JPH07165725A - ピラゾール誘導体及び除草剤 - Google Patents
ピラゾール誘導体及び除草剤Info
- Publication number
- JPH07165725A JPH07165725A JP31464593A JP31464593A JPH07165725A JP H07165725 A JPH07165725 A JP H07165725A JP 31464593 A JP31464593 A JP 31464593A JP 31464593 A JP31464593 A JP 31464593A JP H07165725 A JPH07165725 A JP H07165725A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 式(1):
【化1】
で表されるピラゾール誘導体及び除草剤。例えば、R11
及びR12はエチル基、R 2 及びR3 は水素原子、R4 は
2,6-ジメチルフェニル基を表す。 【効果】 本発明化合物は、低薬量で水田及び畑の強害
雑草に対し除草活性を示す。
及びR12はエチル基、R 2 及びR3 は水素原子、R4 は
2,6-ジメチルフェニル基を表す。 【効果】 本発明化合物は、低薬量で水田及び畑の強害
雑草に対し除草活性を示す。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なピラゾール誘導体
及び該誘導体を有効成分として含有する除草剤に関する
ものである。
及び該誘導体を有効成分として含有する除草剤に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術及び課題】従来、長年にわたる除草剤の研
究開発の中から多種多様な薬剤が実用化され、これらの
除草剤は雑草防除作業の省力化や農園芸作物の生産性向
上に寄与してきた。今日においても、より卓越した除草
特性を有する新規薬剤の開発が要望され、特に農園芸用
除草剤としては栽培作物に薬害を及ぼすことなく対象雑
草のみを選択的にかつ低薬量で防除し得ることが望まし
いが、既存の薬剤は必ずしも好適な除草特性を有するも
のではない。
究開発の中から多種多様な薬剤が実用化され、これらの
除草剤は雑草防除作業の省力化や農園芸作物の生産性向
上に寄与してきた。今日においても、より卓越した除草
特性を有する新規薬剤の開発が要望され、特に農園芸用
除草剤としては栽培作物に薬害を及ぼすことなく対象雑
草のみを選択的にかつ低薬量で防除し得ることが望まし
いが、既存の薬剤は必ずしも好適な除草特性を有するも
のではない。
【0003】一方、トリアゾールスルホンアミド系化合
物のある特定の化合物に除草活性があることが知られて
おり、例えば、特開昭63−22083号公報に記載さ
れている。また、N−カルバモイルトリアゾール系化合
物のある特定の化合物に除草活性があることが知られて
おり、例えば、、西ドイツ国特許第2132618号、
米国特許第4280831号、特開昭59−39880
号公報、特開平2−1481号公報に記載されている。
またスルホニルピラゾール系化合物が特開平1−268
685号公報、特開平5−112532号公報に記載さ
れている。
物のある特定の化合物に除草活性があることが知られて
おり、例えば、特開昭63−22083号公報に記載さ
れている。また、N−カルバモイルトリアゾール系化合
物のある特定の化合物に除草活性があることが知られて
おり、例えば、、西ドイツ国特許第2132618号、
米国特許第4280831号、特開昭59−39880
号公報、特開平2−1481号公報に記載されている。
またスルホニルピラゾール系化合物が特開平1−268
685号公報、特開平5−112532号公報に記載さ
れている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、式(1):
【0005】
【化2】
【0006】〔式中、R11及びR12はそれぞれ独立して
水素原子、aによって置換されてもよいC1-6 アルキル
基(aはハロゲン原子、C1-6 アルコキシ基、C2-6 ア
ルコキシカルボニル基、C2-6 アルキルカルボニルオキ
シ基、C2-6 アルキルカルボニルアミノ基、同一もしく
は異なるC1-6 アルキル基によって1ないし2置換され
たアミノ基、C2-6 アルキルカルボニル基、シアノ基及
びニトロ基から1又は2以上選ばれる置換基を表
す。)、aによって置換されてもよいC3-8 シクロアル
キル基、aによって置換されてもよいC2-7 アルケニル
基、aによって置換されてもよいC2-7 アルキニル基、
aによって置換されてもよいC1-6 アルキルスルホニル
基、ジ(aによって置換されてもよいC1-6 アルキル)
アミノカルボニル基又はジ(aによって置換されてもよ
いC1-6 アルキル)アミノスルホニル基を表し、R2 及
びR3 はそれぞれ独立して水素原子、aによって置換さ
れてもよいC1- 6 アルキル基、aによって置換されても
よいC2-7 アルケニル基、aによって置換されてもよい
C2-7 アルキニル基、aによって置換されてもよいC
1-6 アルキルチオ基、aによって置換されてもよいC
1-6 アルキルスルフィニル基、aによって置換されても
よいC1-6 アルキルスルホニル基、置換されてもよいア
ミノカルボニル基(置換基はC1-6 アルコキシ基、C
2-6 アルコキシカルボニル基、C 2-6 アルキルカルボニ
ルオキシ基、C2-6 アルキルカルボニルアミノ基、同一
もしくは異なるC1-6 アルキル基によって1ないし2置
換されたアミノ基、C2-6アルキルカルボニル基及びシ
アノ基から選ばれる)、aによって置換されてもよいC
1-6 アルキルアミノカルボニル基、ジ(aによって置換
されてもよいC1-6アルキル)アミノカルボニル基、a
によって置換されてもよいC1-6 アルキルアミノスルホ
ニル基、ジ(aによって置換されてもよいC1-6 アルキ
ル)アミノスルホニル基、ハロゲン原子、aによって置
換されてもよいC1-6 アルコキシ基、aによって置換さ
れてもよいC2-6 アルコキシカルボニル基、aによって
置換されてもよいC2-6 アルキルカルボニルオキシ基、
aによって置換されてもよいC 2-6 アルキルカルボニル
アミノ基、同一もしくは異なるC1-6 アルキル基によっ
て1ないし2置換されたアミノ基、aによって置換され
てもよいC2-6 アルキルカルボニル基、−CR5 =NO
−R6 基(R5 及びR6 はそれぞれ独立してC1- 6 アル
キル基もしくはC1-6 アルコキシ基を表す。)、ベンゾ
イル基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニ
トロ基、bによって置換されてもよいフェニル基(bは
C1-6 アルキル基、C1-6 ハロゲノアルキル基、C2-6
アルケニル基、C2-6 ハロゲノアルケニル基、C2-6 ア
ルキニル基、フェニル基、ハロゲン原子、C1-6 アルコ
キシ基、C1-6 ハロゲノアルコキシ基、C2-6 アルケニ
ルオキシ基、C2-6 アルキニルオキシ基、フェノキシ
基、C1-6 アルキルチオ基、C 1-6 ハロゲノアルキルチ
オ基、C1-6 アルキルスルホニル基、C1-6 ハロゲノア
ルキルスルホニル基、C2-8 アルコキシアルキル基、C
2-6 アルコキシカルボニル基、C2-6 アルキルカルボニ
ルオキシ基、C2-6 アルキルカルボニルアミノ基、同一
もしくは異なるC1-6 アルキル基によって1ないし2置
換されたアミノ基、C2-6 アルキルカルボニル基、ベン
ゾイル基、シアノ基及びニトロ基から1又は2以上選ば
れる置換基を表す。)、bによっ置換されてもよいフェ
ノキシ基、bによって置換されてもよい芳香族複素環基
(芳香族複素環基はチエニル基、フリル基、ピラゾリル
基、イミダゾリル基、1,2,4−トリアゾリル基、チ
アゾリル基、イソチアゾリル基、1,3,4−チアジア
ゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、1,
3,4−オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル
基、ピリダジル基、ピラジル基、S−トリアジル基又は
1,2,4−トリアジル基を表す。)又はbによってフ
ェニル基が置換されてもよいアラルキル基(アラルキル
