加電
圧を制御すれば、発光表示のオン、オフを制御できる。
いま、図10(a)に示すように、光が入力されると入
力光強度に比例して光応答部として作用する有機薄膜
(光応答部を兼ねる正孔注入層73)内部で電子と正孔
とが発生する。このとき、図10(b)に示すように、
逆方向バイアスを印加すると、光起電流が外部へ流れ
る。したがって、逆方向バイアス時に光起電流を検出す
ることにより、光入力のオン、オフを判断できる。
Electron injection electrode 78 becomes negative in this element
When a voltage above a certain value is applied, a current flows,
The intensity of light emission is proportional to the current. like this
The voltage at which current flows with forward bias is VON, Current flows
No voltage VOFFAnd V ONAnd VOFFApplied voltage between
By controlling the pressure, it is possible to control on / off of the light emitting display.
Now, as shown in FIG. 10 (a), when the light is input, it turns on.
Organic thin film that acts as a photoresponsive section in proportion to the intensity of light
Electrons and holes are formed inside (the hole injection layer 73 that also serves as the photoresponsive portion).
And occur. At this time, as shown in FIG.
When a reverse bias is applied, the photocurrent flows to the outside.
It Therefore, when the reverse bias is applied, the photocurrent is detected.
By doing so, it is possible to determine whether the optical input is on or off.

【0080】本実施例の素子においては、光が入力され
たときにそれを検出して発光を生じさせるための駆動部
が設けられている。この駆動部について図11を参照し
て説明する。駆動部は、発光動作を制御する駆動回路
と、光入力を検出する検出回路とからなっている。発振
器101からは、所定の発振周波数の交流方形波パルス
電圧が出力される。発振器101の出力は、駆動パルス
増幅器102へ入力され、ゲイン可変差動増幅器103
によりVON及びVOFF の2つのパルスを出力できるが、
通常はVOFF の駆動パルス電圧が出力される。また、発
振器101の出力は、インバーター104により位相が
180°ずらされて検出パルス増幅器105へ入力さ
れ、出力電圧が+VP となるように増幅される。これら
の駆動パルス電圧及び検出パルス電圧はそれぞれ駆動増
幅器106の−側及び+側へ入力されて波形合成され
る。駆動増幅器106は、これと直列に接続された検出
回路を介して本実施例の光入力型有機EL素子の正孔注
入用電極72に接続されている。検出回路は、ダイオー
ド回路107、電流増幅器108、レベルコンパレータ
109からなっている。駆動増幅器106からの駆動用
電流はダイオード回路107を介して素子へ流れるが、
素子で発生した光起電流はダイオード回路107を介し
て検出回路へ流れる。素子に光が入力して光起電流が流
れると、電流増幅器108の出力電圧が変化する。出力
電圧がレベルコンパレータ109で設定したしきい値V
thを超えると、レベルコンパレータ109の出力がオン
になる。これによって、ゲイン可変差動増幅器103の
増幅率が上昇し、駆動パルスの出力レベルがVOFF から
ONへ変化し、発光が生じる。このときの電圧−電流変
化を図12に示す。
The device of this embodiment is provided with a drive section for detecting light input and causing it to emit light. This drive unit will be described with reference to FIG. The drive unit includes a drive circuit that controls a light emitting operation and a detection circuit that detects an optical input. The oscillator 101 outputs an AC square wave pulse voltage having a predetermined oscillation frequency. The output of the oscillator 101 is input to the drive pulse amplifier 102, and the gain variable differential amplifier 103
Can output two pulses of V ON and V OFF .
Normally, a drive pulse voltage of V OFF is output. The output of the oscillator 101, the phase is input to the detection pulse amplifier 105 is offset 180 ° by an inverter 104, the output voltage is amplified so that + V P. The drive pulse voltage and the detection pulse voltage are input to the − side and the + side of the drive amplifier 106, respectively, and the waveforms are synthesized. The drive amplifier 106 is connected to the hole injection electrode 72 of the light input type organic EL element of the present embodiment via a detection circuit connected in series with the drive amplifier 106. The detection circuit includes a diode circuit 107, a current amplifier 108, and a level comparator 109. The drive current from the drive amplifier 106 flows to the element through the diode circuit 107,
The photovoltaic current generated in the element flows to the detection circuit via the diode circuit 107. When light is input to the element and a photocurrent flows, the output voltage of the current amplifier 108 changes. The output voltage is the threshold value V set by the level comparator 109.
When th is exceeded, the output of the level comparator 109 is turned on. As a result, the amplification factor of the variable gain differential amplifier 103 increases, the output level of the drive pulse changes from V OFF to V ON , and light emission occurs. The voltage-current change at this time is shown in FIG.

【0081】本実施例の素子の動作を図13を参照して
時系列的に説明する。素子の電極間には、VOFF と−V
P のパルスが交互に印加される。このとき素子には電流
が流れず、発光も生じない。素子に光が照射されると、
−VP のパルス中に素子から光起電流が流れる。この光
起電流が検出回路によって検出され、駆動回路の出力電
圧レベルをVONへ変化させる。そして、VONパルス中に
素子に順方向電流が流れるため、発光が生じる。光入力
が続いている間、−VP パルス毎に光起電流が検出さ
れ、駆動パルス電圧がVONに維持される。光入力がオフ
になると、駆動パルス電圧はVOFF に戻り、発光も停止
する。
The operation of the device of this embodiment will be described in time series with reference to FIG. Between the electrodes of the element, V OFF and -V
P pulses are applied alternately. At this time, no current flows through the element and no light emission occurs. When the element is exposed to light,
Photoelectromotive current flows from the element during the pulse of -V P. This photocurrent is detected by the detection circuit, and the output voltage level of the drive circuit is changed to V ON . Then, since a forward current flows through the element during the V ON pulse, light emission occurs. While the optical input continues, a photocurrent is detected every −V P pulse and the drive pulse voltage is maintained at V ON . When the light input is turned off, the drive pulse voltage returns to V OFF and the light emission is stopped.

【0082】なお、駆動部を構成する検出回路とゲイン
可変差動増幅器との間に、フリップフロップを挿入すれ
ば、光入力がオンになって発光が生じた後、光入力をオ
フしても発光が持続し、入力された情報が表示され続け
る。この表示は、フリップフロップにリセット信号を与
えるか、再度光を入力することにより停止する。
If a flip-flop is inserted between the detection circuit and the variable gain differential amplifier that form the drive unit, even if the light input is turned off after the light input is turned on and light emission occurs. The light emission continues and the input information continues to be displayed. This display is stopped by giving a reset signal to the flip-flop or inputting light again.

【0083】実施例8 本実施例の素子は図4に示す実施例2の素子とほぼ同様
の構成を有する。ただし、各有機薄膜には以下のような
材料が用いられている。すなわち、正孔注入層33は化
6で示される有機分子、発光層34はAlq3 、電子注
入層35はオキサジアゾール誘導体、さらに光応答部3
7はジシアノジクロロキノジメタン(DDQ)がドープ
された銅フタロシアニン(CuPc)からなっている。
光応答部37は真空蒸着法で分子ビーム密度を制御して
CuPcおよびDDQを共蒸着することにより作製さ
れ、DDQが〜1018/cm3 の濃度にドーピングされ
ている。
Example 8 The element of this example has substantially the same structure as the element of Example 2 shown in FIG. However, the following materials are used for each organic thin film. That is, the hole injection layer 33 is an organic molecule represented by Chemical formula 6, the light emitting layer 34 is Alq 3 , the electron injection layer 35 is an oxadiazole derivative, and the photoresponsive portion 3
7 is composed of copper phthalocyanine (CuPc) doped with dicyanodichloroquinodimethane (DDQ).
The photoresponsive portion 37 is produced by co-evaporating CuPc and DDQ by controlling the molecular beam density by a vacuum vapor deposition method, and DDQ is doped to a concentration of -10 18 / cm 3 .

【0084】[0084]

【化6】 この素子は、図24に示した原理により動作する。この
素子に15Vの電圧を印加しただけでは発光は観測され
なかった。次に、この素子に15Vの電圧を印加した状
態で赤色半導体レーザーから650nmの光を照射する
と、Alq3 からの黄緑色の発光が観測された。また、
光照射を止めると発光も停止した。
[Chemical 6] This element operates according to the principle shown in FIG. No light emission was observed simply by applying a voltage of 15 V to this device. Next, when a light of 650 nm was irradiated from a red semiconductor laser with a voltage of 15 V applied to this device, yellow-green light emission from Alq 3 was observed. Also,
The light emission stopped when the light irradiation was stopped.

【0085】次いで、以下の実施例では電極をマトリッ
クス構成とした本発明に係る光入力型有機EL素子につ
いて説明する。
Next, in the following examples, the light input type organic EL device according to the present invention in which the electrodes have a matrix structure will be described.