基はフェニル基によって置換されたC1-6 アルキル基を
表す。)を表し、R4 はaによって置換されてもよいC
1-6 アルキル基、aによって置換されてもよいC2-7 ア
ルケニル基、aによって置換されてもよいC2-7 アルキ
ニル基、bによって置換されてもよいアリール基(アリ
ール基はフェニル基又はナフチル基を表す。)、bによ
って置換されてもよい芳香族複素環基(芳香族複素環基
はチエニル基、フリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル
基、1,2,4−トリアゾリル基、チアゾリル基、イソ
チアゾリル基、1,3,4−チアジアゾリル基、オキサ
ゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、
ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピラジル
基、S−トリアジル基又は1,2,4−トリアジル基を
表す。)又はbによってフェニル基が置換されてもよい
アラルキル基(アラルキル基はフェニル基によって置換
されたC1-6 アルキル基を表す。)を表す。〕で表され
るピラゾール誘導体又はその塩類(以下、本発明化合物
という)、及びそれらの1又は2以上を含有することを
特徴とする除草剤に関するものである。
水素原子、aによって置換されてもよいC1-6 アルキル
基(aはハロゲン原子、C1-6 アルコキシ基、C2-6 ア
ルコキシカルボニル基、C2-6 アルキルカルボニルオキ
シ基、C2-6 アルキルカルボニルアミノ基、同一もしく
は異なるC1-6 アルキル基によって1ないし2置換され
たアミノ基、C2-6 アルキルカルボニル基、シアノ基及
びニトロ基から1又は2以上選ばれる置換基を表
す。)、aによって置換されてもよいC3-8 シクロアル
キル基、aによって置換されてもよいC2-7 アルケニル
基、aによって置換されてもよいC2-7 アルキニル基、
aによって置換されてもよいC1-6 アルキルスルホニル
基、ジ(aによって置換されてもよいC1-6 アルキル)
アミノカルボニル基又はジ(aによって置換されてもよ
いC1-6 アルキル)アミノスルホニル基を表し、R2 及
びR3 はそれぞれ独立して水素原子、aによって置換さ
れてもよいC1- 6 アルキル基、aによって置換されても
よいC2-7 アルケニル基、aによって置換されてもよい
C2-7 アルキニル基、aによって置換されてもよいC
1-6 アルキルチオ基、aによって置換されてもよいC
1-6 アルキルスルフィニル基、aによって置換されても
よいC1-6 アルキルスルホニル基、置換されてもよいア
ミノカルボニル基(置換基はC1-6 アルコキシ基、C
2-6 アルコキシカルボニル基、C 2-6 アルキルカルボニ
ルオキシ基、C2-6 アルキルカルボニルアミノ基、同一
もしくは異なるC1-6 アルキル基によって1ないし2置
換されたアミノ基、C2-6アルキルカルボニル基及びシ
アノ基から選ばれる)、aによって置換されてもよいC
1-6 アルキルアミノカルボニル基、ジ(aによって置換
されてもよいC1-6アルキル)アミノカルボニル基、a
によって置換されてもよいC1-6 アルキルアミノスルホ
ニル基、ジ(aによって置換されてもよいC1-6 アルキ
ル)アミノスルホニル基、ハロゲン原子、aによって置
換されてもよいC1-6 アルコキシ基、aによって置換さ
れてもよいC2-6 アルコキシカルボニル基、aによって
置換されてもよいC2-6 アルキルカルボニルオキシ基、
aによって置換されてもよいC 2-6 アルキルカルボニル
アミノ基、同一もしくは異なるC1-6 アルキル基によっ
て1ないし2置換されたアミノ基、aによって置換され
てもよいC2-6 アルキルカルボニル基、−CR5 =NO
−R6 基(R5 及びR6 はそれぞれ独立してC1- 6 アル
キル基もしくはC1-6 アルコキシ基を表す。)、ベンゾ
イル基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニ
トロ基、bによって置換されてもよいフェニル基(bは
C1-6 アルキル基、C1-6 ハロゲノアルキル基、C2-6
アルケニル基、C2-6 ハロゲノアルケニル基、C2-6 ア
ルキニル基、フェニル基、ハロゲン原子、C1-6 アルコ
キシ基、C1-6 ハロゲノアルコキシ基、C2-6 アルケニ
ルオキシ基、C2-6 アルキニルオキシ基、フェノキシ
基、C1-6 アルキルチオ基、C 1-6 ハロゲノアルキルチ
オ基、C1-6 アルキルスルホニル基、C1-6 ハロゲノア
ルキルスルホニル基、C2-8 アルコキシアルキル基、C
2-6 アルコキシカルボニル基、C2-6 アルキルカルボニ
ルオキシ基、C2-6 アルキルカルボニルアミノ基、同一
もしくは異なるC1-6 アルキル基によって1ないし2置
換されたアミノ基、C2-6 アルキルカルボニル基、ベン
ゾイル基、シアノ基及びニトロ基から1又は2以上選ば
れる置換基を表す。)、bによっ置換されてもよいフェ
ノキシ基、bによって置換されてもよい芳香族複素環基
(芳香族複素環基はチエニル基、フリル基、ピラゾリル
基、イミダゾリル基、1,2,4−トリアゾリル基、チ
アゾリル基、イソチアゾリル基、1,3,4−チアジア
ゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、1,
3,4−オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル
基、ピリダジル基、ピラジル基、S−トリアジル基又は
1,2,4−トリアジル基を表す。)又はbによってフ
ェニル基が置換されてもよいアラルキル基(アラルキル
基はフェニル基によって置換されたC1-6 アルキル基を
表す。)を表し、R4 はaによって置換されてもよいC
1-6 アルキル基、aによって置換されてもよいC2-7 ア
ルケニル基、aによって置換されてもよいC2-7 アルキ
ニル基、bによって置換されてもよいアリール基(アリ
ール基はフェニル基又はナフチル基を表す。)、bによ
って置換されてもよい芳香族複素環基(芳香族複素環基
はチエニル基、フリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル
基、1,2,4−トリアゾリル基、チアゾリル基、イソ
チアゾリル基、1,3,4−チアジアゾリル基、オキサ
ゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、
ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピラジル
基、S−トリアジル基又は1,2,4−トリアジル基を
表す。)又はbによってフェニル基が置換されてもよい
アラルキル基(アラルキル基はフェニル基によって置換
されたC1-6 アルキル基を表す。)を表す。〕で表され
るピラゾール誘導体又はその塩類(以下、本発明化合物
という)、及びそれらの1又は2以上を含有することを
特徴とする除草剤に関するものである。
【0007】本発明化合物の式(1)の置換基R11、R
12、R2 、R3 、R4 及びXの一例として次のようなも
のが挙げられる。但し本発明化合物はこれに限定される
ものではない。R11及びR12:水素原子;メチル,エチ
ル,n−プロピル,i−プロピル,n−ブチル,i−ブ
チル,s−ブチル,t−ブチル,n−アミル,s−アミ
ル,t−アミル,n−ヘキシルなどのアルキル基;シク
ロプロピル,シクロブチル,シクロペンチル,シクロヘ
キシルなどのシクロアルキル基;ビニル,アリル,2−
ブテニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペニ
ルなどのアルケニル基;プロパギルなどのアルキニル
基;アセチル,プロピオニル,n−プロピルカルボニ
ル,i−プロピルカルボニル,t−ブチルカルボニルな
どのアルキルカルボニル基;メトキシカルボニル,エト
キシカルボニル,n−プロポキシカルボニル,i−プロ
ポキシカルボニル,t−ブトキシカルボニルなどのアル
コキシカルボニル基;ジメチルアミノカルボニル,ジエ
チルアミノカルボニル,ジ−n−プロピルアミノカルボ
ニル,ジ−i−プロピルアミノカルボニルなどのジアル
キルアミノカルボニル基;メタンスルホニル,エタンス
ルホニルなどのアルキルスルホニル基.