【0086】実施例9 実施例7で説明したレフレックス型の素子は、順方向バ
イアスで発光表示を行い、逆方向バイアスで光起電流を
検出するため、2つの動作時に印加される電圧の極性を
反転させる必要がある。本実施例においては、クロッキ
ングによって2つの電源からの入力をスイッチングして
印加電圧の極性を変化させながら、マトリックス駆動す
る。
Example 9 The reflex type element described in Example 7 performs light emission display with forward bias and detects a photocurrent with reverse bias, so that the polarities of the voltages applied during two operations are used. Need to be reversed. In this embodiment, matrix driving is performed while switching the inputs from two power supplies by clocking to change the polarity of the applied voltage.

【0087】図27に本実施例の素子に用いられるデー
タ線駆動・光検出回路(図26中の150)の回路図を
示す。このデータ線駆動回路・光検出回路においては、
各々のデータ線電極200にそれぞれ発光表示駆動用の
スイッチング素子201と光検出用のスイッチング素子
202が接続されている。発光表示駆動用のスイッチン
グ素子201は、ソースが駆動用電源と接続され、ゲー
トがデータ線アドレス信号206の出力と接続されてお
り、画像データレジスタ(図26中の140)から送ら
れるデータ線アドレス信号206に応じてドレインに接
続されたデータ線電極200に駆動電流が送られる。光
検出用のスイッチング素子202はソースがデータ線電
極200に接続され、ドレインが検出信号増幅回路20
3を介して駆動用電源に接続されている。また、スイッ
チングはゲート電極に接続された光検出用信号205に
よって行われる。発光表示と光検出は、信号の干渉を避
けるために、以下のようにそれぞれ異なるタイミングで
行われる。
FIG. 27 is a circuit diagram of a data line driving / photodetecting circuit (150 in FIG. 26) used in the device of this embodiment. In this data line drive circuit / photo detection circuit,
A switching element 201 for driving a light emitting display and a switching element 202 for detecting light are connected to each data line electrode 200. In the switching element 201 for driving the light emitting display, the source is connected to the driving power source, the gate is connected to the output of the data line address signal 206, and the data line address sent from the image data register (140 in FIG. 26). A drive current is sent to the data line electrode 200 connected to the drain according to the signal 206. The switching element 202 for light detection has a source connected to the data line electrode 200 and a drain connected to the detection signal amplifier circuit 20.
It is connected to the driving power source through 3. Further, the switching is performed by the light detection signal 205 connected to the gate electrode. The light emission display and the light detection are performed at different timings as described below in order to avoid signal interference.

【0088】発光表示動作は、データ線アドレス信号2
06によって、スイッチング素子201をオン状態に
し、画像データレジスタ(140)に蓄積された1つの
走査線電極上の画素に対応するデータ線入力信号を送る
ことにより行われる。このとき、駆動用電源は正バイア
ス側出力の電源にスイッチングされている。光検出用の
スイッチング素子202はオフ状態であるので、光入力
信号増幅回路203およびレベルコンパレータ204へ
は電流は流れ込まない。図では走査線を省略している
が、走査線駆動回路(図26中の130)により選択さ
れた走査線Xi 上の画素(Xi ,Y 1〜m )の発光表示
が行われる。走査線をX1 からXn までシフトさせるこ
とによって全画面の発光表示が達成される。
The light emitting display operation is performed by the data line address signal 2
06, the switching element 201 is turned on, and the data line input signal corresponding to the pixel on one scanning line electrode stored in the image data register (140) is sent. At this time, the driving power supply is switched to the power supply of the positive bias side output. Since the switching element 202 for light detection is in the off state, no current flows into the optical input signal amplification circuit 203 and the level comparator 204. Although the scanning lines are omitted in the figure, the pixels (Xi, Y 1 to m) on the scanning line Xi selected by the scanning line driving circuit (130 in FIG. 26) are luminescently displayed. Full screen emissive display is achieved by shifting the scan lines from X1 to Xn.

【0089】光検出動作は発光表示動作の後に行われ
る。データ線アドレス信号206の出力が終わり、発光
表示駆動用のスイッチング素子201がオフになった
後、負バイアス側の電源にスイッチングすることによ
り、駆動電圧の反転が行われる。これとともに光検出用
信号205が入力され、光検出用のスイッチング素子2
02がオンとなり、検出動作が行われる。発光表示動作
と同様に走査線をX1 からXn までシフトさせることに
よって全画面で入力された光が検出される。該当する画
素に光入力があった場合には、検出された光電流がスイ
ッチング素子202を介して光入力信号増幅回路203
に送られる。増幅回路203で増幅された光入力信号は
レベルコンパレータ204で基準信号Vthと比較され、
光入力が確認された時点で光入力オン信号207を発す
る。光入力オン信号207は光検出出力回路(図26の
160)に送られてシリアル信号処理を施されて光検出
制御回路(図26の170)に送られる。光入力情報は
光検出制御回路(170)から駆動制御論理(図26の
120)へ送られて発光表示出力に用いられるととも
に、他の情報機器へ出力される。
The light detecting operation is performed after the light emitting display operation. After the output of the data line address signal 206 is finished and the switching element 201 for driving the light emitting display is turned off, the drive voltage is inverted by switching to the power source on the negative bias side. At the same time, the light detection signal 205 is input, and the light detection switching element 2 is input.
02 is turned on, and the detection operation is performed. By shifting the scanning line from X1 to Xn as in the case of the light emitting display operation, the light input on the entire screen is detected. When the corresponding pixel has an optical input, the detected photocurrent is transmitted through the switching element 202 to the optical input signal amplifier circuit 203.
Sent to. The optical input signal amplified by the amplifier circuit 203 is compared with the reference signal V th by the level comparator 204,
When the light input is confirmed, the light input ON signal 207 is emitted. The light input ON signal 207 is sent to the light detection output circuit (160 in FIG. 26), subjected to serial signal processing, and sent to the light detection control circuit (170 in FIG. 26). The light input information is sent from the light detection control circuit (170) to the drive control logic (120 in FIG. 26) to be used for light emission display output, and is also output to other information equipment.

【0090】なお、各列に対応して1つずつの電源回路
を設けても差し支えない。この場合、駆動用および光検
出用のスイッチング素子の部分を簡略化することができ
る。また、上述した動作タイミングについては、1フレ
ームの発光表示の後に全画面の光検出を行ってもよい
し、1つの走査線の発光表示の後に直ちにその走査線上
の光検出を行ってもよい。
It should be noted that one power supply circuit may be provided for each column. In this case, it is possible to simplify the portions of the switching elements for driving and for detecting light. Regarding the above-mentioned operation timing, the light detection of the entire screen may be performed after the light emission display of one frame, or the light detection on the scanning line may be performed immediately after the light emission display of one scanning line.

【0091】実施例10 実施例1で説明した素子は、光入力によって素子の発光
しきい値電圧が変化することによって発光表示動作がな
される。一方、光入力がないときには印加された電圧で
は電流が流れず発光が起こらない。この場合、光入力に
伴う発光に付随する素子への注入電流を検出することに
より光入力を検出できる。すなわち、このような素子で
は光検出動作と発光表示動作とを同時に行いながらマト
リックス駆動する。
Example 10 The element described in Example 1 performs a light emitting display operation by changing the light emission threshold voltage of the element due to light input. On the other hand, when there is no light input, no current flows at the applied voltage and light emission does not occur. In this case, the light input can be detected by detecting the injection current to the element accompanying the light emission accompanying the light input. That is, in such an element, matrix driving is performed while simultaneously performing the light detection operation and the light emission display operation.

【0092】図28に本実施例の素子に用いられるデー
タ線駆動・光検出回路(150)の回路図を示す。発光
表示駆動用のスイッチング素子211は、ドレインがデ
ータ線電極200に接続され、ソースが電流検出・増幅
回路212を介して駆動用電源に接続されている。スイ
ッチングはゲートに接続されているデータ線アドレス信
号215によって行われる。光入力に伴って発光表示が
なされると、素子への注入電流が電流検出・増幅回路2
12によって観測される。この注入電流値は電流検出・
増幅回路212で増幅された後、レベルコンパレータ2
13によって基準信号Vthと比較判断され、光入力オン
信号214としてパラレルに光検出出力回路(160)
に送られる。入力されたパラレル信号は光検出出力回路
(160)でシリアル信号処理が施され、光検出制御回
路(170)へ送られる。
FIG. 28 is a circuit diagram of the data line driving / photodetecting circuit (150) used in the device of this embodiment. In the switching element 211 for driving the light emitting display, the drain is connected to the data line electrode 200, and the source is connected to the driving power source via the current detection / amplification circuit 212. Switching is performed by the data line address signal 215 connected to the gate. When light-emission display is performed in accordance with light input, the current injected into the element is the current detection / amplification circuit 2
Observed by 12. This injection current value is
After being amplified by the amplifier circuit 212, the level comparator 2
13 is compared and judged with the reference signal V th, and the light detection output circuit (160) is provided in parallel as the light input ON signal 214.
Sent to. The input parallel signal is subjected to serial signal processing by the photodetection output circuit (160) and sent to the photodetection control circuit (170).

【0093】実施例11 実施例6で説明した多重入力機能を有する素子に対して
マトリックス駆動する例について説明する。図7に示す
素子は、光応答部がCu・TCNQ(第1の光応答
部)、テトラ(4−ピリジル)ポルフィリン(第2の光
応答部)およびペリレン−3,4,9,10−テトラカ
ルボン酸ジイミド誘導体(第3の光応答部)の3つの領
域からなっており、20ボルトの電圧を印加した状態
で、それぞれλ1 =510nm、λ2 =650nm、λ
3 =900nmの3種の光を照射して発光表示動作を行
うと、素子への注入電流が変化する。本実施例ではこの
現象を利用して照射光の種類を判別しつつマトリックス
駆動を行う。
Embodiment 11 An example of matrix driving of the element having the multiple input function described in Embodiment 6 will be described. In the device shown in FIG. 7, the photoresponsive part is Cu.TCNQ (first photoresponsive part), tetra (4-pyridyl) porphyrin (second photoresponsive part) and perylene-3,4,9,10-tetra. It is composed of three regions of a carboxylic acid diimide derivative (third photoresponsive portion), and λ 1 = 510 nm, λ 2 = 650 nm, and λ, respectively, with a voltage of 20 V being applied.
When the light emitting display operation is performed by irradiating three kinds of light of 3 = 900 nm, the injection current to the element changes. In this embodiment, matrix driving is performed while utilizing this phenomenon to determine the type of irradiation light.

【0094】図29に本実施例の素子に用いられるデー
タ線駆動・光検出回路(150)の回路図を示す。発光
表示駆動用のスイッチング素子221は、ドレインがデ
ータ線電極200に接続され、ソースが電流検出・増幅
回路222を介して駆動用電源に接続されている。スイ
ッチングはゲートに接続されているデータ線アドレス信
号225によって行われる。3種の光のうちいずれかの
光入力に伴って発光表示がなされると、照射光に対応す
る素子への注入電流が電流検出・増幅回路222によっ
て観測される。この注入電流値は電流検出・増幅回路2
22で増幅された後、A/Dコンバータ223によって
デジタルな光入力オン信号224としてパラレルに光検
出出力回路(160)に送られる。入力されたデジタル
なパラレル信号は光検出出力回路(160)でデジタル
なシリアル信号に変換され、光検出制御回路(170)
へ送られる。入力されたデジタル信号は光検出制御回路
(170)により素子に流れる電流量として判断され、
照射光の種類を判別することができる。このようにして
表示パネルにおける多重光入力および照射光の判断が可
能になる。
FIG. 29 is a circuit diagram of the data line driving / photodetecting circuit (150) used in the device of this embodiment. In the switching element 221 for driving the light emitting display, the drain is connected to the data line electrode 200, and the source is connected to the driving power source via the current detection / amplification circuit 222. Switching is performed by the data line address signal 225 connected to the gate. When light emission display is performed in response to an optical input of any one of the three types of light, the current detection / amplification circuit 222 observes the injection current to the element corresponding to the irradiation light. This injected current value is the current detection / amplification circuit 2
After being amplified by 22, the A / D converter 223 sends it as a digital optical input ON signal 224 to the photodetection output circuit (160) in parallel. The input digital parallel signal is converted into a digital serial signal by the photodetection output circuit (160), and the photodetection control circuit (170).
Sent to. The input digital signal is judged by the photodetection control circuit (170) as the amount of current flowing through the element,
It is possible to determine the type of irradiation light. In this way, it becomes possible to judge the multiple light input and the irradiation light in the display panel.

【0095】実施例12 光入力によって素子の光応答部の光伝導性が変化して低
抵抗状態になり、この低抵抗状態が保持される不揮発性
のメモリ機能を有する素子をマトリックス駆動する例に
ついて説明する。本実施例においては、光応答部が光照
射だけでなく電圧印加によっても電導度が低下するCu
・TCNQからなっている素子を用いている。
Example 12 An example of matrix-driving an element having a non-volatile memory function in which the photoconductivity of the photoresponsive portion of the element is changed to a low resistance state by optical input and the low resistance state is held. explain. In the present embodiment, the photoresponsive portion has Cu whose conductivity decreases not only by light irradiation but also by voltage application.
-The element which consists of TCNQ is used.

【0096】図30に本実施例の素子に用いられる走査
線駆動回路(図26中の130)の回路図を、図31に
データ線駆動・光検出回路(150)の回路図をそれぞ
れ示す。
FIG. 30 shows a circuit diagram of the scanning line drive circuit (130 in FIG. 26) used in the device of this embodiment, and FIG. 31 shows a circuit diagram of the data line drive / photodetection circuit (150).

【0097】まず、光入力動作について説明する。光入
力を行う場合は、全ての走査線スイッチング素子30
1、及び全てのデータ線スイッチング素子231をオン
状態にして、全画素に低い印加電圧(以下、V1 )を駆
動用電源から加える。V1 は光応答部が低抵抗状態のと
きに画素を発光駆動させることができる電圧であり、本
実施例では10ボルトとしている。この状態で光入力す
ると、対応する光応答部は低抵抗状態に相転移し、その
結果V1 の印加に伴う発光表示動作を発現する。発光表
示動作はV1 の電圧を印加を続ける限り持続する。ま
た、光入力に対するメモリ機能は不揮発性であるため
に、V1 印加を中止しても持続する。メモリ消去を行わ
ない限り、再度V1 を印加することによりメモリした情
報の発光表示を行うことができる。
First, the light input operation will be described. When performing optical input, all scanning line switching elements 30
1, and all the data line switching elements 231 are turned on, and a low applied voltage (hereinafter, V 1 ) is applied to all pixels from the driving power source. V 1 is a voltage that can drive the pixel to emit light when the photoresponsive portion is in a low resistance state, and is set to 10 V in this embodiment. When light is input in this state, the corresponding photoresponsive portion undergoes a phase transition to a low resistance state, and as a result, a light emitting display operation associated with the application of V 1 is exhibited. The light emitting display operation continues as long as the voltage V 1 is applied. Further, since the memory function for light input is non-volatile, it continues even if the application of V 1 is stopped. Unless the memory is erased, by applying V 1 again, the luminescence display of the stored information can be performed.

【0098】次に、光検出動作について説明する。光検
出は、印加電圧V1 で各画素のアドレッシングを行うこ
とによって実現できる。アドレッシングは走査線駆動回
路(図26中の130)からの走査線アドレス信号30
5により1つの走査線電極(Xi )を選択し、選択され
た走査線電極上の画素(Xi ,Y 1〜m )についてデー
タ線駆動回路(図26中の150)を用いて同時に電圧
を印加することにより行う。走査線電極300を次々に
選択することによって、表示パネルの全画素をアドレッ
シングすることができる。上述したように光入力された
画素では光応答部が低抵抗状態にあるため、発光ととも
に画素に電流が流れる。この電流は電流検出・増幅回路
232で検出され、レベルコンパレータ233でVth
比較される。この比較の結果、画素の発光が判断された
ら、光入力オン信号237がパラレルに光検出出力回路
(図26の160)へ出力される。パラレルに入力され
た光入力オン信号237は光検出出力回路(160)に
よりシリアル信号に変換されて光検出制御回路(図26
の170)へ送られる。これらの情報は光検出制御回路
(170)に蓄積され、画像表示に用いらるか、外部機
器に出力される。
Next, the light detection operation will be described. Photodetection can be realized by addressing each pixel with an applied voltage V 1 . Addressing is performed by the scanning line address signal 30 from the scanning line driving circuit (130 in FIG. 26).
5, one scanning line electrode (Xi) is selected, and a voltage is simultaneously applied to the pixels (Xi, Y 1 to m) on the selected scanning line electrode by using the data line driving circuit (150 in FIG. 26). By doing. By sequentially selecting the scanning line electrodes 300, it is possible to address all the pixels of the display panel. As described above, since the photo-responsive portion is in the low resistance state in the pixel which is optically input, a current flows through the pixel as light is emitted. This current is detected by the current detection / amplification circuit 232 and compared with V th by the level comparator 233. When the light emission of the pixel is determined as a result of this comparison, the light input ON signal 237 is output in parallel to the light detection output circuit (160 in FIG. 26). The optical input ON signal 237 input in parallel is converted into a serial signal by the photodetection output circuit (160), and the photodetection control circuit (FIG. 26).
170). These pieces of information are accumulated in the light detection control circuit (170) and used for image display or output to an external device.