12、R2 、R3 、R4 及びXの一例として次のようなも
のが挙げられる。但し本発明化合物はこれに限定される
ものではない。R11及びR12:水素原子;メチル,エチ
ル,n−プロピル,i−プロピル,n−ブチル,i−ブ
チル,s−ブチル,t−ブチル,n−アミル,s−アミ
ル,t−アミル,n−ヘキシルなどのアルキル基;シク
ロプロピル,シクロブチル,シクロペンチル,シクロヘ
キシルなどのシクロアルキル基;ビニル,アリル,2−
ブテニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペニ
ルなどのアルケニル基;プロパギルなどのアルキニル
基;アセチル,プロピオニル,n−プロピルカルボニ
ル,i−プロピルカルボニル,t−ブチルカルボニルな
どのアルキルカルボニル基;メトキシカルボニル,エト
キシカルボニル,n−プロポキシカルボニル,i−プロ
ポキシカルボニル,t−ブトキシカルボニルなどのアル
コキシカルボニル基;ジメチルアミノカルボニル,ジエ
チルアミノカルボニル,ジ−n−プロピルアミノカルボ
ニル,ジ−i−プロピルアミノカルボニルなどのジアル
キルアミノカルボニル基;メタンスルホニル,エタンス
ルホニルなどのアルキルスルホニル基.
【0008】R2 :メチル,エチル,n−プロピル,i
−プロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t
−ブチル,n−アミル,i−アミル,s−アミル,t−
アミル,n−ヘキシルなどのアルキル基;アリル,2−
ブテニル,3−ブテニル,4−ブテニルなどのアルケニ
ル基;プロパギルなどのアルキニル基;メトキシ,エト
キシ,n−プロポキシ,i−プロポキシ,n−ブトキシ
などのアルコキシ基;水素原子;フッ素,塩素,臭素,
ヨウ素などのハロゲン原子;シアノ基;アミノ基;ヒド
ロキシル基;アセチルオキシ,プロピオニルオキシなど
のアルキルカルボニルオキシ基;アセチルアミノ,プロ
ピオニルアミノなどのアルキルカルボニルアミノ基;ジ
メチルアミノ,ジエチルアミノなどのジアルキルアミノ
基;メチルメルカプト,エチルメルカプト,n−プロピ
ルメルカプトなどのアルキルチオ基;メタンスルホニ
ル,エタンスルホニルなどのアルキルスルホニル基;フ
ェニル基などのアリール基;2−ピリジル,2−ピリミ
ジルなどの複素環基.
−プロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t
−ブチル,n−アミル,i−アミル,s−アミル,t−
アミル,n−ヘキシルなどのアルキル基;アリル,2−
ブテニル,3−ブテニル,4−ブテニルなどのアルケニ
ル基;プロパギルなどのアルキニル基;メトキシ,エト
キシ,n−プロポキシ,i−プロポキシ,n−ブトキシ
などのアルコキシ基;水素原子;フッ素,塩素,臭素,
ヨウ素などのハロゲン原子;シアノ基;アミノ基;ヒド
ロキシル基;アセチルオキシ,プロピオニルオキシなど
のアルキルカルボニルオキシ基;アセチルアミノ,プロ
ピオニルアミノなどのアルキルカルボニルアミノ基;ジ
メチルアミノ,ジエチルアミノなどのジアルキルアミノ
基;メチルメルカプト,エチルメルカプト,n−プロピ
ルメルカプトなどのアルキルチオ基;メタンスルホニ
ル,エタンスルホニルなどのアルキルスルホニル基;フ
ェニル基などのアリール基;2−ピリジル,2−ピリミ
ジルなどの複素環基.
【0009】R3 :メチル,エチル,n−プロピル,i
−プロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t
−ブチル,n−アミル,s−アミル,t−アミル,n−
ヘキシルなどのアルキル基;ビニル,アリル,2−ブテ
ニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペニルな
どのアルケニル基;プロパギルなどのアルキニル基;水
素原子;フッ素,塩素,臭素,ヨウ素などのハロゲン原
子;シアノ基;ニトロ基;アミノ基;アセチルアミノ,
プロピオニルアミノなどのアルキルカルボニルアミノ
基;ジメチルアミノ,ジエチルアミノなどのジアルキル
アミノ基;メチルメルカプト,エチルメルカプト,n−
プロピルメルカプトなどのアルキルチオ基;メタンスル
ホニル,エタンスルホニルなどのアルキルスルホニル
基;メトキシカルボニル,エトキシカルボニル,n−プ
ロポキシカルボニル,i−プロポキシカルボニル,t−
ブトキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル基;ア
セチル,プロピオニル,n−プロピルカルボニル,i−
プロピルカルボニル,t−ブチルカルボニルなどのアル
キルカルボニル基;2−メトキシイミノエチル基,2−
エトキシイミノエチル基などのアルコキシイミノアルキ
ル基;フェニル,1−ナフチル,2−ナフチルなどのア
リール基;2−ピリジル,3−ピリジル,4−ピリジ
ル,2−チエニル,3−チエニル,2−フリル,3−フ
リル,3−ピラゾリル,4−ピラゾリル,5−ピラゾリ
ル,2−イミダゾリル,4−イミダゾリル,5−イミダ
ゾリル,3−(1,2,4 −トリアゾリル),5−(1,2,4
−トリアゾリル) ,2−ピリミジル,4−ピリミジル,
5−ピリミジル,3−ピリダジル,4−ピリダジル,2
−ピラジル,s−トリアジル,3−(1,2,4 −トリアジ
ル),5−(1,2,4 −トリアジル),6−(1,2,4 −ト
リアジル),2−チアゾリル,4−チアゾリル,5−チ
アゾリル,3−イソチアゾリル,4−イソチアゾリル,
5−イソチアゾリル,2−(1,3,4 −チアジアゾリ
ル),3−(1,2,4 −チアジアゾリル),5−(1,2,4
−チアジアゾリル),5−(1,2,3 −チアジアゾリ
ル),2−オキサゾリル,4−オキサゾリル,5−オキ
サゾリル,3−イソオキサゾリル,4−イソオキサゾリ
ル,5−イソオキサゾリル,2−(1,3,4 −オキサジア
ゾリル),3−(1,2,4 −オキサジアゾリル),5−
(1,2,4 −オキサジアゾリル),5−(1,2,3 −オキサ
ジアゾリル)などの複素環基;ベンジル,α−メチルベ
ンジル,α−エチルベンジル,α−n−プロピルベンジ
ル,α−イソプロピルベンジル,α−n−ブチルベンジ
ル,クミル,α,α−ジエチルベンジルなどのアラルキ
ル基;
−プロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t
−ブチル,n−アミル,s−アミル,t−アミル,n−
ヘキシルなどのアルキル基;ビニル,アリル,2−ブテ
ニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペニルな
どのアルケニル基;プロパギルなどのアルキニル基;水
素原子;フッ素,塩素,臭素,ヨウ素などのハロゲン原