【0099】次に、画像表示動作について説明する。素
子の光応答部は高抵抗状態にあるため、素子を発光させ
るためには、V1 に比べて大きな電圧(V2 )が必要と
なる。本実施例ではV2 を25ボルトに設定している。
画像表示は、パネルの画素に対してV2 を用いて、走査
電極駆動回路(130)により走査線電極(300)を
順次選択し、同時にデータ線駆動回路(150)により
選択された走査電極(300)上の画素に画像信号を加
えることにより行う。画像情報をいったん書き込むと、
発光表示状態にある画素の光応答部は低抵抗状態になる
ので、全画素にV1 を印加し続けることにより発光表示
動作を維持することができる。
Next, the image display operation will be described. Since the photo-responsive part of the element is in a high resistance state, a voltage (V 2 ) higher than V 1 is required to make the element emit light. In this embodiment, V 2 is set to 25 volts.
For image display, V 2 is used for the pixels of the panel to sequentially select the scan line electrodes (300) by the scan electrode drive circuit (130), and at the same time, select the scan electrode (300) by the data line drive circuit (150). 300) by adding an image signal to the upper pixel. Once you write the image information,
Since the photoresponsive portion of the pixel in the light emitting display state is in the low resistance state, the light emitting display operation can be maintained by continuously applying V 1 to all the pixels.

【0100】最後に、メモリ情報の消去動作について説
明する。消去動作には、素子の光応答部のメモリ効果を
消去できるエネルギーを印加すればよい。本実施例では
逆バイアス印加によってメモリ情報の消去を行う。具体
的には、走査線駆動回路(130)に消去用のスイッチ
ング素子302を設けて消去信号303を入力するよう
にし、データ線駆動・光検出回路(150)に消去用の
スイッチング素子234を設けて消去信号236を入力
するようにしている。これらのスイッチング素子の駆動
により、全ての画素に対して逆バイアスが印加されるこ
とになり、メモリされている画像情報は全て消去され
る。なお、消去のための信号として、消去効果のある光
を照射してもよい。
Finally, the erase operation of the memory information will be described. For the erase operation, energy capable of erasing the memory effect of the photoresponsive portion of the device may be applied. In this embodiment, memory information is erased by applying a reverse bias. Specifically, the scanning line driving circuit (130) is provided with an erasing switching element 302 to input an erasing signal 303, and the data line driving / photodetecting circuit (150) is provided with an erasing switching element 234. The erase signal 236 is input. By driving these switching elements, the reverse bias is applied to all the pixels, and all the image information stored in the memory is erased. Note that light having an erasing effect may be emitted as a signal for erasing.

【0101】以上のように、本実施例に係るEL素子は
メモリ機能を有するため、画像入力、光検出、メモリ消
去などの動作を任意のタイミングで行うことができ、動
画表示や様々な画像表示が可能になる。
As described above, since the EL element according to this embodiment has a memory function, operations such as image input, light detection, and memory erasing can be performed at arbitrary timings, and moving image display and various image display can be performed. Will be possible.

【0102】実施例13 多重入力が可能な光応答部を構成する複数の有機薄膜領
域に対応して電極を設けた素子をマトリックス駆動する
例について説明する。
Example 13 An example will be described in which an element provided with electrodes corresponding to a plurality of organic thin film regions forming a photoresponsive section capable of multiple inputs is matrix-driven.

【0103】図32に本実施例において用いられる素子
を示す。ガラス基板351上に、ITOからなる正孔注
入用電極(走査線電極)352がストライプ状にパター
ン化されて形成されている。この上に、トリフェニルア
ミン誘導体からなる正孔注入層353、Alq3 からな
る発光層354、オキサジアゾール誘導体からな電子注
入層355が順次形成されている。これらの3層の有機
薄膜により発光表示部356が形成されている。この発
光表示部356上に、カルバジン誘導体からなる赤色光
応答部357およびクマリン系色素(クマリン334;
2,3,5,6−1H,4H−テトラヒドロ−9−アセ
チルキノリジノ−<9,9a,l−gh>クマリン;ク
マリン521)からなる青色光応答部358が正孔注入
用電極(走査線電極)352に直交するようにストライ
プ状にパターン化されて形成され、これらの光応答部3
57、358に対応してそれぞれMg−Agからなる電
子注入用電極(データ線電極)359、360がパター
ン化されて形成されている。光(赤および青)はガラス
基板351側から入力され、発光表示部356は緑色1
色を発光できる。
FIG. 32 shows an element used in this embodiment. On a glass substrate 351, a hole injection electrode (scan line electrode) 352 made of ITO is formed in a stripe pattern. On this, a hole injection layer 353 made of a triphenylamine derivative, a light emitting layer 354 made of Alq 3 , and an electron injection layer 355 made of an oxadiazole derivative are sequentially formed. The light emitting display portion 356 is formed by these three layers of organic thin films. On the light emitting display portion 356, a red light responsive portion 357 made of a carbazine derivative and a coumarin type dye (coumarin 334;
2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-9-acetylquinolizino- <9,9a, l-gh>coumarin; coumarin 521) is used as a blue light responsive portion 358 for hole injection electrodes (scanning). (Line electrode) 352 and is patterned in a stripe shape so as to be orthogonal to the line electrode 352.
Electron injection electrodes (data line electrodes) 359 and 360 made of Mg-Ag are formed in a pattern corresponding to 57 and 358, respectively. Light (red and blue) is input from the glass substrate 351 side, and the light emitting display portion 356 is green 1
Can emit color.

【0104】図33にこの素子からなる表示パネル35
0の平面図を、図34にこの表示パネルの画素を拡大し
た平面図を示す。これらの図に示されるように、m本の
走査線電極352と、2n本のデータ線電極359、3
60により、m×n個の画素が形成されている。また、
奇数番目および偶数番目のデータ線電極359、360
が赤色および青色の光応答部357、358にそれぞれ
対応している。
FIG. 33 shows a display panel 35 including this element.
0 is a plan view and FIG. 34 is a plan view in which pixels of this display panel are enlarged. As shown in these figures, m scanning line electrodes 352 and 2n data line electrodes 359, 3 are provided.
By 60, m × n pixels are formed. Also,
Odd and even data line electrodes 359, 360
Correspond to the red and blue photoresponsive parts 357 and 358, respectively.

【0105】図35に本実施例の素子に用いられるデー
タ線駆動回路(図33中の380)の回路図を示す。こ
の場合、青色応答部も赤色応答部も独立した画素として
マトリックス駆動される。これまでの実施例の回路と同
様に発光表示駆動用のスイッチング素子401のスイッ
チングはデータ線アドレス信号405によって行われ
る。光入力に伴って発光表示がなされると、素子への注
入電流が電流検出・増幅回路402によって観測され
る。この注入電流値は電流検出・増幅回路402で増幅
された後、識別回路403により入力状態が判断され
る。識別回路403の出力は、2ビットのデジタル信号
となる。すなわち、全く入力がないとき00、赤色入力
のとき01、青色入力のとき10、同時入力のとき11
となる。この信号が色判別回路404へ送られ、さらに
これまでの実施例の回路と同様に後段の回路へ送られ
る。このようにして2色の多重入力による発光表示をマ
トリックス駆動することができる。なお、青色画素およ
び赤色画素からの信号をそのまま情報機器へ送り、情報
機器側でデータアドレスに応じてソフト的に青か赤かを
判別する方法を用いてもよい。
FIG. 35 shows a circuit diagram of a data line driving circuit (380 in FIG. 33) used in the element of this embodiment. In this case, both the blue response part and the red response part are matrix-driven as independent pixels. The switching of the switching element 401 for driving the light emitting display is performed by the data line address signal 405 similarly to the circuits of the above-described embodiments. When light emission display is performed in accordance with light input, the current detection / amplification circuit 402 observes the current injected into the element. The injected current value is amplified by the current detection / amplification circuit 402, and then the input state is determined by the identification circuit 403. The output of the identification circuit 403 becomes a 2-bit digital signal. That is, 00 when there is no input, 01 when red input, 10 when blue input, 11 when simultaneous input
Becomes This signal is sent to the color discriminating circuit 404, and further sent to the circuit in the subsequent stage in the same manner as the circuits of the above-described embodiments. In this way, it is possible to matrix-drive the light emitting display by the multiple input of two colors. Alternatively, a method may be used in which the signals from the blue pixel and the red pixel are sent to the information device as they are, and the information device side determines whether blue or red by software according to the data address.

【0106】なお、光応答部に用いられる2種の材料は
光吸収スペクトルの一部分が互いに重複する場合が多
い。例えば、青色光入力に対して青色光応答部だけでな
く赤色光応答部も応答してそれぞれの領域で緑色発光が
起こるが、赤色光入力に対しては赤色光応答部のみが応
答してその領域のみで緑色発光が起こるような例が考え
られる。この場合、赤色光入力を判断して、先に青色光
入力によって発光状態にあった領域を消去するような回
路構成を採用してもよい。すなわち、赤色光入力の後、
瞬時に画素に対する駆動がオフされ、表示が消去される
ようにする。このようにして、青色入力、赤色消去とい
う多重入力の特徴を生かした書き込み動作が可能にな
る。
In many cases, two kinds of materials used for the photoresponsive portion have their light absorption spectra partially overlap with each other. For example, in response to not only the blue light response section but also the red light response section to the blue light input, green light emission occurs in each region, but to the red light input, only the red light response section responds. An example is considered in which green light emission occurs only in the region. In this case, a circuit configuration may be adopted in which the red light input is judged and the region which was in the light emitting state by the blue light input is erased first. That is, after red light input,
The drive for the pixel is instantly turned off so that the display is erased. In this way, it is possible to perform the write operation that makes the best use of the characteristics of multiple input such as blue input and red erasure.

【0107】実施例14 実施例13と同様な素子構造を有するが、中間色の入力
光の判別が可能な素子の例について説明する。この素子
は、青色光応答部にクマリン系色素(クマリン153;
2,3,5,6−1H−テトラヒドロ−8−トリフルオ
ロメチルキノリジノ−<9,9a,l−gh>クマリ
ン)、赤色光応答部に銅フタロシアニンを用いた以外は
図32の素子と同様の構造を有する。図36にこれらの
材料の光吸収スペクトルを示す。この図のようにこれら
の色素は広い波長範囲にわたって吸収を持つ。
Example 14 An example of an element having the same element structure as that of Example 13 but capable of discriminating the intermediate color input light will be described. This device has a coumarin-based dye (coumarin 153;
2,3,5,6-1H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolizino- <9,9a, l-gh> coumarin), and the device of FIG. 32 except that copper phthalocyanine was used in the red light responsive part. It has a similar structure. FIG. 36 shows the light absorption spectra of these materials. As shown in this figure, these dyes have absorption over a wide wavelength range.

【0108】このような素子は、青色または赤色の光入
力に対しては、2つの光応答部のいずれか一方でしか光
励起電流が発生しない。しかし、中間色である緑色や黄
色の光に対しては、2つの光応答部とも同時に光励起電
流を生じる。
In such an element, a photoexcitation current is generated only in one of the two photoresponsive sections with respect to a blue or red light input. However, for green or yellow light that is an intermediate color, a photoexcitation current is simultaneously generated in both of the two photoresponsive parts.

【0109】図37に本実施例の素子に用いられる走査
線駆動回路(図33中の380)の回路図を示す。発光
表示駆動用のスイッチング素子411のスイッチングは
データ線アドレス信号415によって行われる。光入力
に伴って発光表示がなされると、素子への注入電流が電
流検出・増幅回路412によって観測され、増幅された
後、除算回路413へ送られる。この除算回路413で
は、赤色光応答部に対応する発光表示部の電流値が青色
光応答部に対応する発光表示部の電流値で除される。図
38に入力光の波長と除算回路413の出力との関係を
示す。この出力がA/Dコンバータ414へ送られ、さ
らに後段の回路へ送られる。このようにして可視域での
入力光をほぼ全て判別することができる。
FIG. 37 is a circuit diagram of the scanning line drive circuit (380 in FIG. 33) used in the device of this embodiment. The switching of the switching element 411 for driving the light emitting display is performed by the data line address signal 415. When light-emission display is performed in response to optical input, the current injected into the element is observed by the current detection / amplification circuit 412, amplified, and then sent to the division circuit 413. In this division circuit 413, the current value of the light emitting display section corresponding to the red light response section is divided by the current value of the light emitting display section corresponding to the blue light response section. FIG. 38 shows the relationship between the wavelength of input light and the output of the division circuit 413. This output is sent to the A / D converter 414 and further sent to the circuit in the subsequent stage. In this way, almost all the input light in the visible range can be discriminated.

【0110】さらに、光応答部の種類を増やすことによ
り、中間色の認識精度を向上させることができる。例え
ば、上記の構成に加えてさらに主に緑色に応答する光応
答部の領域を形成する。そして、図39に示すような走
査線駆動回路によりマトリックス駆動する。この場合、
RGB各色の光応答部に対応して3つの電流検出・増幅
回路422が設けられており、赤色光応答部側および青
色光応答部側に2つの色判別回路423が設けられてい
る。そして、緑色光応答部に対応する発光表示部で発生
した電流は電流検出・増幅回路422によって増幅され
た後、光入力信号分割回路426を経て2つの色判別回
路423へ送られる。このような回路構成では、図37
の場合に比べて光検出過程は多少複雑になるが、中間色
の認識精度が向上する。さらに、光応答部に用いる材料
の選択、光入力検出・増幅回路の増幅率の調整により、
中間色の選択能力を向上させることができる。
Further, by increasing the types of the photo-responsive parts, the accuracy of recognizing the intermediate color can be improved. For example, in addition to the above configuration, a region of the photo-responsive portion that mainly responds to green is formed. Then, matrix driving is performed by a scanning line driving circuit as shown in FIG. in this case,
Three current detection / amplification circuits 422 are provided corresponding to the light response parts of each color of RGB, and two color discrimination circuits 423 are provided on the red light response part side and the blue light response part side. Then, the current generated in the light emitting display section corresponding to the green light response section is amplified by the current detection / amplification circuit 422 and then sent to the two color discrimination circuits 423 via the optical input signal division circuit 426. In such a circuit configuration, as shown in FIG.
Although the light detection process is slightly more complicated than in the above case, the accuracy of recognizing the intermediate color is improved. Furthermore, by selecting the material used for the optical response section and adjusting the amplification factor of the optical input detection / amplification circuit,
The ability to select intermediate colors can be improved.

【0111】実施例15 RGBの3色の光に応答する3つの光応答部と、各光応
答部に対応してそれぞれRGBの色を発光する3つの発
光表示部を設けた素子をマトリックス駆動して多色入力
・多色表示を可能にする例について説明する。
Example 15 An element provided with three photo-responsive parts responding to the light of three colors of RGB and three light-emitting display parts respectively emitting the colors of RGB corresponding to the photo-responsive parts was matrix-driven. An example of enabling multicolor input / multicolor display will be described.

【0112】この素子の発光表示部は、ガラス基板上の
正孔注入用電極上に、トリフェニルアミン誘導体からな
る正孔注入層が3つの発光表示部に共通に設けられ、そ
の上にペリレン誘導体からなる赤色発光層、Alq3
らなる緑色発光層、およびペンタフェニルシクロペンタ
ジエンからなる青色発光層がパターン化されて設けら
れ、その上にオキサジアゾール誘導体からなる電子注入
層が3つの発光表示部に共通に設けられている。その上
に、クマリン系色素(クマリン334;2,3,5,6
−1H,4H−テトラヒドロ−9−アセチルキノリジノ
−<9,9a,l−gh>クマリン;クマリン521)
からなる青色光応答部、フェノキサジン誘導体からなる
緑色光応答部、およびカルバジン誘導体からなる赤色光
応答部がパターン化されて形成されている。さらに、そ
の上に各光応答部に対応してMg−Agからなる電子注
入用電極(データ線電極)がパターン化されて形成され
ている。光応答部と発光表示部とのパターンは、入力光
と発光光とが同一色となるように対応している。図40
に上記各色の光応答部に用いられる3種の材料の吸収ス
ペクトルを示す。
In the light emitting display section of this device, a hole injecting layer made of a triphenylamine derivative is provided in common to the three light emitting display sections on a hole injecting electrode on a glass substrate, and a perylene derivative is formed thereon. A red light emitting layer made of Alq 3 , a green light emitting layer made of Alq 3 , and a blue light emitting layer made of pentaphenylcyclopentadiene are patterned and provided, and an electron injection layer made of an oxadiazole derivative is provided on the three light emitting display portions. It is provided in common. On top of that, a coumarin-based pigment (coumarin 334; 2, 3, 5, 6
-1H, 4H-Tetrahydro-9-acetylquinolizino- <9,9a, l-gh>coumarin; coumarin 521)
And a green light responsive portion made of a phenoxazine derivative, and a red light responsive portion made of a carbazine derivative are patterned and formed. Further, an electron injection electrode (data line electrode) made of Mg-Ag corresponding to each photoresponsive portion is patterned and formed thereon. The patterns of the light response portion and the light emitting display portion correspond so that the input light and the emitted light have the same color. Figure 40
The absorption spectra of three kinds of materials used in the photoresponsive parts of the respective colors are shown in FIG.