子;シアノ基;ニトロ基;アミノ基;アセチルアミノ,
プロピオニルアミノなどのアルキルカルボニルアミノ
基;ジメチルアミノ,ジエチルアミノなどのジアルキル
アミノ基;メチルメルカプト,エチルメルカプト,n−
プロピルメルカプトなどのアルキルチオ基;メタンスル
ホニル,エタンスルホニルなどのアルキルスルホニル
基;メトキシカルボニル,エトキシカルボニル,n−プ
ロポキシカルボニル,i−プロポキシカルボニル,t−
ブトキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル基;ア
セチル,プロピオニル,n−プロピルカルボニル,i−
プロピルカルボニル,t−ブチルカルボニルなどのアル
キルカルボニル基;2−メトキシイミノエチル基,2−
エトキシイミノエチル基などのアルコキシイミノアルキ
ル基;フェニル,1−ナフチル,2−ナフチルなどのア
リール基;2−ピリジル,3−ピリジル,4−ピリジ
ル,2−チエニル,3−チエニル,2−フリル,3−フ
リル,3−ピラゾリル,4−ピラゾリル,5−ピラゾリ
ル,2−イミダゾリル,4−イミダゾリル,5−イミダ
ゾリル,3−(1,2,4 −トリアゾリル),5−(1,2,4
−トリアゾリル) ,2−ピリミジル,4−ピリミジル,
5−ピリミジル,3−ピリダジル,4−ピリダジル,2
−ピラジル,s−トリアジル,3−(1,2,4 −トリアジ
ル),5−(1,2,4 −トリアジル),6−(1,2,4 −ト
リアジル),2−チアゾリル,4−チアゾリル,5−チ
アゾリル,3−イソチアゾリル,4−イソチアゾリル,
5−イソチアゾリル,2−(1,3,4 −チアジアゾリ
ル),3−(1,2,4 −チアジアゾリル),5−(1,2,4
−チアジアゾリル),5−(1,2,3 −チアジアゾリ
ル),2−オキサゾリル,4−オキサゾリル,5−オキ
サゾリル,3−イソオキサゾリル,4−イソオキサゾリ
ル,5−イソオキサゾリル,2−(1,3,4 −オキサジア
ゾリル),3−(1,2,4 −オキサジアゾリル),5−
(1,2,4 −オキサジアゾリル),5−(1,2,3 −オキサ
ジアゾリル)などの複素環基;ベンジル,α−メチルベ
ンジル,α−エチルベンジル,α−n−プロピルベンジ
ル,α−イソプロピルベンジル,α−n−ブチルベンジ
ル,クミル,α,α−ジエチルベンジルなどのアラルキ
ル基;
【0010】アリール基、複素環基及びアラルキル基に
対する置換基:フッ素,塩素,臭素,ヨウ素などのハロ
ゲン原子;メトキシ,エトキシ,n−プロポキシ,i−
プロポキシ,t−ブトキシなどアルコキシ基;シアノ
基;アリルオキシ,2−ブテニルオキシ,3−ブテニル
オキシ,4−ブテニルオキシなどのアルケニルオキシ
基;プロパギルオキシなどのアルキニルオキシ基;メト
キシカルボニル,エトキシカルボニル,n−プロポキシ
カルボニル,i−プロポキシカルボニル,t−ブトキシ
カルボニルなどのアルコキシカルボニル基;アセチルオ
キシ,プロピオニルオキシなどのアルキルカルボニルオ
キシ基;アセチルアミノ,プロピオニルアミノなどのア
ルキルカルボニルアミノ基;ジメチルアミノ,ジエチル
アミノ,ジ−n−プロピルアミノ,ジ−i−プロピルア
ミノなどのジアルキルアミノ基;アセチル,プロピオニ
ル,n−プロピルカルボニル,i−プロピルカルボニ
ル,t−ブチルカルボニルなどのアルキルカルボニル
基;ニトロ基;メチル,エチル,n−プロピル,i−プ
ロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t−ブ
チルなどのアルキル基;トリフロロメチル,トリクロロ
メチルなどのハロゲン化アルキル基;トリフロロメトキ
シ,ジフロロメトキシなどのハロゲン化アルキルオキシ
基;トリフロロメチルチオ,ジフロロメチルチオなどの
ハロゲン化アルキルチオ基;トリフロロメチルスルホニ
ルなどのハロゲン化アルキルスルホニル基;メチルメル
カプト,エチルメルカプト,n−プロピルメルカプトな
どのアルキルチオ基;メタンスルホニル,エタンスルホ
ニルなどのアルキルスルホニル基;メトキシメチル,エ
トキシメチルなどのアルコキシアルキル基;アリル,2
−ブテニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペ
ニルなどのアルケニル基;プロパルギルなどのアルキニ
ル基;2−クロロアリル,3−クロロアリル,2,3 −ジ
クロロアリル,3,3 −ジクロロアリル,2,3,3 −トリク
ロロアリルなどのハロゲン化アルケニル基;プロパルギ
ルなどのアルキニル基;ベンゾイル基;フェニル基;フ
ェノキシ基.
対する置換基:フッ素,塩素,臭素,ヨウ素などのハロ
ゲン原子;メトキシ,エトキシ,n−プロポキシ,i−
プロポキシ,t−ブトキシなどアルコキシ基;シアノ
基;アリルオキシ,2−ブテニルオキシ,3−ブテニル
オキシ,4−ブテニルオキシなどのアルケニルオキシ
基;プロパギルオキシなどのアルキニルオキシ基;メト
キシカルボニル,エトキシカルボニル,n−プロポキシ
カルボニル,i−プロポキシカルボニル,t−ブトキシ
カルボニルなどのアルコキシカルボニル基;アセチルオ
キシ,プロピオニルオキシなどのアルキルカルボニルオ
キシ基;アセチルアミノ,プロピオニルアミノなどのア
ルキルカルボニルアミノ基;ジメチルアミノ,ジエチル
アミノ,ジ−n−プロピルアミノ,ジ−i−プロピルア
ミノなどのジアルキルアミノ基;アセチル,プロピオニ
ル,n−プロピルカルボニル,i−プロピルカルボニ
ル,t−ブチルカルボニルなどのアルキルカルボニル
基;ニトロ基;メチル,エチル,n−プロピル,i−プ
ロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t−ブ
チルなどのアルキル基;トリフロロメチル,トリクロロ
メチルなどのハロゲン化アルキル基;トリフロロメトキ
シ,ジフロロメトキシなどのハロゲン化アルキルオキシ
基;トリフロロメチルチオ,ジフロロメチルチオなどの
ハロゲン化アルキルチオ基;トリフロロメチルスルホニ
ルなどのハロゲン化アルキルスルホニル基;メチルメル
カプト,エチルメルカプト,n−プロピルメルカプトな
どのアルキルチオ基;メタンスルホニル,エタンスルホ
ニルなどのアルキルスルホニル基;メトキシメチル,エ
トキシメチルなどのアルコキシアルキル基;アリル,2
−ブテニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペ
ニルなどのアルケニル基;プロパルギルなどのアルキニ
ル基;2−クロロアリル,3−クロロアリル,2,3 −ジ
クロロアリル,3,3 −ジクロロアリル,2,3,3 −トリク
ロロアリルなどのハロゲン化アルケニル基;プロパルギ
ルなどのアルキニル基;ベンゾイル基;フェニル基;フ
ェノキシ基.