【0113】このような素子を用いた表示パネルでは、
n本の走査線電極と3m本のデータ線電極とが設けられ
る。そして、データ線電極は例えば3i番目が赤色、3
i+1番目が緑色、3i+2番目が青色に対応してい
る。
In a display panel using such an element,
N scanning line electrodes and 3m data line electrodes are provided. In the data line electrode, for example, the 3i-th electrode is red and 3
The i + 1th corresponds to green and the 3i + 2th corresponds to blue.

【0114】図41に本実施例の素子に用いられるデー
タ線駆動回路の回路図を示す。この回路は、図35のも
のと比較して、緑色に対応するデータ線電極400Gに
対応する回路が追加されたものとみなすことができる。
この場合、青色、緑色、赤色の各光応答部とも独立した
画素としてマトリックス駆動される。発光表示駆動用の
スイッチング素子431のスイッチングはデータ線アド
レス信号435によって行われる。光入力に伴って発光
表示がなされると、素子への注入電流が電流検出・増幅
回路432によって観測され、増幅された後、クロック
信号436により駆動する色判別回路433へ送られ、
さらに光入力信号434が後段の回路へ送られる。この
場合、色判別回路433の前に色識別回路を設けて前処
理してもよい。なお、各画素からの信号をそのまま情報
機器へ送り、情報機器側でデータアドレスに応じてソフ
ト的に青、緑、赤を判別する方法を用いてもよい。
FIG. 41 shows a circuit diagram of a data line driving circuit used in the element of this embodiment. This circuit can be regarded as a circuit in which a circuit corresponding to the data line electrode 400G corresponding to green is added, as compared with the circuit in FIG.
In this case, each of the blue, green, and red photoresponsive sections is matrix-driven as an independent pixel. The switching of the switching element 431 for driving the light emitting display is performed by the data line address signal 435. When light-emission display is performed in response to light input, the current injected into the element is observed by the current detection / amplification circuit 432, amplified, and then sent to the color determination circuit 433 driven by the clock signal 436,
Further, the optical input signal 434 is sent to the circuit in the subsequent stage. In this case, a color discrimination circuit may be provided before the color discrimination circuit 433 to perform preprocessing. It is also possible to use a method in which the signal from each pixel is sent to the information device as it is, and blue, green, or red is software-determined according to the data address on the information device side.

【0115】このようにして、青色光入力に対して青色
発光、緑色光入力に対して緑色発光、赤色光入力に対し
て赤色発光が生じるほか、例えば3色同時に入力した場
合には白色発光となり、フルカラー表示に近い表示を実
現できる。なお、RGBの各入力を、書き込み、消去、
再変換機能などに割り振れば、多機能入力が可能な表示
素子となる。
In this way, blue light is emitted for blue light input, green light is emitted for green light input, and red light is emitted for red light input. For example, when three colors are simultaneously input, white light is emitted. A display close to full color display can be realized. In addition, each input of RGB is written, erased,
If it is assigned to the reconversion function or the like, it becomes a display element capable of multi-functional input.

【0116】ただし、有機色素は必ず吸収端より短波長
側においても吸収を持っている。上記の動作は、光応答
部に主吸収帯より短波長側の吸収強度が非常に小さいよ
うな理想的な色素を用いた場合に可能になるが、必ずし
もこの条件が満たされない場合がある。例えば、青色光
入力に対して全ての光応答部が応答し、緑色光入力に対
して緑色光応答部及び赤色光応答部が応答し、赤色光入
力に対して赤色光応答部のみが応答するような場合が考
えられる。このような素子を用いた場合に入力光色の判
断は、青色光応答部、緑色光応答部、赤色光応答部へ順
次走査し、出力が得られたタイミングによりなされる。
However, the organic dye always has absorption even on the short wavelength side from the absorption edge. The above operation is possible when an ideal dye having an absorption intensity on the shorter wavelength side than the main absorption band is extremely small is used in the photoresponsive portion, but this condition may not always be satisfied. For example, all light response parts respond to blue light input, green light response part and red light response part respond to green light input, and only red light response part responds to red light input. Such cases are possible. When such an element is used, the input light color is determined by the timing at which the blue light response portion, the green light response portion, and the red light response portion are sequentially scanned and the output is obtained.

【0117】また、この場合、青色光入力に対して白色
発光、緑色光入力に対してオレンジ色発光、赤色光入力
に対して赤色発光が生じるため、入力光の色と発光表示
の色とが1:1に対応しなくなる。これを避けるために
は、素子構造中に光フィルター機能を持たせればよい。
具体的には、光応答部に用いる材料自体に光学的バンド
パスフィルターとしての機能を付加することにより、入
力光の色と発光表示の色とを1:1に対応させることが
できる。
In this case, white light is emitted for blue light input, orange light is emitted for green light input, and red light is emitted for red light input. Therefore, the color of the input light and the color of the light emission display are different. It does not correspond to 1: 1. In order to avoid this, the device structure may have an optical filter function.
Specifically, by adding a function as an optical bandpass filter to the material itself used for the photoresponsive portion, the color of the input light and the color of the light emission display can be made to correspond to each other 1: 1.

【0118】[0118]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、光
による情報の入力が可能なだけでなく、スイッチング機
能、メモリ機能、多重入力機能などの多様な機能を有す
る光入力型有機EL素子を提供できる。
As described above in detail, according to the present invention, it is possible to input information by light and also to have various functions such as a switching function, a memory function and a multiple input function. An element can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例1における光入力型有機EL素
子の断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a light input type organic EL element in Example 1 of the present invention.

【図2】(a)〜(c)は図1の素子の動作を時系列的
に示す特性図。
2A to 2C are characteristic diagrams showing the operation of the device of FIG. 1 in time series.

【図3】図1の素子における光入力の検出回路系を示す
回路図。
3 is a circuit diagram showing an optical input detection circuit system in the device of FIG.

【図4】本発明の実施例2における光入力型有機EL素
子の断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a light input type organic EL element in Example 2 of the present invention.

【図5】本発明の実施例4における光入力型有機EL素
子の断面図。
FIG. 5 is a sectional view of a light input type organic EL element according to Example 4 of the present invention.

【図6】本発明の実施例5における光入力型有機EL素
子の断面図。
FIG. 6 is a sectional view of a light input type organic EL element according to Example 5 of the present invention.

【図7】本発明の実施例6における光入力型有機EL素
子の断面図。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a light input type organic EL element in Example 6 of the present invention.

【図8】図7の素子の平面図。FIG. 8 is a plan view of the device of FIG.

【図9】本発明の実施例7における光入力型有機EL素
子の断面図。
FIG. 9 is a cross-sectional view of a light input type organic EL element according to Example 7 of the present invention.

【図10】(a)および(b)は図9の素子に光が照射
され、かつ逆方向バイアスが印加されたときの動作を説
明するエネルギーバンド図。
10A and 10B are energy band diagrams for explaining the operation when light is applied to the device of FIG. 9 and a reverse bias is applied.

【図11】図9の素子に用いられた光入力を検出するた
めの駆動回路および検出回路を示す回路図。
11 is a circuit diagram showing a drive circuit and a detection circuit for detecting an optical input used in the device of FIG.

【図12】図9の素子における電圧−電流の関係を示す
特性図。
12 is a characteristic diagram showing a voltage-current relationship in the device of FIG.

【図13】(a)〜(c)は図9の素子の動作を時系列
的に示す特性図。
13A to 13C are characteristic diagrams showing the operation of the element of FIG. 9 in time series.

【図14】本発明に係る光入力型有機EL素子を構成す
る発光表示部を示す断面図。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a light emitting display section which constitutes an optical input type organic EL element according to the present invention.

【図15】(a),(b)は発光表示部の動作原理を説
明するエネルギーバンド図。
15A and 15B are energy band diagrams for explaining the operation principle of the light emitting display section.

【図16】本発明に係る光入力型有機EL素子を構成す
る光応答部に用いられる有機薄膜の一例の変位電流特性
を示す特性図。
FIG. 16 is a characteristic diagram showing a displacement current characteristic of an example of an organic thin film used in a photoresponsive section that constitutes an optical input type organic EL element according to the present invention.

【図17】本発明に係る光入力型有機EL素子を構成す
る光応答部に用いられる有機薄膜の他の例の吸収特性を
示すスペクトル図。
FIG. 17 is a spectrum diagram showing the absorption characteristics of another example of the organic thin film used in the photoresponsive section that constitutes the light-input organic EL element according to the present invention.

【図18】(a),(b)は本発明に係る光入力型有機
EL素子を構成する光応答部に用いられる非線形光学特
性を有する有機薄膜の一例の吸収特性を示すスペクトル
図。
FIGS. 18 (a) and 18 (b) are spectrum diagrams showing absorption characteristics of an example of an organic thin film having nonlinear optical characteristics used in a photo-responsive section which constitutes the light-input organic EL element according to the present invention.