【0011】R4 :メチル,エチル,n−プロピル,i
−プロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t
−ブチル,n−アミル,s−アミル,t−アミル,n−
ヘキシルなどのアルキル基;ビニル,アリル,2−ブテ
ニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペニル,
ゲラニル,シトロネリルなどのアルケニル基;プロパギ
ルなどのアルキニル基;フェニル,1−ナフチル,2−
ナフチルなどのアリール基;2−ピリジル,3−ピリジ
ル,4−ピリジル,2−チエニル,3−チエニル,2−
フリル,3−フリル,3−ピラゾリル,4−ピラゾリ
ル,5−ピラゾリル,2−イミダゾリル,4−イミダゾ
リル,5−イミダゾリル,3−(1,2,4 −トリアゾリ
ル),5−(1,2,4 −トリアゾリル) ,2−ピリミジ
ル,4−ピリミジル,5−ピリミジル,3−ピリダジ
ル,4−ピリダジル,2−ピラジル,s−トリアジル,
3−(1,2,4 −トリアジル),5−(1,2,4 −トリアジ
ル),6−(1,2,4 −トリアジル),2−チアゾリル,
4−チアゾリル,5−チアゾリル,3−イソチアゾリ
ル,4−イソチアゾリル,5−イソチアゾリル,2−
(1,3,4−チアジアゾリル),3−(1,2,4 −チアジア
ゾリル),5−(1,2,4 −チアジアゾリル),5−(1,
2,3 −チアジアゾリル),2−オキサゾリル,4−オキ
サゾリル,5−オキサゾリル,3−イソオキサゾリル,
4−イソオキサゾリル,5−イソオキサゾリル,2−
(1,3,4 −オキサジアゾリル),3−(1,2,4 −オキサ
ジアゾリル),5−(1,2,4 −オキサジアゾリル),5
−(1,2,3 −オキサジアゾリル)などの複素環基;ベン
ジル,α−メチルベンジル,α−エチルベンジル,α−
n−プロピルベンジル,α−イソプロピルベンジル,α
−n−ブチルベンジル,クミル,α,α−ジエチルベン
ジルなどのアラルキル基;
−プロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t
−ブチル,n−アミル,s−アミル,t−アミル,n−
ヘキシルなどのアルキル基;ビニル,アリル,2−ブテ
ニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペニル,
ゲラニル,シトロネリルなどのアルケニル基;プロパギ
ルなどのアルキニル基;フェニル,1−ナフチル,2−
ナフチルなどのアリール基;2−ピリジル,3−ピリジ
ル,4−ピリジル,2−チエニル,3−チエニル,2−
フリル,3−フリル,3−ピラゾリル,4−ピラゾリ
ル,5−ピラゾリル,2−イミダゾリル,4−イミダゾ
リル,5−イミダゾリル,3−(1,2,4 −トリアゾリ
ル),5−(1,2,4 −トリアゾリル) ,2−ピリミジ
ル,4−ピリミジル,5−ピリミジル,3−ピリダジ
ル,4−ピリダジル,2−ピラジル,s−トリアジル,
3−(1,2,4 −トリアジル),5−(1,2,4 −トリアジ
ル),6−(1,2,4 −トリアジル),2−チアゾリル,
4−チアゾリル,5−チアゾリル,3−イソチアゾリ
ル,4−イソチアゾリル,5−イソチアゾリル,2−
(1,3,4−チアジアゾリル),3−(1,2,4 −チアジア
ゾリル),5−(1,2,4 −チアジアゾリル),5−(1,
2,3 −チアジアゾリル),2−オキサゾリル,4−オキ
サゾリル,5−オキサゾリル,3−イソオキサゾリル,
4−イソオキサゾリル,5−イソオキサゾリル,2−
(1,3,4 −オキサジアゾリル),3−(1,2,4 −オキサ
ジアゾリル),5−(1,2,4 −オキサジアゾリル),5
−(1,2,3 −オキサジアゾリル)などの複素環基;ベン
ジル,α−メチルベンジル,α−エチルベンジル,α−
n−プロピルベンジル,α−イソプロピルベンジル,α
−n−ブチルベンジル,クミル,α,α−ジエチルベン
ジルなどのアラルキル基;
【0012】アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
に対する置換基:フッ素,塩素,臭素,ヨウ素などのハ
ロゲン原子;メトキシ,エトキシ,n−プロポキシ,i
−プロポキシ,t−ブトキシなどのアルコキシ基;シア
ノ基;メトキシカルボニル,エトキシカルボニル,n−
プロポキシカルボニル,i−プロポキシカルボニル,t
−ブトキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル基;
アセチルオキシ,プロピオニルオキシなどのアルキルカ
ルボニルオキシ基;アセチルアミノ,プロピオニルアミ
ノなどのアルキルカルボニルアミノ基;ジメチルアミ
ノ,ジエチルアミノ,ジ−n−プロピルアミノ,ジ−i
−プロピルアミノなどのジアルキルアミノ基;アセチ
ル,プロピオニル,n−プロピルカルボニル,i−プロ
ピルカルボニル,t−ブチルカルボニルなどのアルキル
カルボニル基;ニトロ基;
に対する置換基:フッ素,塩素,臭素,ヨウ素などのハ
ロゲン原子;メトキシ,エトキシ,n−プロポキシ,i
−プロポキシ,t−ブトキシなどのアルコキシ基;シア
ノ基;メトキシカルボニル,エトキシカルボニル,n−
プロポキシカルボニル,i−プロポキシカルボニル,t
−ブトキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル基;
アセチルオキシ,プロピオニルオキシなどのアルキルカ
ルボニルオキシ基;アセチルアミノ,プロピオニルアミ
ノなどのアルキルカルボニルアミノ基;ジメチルアミ
ノ,ジエチルアミノ,ジ−n−プロピルアミノ,ジ−i
−プロピルアミノなどのジアルキルアミノ基;アセチ
ル,プロピオニル,n−プロピルカルボニル,i−プロ
ピルカルボニル,t−ブチルカルボニルなどのアルキル
カルボニル基;ニトロ基;
【0013】アリール基、複素環基及びアラルキル基に
対する置換基:フッ素,塩素,臭素,ヨウ素などのハロ
ゲン原子;メトキシ,エトキシ,n−プロポキシ,i−
プロポキシ,t−ブトキシなどアルコキシ基;シアノ
基;アリルオキシ,2−ブテニルオキシ,3−ブテニル
オキシ,4−ブテニルオキシなどのアルケニルオキシ
基;プロパギルオキシなどのアルキニルオキシ基;メト
キシカルボニル,エトキシカルボニル,n−プロポキシ
カルボニル,i−プロポキシカルボニル,t−ブトキシ
カルボニルなどのアルコキシカルボニル基;アセチルオ
キシ,プロピオニルオキシなどのアルキルカルボニルオ
キシ基;アセチルアミノ,プロピオニルアミノなどのア
ルキルカルボニルアミノ基;ジメチルアミノ,ジエチル
アミノ,ジ−n−プロピルアミノ,ジ−i−プロピルア
ミノなどのジアルキルアミノ基;アセチル,プロピオニ
ル,n−プロピルカルボニル,i−プロピルカルボニ
ル,t−ブチルカルボニルなどのアルキルカルボニル
基;ニトロ基;メチル,エチル,n−プロピル,i−プ
ロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t−ブ
チルなどのアルキル基;トリフロロメチル,トリクロロ
メチルなどのハロゲン化アルキル基;トリフロロメトキ
シ,ジフロロメトキシなどのハロゲン化アルキルオキシ
基;トリフロロメチルチオ,ジフロロメチルチオなどの
ハロゲン化アルキルチオ基;トリフロロメチルスルホニ
ルなどのハロゲン化アルキルスルホニル基;メチルメル
カプト,エチルメルカプト,n−プロピルメルカプトな
どのアルキルチオ基;メタンスルホニル,エタンスルホ
ニルなどのアルキルスルホニル基;メトキシメチル,エ
トキシメチルなどのアルコキシアルキル基;アリル,2
−ブテニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペ
ニルなどのアルケニル基;プロパルギルなどのアルキニ
ル基;2−クロロアリル,3−クロロアリル,2,3 −ジ
クロロアリル,3,3 −ジクロロアリル,2,3,3 −トリク
ロロアリルなどのハロゲン化アルケニル基;プロパルギ
ルなどのアルキニル基;ベンゾイル基;フェニル基;フ
ェノキシ基.
対する置換基:フッ素,塩素,臭素,ヨウ素などのハロ
ゲン原子;メトキシ,エトキシ,n−プロポキシ,i−
プロポキシ,t−ブトキシなどアルコキシ基;シアノ
基;アリルオキシ,2−ブテニルオキシ,3−ブテニル
オキシ,4−ブテニルオキシなどのアルケニルオキシ
基;プロパギルオキシなどのアルキニルオキシ基;メト
キシカルボニル,エトキシカルボニル,n−プロポキシ
カルボニル,i−プロポキシカルボニル,t−ブトキシ
カルボニルなどのアルコキシカルボニル基;アセチルオ
キシ,プロピオニルオキシなどのアルキルカルボニルオ
キシ基;アセチルアミノ,プロピオニルアミノなどのア
ルキルカルボニルアミノ基;ジメチルアミノ,ジエチル
アミノ,ジ−n−プロピルアミノ,ジ−i−プロピルア
ミノなどのジアルキルアミノ基;アセチル,プロピオニ
ル,n−プロピルカルボニル,i−プロピルカルボニ
ル,t−ブチルカルボニルなどのアルキルカルボニル
基;ニトロ基;メチル,エチル,n−プロピル,i−プ
ロピル,n−ブチル,i−ブチル,s−ブチル,t−ブ
チルなどのアルキル基;トリフロロメチル,トリクロロ
メチルなどのハロゲン化アルキル基;トリフロロメトキ
シ,ジフロロメトキシなどのハロゲン化アルキルオキシ
基;トリフロロメチルチオ,ジフロロメチルチオなどの
ハロゲン化アルキルチオ基;トリフロロメチルスルホニ
ルなどのハロゲン化アルキルスルホニル基;メチルメル
カプト,エチルメルカプト,n−プロピルメルカプトな
どのアルキルチオ基;メタンスルホニル,エタンスルホ
ニルなどのアルキルスルホニル基;メトキシメチル,エ
トキシメチルなどのアルコキシアルキル基;アリル,2
−ブテニル,3−ブテニル,4−ブテニル,イソプロペ
ニルなどのアルケニル基;プロパルギルなどのアルキニ
ル基;2−クロロアリル,3−クロロアリル,2,3 −ジ
クロロアリル,3,3 −ジクロロアリル,2,3,3 −トリク
ロロアリルなどのハロゲン化アルケニル基;プロパルギ
ルなどのアルキニル基;ベンゾイル基;フェニル基;フ
ェノキシ基.
【0014】本発明化合物は、イネ、トウモロコシ、ダ
イズ、コムギ、オオムギ、ソルガム、ワタなどの作物に
対してすぐれた選択性を有し、かつ低薬量で水田及び畑
の強害雑草に対しすぐれた除草活性を示す。本発明化合
物は次のような合成法で容易に製造できる。
イズ、コムギ、オオムギ、ソルガム、ワタなどの作物に
対してすぐれた選択性を有し、かつ低薬量で水田及び畑
の強害雑草に対しすぐれた除草活性を示す。本発明化合
物は次のような合成法で容易に製造できる。
【0015】
【化3】
【0016】〔式中、R11、R12、R2 、R3 及びR4
は前記と同じ意味を表す。〕
は前記と同じ意味を表す。〕
【0017】(A)で示される反応は、通常溶媒中、式
(3)に対して0.9〜2.0倍モルの塩基の存在下で
行なわれる。溶媒は反応に不活性であればよく、クロロ
ホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、ジクロロエタン、
トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳
香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンのようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン
のようなケトン類、ピリジン、トリエチルアミン、 N,N
−ジメチルアニリンのような有機塩基、酢酸エチル、酢
酸メチルのようなエステル類、アセトニトリル、 N,N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙
げられる。
(3)に対して0.9〜2.0倍モルの塩基の存在下で
行なわれる。溶媒は反応に不活性であればよく、クロロ
ホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、ジクロロエタン、
トリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳
香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンのようなエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン
のようなケトン類、ピリジン、トリエチルアミン、 N,N
−ジメチルアニリンのような有機塩基、酢酸エチル、酢
酸メチルのようなエステル類、アセトニトリル、 N,N−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙
げられる。
【0018】塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭素カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウムなどの
無機塩類、ピリジン、トリエチルアミン、 N,N−ジメチ
ルアニリン、 N,N−ジエチルアニリン、4− N,N−ジメ
チルピリジンなどの有機塩類が挙げられる。反応温度は
−50℃から200℃で可能であるが、操作上溶媒の凝
固点から沸点までが好ましい。
カリウム、炭酸ナトリウム、炭素カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウムなどの
無機塩類、ピリジン、トリエチルアミン、 N,N−ジメチ
ルアニリン、 N,N−ジエチルアニリン、4− N,N−ジメ
チルピリジンなどの有機塩類が挙げられる。反応温度は
−50℃から200℃で可能であるが、操作上溶媒の凝
固点から沸点までが好ましい。
【0019】反応時間は、反応条件によるが、通常5分
〜100時間で完結する。(B)で示される反応は、通
常溶媒中、式(4)に対して0.9〜2.0倍モルの塩
基の存在下で行なわれる。使用されうる溶媒は、反応に
不活性であればよく、クロロホルム、塩化メチレン、四
塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタンのような
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ピリ
ジン、トリエチルアミン、 N,N−ジメチルアニリンのよ
うな有機塩基、酢酸エチル、酢酸メチルのようなエステ
ル類、アセトニトリル、 N,N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
〜100時間で完結する。(B)で示される反応は、通
常溶媒中、式(4)に対して0.9〜2.0倍モルの塩
基の存在下で行なわれる。使用されうる溶媒は、反応に
不活性であればよく、クロロホルム、塩化メチレン、四
塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタンのような
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ピリ
ジン、トリエチルアミン、 N,N−ジメチルアニリンのよ
うな有機塩基、酢酸エチル、酢酸メチルのようなエステ
ル類、アセトニトリル、 N,N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
【0020】塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、炭酸ナトリウム、炭素カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウムなどの
無機塩類、ピリジン、トリエチルアミン、 N,N−ジメチ
ルアニリン、 N,N−ジエチルアニリン、4− N,N−ジメ
チルピリジンなどの有機塩類が挙げられる。反応温度は
−50℃から200℃で可能であるが、操作上溶媒の凝
固点から沸点までが好ましい。
カリウム、炭酸ナトリウム、炭素カリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウムなどの
無機塩類、ピリジン、トリエチルアミン、 N,N−ジメチ
ルアニリン、 N,N−ジエチルアニリン、4− N,N−ジメ
チルピリジンなどの有機塩類が挙げられる。反応温度は
−50℃から200℃で可能であるが、操作上溶媒の凝
固点から沸点までが好ましい。
【0021】反応時間は、反応条件によるが、通常5分
〜100時間で完結する。式(3)で表されるピラゾー
ルスルホニルクロライド系化合物は、例えば、アクタ・
ヘミカ・スカンジナビカ(Acta.Chem.Sca
nd.)、24、p.1191(1970)、ヘミツシ
ェ・ベリヒテ(Chem.Ber.)、95、2861
(1962)又は特開昭61−112072号公報に記
載の方法で合成することができる。
〜100時間で完結する。式(3)で表されるピラゾー
ルスルホニルクロライド系化合物は、例えば、アクタ・
ヘミカ・スカンジナビカ(Acta.Chem.Sca
nd.)、24、p.1191(1970)、ヘミツシ
ェ・ベリヒテ(Chem.Ber.)、95、2861
(1962)又は特開昭61−112072号公報に記
載の方法で合成することができる。
【0022】
2,6−ジメチルフェニル−1−(ジエチルアミノカル
ボニル)ピラゾール−3−スルホネート(化合物番号
1)の合成 3−ベンジルメルカプトピラゾール(4.69g)を酢
酸20ml及び水20mlの溶液の加え、0〜5℃の冷
却下攪拌した。これに塩素ガスを0〜5℃に保ちながら
30分間吹き込んだ。反応終了後、窒素ガスを吹き込ん
だ後、室温に戻し、水100mlと塩化メチレン100
mlを加えた。塩化メチレン層を分取して、水及び飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧下留去した。得られた粗物の3−クロロスルホニル
ピラゾールを乾燥アセトニトリル30mlに溶解し、
2,6−ジメチルフェノール(1.8g)及びトリエチ
ルアミン(3g)を加えた。室温で12時間攪拌した
後、水200mlを加え、酢酸エチルで抽出した。無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得ら
れた残渣を乾燥アセトニトリル20mlに溶解し、炭酸
カリウム及び(3.5g)及びジエチルカルバモイルク
ロライド(3.5g)を加え、攪拌下室温で12時間反
応させた。水100mlを加え、酢酸エチルで抽出し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去し
た。残渣を分取液体クロマトグラフィーで精製して油状
の目的物0.20gを得た。
ボニル)ピラゾール−3−スルホネート(化合物番号
1)の合成 3−ベンジルメルカプトピラゾール(4.69g)を酢
酸20ml及び水20mlの溶液の加え、0〜5℃の冷
却下攪拌した。これに塩素ガスを0〜5℃に保ちながら
30分間吹き込んだ。反応終了後、窒素ガスを吹き込ん
だ後、室温に戻し、水100mlと塩化メチレン100
mlを加えた。塩化メチレン層を分取して、水及び飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧下留去した。得られた粗物の3−クロロスルホニル
ピラゾールを乾燥アセトニトリル30mlに溶解し、
2,6−ジメチルフェノール(1.8g)及びトリエチ
ルアミン(3g)を加えた。室温で12時間攪拌した
後、水200mlを加え、酢酸エチルで抽出した。無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。得ら