【図19】本発明に係る光入力型有機EL素子の制御方
法を説明するための特性図。
FIG. 19 is a characteristic diagram for explaining a method of controlling the light input type organic EL element according to the present invention.

【図20】本発明に係る光入力型有機EL素子の制御系
を示す回路図。
FIG. 20 is a circuit diagram showing a control system of the light input type organic EL element according to the present invention.

【図21】本発明に係る光入力型有機EL素子を構成す
る光応答部に用いられる有機薄膜のさらに他の例の吸収
特性を示すスペクトル図。
FIG. 21 is a spectrum diagram showing absorption characteristics of still another example of the organic thin film used in the photoresponsive section that constitutes the light input type organic EL element according to the present invention.

【図22】本発明に係る光入力型有機EL素子を構成す
る光応答部に用いられる有機薄膜のさらに他の例の光透
過特性を示すスペクトル図。
FIG. 22 is a spectrum diagram showing the light transmission characteristics of still another example of the organic thin film used in the photoresponsive section which constitutes the light input type organic EL element according to the present invention.

【図23】本発明に係る光入力型有機EL素子を構成す
る、不純物をドープした有機薄膜からなる光応答部のエ
ネルギーバンド図。
FIG. 23 is an energy band diagram of a photo-responsive portion formed of an organic thin film doped with impurities, which constitutes the light-input organic EL element according to the present invention.

【図24】本発明に係る、不純物をドープした有機薄膜
からなる光応答部を有する光入力型有機EL素子のエネ
ルギーバンド図。
FIG. 24 is an energy band diagram of a light input type organic EL element having a photoresponsive portion formed of an organic thin film doped with impurities according to the present invention.

【図25】本発明に係るマトリックス構成の電極を有す
る光入力型有機EL素子の斜視図。
FIG. 25 is a perspective view of a light input type organic EL element having electrodes of a matrix structure according to the present invention.

【図26】本発明に係る光入力型有機EL素子をマトリ
ックス駆動するための基本的な制御回路の回路図。
FIG. 26 is a circuit diagram of a basic control circuit for matrix-driving the light input type organic EL element according to the present invention.

【図27】本発明の実施例9における光入力型有機EL
素子に用いられるデータ線駆動・光検出回路の回路図。
FIG. 27 is a light input type organic EL device according to Example 9 of the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram of a data line driving / photodetection circuit used for an element.

【図28】本発明の実施例10における光入力型有機E
L素子に用いられるデータ線駆動・光検出回路の回路
図。
FIG. 28 is an optical input type organic E according to Example 10 of the invention.
FIG. 3 is a circuit diagram of a data line driving / photodetection circuit used for an L element.

【図29】本発明の実施例11における光入力型有機E
L素子に用いられるデータ線駆動・光検出回路の回路
図。
FIG. 29 is a diagram showing a light input type organic E in Example 11 of the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram of a data line driving / photodetection circuit used for an L element.

【図30】本発明の実施例12における光入力型有機E
L素子に用いられる走査線駆動回路の回路図。
FIG. 30 is an optical input type organic E according to Example 12 of the invention.
The circuit diagram of the scanning line drive circuit used for L element.

【図31】本発明の実施例12における光入力型有機E
L素子に用いられるデータ線駆動・光検出回路の回路
図。
FIG. 31 is a light-input type organic E according to Example 12 of the invention.
FIG. 3 is a circuit diagram of a data line driving / photodetection circuit used for an L element.

【図32】本発明の実施例13における光入力型有機E
L素子の斜視図。
FIG. 32 is an optical input type organic E in Example 13 of the present invention.
The perspective view of L element.

【図33】本発明の実施例13における光入力型有機E
L素子からなる表示パネルの平面図。
FIG. 33 is a light-input type organic E in Example 13 of the present invention
The top view of the display panel which consists of L elements.

【図34】本発明の実施例13における光入力型有機E
L素子からなる表示パネルの画素を拡大した平面図を示
す。
FIG. 34 is a light-input type organic E in Example 13 of the present invention
FIG. 2 is a plan view showing an enlarged pixel of a display panel including an L element.

【図35】本発明の実施例13における光入力型有機E
L素子に用いられるデータ線駆動・光検出回路の回路
図。
FIG. 35 is a light-input type organic E in Example 13 of the present invention
FIG. 3 is a circuit diagram of a data line driving / photodetection circuit used for an L element.

【図36】本発明の実施例14における光入力型有機E
L素子の光応答部に用いられる材料の光吸収スペクト
ル。
FIG. 36 is a light-input type organic E in Example 14 of the present invention
The light absorption spectrum of the material used for the light response part of L element.

【図37】本発明の実施例14における光入力型有機E
L素子に用いられるデータ線駆動・光検出回路の回路
図。
FIG. 37 is a light-input type organic E in Example 14 of the present invention
FIG. 3 is a circuit diagram of a data line driving / photodetection circuit used for an L element.

【図38】本発明の実施例14における光入力型有機E
L素子に用いられるデータ線駆動・光検出回路において
得られる入力光の波長と除算回路の出力との関係を示す
図。
FIG. 38 is a light-input type organic E in Example 14 of the present invention
The figure which shows the relationship between the wavelength of the input light obtained in the data line drive / photodetection circuit used for L element, and the output of a division circuit.

【図39】本発明の実施例14における光入力型有機E
L素子に用いられる他のデータ線駆動・光検出回路の回
路図。
FIG. 39 is a light-input type organic E in Example 14 of the present invention
FIG. 6 is a circuit diagram of another data line driving / photodetection circuit used for an L element.

【図40】本発明の実施例15における光入力型有機E
L素子の光応答部に用いられる材料の光吸収スペクト
ル。
FIG. 40 is a light-input type organic E in Example 15 of the present invention
The light absorption spectrum of the material used for the light response part of L element.