れた残渣を乾燥アセトニトリル20mlに溶解し、炭酸
カリウム及び(3.5g)及びジエチルカルバモイルク
ロライド(3.5g)を加え、攪拌下室温で12時間反
応させた。水100mlを加え、酢酸エチルで抽出し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去し
た。残渣を分取液体クロマトグラフィーで精製して油状
の目的物0.20gを得た。
【0023】実施例と同様な方法により得られた本発明
化合物を第1表に示す。 〔第1表〕
化合物を第1表に示す。 〔第1表〕
【0024】
【化4】
【0025】
【表1】 ─────────────────────────────── 化合物 R11 R12 R2 R3 R4 物性 番 号 ─────────────────────────────── 1 Et Et H H 2,6-(CH3)2-Ph 油状 2 Et Et H H 2,4,6-(CH3)3-Ph 油状 ───────────────────────────────
【0026】次に前記実施例に準じて合成される化合物
を前記実施例を含めて第2表に示す。但し本発明はこれ
らに限定されるものではない。 〔第2表〕
を前記実施例を含めて第2表に示す。但し本発明はこれ
らに限定されるものではない。 〔第2表〕
【0027】
【化5】
【0028】
【表2】
【0029】
【表3】
【0030】本発明化合物を農園芸用除草剤として使用
するにあたっては、一般には適当な担体、例えばクレ
ー、タルク、ベントナイト、珪藻土等の固体担体あるい
は水、アルコール類(メタノール、エタノール等)、芳
香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン等)、
塩素化炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類
(酢酸エチル等)、酸アミド類(ジメチルホルムアミド
等)などの液体担体と混用して適用することができ、所
望により乳化剤、分散剤、懸濁剤、浸透剤、展着剤、安
定剤などを添加し、液剤、乳剤、水和剤、粉剤、粒剤、
フロアブル剤等任意の剤型にて実用に供することができ
る。また、必要に応じて製剤又は撒布時に他種の除草
剤、各種殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、共力剤など
と混合施用してもよい。混合する除草剤の種類として
は、例えば、ファーム・ケミカルズ・ハンドブック(Fa
rm ChemicalsHandbook)1990年版に記載されている
化合物などがある。その中からいくつかを挙げれば、ア
トラジン、シアナジン、アラクロールメトラクロール、
EPTC、 2,4−D、ブチレート、ジカンバ、ブロモキ
シニル及びトリジファンなどが挙げられる。その施用薬
量は適用場面、施用時期、施用方法、栽培作物等により
差異はあるが一般には有効成分量としてヘクタール当た
り0.001〜10kg程度が適当である。
するにあたっては、一般には適当な担体、例えばクレ
ー、タルク、ベントナイト、珪藻土等の固体担体あるい
は水、アルコール類(メタノール、エタノール等)、芳
香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン等)、
塩素化炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類
(酢酸エチル等)、酸アミド類(ジメチルホルムアミド
等)などの液体担体と混用して適用することができ、所
望により乳化剤、分散剤、懸濁剤、浸透剤、展着剤、安
定剤などを添加し、液剤、乳剤、水和剤、粉剤、粒剤、
フロアブル剤等任意の剤型にて実用に供することができ
る。また、必要に応じて製剤又は撒布時に他種の除草
剤、各種殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、共力剤など
と混合施用してもよい。混合する除草剤の種類として
は、例えば、ファーム・ケミカルズ・ハンドブック(Fa
rm ChemicalsHandbook)1990年版に記載されている
化合物などがある。その中からいくつかを挙げれば、ア
トラジン、シアナジン、アラクロールメトラクロール、
EPTC、 2,4−D、ブチレート、ジカンバ、ブロモキ
シニル及びトリジファンなどが挙げられる。その施用薬
量は適用場面、施用時期、施用方法、栽培作物等により
差異はあるが一般には有効成分量としてヘクタール当た
り0.001〜10kg程度が適当である。
【0031】つぎに本発明化合物を有効成分とする除草
剤の配合例を示すがこれらのみに限定されるものではな
い。なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味
する。 〔配合例1〕 水和剤 本発明化合物番号 1 ───────60部 ジークライト PFP ──────────33部 (カオリン系クレー:ジークライト工業(株)商品名) ソルポール5039 ─────────── 5部 (非イオン系界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物:東邦化学工業(株)商品名) カープレックス(固結防止剤)───── 2部 (ホワイトカーボン:塩野義製薬(株)商品名) 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
剤の配合例を示すがこれらのみに限定されるものではな
い。なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味
する。 〔配合例1〕 水和剤 本発明化合物番号 1 ───────60部 ジークライト PFP ──────────33部 (カオリン系クレー:ジークライト工業(株)商品名) ソルポール5039 ─────────── 5部 (非イオン系界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物:東邦化学工業(株)商品名) カープレックス(固結防止剤)───── 2部 (ホワイトカーボン:塩野義製薬(株)商品名) 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
【0032】〔配合例2〕 乳剤 本発明化合物番号 1 ─────── 1.5部 キシレン──────────────78.5部 N,N−ジメチルホルムアミド─────15 部 ソルボール2680─────────── 5 部 (非イオン系界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混
合物:東邦化学工業(株)商品名) 以上を均一に混合して乳剤とする。
合物:東邦化学工業(株)商品名) 以上を均一に混合して乳剤とする。
【0033】〔配合例3〕 フロアブル剤 本発明化合物番号 1 ───────40 部 アグリゾール B−710 ────────10 部 (非イオン性界面活性剤:花王(株)商品名) ルノックス1000C───────────0.5部 (陰イオン界面活性剤:東邦化学工業(株)商品名) 1%ロドポール水──────────20 部 (増粘剤:ローン・ブーラン社商品名) 水─────────────────29.5部 以上を均一に混合して、フロアブル剤とする。
【0034】〔配合例4〕 粒剤 本発明化合物番号 1 ───── 1部 ベントナイト ──────55部 タ ル ク ──────44部 以上を均一に混合粉砕して後、少量の水を加えて撹拌混
合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤にす
る。
合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤にす
る。
【0035】なお、本発明化合物は、畑地、水田、果樹
園などの農園芸以外に運動場、空地、路線端など非農耕
地における各種雑草の防除にも運用することができ、そ
の施用薬量は適用場面、施用時期、対象草種等により差
異はあるが一般には1ヘクタール当たり0.001〜5
kg程度になるように散布するのが適当である。次に本発
明化合物の除草効果について、具体的に試験例を挙げて
説明する。
園などの農園芸以外に運動場、空地、路線端など非農耕
地における各種雑草の防除にも運用することができ、そ
の施用薬量は適用場面、施用時期、対象草種等により差
異はあるが一般には1ヘクタール当たり0.001〜5
kg程度になるように散布するのが適当である。次に本発
明化合物の除草効果について、具体的に試験例を挙げて
説明する。
【0036】〔試験例〕 土壌処理による除草効果試験 縦21cm、横13cm、深さ7cmのプラスチック製箱に殺
菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、オヒシバ、メヒシバ、
エノコログサ、ダイズ、ワタ、トウモロコシの種子をそ
れぞれスポット状に播種し、約1.5cm覆土した後、有
効成分量が所定の割合となるように土壌表面へ小型スプ
レーで均一に散布した。散布の際の薬液は、前記配合例
等に準じて適宜調整された水和剤を水で希釈して用い、
これを全面に散布した。薬液散布3週間後に作物及び各
種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従い調査し
た。結果を第3表に示す。 判定基準 5:殺草率90%以上(ほとんど完全枯死) 4:殺草率70〜90% 3:殺草率40〜70% 2:殺草率20〜40% 1:殺草率 5〜20% 0:殺草率 5%以下(ほとんど効力なし)
菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、オヒシバ、メヒシバ、
エノコログサ、ダイズ、ワタ、トウモロコシの種子をそ
れぞれスポット状に播種し、約1.5cm覆土した後、有
効成分量が所定の割合となるように土壌表面へ小型スプ
レーで均一に散布した。散布の際の薬液は、前記配合例
等に準じて適宜調整された水和剤を水で希釈して用い、
これを全面に散布した。薬液散布3週間後に作物及び各
種雑草に対する除草効果を下記の判定基準に従い調査し
た。結果を第3表に示す。 判定基準 5:殺草率90%以上(ほとんど完全枯死) 4:殺草率70〜90% 3:殺草率40〜70% 2:殺草率20〜40% 1:殺草率 5〜20% 0:殺草率 5%以下(ほとんど効力なし)
【0037】表中の記号は以下を表す。 A:ノビエ、B:オヒシバ、C:メヒシバ、E:エノコ
ログサ、a:ダイズ、b:ワタ、c:トウモロコシ
ログサ、a:ダイズ、b:ワタ、c:トウモロコシ
【0038】
【表4】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 401/12 231 403/12 405/12 231 409/12 231 413/12 231 417/12 231 //(C07D 401/12 213:38 231:18) (72)発明者 縄巻 勤 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470日産化 学工業株式会社生物科学研究所内 (72)発明者 渡辺 重臣 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470日産化 学工業株式会社生物科学研究所内 (72)発明者 石川 公広 埼玉県南埼玉郡白岡町大字白岡1470日産化 学工業株式会社生物科学研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 式(1): 【化1】 〔式中、R11及びR12はそれぞれ独立して水素原子、a
によって置換されてもよいC1-6 アルキル基(aはハロ
ゲン原子、C1-6 アルコキシ基、C2-6 アルコキシカル
ボニル基、C2-6 アルキルカルボニルオキシ基、C2-6
アルキルカルボニルアミノ基、同一もしくは異なるC
1-6 アルキル基によって1ないし2置換されたアミノ
基、C2-6 アルキルカルボニル基、シアノ基及びニトロ
基から1又は2以上選ばれる置換基を表す。)、aによ
って置換されてもよいC3-8 シクロアルキル基、aによ
って置換されてもよいC2-7 アルケニル基、aによって
置換されてもよいC2-7 アルキニル基、aによって置換
されてもよいC1-6 アルキルスルホニル基、ジ(aによ
って置換されてもよいC1-6 アルキル)アミノカルボニ
ル基又はジ(aによって置換されてもよいC1-6 アルキ
ル)アミノスルホニル基を表し、 R2 及びR3 はそれぞれ独立して水素原子、aによって
置換されてもよいC1- 6 アルキル基、aによって置換さ
れてもよいC2-7 アルケニル基、aによって置換されて
もよいC2-7 アルキニル基、aによって置換されてもよ
いC1-6 アルキルチオ基、aによって置換されてもよい
C1-6 アルキルスルフィニル基、aによって置換されて
もよいC1-6 アルキルスルホニル基、置換されてもよい
アミノカルボニル基(置換基はC1-6 アルコキシ基、C
2-6 アルコキシカルボニル基、C 2-6 アルキルカルボニ
ルオキシ基、C2-6 アルキルカルボニルアミノ基、同一
もしくは異なるC1-6 アルキル基によって1ないし2置
換されたアミノ基、C2-6アルキルカルボニル基及びシ
アノ基から選ばれる)、aによって置換されてもよいC
1-6 アルキルアミノカルボニル基、ジ(aによって置換
されてもよいC1-6アルキル)アミノカルボニル基、a
によって置換されてもよいC1-6 アルキルアミノスルホ
ニル基、ジ(aによって置換されてもよいC1-6 アルキ
ル)アミノスルホニル基、ハロゲン原子、aによって置
換されてもよいC1-6 アルコキシ基、aによって置換さ
れてもよいC2-6 アルコキシカルボニル基、aによって
置換されてもよいC2-6 アルキルカルボニルオキシ基、
aによって置換されてもよいC 2-6 アルキルカルボニル
アミノ基、同一もしくは異なるC1-6 アルキル基によっ
て1ないし2置換されたアミノ基、aによって置換され
てもよいC2-6 アルキルカルボニル基、−CR5 =NO
−R6 基(R5 及びR6 はそれぞれ独立してC1- 6 アル
キル基もしくはC1-6 アルコキシ基を表す。)、ベンゾ
イル基、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニ
トロ基、bによって置換されてもよいフェニル基(bは
C1-6 アルキル基、C1-6 ハロゲノアルキル基、C2-6
アルケニル基、C2-6 ハロゲノアルケニル基、C2-6 ア
ルキニル基、フェニル基、ハロゲン原子、C1-6 アルコ
キシ基、C1-6 ハロゲノアルコキシ基、C2-6 アルケニ
ルオキシ基、C2-6 アルキニルオキシ基、フェノキシ
基、C1-6 アルキルチオ基、C 1-6 ハロゲノアルキルチ
オ基、C1-6 アルキルスルホニル基、C1-6 ハロゲノア
ルキルスルホニル基、C2-8 アルコキシアルキル基、C
2-6 アルコキシカルボニル基、C2-6 アルキルカルボニ
ルオキシ基、C2-6 アルキルカルボニルアミノ基、同一
もしくは異なるC1-6 アルキル基によって1ないし2置
換されたアミノ基、C2-6 アルキルカルボニル基、ベン
ゾイル基、シアノ基及びニトロ基から1又は2以上選ば
れる置換基を表す。)、bによっ置換されてもよいフェ
ノキシ基、bによって置換されてもよい芳香族複素環基
(芳香族複素環基はチエニル基、フリル基、ピラゾリル
基、イミダゾリル基、1,2,4−トリアゾリル基、チ
アゾリル基、イソチアゾリル基、1,3,4−チアジア
ゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、1,
3,4−オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル
基、ピリダジル基、ピラジル基、S−トリアジル基又は
1,2,4−トリアジル基を表す。)又はbによってフ
ェニル基が置換されてもよいアラルキル基(アラルキル
基はフェニル基によって置換されたC1-6 アルキル基を
表す。)を表し、 R4 はaによって置換されてもよいC1-6 アルキル基、
aによって置換されてもよいC2-7 アルケニル基、aに
よって置換されてもよいC2-7 アルキニル基、bによっ
て置換されてもよいアリール基(アリール基はフェニル
基又はナフチル基を表す。)、bによって置換されても
よい芳香族複素環基(芳香族複素環基はチエニル基、フ
リル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、1,2,4−
トリアゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、
1,3,4−チアジアゾリル基、オキサゾリル基、イソ
オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピ
リミジル基、ピリダジル基、ピラジル基、S−トリアジ
ル基又は1,2,4−トリアジル基を表す。)又はbに
よってフェニル基が置換されてもよいアラルキル基(ア
ラルキル基はフェニル基によって置換されたC1-6 アル
キル基を表す。)を表す。〕で表されるピラゾール誘導
体又はその塩類。 - 【請求項2】 請求項1のピラゾール誘導体の1又は2
以上を有効成分として含有することを特徴とする除草
剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31464593A JPH07165725A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | ピラゾール誘導体及び除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31464593A JPH07165725A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | ピラゾール誘導体及び除草剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07165725A true JPH07165725A (ja) | 1995-06-27 |
Family
ID=18055827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31464593A Pending JPH07165725A (ja) | 1993-12-15 | 1993-12-15 | ピラゾール誘導体及び除草剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07165725A (ja) |
-
1993
- 1993-12-15 JP JP31464593A patent/JPH07165725A/ja active Pending
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