【図41】本発明の実施例15における光入力型有機E
L素子に用いられる他のデータ線駆動・光検出回路の回
路図。
FIG. 41 is a light-input type organic E in Example 15 of the present invention
FIG. 6 is a circuit diagram of another data line driving / photodetection circuit used for an L element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…ポリエステル樹脂基板、12…正孔注入用電極、
13…光応答部、14…正孔注入層、15…発光層、1
6…電子注入層、17…発光表示部、18…電子注入用
電極、19…保護膜、20…駆動部、21…駆動回路、
22…検出回路、31…ガラス基板、32…正孔注入用
電極、33…正孔注入層、34…発光層、35…電子注
入層、36…発光表示部、37…光応答部、38…電子
注入用電極、41…ポリカーボネートフィルム基板、4
2…正孔注入用電極、43…正孔注入層、44…発光
層、45…電子注入層、46…発光表示部、47…下層
光応答部、48…電子注入用電極、49…上層光応答
部、51…ガラス基板、52…正孔注入用電極、53…
正孔注入層、54…発光層、55…発光表示部、56…
下層光応答部、57…電子注入用電極、58…上層光応
答部、61…ガラス基板、62…正孔注入用電極、63
…正孔注入層、64…発光層、65…電子注入層、66
…発光表示部、67…第1の光応答部、68…第2の光
応答部、69…第3の光応答部、70…電子注入用電
極、71…ポリエステル樹脂基板、72…正孔注入用電
極、73…光応答部を兼ねる正孔注入層、74…正孔注
入層、75…発光層、76…電子注入層、77…発光表
示部、78…電子注入用電極、79…保護膜、101…
発振器、102…駆動パルス増幅器、103…ゲイン可
変差動増幅器、104…インバーター、105…検出パ
ルス増幅器、106…駆動増幅器、107…ダイオード
回路、108…電流増幅器、109…レベルコンパレー
タ、110…表示パネル、111…基板、112…走査
線電極、113…光応答部、114…正孔注入層、11
5…発光層、116…電子注入層、117…発光表示
部、118…データ線電極、119…画素、120…駆
動制御論理回路、130…走査線駆動回路、140…画
像データレジスタ、150…データ線駆動・光検出回
路、160…光検出出力回路、170…光検出制御回
路、200…データ線電極、201…発光表示駆動用の
スイッチング素子、202…光検出用のスイッチング素
子、203…検出信号増幅回路、204…レベルコンパ
レータ、205…光検出用信号、206…データ線アド
レス信号、207…光入力オン信号、211…発光表示
駆動用のスイッチング素子、212…電流検出・増幅回
路、213…レベルコンパレータ、214…光入力オン
信号、215…データ線アドレス信号、221…スイッ
チング素子、222…電流検出・増幅回路、223…A
/Dコンバータ、224…光入力オン信号、225…デ
ータ線アドレス信号、231…データ線スイッチング素
子、232…電流検出・増幅回路、233…レベルコン
パレータ、234…消去用のスイッチング素子、235
…データ線アドレス信号、236…消去信号、237…
光入力オン信号、300…走査線電極、301…走査線
スイッチング素子、302…消去用のスイッチング素
子、303…消去信号、304…消去電源、305…走
査線アドレス信号、351…ガラス基板、352…正孔
注入用電極(走査線電極)、353…正孔注入層、35
4…発光層、355…電子注入層、356…発光表示
部、357…赤色光応答部、358…青色光応答部、3
59、360…電子注入用電極(データ線電極)、40
0R、400B、400G…データ線電極、401…発
光表示駆動用のスイッチング素子、402…電流検出・
増幅回路、403…識別回路、404…色判別回路、4
11…発光表示駆動用のスイッチング素子、412…電
流検出・増幅回路、413…除算回路、414…A/D
コンバータ、415…データ線アドレス信号、421…
発光表示駆動用のスイッチング素子、422…電流検出
・増幅回路、423…色判別回路、424…光検出出力
回路、425…データ線アドレス信号、426…光入力
信号分割回路、431…発光表示駆動用のスイッチング
素子、432…電流検出・増幅回路、433…色判別回
路、434…光入力信号、434…データ線アドレス信
号、436…クロック信号。
11 ... Polyester resin substrate, 12 ... Hole injection electrode,
Reference numeral 13 ... Photoresponsive portion, 14 ... Hole injection layer, 15 ... Light emitting layer, 1
6 ... Electron injection layer, 17 ... Light emitting display section, 18 ... Electron injection electrode, 19 ... Protective film, 20 ... Driving section, 21 ... Driving circuit,
22 ... Detection circuit, 31 ... Glass substrate, 32 ... Hole injecting electrode, 33 ... Hole injecting layer, 34 ... Emitting layer, 35 ... Electron injecting layer, 36 ... Emitting display section, 37 ... Photoresponsive section, 38 ... Electron injection electrode, 41 ... Polycarbonate film substrate, 4
2 ... Hole injecting electrode, 43 ... Hole injecting layer, 44 ... Emitting layer, 45 ... Electron injecting layer, 46 ... Emitting display section, 47 ... Lower layer photoresponsive section, 48 ... Electron injecting electrode, 49 ... Upper layer light Response part, 51 ... Glass substrate, 52 ... Hole injection electrode, 53 ...
Hole injection layer, 54 ... Emitting layer, 55 ... Emitting display section, 56 ...
Lower layer photoresponsive part, 57 ... Electron injection electrode, 58 ... Upper layer photoresponsive part, 61 ... Glass substrate, 62 ... Hole injection electrode, 63
... hole injection layer, 64 ... light emitting layer, 65 ... electron injection layer, 66
... Light emitting display section, 67 ... First photoresponsive section, 68 ... Second photoresponsive section, 69 ... Third photoresponsive section, 70 ... Electron injection electrode, 71 ... Polyester resin substrate, 72 ... Hole injection Electrode, 73 ... Hole injection layer also functioning as a photoresponsive section, 74 ... Hole injection layer, 75 ... Emission layer, 76 ... Electron injection layer, 77 ... Emitting display section, 78 ... Electron injection electrode, 79 ... Protective film , 101 ...
Oscillator, 102 ... Drive pulse amplifier, 103 ... Gain variable differential amplifier, 104 ... Inverter, 105 ... Detection pulse amplifier, 106 ... Drive amplifier, 107 ... Diode circuit, 108 ... Current amplifier, 109 ... Level comparator, 110 ... Display panel , 111 ... Substrate, 112 ... Scan line electrode, 113 ... Photoresponsive portion, 114 ... Hole injection layer, 11
5 ... Emitting layer, 116 ... Electron injection layer, 117 ... Emitting display section, 118 ... Data line electrode, 119 ... Pixel, 120 ... Drive control logic circuit, 130 ... Scan line drive circuit, 140 ... Image data register, 150 ... Data Line drive / photodetection circuit, 160 ... Photodetection output circuit, 170 ... Photodetection control circuit, 200 ... Data line electrode, 201 ... Switching element for driving light emission display, 202 ... Switching element for photodetection, 203 ... Detection signal Amplification circuit, 204 ... Level comparator, 205 ... Photodetection signal, 206 ... Data line address signal, 207 ... Optical input ON signal, 211 ... Switching element for driving light emission display, 212 ... Current detection / amplification circuit, 213 ... Level Comparator, 214 ... Optical input ON signal, 215 ... Data line address signal, 221 ... Switching element, 222 ... Electricity Detection and amplification circuit, 223 ... A
/ D converter, 224 ... Optical input ON signal, 225 ... Data line address signal, 231 ... Data line switching element, 232 ... Current detection / amplification circuit, 233 ... Level comparator, 234 ... Erase switching element, 235
... Data line address signal, 236 ... Erase signal, 237 ...
Optical input ON signal, 300 ... Scan line electrode, 301 ... Scan line switching element, 302 ... Erase switching element, 303 ... Erase signal, 304 ... Erase power supply, 305 ... Scan line address signal, 351 ... Glass substrate, 352 ... Hole injection electrode (scan line electrode), 353 ... Hole injection layer, 35
4 ... Light emitting layer, 355 ... Electron injection layer, 356 ... Light emitting display section, 357 ... Red light responsive section, 358 ... Blue light responsive section, 3
59, 360 ... Electron injection electrode (data line electrode), 40
0R, 400B, 400G ... Data line electrode, 401 ... Switching element for driving light emitting display, 402 ... Current detection
Amplifier circuit, 403 ... Identification circuit, 404 ... Color discrimination circuit, 4
11 ... Switching element for driving light emitting display, 412 ... Current detection / amplification circuit, 413 ... Division circuit, 414 ... A / D
Converter, 415 ... Data line address signal, 421 ...
Switching elements for driving light emitting display, 422 ... Current detecting / amplifying circuit, 423 ... Color determining circuit, 424 ... Photodetection output circuit, 425 ... Data line address signal, 426 ... Optical input signal dividing circuit, 431 ... For driving light emitting display , 432 ... Current detection / amplification circuit, 433 ... Color discrimination circuit, 434 ... Optical input signal, 434 ... Data line address signal, 436 ... Clock signal.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 明 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Akira Miura 1 Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Incorporated Toshiba Research and Development Center

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 発光表示部及び光応答部を有する有機薄
膜と、該有機薄膜に電圧を印加する1対の電極とを具備
し、光入力された情報に応じて発光表示が行われること
を特徴とする光入力型有機EL素子。
1. An organic thin film having a light emitting display portion and a photoresponsive portion, and a pair of electrodes for applying a voltage to the organic thin film, wherein light emitting display is performed according to information optically input. Characteristic light input type organic EL device.
【請求項2】 発光表示部及び光応答部が互いに異なる
有機薄膜で構成されていることを特徴とする請求項1記
載の光入力型有機EL素子。
2. The light input type organic EL device according to claim 1, wherein the light emitting display section and the light response section are composed of different organic thin films.
【請求項3】 光応答部を構成する有機薄膜がスイッチ
ング応答を示すことを特徴とする請求項1記載の光入力
型有機EL素子。
3. The light-input organic EL device according to claim 1, wherein the organic thin film forming the photoresponsive portion exhibits a switching response.
【請求項4】 光応答部を構成する有機薄膜が異なる複
数の波長の光によって可逆的に変化し、メモリ機能を有
することを特徴とする請求項1記載の光入力型有機EL
素子。
4. The light-input organic EL device according to claim 1, wherein the organic thin film forming the light-responsive portion is reversibly changed by light having a plurality of different wavelengths and has a memory function.
element.
【請求項5】 光応答部を構成する有機薄膜が互いに異
なる波長の光に対し応答を示す領域を備え、これらの互
いに異なる波長を有する複数の光による多重入力機能を
有することを特徴とする請求項1記載の光入力型有機E
L素子。
5. The organic thin film forming the photo-responsive section is provided with regions showing responses to lights having different wavelengths, and has a multiple input function by a plurality of lights having these different wavelengths. Item 1. Optical input type organic E according to item 1.
L element.
【請求項6】 発光表示部を構成する有機薄膜の少なく
とも一部が光応答部を構成し、順方向バイアスで発光表
示、逆方向バイアスで入力された光の検出が行われるこ
とを特徴とする請求項1記載の光入力型有機EL素子。
6. An organic thin film forming a light emitting display section comprises at least a part of a light response section, and light emission display is performed with a forward bias, and light input with a reverse bias is detected. The light input type organic EL device according to claim 1.
【請求項7】 前記光応答部に不純物がドープされてい
ることを特徴とする請求項1記載の光入力型有機EL素
子。
7. The light input type organic EL device according to claim 1, wherein the photoresponsive portion is doped with impurities.
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